JP6620878B2 - ガス漏れ位置推定装置、ガス漏れ位置推定方法及びガス漏れ位置推定プログラム - Google Patents
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Description
実施形態の第1の局面に係るガス漏れ位置推定装置は、監視領域を撮影した画像の中において、ガスが漂っている領域を示すガス領域像を特定する特定部と、前記ガスが漏れている位置と推定されるガス漏れ推定位置を示す画素を、前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定する第1の決定部と、を備える。
Claims (19)
- 監視領域を撮影した画像の中において、ガスが漂っている領域を示すガス領域像を特定する特定部と、
前記ガスが漏れている位置と推定されるガス漏れ推定位置を示す画素を、前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定する第1の決定部と、を備えるガス漏れ位置推定装置であって、
前記第1の決定部は、前記ガス領域像の特徴点を示す画素を前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定し、前記特徴点の中から前記ガス漏れ推定位置を示す画素を決定し、
前記ガス漏れ位置推定装置は、前記ガス領域像を構成する複数の画素のそれぞれの位置の関係を示す回帰線を算出する第1の算出部をさらに備え、
前記第1の決定部は、前記回帰線と前記輪郭とが交差する二点に位置する第1の画素及び第2の画素の少なくとも一方の画素を、前記特徴点を示す画素として決定する、ガス漏れ位置推定装置。 - 監視領域を撮影した画像の中において、ガスが漂っている領域を示すガス領域像を特定する特定部と、
前記ガスが漏れている位置と推定されるガス漏れ推定位置を示す画素を、前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定する第1の決定部と、を備えるガス漏れ位置推定装置であって、
前記第1の決定部は、前記ガス領域像の特徴点を示す画素を前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定し、前記特徴点の中から前記ガス漏れ推定位置を示す画素を決定し、
前記ガス漏れ位置推定装置は、前記ガス領域像と接する四辺を有しており、前記ガス領域像を囲む長方形である外接長方形を設定する設定部をさらに備え、
前記第1の決定部は、前記外接長方形の二つの短辺と前記ガス領域像とが接する二点に位置する第1の画素及び第2の画素の少なくとも一方の画素を、前記特徴点を示す画素として決定する、ガス漏れ位置推定装置。 - 前記設定部は、前記外接長方形のうち、最小の面積を有する前記外接長方形を、前記外接長方形として設定する請求項2に記載のガス漏れ位置推定装置。
- 時系列に並ぶ複数の前記画像のそれぞれから、各画像が撮影された時点で前記ガスが漂っている領域を示す瞬時ガス領域像を抽出する第1の抽出部と、
複数の前記画像のそれぞれから抽出された複数の前記瞬時ガス領域像において、同じ位置の画素の画素値を加算する処理をして、複数の前記瞬時ガス領域像を累積した像である累積ガス領域像を生成する生成部と、をさらに備え、
前記特定部は、二値化処理後の前記累積ガス領域像を、前記ガス領域像として特定する請求項1〜3のいずれか一項に記載のガス漏れ位置推定装置。 - 時系列に並ぶ複数の前記画像のそれぞれから、各画像が撮影された時点で前記ガスが漂っている領域を示す瞬時ガス領域像を抽出する第1の抽出部と、
複数の前記画像のそれぞれから抽出された複数の前記瞬時ガス領域像において、同じ位置の画素の画素値を加算する処理をして、複数の前記瞬時ガス領域像を累積した像である累積ガス領域像を含む累積画像を生成する生成部と、
前記累積画像を構成する複数の画素から、所定のしきい値を基にして、画素を抽出する抽出処理をする第2の抽出部と、
前記しきい値で抽出された画素で構成される像の重心を算出する算出処理をする算出部と、をさらに備え、
前記第2の抽出部は、異なる値の二以上の前記しきい値のそれぞれを基にして、前記抽出処理をし、
前記算出部は、異なる値の二以上の前記しきい値のそれぞれに対応する前記像に対して、前記算出処理をすることにより、二以上の前記重心を算出し、
前記第1の算出部は、前記回帰線の替りに、二以上の前記重心のそれぞれの位置の関係を示す第1の回帰線を算出し、
前記特定部は、二値化処理後の前記累積ガス領域像を、前記ガス領域像として特定し、
前記第1の決定部は、前記回帰線の替りに、前記第1の回帰線を用いて、前記第1の画素及び前記第2の画素の少なくとも一方の画素を、前記特徴点を示す画素として決定する請求項1に記載のガス漏れ位置推定装置。 - 前記ガス領域像を構成する複数の画素の中で、画素値が一番大きい画素、又は、前記ガス領域像の重心を示す画素を注目画素として設定し、前記第1の画素と前記注目画素との距離が、前記第2の画素と前記注目画素との距離より短いとき、前記第1の画素を、前記ガス漏れ推定位置を示す画素と決定し、前記第2の画素と前記注目画素との距離が、前記第1の画素と前記注目画素との距離より短いとき、前記第2の画素を、前記ガス漏れ推定位置を示す画素と決定する第2の決定部をさらに備える請求項1〜5のいずれか一項に記載のガス漏れ位置推定装置。
- 前記ガスの密度が空気の密度より低いとき、前記第1の画素又は前記第2の画素のうち、位置が低い方の画素を、前記ガス漏れ推定位置を示す画素と決定し、前記ガスの密度が前記空気の密度より高いとき、前記第1の画素又は前記第2の画素のうち、位置が高い方の画素を、前記ガス漏れ推定位置を示す画素と決定する第2の決定部をさらに備える請求項1〜5のいずれか一項に記載のガス漏れ位置推定装置。
- 前記ガス領域像を構成する複数の画素の中で、画素値が一番大きい画素、又は、前記ガス領域像の重心を示す画素を注目画素として設定し、
前記第1の画素と前記第2の画素とを結ぶ線と交差して、前記輪郭上に位置する両端を有し、前記第1の画素と前記注目画素との間に位置する第1の線分が、前記第1の画素と前記第2の画素とを結ぶ線と交差して、前記輪郭上に位置する両端を有し、前記第2の画素と前記注目画素との間に位置する第2の線分より短いとき、前記第1の画素を、前記ガス漏れ推定位置を示す画素と決定し、前記第2の線分が前記第1の線分より短いとき、前記第2の画素を、前記ガス漏れ推定位置を示す画素と決定する第2の決定部をさらに備える請求項1〜5のいずれか一項に記載のガス漏れ位置推定装置。 - 前記ガス領域像を構成する複数の画素の中で、画素値が一番大きい画素、又は、前記ガス領域像の重心を示す画素を注目画素として設定し、
前記第1の画素と前記第2の画素とを結ぶ線と交差して、前記注目画素を通る分割線によって、前記ガス領域像を前記第1の画素を含む第1の分割像と前記第2の画素を含む第2の分割像とに二分割し、
前記第1の分割像の面積が前記第2の分割像の面積より小さいとき、前記第1の画素を、前記ガス漏れ推定位置を示す画素と決定し、前記第2の分割像の面積が前記第1の分割像の面積より小さいとき、前記第2の画素を、前記ガス漏れ推定位置を示す画素と決定する第2の決定部をさらに備える請求項1〜5のいずれか一項に記載のガス漏れ位置推定装置。 - 前記ガス領域像を構成する複数の画素の中で、画素値が一番大きい画素、又は、前記ガス領域像の重心を示す画素を注目画素として設定し、
前記第1の画素と前記第2の画素とを結ぶ線と交差して、前記注目画素を通る分割線によって、前記ガス領域像を前記第1の画素を含む第1の分割像と前記第2の画素を含む第2の分割像とに二分割し、
前記第1の分割像の輪郭が前記第2の分割像の輪郭より小さいとき、前記第1の画素を、前記ガス漏れ推定位置を示す画素と決定し、前記第2の分割像の輪郭が前記第1の分割像の輪郭より小さいとき、前記第2の画素を、前記ガス漏れ推定位置を示す画素と決定する第2の決定部をさらに備える請求項1〜5のいずれか一項に記載のガス漏れ位置推定装置。 - 前記第2の決定部は、時系列に並ぶ複数の前記ガス領域像のそれぞれについて、前記ガス漏れ推定位置を示す画素を決定し、決定した複数の前記ガス漏れ推定位置を示す画素を、複数の第1のガス漏れ推定位置を示す画素として設定し、
複数の前記第1のガス漏れ推定位置を示す画素のそれぞれの座標値を母集団として設定し、
前記母集団の平均値又は中央値となる座標値を示す画素を、第2のガス漏れ推定位置を示す画素と決定する請求項6〜10のいずれか一項に記載のガス漏れ位置推定装置。 - 前記第1の決定部は、時系列に並ぶ複数の前記ガス領域像のそれぞれについて、前記第1の画素及び前記第2の画素を決定し、
前記第2の決定部は、前記第1の決定部によって決定された複数の前記第1の画素及び複数の前記第2の画素の中から、前記特徴点が集中している範囲内にある画素のそれぞれの座標値を母集団として設定し、前記母集団の平均値又は中央値となる座標値を示す画素を、前記ガス漏れ推定位置を示す画素と決定する請求項6〜10のいずれか一項に記載のガス漏れ位置推定装置。 - 前記ガス漏れ推定位置が示されている、前記監視領域の前記画像を表示部に表示させる表示制御部をさらに備える請求項1〜12のいずれか一項に記載のガス漏れ位置推定装置。
- 監視領域を撮影した画像の中において、ガスが漂っている領域を示すガス領域像を特定する第1のステップと、
前記ガスが漏れている位置と推定されるガス漏れ推定位置を示す画素を、前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定する第2のステップと、を備えるガス漏れ位置推定方法であって、
前記第2のステップは、前記ガス領域像の特徴点を示す画素を前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定し、前記特徴点の中から前記ガス漏れ推定位置を示す画素を決定し、
前記ガス漏れ位置推定方法は、前記ガス領域像を構成する複数の画素のそれぞれの位置の関係を示す回帰線を算出する第3のステップをさらに備え、
前記第2のステップは、前記回帰線と前記輪郭とが交差する二点に位置する第1の画素及び第2の画素の少なくとも一方の画素を、前記特徴点を示す画素として決定する、ガス漏れ位置推定方法。 - 監視領域を撮影した画像の中において、ガスが漂っている領域を示すガス領域像を特定する第1のステップと、
前記ガスが漏れている位置と推定されるガス漏れ推定位置を示す画素を、前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定する第2のステップと、を備えるガス漏れ位置推定方法であって、
前記第2のステップは、前記ガス領域像の特徴点を示す画素を前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定し、前記特徴点の中から前記ガス漏れ推定位置を示す画素を決定し、
前記ガス漏れ位置推定方法は、前記ガス領域像と接する四辺を有しており、前記ガス領域像を囲む長方形である外接長方形を設定する第3のステップをさらに備え、
前記第2のステップは、前記外接長方形の二つの短辺と前記ガス領域像とが接する二点に位置する第1の画素及び第2の画素の少なくとも一方の画素を、前記特徴点を示す画素として決定する、ガス漏れ位置推定方法。 - 監視領域を撮影した画像の中において、ガスが漂っている領域を示すガス領域像を特定する第1のステップと、
前記ガスが漏れている位置と推定されるガス漏れ推定位置を示す画素を、前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定する第2のステップと、をコンピューターに実行させるガス漏れ位置推定プログラムであって、
前記第2のステップは、前記ガス領域像の特徴点を示す画素を前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定し、前記特徴点の中から前記ガス漏れ推定位置を示す画素を決定し、
前記ガス漏れ位置推定プログラムは、前記ガス領域像を構成する複数の画素のそれぞれの位置の関係を示す回帰線を算出する第3のステップをさらに、前記コンピューターに実行させ、
前記第2のステップは、前記回帰線と前記輪郭とが交差する二点に位置する第1の画素及び第2の画素の少なくとも一方の画素を、前記特徴点を示す画素として決定する、ガス漏れ位置推定プログラム。 - 監視領域を撮影した画像の中において、ガスが漂っている領域を示すガス領域像を特定する第1のステップと、
前記ガスが漏れている位置と推定されるガス漏れ推定位置を示す画素を、前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定する第2のステップと、をコンピューターに実行させるガス漏れ位置推定プログラムであって、
前記第2のステップは、前記ガス領域像の特徴点を示す画素を前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定し、前記特徴点の中から前記ガス漏れ推定位置を示す画素を決定し、
前記ガス漏れ位置推定プログラムは、前記ガス領域像と接する四辺を有しており、前記ガス領域像を囲む長方形である外接長方形を設定する第3のステップをさらに、前記コンピューターに実行させ、
前記第2のステップは、前記外接長方形の二つの短辺と前記ガス領域像とが接する二点に位置する第1の画素及び第2の画素の少なくとも一方の画素を、前記特徴点を示す画素として決定する、ガス漏れ位置推定プログラム。 - 監視領域を撮影した画像の中において、ガスが漂っている領域を示すガス領域像を特定する第1の演算をし、前記ガスが漏れている位置と推定されるガス漏れ推定位置を示す画素を、前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定する第2の演算をする演算制御部と、
前記ガス漏れ推定位置を示されている、前記監視領域の前記画像を表示する表示部と、を備えるガス漏れ位置推定装置であって、
前記第2の演算は、前記ガス領域像の特徴点を示す画素を前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定し、前記特徴点の中から前記ガス漏れ推定位置を示す画素を決定することであり、
前記演算制御部は、前記ガス領域像を構成する複数の画素のそれぞれの位置の関係を示す回帰線を算出する第3の演算をし、
前記第2の演算は、前記回帰線と前記輪郭とが交差する二点に位置する第1の画素及び第2の画素の少なくとも一方の画素を、前記特徴点を示す画素として決定することである、ガス漏れ位置推定装置。 - 監視領域を撮影した画像の中において、ガスが漂っている領域を示すガス領域像を特定する第1の演算をし、前記ガスが漏れている位置と推定されるガス漏れ推定位置を示す画素を、前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定する第2の演算をする演算制御部と、
前記ガス漏れ推定位置を示されている、前記監視領域の前記画像を表示する表示部と、を備えるガス漏れ位置推定装置であって、
前記第2の演算は、前記ガス領域像の特徴点を示す画素を前記ガス領域像の輪郭を構成する複数の画素の中から決定し、前記特徴点の中から前記ガス漏れ推定位置を示す画素を決定することであり、
前記演算制御部は、前記ガス領域像と接する四辺を有しており、前記ガス領域像を囲む長方形である外接長方形を設定する第3の演算をし、
前記第2の演算は、前記外接長方形の二つの短辺と前記ガス領域像とが接する二点に位置する第1の画素及び第2の画素の少なくとも一方の画素を、前記特徴点を示す画素として決定することである、ガス漏れ位置推定装置。
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