JP6617536B2 - 圧電デバイス、圧電モジュール及び電子機器 - Google Patents
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Description
上記特許文献1に記載の超音波センサーは、例えば、センサー基板上に4つの超音波トランスデューサーが、X軸及びY軸に沿って均等間隔に配置されたマトリクス状の二次元アレイ構造を備える。しかしながら、このような二次元アレイ構造においては、各超音波トランスデューサーに接続される配線が複雑化するという課題がある。
上記特許文献2に記載の超音波探触子は、バイアス電圧に応じて電気機械結合係数又は感度が変化する複数の振動要素を有し、各振動要素は、基板と、基板上に設けられた第1の膜体と、第1の膜体内に設けられた下部電極と、第1の膜体上に設けられる枠体と、枠体上に設けられる第2の膜体と、第2の膜体内に設けられた上部電極とを備える。また、枠体には、開口が設けられ、この開口により第1の膜体と第2の膜体との間に内部空間(真空)が形成される。このcMUTチップは、下部電極と上部電極との間にパルス電圧を印加することで、内部空間に面する第2の膜体を振動させ、基板と反対側に超音波を送信する。
そして、cMUTチップの上部電極及び下部電極のそれぞれに対応して、基板を貫通するスルーホール、すなわち、貫通電極が設けられ、当該貫通電極が基板を介してフレキシブル基板上に設けられた信号パターンに接続されている。このような構成により、配線の簡略化が図られている。
このような構成では、複数の貫通電極により、複数の接続電極のそれぞれを個別に制御できる。また、素子基板ではなく、補強板に貫通電極を設ける構成であるので、例えば素子基板に貫通孔や貫通電極を設ける構成に比べて、素子基板の強度が強く、衝撃等による破損を抑制できる。また、補強板に貫通電極を設ける構成となるが、当該補強板は、素子基板に比べて強度が十分に強いので、圧電デバイスの破損を抑制できる。さらに、貫通電極を用いる構成であるので、例えばワイヤボンディング等により接続電極を配線基板に接続する構成に比べて、断線等の不都合も抑制できる。
これに加え、例えば、素子基板の外周端部まで接続電極を引きまわす必要がなく、配線構成の簡略化を図れる。また、素子基板の外周端部に接続電極と配線基板との接続を行うための端子領域が不要となるので、素子基板の小型化を図れる。
これに加え、貫通電極のそれぞれに対して入出力回路から独立して信号が入出力される構成となり、各素子を個別に制御でき、各素子部を高精度に駆動させることが可能となる。
つまり、上記特許文献1に記載したような構成では、複数の素子でCOM(共通電極)が共通となり(互いに結線されており)、SIG(駆動電極)も共通となり、これらの複数の素子を1つの素子群として駆動させる。しかしながら、このような構成では、COMやSIGが共通とされた複数の素子において、信号の入力位置から遠い素子では、信号の電圧降下が発生して、駆動精度が低下してしまう。
これに対して、本実施形態では、各素子部に対してそれぞれ貫通電極が設けられており、各素子部をそれぞれ独立して駆動させることが可能となる。よって、上記のような信号の電圧降下が発生せず、各素子部を高精度に駆動させることができる。また、各素子部が独立しているため、2次元アレイ構造として機能させることが可能となる。つまり、素子部毎に超音波の送出制御ができるので、例えば音響レンズ等を用いなくても、超音波の送信方向を制御することができる。
本適用例の圧電モジュールでは、第一接続電極が第一方向に沿って引き出され、第二接続電極が第一方向に交差する第二方向に沿って引き出されているので、第一接続電極及び第二接続電極の双方が、同一方向(例えば第一方向のみや、第二方向のみ)に沿ってそれぞれ引き出されている場合に比べて、圧電モジュールにおける素子部を密に配置できる。このため、アレイ間隔を小さくでき、圧電素子基板や圧電モジュールの小型化を促進できる。
本適用例の圧電モジュールでは、各素子部の第一方向の一端側でかつ第二方向の一端側に第三接続電極が引き出され、各素子部の第一方向の他端側でかつ第二方向の他端側に第四接続電極が引き出される。例えば、各素子部の中心を通るxy軸を規定した場合に、第一象限に第三接続電極を設ける場合、第三象限に第四接続電極を設ける。なお、各素子部において、第二象限に第三接続電極を設ける場合では、第四象限に第四接続電極を設ければよい。
このような構成では、隣り合う素子部において、一方の素子部の第三接続電極と他方の素子部の第四接続電極とを、第二方向沿って並んで配置させることができる。この構成によれば、例えば、隣り合う素子部の各接続電極が第一方向若しくは第二方向に沿って並ぶ場合に比べて、圧電モジュールにおける素子部を密に配置できる。
本適用例の圧電モジュールでは、第一の素子部の接続電極と、第二の素子部の接続電極の引出方向が異なる。よって、第一の素子部の接続電極と、第二の素子部の接続電極とが、第一方向又は第二方向に沿って並ぶことがなく、圧電モジュールにおける素子部を密に配置できる。
本適用例では、制御部は、素子部を制御することで、超音波の送受信処理を実施し、送受信タイミングに基づいて被測定物に対する測定(超音波測定)を実施する。本適用例では、上述のように、各素子部での超音波送信処理や超音波受信処理を高精度に実施することができるので、超音波測定における測定精度の向上を図れる。
以下、本発明に係る第一実施形態の電子機器としての超音波測定装置について、図面に基づいて説明する。
図1は、本実施形態の超音波測定装置1の概略構成を示す斜視図である。
本実施形態の超音波測定装置1は、図1に示すように、超音波プローブ2と、超音波プローブ2にケーブル3を介して電気的に接続された制御装置10と、を備えている。
この超音波測定装置1は、超音波プローブ2を生体(例えば人体)の表面に当接させ、超音波プローブ2から生体内に超音波を送出する。また、生体内の器官にて反射された超音波を超音波プローブ2にて受信し、その受信信号に基づいて、例えば生体内の内部断層画像を取得したり、生体内の器官の状態(例えば血圧及び血流等)を測定したりする。
図2は、超音波測定装置1の概略構成を示すブロック図である。
制御装置10は、図2に示すように、例えば、操作部11と、表示部12と、記憶部13と、演算部14と、を備えて構成されている。この制御装置10は、例えば、タブレット端末やスマートフォン、パーソナルコンピューター等の端末装置を用いてもよく、超音波プローブ2を操作するための専用端末装置であってもよい。
操作部11は、ユーザーが超音波測定装置1を操作するためのUI(user interface)であり、例えば表示部12上に設けられたタッチパネルや、操作ボタン、キーボード、マウス等により構成することができる。
表示部12は、例えば液晶ディスプレイ等により構成され、画像を表示させる。
記憶部13は、超音波測定装置1を制御するための各種プログラムや各種データを記憶する。
演算部14は、例えばCPU(Central Processing Unit)等の演算回路や、メモリー等の記憶回路により構成されている。そして、演算部14は、記憶部13に記憶された各種プログラムを読み込み実行することで、超音波プローブ2の送信回路234に対して送信信号の生成及び出力処理の制御を行い、受信回路235に対して受信信号の周波数設定やゲイン設定などの制御を行う。
図3は、超音波プローブ2における超音波センサー24の概略構成を示す平面図である。
超音波プローブ2は、図1〜図3に示すように、筐体21と、筐体21内部に設けられた超音波デバイス22と、超音波デバイス22を制御するためのドライバ回路等が設けられた配線基板23と、を備えている。なお、超音波デバイス22と、配線基板23とにより超音波センサー24が構成され、当該超音波センサー24は、本発明の超音波モジュールを構成する。
筐体21は、図1に示すように、平面視矩形状の箱状に形成され、厚み方向に直交する一面(センサー面21A)には、センサー窓21Bが設けられており、超音波デバイス22の一部が露出している。また、筐体21の一部(図1に示す例では側面)には、ケーブル3の通過孔21Cが設けられ、ケーブル3は、通過孔21Cから筐体21の内部の配線基板23に接続されている。また、ケーブル3と通過孔21Cとの隙間は、例えば樹脂材等が充填されることで、防水性が確保されている。
なお、本実施形態では、図3に示すように、ケーブル3を用いて、超音波プローブ2と制御装置10とが接続される構成例を示すが、これに限定されず、例えば超音波プローブ2と制御装置10とが無線通信により接続されていてもよく、超音波プローブ2内に制御装置10の各種構成が設けられていてもよい。
なお、超音波デバイス22の詳しい構成については、後述する。
配線基板23は、図2及び図3に示すように、配線端子部231、接合部材232(図5参照)、選択回路233、送信回路234、受信回路235、及びコネクタ部236を備えている。これらのうち、選択回路233、送信回路234、受信回路235、及びコネクタ部236は、超音波デバイス22を駆動させるためのドライバ回路等、すなわち、集積回路IC(図5参照)を構成する。この集積回路ICは、本発明の入出力回路に相当する。
配線端子部231は、配線基板23上に複数配置され、上記集積回路ICとそれぞれ電気的に接続されている。これら複数の配線端子部231のそれぞれは、接合部材232を介して超音波トランスデューサー51、より具体的には、後述する第一貫通電極423及び第二貫通電極424に接続されている。
選択回路233は、制御装置10の制御に基づいて、超音波デバイス22と送信回路234とを接続する送信接続、及び超音波デバイス22と受信回路235とを接続する受信接続を切り替える。
送信回路234は、制御装置10の制御により送信接続に切り替えられた際に、選択回路233を介して超音波デバイス22に超音波を発信させる旨の送信信号を出力する。
コネクタ部236は、送信回路234、受信回路235に接続されている。また、コネクタ部236にはケーブル3が接続されており、上述したように、このケーブル3は、筐体21の通過孔21Cから引き出されて制御装置10に接続されている。
図4は、本実施形態の超音波プローブ2の素子基板41の一部を拡大して示す平面図であり、図5は、図4における素子基板41の一部をB−B線切断した素子基板41(超音波センサー24)の断面図である。
超音波センサー24を構成する超音波デバイス22は、図3及び図4に示すように、素子基板41と、封止板42と、音響整合層43(図5参照)と、により構成されている。
なお、封止板42は、本発明の補強板に相当する。
素子基板41は、図5に示すように、基板本体部411と、当該基板本体部411に積層された振動膜412と、振動膜412に積層された圧電素子413を備えている。ここで、素子基板41において、封止板42に対向する背面41Aは本発明における第二面となり、背面41Aとは反対側で超音波の送受信方向となる作動面41Bが本発明における第一面となる。また、振動膜412及び圧電素子413により、本発明の超音波トランスデューサー51が構成されている。
そして、図4に示すように、素子基板41を厚み方向から見た平面視において、素子基板41の中心領域には、複数の超音波トランスデューサー51がアレイ状に配置された超音波トランスデューサーアレイ50が設けられている。この超音波トランスデューサーアレイ50が設けられる領域を、以降、アレイ領域Ar1(図3参照)と称する。
振動膜412は、例えばSiO2や、SiO2及びZrO2の積層体等より構成され、基板本体部411の背面41A側全体を覆って設けられている。この振動膜412の厚み寸法は、基板本体部411に対して十分小さい厚み寸法となる。基板本体部411をSiにより構成し、振動膜412をSiO2により構成する場合、例えば基板本体部411の背面41A側を酸化処理することで、所望の厚み寸法の振動膜412を容易に形成することが可能となる。また、この場合、SiO2の振動膜412をエッチングストッパとして基板本体部411をエッチング処理することで、容易に上記開口部411Aを形成することが可能となる。
なお、開口部411Aと、振動膜412のうち当該開口部411Aを閉塞する領域とにより、本発明の凹状開口部が構成される。また、素子基板41のうち、開口部411Aが設けられていない部分は、平面視において、開口部411Aを囲う支持部411Bとなる。
このような超音波トランスデューサー51では、それぞれの下部電極414及び上部電極416の間に所定周波数の矩形波電圧が印加されることで、開口部411Aの開口領域内の振動膜412を振動させて超音波が送出することができる。また、対象物から反射された超音波により振動膜412が振動されると、圧電膜415の上下で電位差が発生する。したがって、下部電極414及び上部電極416間に発生する上記電位差を検出することで、受信した超音波を検出することが可能となる。
また、下部電極414は、それぞれの圧電素子413ごとにそれぞれ独立して設けられており、上部電極416は、上記下部電極414と同様に、それぞれの圧電素子413ごとにそれぞれ独立して設けられている。
なお、下部電極414のそれぞれには、後述する第一貫通電極423が電気的に接続され、上部電極416のそれぞれには、後述する第二貫通電極424が電気的に接続される。
具体的に、超音波トランスデューサー51を構成する圧電素子413は、図4に示すように、圧電膜415と重なる下部電極414の−X側の端辺における−Y側端部から、−X側に向かって、下部接続電極414A(本発明の第三接続電極に相当)が引き出されている。また、圧電膜415と重なる上部電極416の+X側の端辺における+Y側から、+X側に向かって、上部接続電極416A(本発明の第四接続電極に相当)が引き出されている。すなわち、圧電素子413をY方向に沿って見た場合に、X方向に沿って隣り合う2つの圧電素子413の間で、−X側に位置する圧電素子413の上部電極416と、+X側に位置する圧電素子413の下部電極414とは、重なって配置されている。
このような構成により、例えば、圧電素子413の−X側の端辺の中央部から−X側に向かって下部接続電極414Aを引き出し、+X側の端辺の中央部から+X側に向かって上部接続電極416Aを引き出す場合(Y方向に沿って見た際に、下部電極414と上部電極416とが重ならない)に比べて、圧電素子413の配置を密にできる。
封止板42は、厚み方向から見た際の平面形状が例えば素子基板41と同形状に形成され、シリコン基板等の半導体基板や、絶縁体基板により構成される。なお、封止板42の材質や厚みは、超音波トランスデューサー51の周波数特性に影響を及ぼすため、超音波トランスデューサー51にて送受信する超音波の中心周波数に基づいて設定することが好ましい。
なお、基板本体部411の開口部411A以外の領域(支持部411B;図5参照)と封止板42の凹溝421以外の領域とが当接又は接合されていてもよい。
第一貫通電極423は、封止板42を厚み方向に貫通して下部接続電極414Aに接続される。この第一貫通電極423は、複数の下部接続電極414Aのそれぞれに対応して設けられている。したがって、各第一貫通電極423から各下部接続電極414Aを介し、各下部電極414にそれぞれ独立した信号を入出力することが可能となる。
同様に、第二貫通電極424は、封止板42を厚み方向に貫通して、上部接続電極416Aに接続される。この第二貫通電極424は、複数の上部接続電極416Aのそれぞれに対応して設けられており、各第二貫通電極424から各上部接続電極416Aを介して、各上部電極416にそれぞれ独立した信号を入出力することが可能となる。
第一貫通電極423と下部接続電極414Aとの接続、及び、第二貫通電極424と上部接続電極416Aとの接続は、例えば半田等の導電性の接合部材(図示省略)を介して接合すればよく、その他、異方性導電性膜(ACF:Anisotropic Conductive Film)や異方性導電性ペースト(ACP:Anisotropic Conductive Paste)を用いた接合であってもよい。ACFやACPを用いる場合では、例えば、封止板42の補強部422の素子基板41に対向する面に、ACFを成膜又はACPを塗布する。そして、封止板42を素子基板41に重ね合せ厚み方向に荷重を印加する。これにより、ACF(又はACP)の加重印加方向(厚み方向)では、導電性が保持され、荷重印加に直交する方向では絶縁性が保持されることになる。すなわち、第一貫通電極423及び下部接続電極414Aが電気的に接続され、第二貫通電極424及び上部接続電極416Aが電気的に保持され、かつ、ACF(又はACP)により、素子基板41と封止板42とが接合される。
この場合、X方向及びY方向に直交する方向をZ方向(素子基板41の基板面の法線方向(基板厚み方向))として、例えばX方向に並ぶ超音波トランスデューサー51からの送信する超音波の送信タイミングを遅延させることで、XZ平面において、超音波の送信方向を制御することが可能となる。また、例えばY方向に並ぶ超音波トランスデューサー51からの送信する超音波の送信タイミングを遅延させることで、YZ平面において、超音波の送信方向を制御することが可能となる。すなわち、超音波トランスデューサーアレイ50を2次元アレイとして機能させることが可能となり、超音波を任意の方向に送信することが可能となる。このため、本実施形態では、超音波を屈折させて送信方向を所定方向に制御する音響レンズを備えていない。
音響整合層43は、図5に示すように、素子基板41の作動面41B側に設けられている。具体的には、音響整合層43は、素子基板41の開口部411A内に充填され、かつ、基板本体部411の作動面41B側から所定の厚み寸法で形成される。
この音響整合層43は、超音波トランスデューサー51から送信された超音波を測定対象である生体に効率よく伝搬させ、また、生体内で反射した超音波を効率よく超音波トランスデューサー51に伝搬させる。このため、音響整合層43は、素子基板41の超音波トランスデューサー51の音響インピーダンスと、生体の音響インピーダンスとの中間の音響インピーダンスに設定されている。
本実施形態では、基板本体部411に開口部411Aが設けられ、基板本体部411の背面41A側(第二面側)に開口部411Aを閉塞する振動膜412が設けられている。つまり、素子基板41の作動面41B(第一面)に、開口部411A及び振動膜412により構成された凹状開口部が設けられている。また、この凹状開口部の底面である振動膜412の背面41A側に圧電素子413が設けられている。圧電素子413の下部電極414に接続された下部接続電極414A、及び上部電極416に接続された上部接続電極416Aは、素子基板41の支持部411B(素子基板41における開口部411Aが設けられる領域以外)に引き出される。そして、これらの下部接続電極414A及び上部接続電極416Aは、素子基板41の背面41A側に接合された封止板42を厚み方向に貫通する第一貫通電極423及び第二貫通電極424に接続されている。
このような構成では、第一貫通電極423及び第二貫通電極424から各超音波トランスデューサー51に信号を入出力することで、各超音波トランスデューサー51を個別に制御できる。また、素子基板41ではなく、封止板42に第一貫通電極423及び第二貫通電極424を設ける構成であるので、素子基板41に貫通孔を設ける必要がなく、衝撃等による素子基板41の破損を抑制できる。
このような構成では、第一貫通電極423や第二貫通電極424が超音波トランスデューサーアレイ50内に設けられる構成となるので、配線の引き回し等が不要となり、超音波デバイス22を小型化でき、超音波センサー24や超音波プローブ2の小型化を促進できる。
次に、本発明の第二実施形態について説明する。
本実施形態に係る超音波測定装置は、上記超音波測定装置1と略同一の構成を備える他、超音波トランスデューサーを構成する圧電素子413の構成の一部が異なる点で、超音波測定装置1と相違する。
なお、以下の説明では、第一実施形態に係る超音波測定装置1と同一若しくは略同一の構成については、同符号を付し、その説明を省略又は簡略化する。
本実施形態では、図6に示すように、上記のような超音波トランスデューサー51Bが、素子基板41のアレイ領域Ar1内に、X方向(第一方向)、及びX方向に直交するY方向(第二方向)に沿って複数配置されている。
そして、本実施形態では、図6において、下部接続電極414Bは、圧電膜415と重なる下部電極414の−X側に引き出される。一方、上部接続電極416Bは、圧電膜415と重なる上部電極416の+Y側に引き出される。本実施形態においては、下部接続電極414Bは、本発明の第一接続電極に相当し、上部接続電極416Bは、本発明の第二接続電極に相当する。
例えば、下部接続電極414Bを下部電極414の−X側に引き出し、上部接続電極416Bを上部電極416の−Y側に引き出してもよく、下部接続電極414Bを下部電極414の+X側に引き出し、上部接続電極416Bを上部電極416の−Y側に引き出してもよく、下部接続電極414Bを下部電極414の+X側に引き出し、上部接続電極416Bを上部電極416の+Y側に引き出してもよい。
また、下部接続電極414Bと上部接続電極416Bとの引き出し方向を替えてもよい。例えば、下部接続電極414Bを下部電極414の−Y側に引き出し、上部接続電極416Bを上部電極416の+X側に引き出してもよく、下部接続電極414Bを下部電極414の−Y側に引き出し、上部接続電極416Bを上部電極416の−X側に引き出してもよく、下部接続電極414Bを下部電極414の+Y側に引き出し、上部接続電極416Bを上部電極416の−X側に引き出してもよく、下部接続電極414Bを下部電極414の+Y側に引き出し、上部接続電極416Bを上部電極416の+X側に引き出してもよい。
本実施形態では、超音波トランスデューサー51Bを構成する圧電素子413Bは、−X側に引き出された下部接続電極414Bと、+Y側に引き出された上部接続電極416Bとを備える。この場合、X方向及びY方向に沿って圧電素子413Cを配列させた際、X方向に並ぶ圧電素子413B間には、それぞれ、1つの下部接続電極414Bが配置され、Y方向に並ぶ圧電素子413B間には、それぞれ、1つの上部接続電極416Bが配置される。よって、例えば、圧電素子間に複数(例えば2つ)の接続電極が配置される場合に比べ、圧電素子413B(超音波トランスデューサー51B)を密に配置することができる。これにより、上記第一実施形態と同様、超音波トランスデューサーアレイ50や超音波デバイス22をより小型にでき、超音波センサー24や超音波プローブ2の更なる小型化を促進できる。
次に、本発明の第三実施形態について説明する。
本実施形態に係る超音波測定装置は、上記超音波測定装置1と略同一の構成を備える他、超音波トランスデューサーを構成する圧電素子413の構成の一部が異なる点で、超音波測定装置1と相違する。
なお、以下の説明では、第一実施形態に係る超音波測定装置1と同一若しくは略同一の構成については、同符号を付し、その説明を省略又は簡略化する。
本実施形態では、図7に示すように、上記のような超音波トランスデューサー51C,51Dが、素子基板41のアレイ領域Ar1内に、X方向(第一方向)、及びX方向に直交するY方向(第二方向)に沿って交互に複数配置されている。
具体的には、図7に示すように、超音波トランスデューサー51Cを構成する圧電素子413Cにおいて、下部接続電極414Cは、圧電膜415と重なる下部電極414の−Y側に引き出され、上部接続電極416Cは、圧電膜415と重なる上部電極416の+Y側に引き出される。
一方、超音波トランスデューサー51Dを構成する圧電素子413Dにおいて、下部接続電極414Dは、圧電膜415と重なる下部電極414の−X側に引き出され、上部接続電極416Dは、圧電膜415と重なる上部電極416から+X側に引き出される。本実施形態においては、圧電素子413Dは、本発明の第一の圧電素子に相当し、圧電素子413Cは、本発明の第二の圧電素子に相当する。
本実施形態では、超音波トランスデューサー51C,51Dのうち、超音波トランスデューサー51Cを構成する圧電素子413Cでは、下部接続電極414C及び上部接続電極416CをY方向に沿って引き出し、超音波トランスデューサー51Dを構成する圧電素子413Dでは、下部接続電極414D及び上部接続電極416DをX方向に沿って引き出している。そして、超音波トランスデューサー51C,51DをX方向及びY方向に対して交互に配置している。このような構成では、X方向に並ぶ圧電素子413C間には、それぞれ、1つの下部接続電極414C又は上部接続電極416Cが配置され、Y方向に並ぶ圧電素子413D間には、それぞれ、1つの下部接続電極414D又は上部接続電極416Dが配置される。よって、例えば、圧電素子間に複数(例えば2つ)の接続電極が配置される場合に比べ、圧電素子413C,413D(超音波トランスデューサー51C,51D)を密に配置することができる。これにより、上記第一実施形態と同様、超音波トランスデューサーアレイ50や超音波デバイス22をより小型にでき、超音波センサー24や超音波プローブ2の更なる小型化を促進できる。
次に、本発明の第四実施形態について説明する。
本実施形態に係る超音波測定装置は、上記超音波測定装置1と略同一の構成を備える他、超音波トランスデューサーを構成する圧電素子413の構成の一部が異なる点で、超音波測定装置1と相違する。
なお、以下の説明では、第一実施形態に係る超音波測定装置1と同一若しくは略同一の構成については、同符号を付し、その説明を省略又は簡略化する。
本実施形態では、図8に示すように、上記のような超音波トランスデューサー51Gが、素子基板41のアレイ領域Ar1内に、X方向(第一方向)、及びX方向に直交するY方向(第二方向)に沿って複数配置されている。
具体的に、超音波トランスデューサー51Gを構成する圧電素子413Gにおいて、下部接続電極414Gは、図8に示すように、−X側に引き出され、上部接続電極416Gは、+X側に引き出されている。
本実施形態では、超音波トランスデューサー51Gを構成する圧電素子413Gは、圧電膜415に対して、下部電極414は、圧電膜415の−X方向側に位置し、上部電極416は、圧電膜415に対して+X方向側に位置しているので、例えば、上記第一〜第三実施形態における圧電素子413,413B〜413Dに比べて、構成を簡易にできる。
また、隣り合う圧電素子413Gとの間の距離を大きくできる。例えば、送受信対象の超音波の周波数が低周波数である場合は、開口部411Aの開口径を大きくする必要があり、この場合、隣り合う開口部411Aとの間の距離が短いと、素子基板41の強度が低下する。これに対して、本実施形態では、圧電素子413G間の距離が大きいので、支持部411Bの強度も強くなり、素子基板41の破損を抑制できる。
なお、本発明は上述の各実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良、及び各実施形態を適宜組み合わせる等によって得られる構成は本発明に含まれるものである。
また、超音波デバイス22を備えた超音波測定装置1を例示したが、その他の電子機器に対しても適用できる。例えば、超音波を洗浄対象に対して送出し、線状対象を超音波洗浄する超音波洗浄機等に用いることができる。
図9に示す超音波洗浄機8は、洗浄槽81と、洗浄槽81の例えば底面に設置された超音波モジュール82と、を備える。
超音波モジュール82は、上記実施形態と同様の超音波デバイス22と、超音波デバイス22を制御する配線基板83とを備えている。すなわち、超音波デバイス22は、作動面41Bが洗浄槽81の内面に臨む素子基板41と、素子基板41の背面41A側に設けられた封止板42とを備え、素子基板41の背面41A側に、複数の超音波トランスデューサー51(図9においては図示略)により構成された超音波トランスデューサーアレイ50(図9においては図示略)と、を備えている。そして、超音波トランスデューサー51を構成する圧電素子413の上部電極416は、封止板42に設けられた第一貫通電極423に接続され、下部電極414は、第二貫通電極424に接続される。これら第一貫通電極423及び第二貫通電極424は、配線基板83に設けられた配線端子部(図示略)に電気的に接続される。
このような構成において、配線基板83に対して超音波デバイス22をフェースダウン実装にて容易に実装することができる。また、素子基板41の作動面41B側が洗浄槽81側に面するので、背面41A側に設けられた超音波トランスデューサー51や電極線の防水性を高めることができる。
また、開口部411Aの背面41A側に振動膜412を設ける構成を例示したが、例えば、開口部411Aの作動面41B側に振動膜412が設けられ、この振動膜412の背面41A側に超音波トランスデューサー51を構成する圧電素子413が設けられる構成としてもよい。
Claims (6)
- 第一面及び前記第一面とは反対側の第二面を有し、前記第一面に設けられた凹状開口部、及び前記凹状開口部を囲う支持部を有する素子基板と、
前記凹状開口部の前記第二面に設けられた圧電体と、
前記圧電体に接続され、前記圧電体から前記支持部の前記第二面に引き出された複数の接続電極と、
前記素子基板の前記第二面側に接合される補強板と、
前記補強板の前記支持部に対向する位置に設けられ、前記補強板を厚み方向に貫通し、前記複数の接続電極のそれぞれに対して接続される複数の貫通電極と、を備え、
前記凹状開口部及び前記圧電体により素子部が構成され、
前記素子部は、前記第一面及び前記第二面の法線方向から見た平面視において、第一方向及び前記第一方向に交差する第二方向に沿ってアレイ状に配置され、
前記接続電極は、前記圧電体から前記第一方向に沿って引き出された第一接続電極と、前記圧電体から前記第二方向に沿って引き出された第二接続電極と、を備える
ことを特徴とする圧電デバイス。 - 第一面及び前記第一面とは反対側の第二面を有し、前記第一面に設けられた凹状開口部、及び前記凹状開口部を囲う支持部を有する素子基板と、
前記凹状開口部の前記第二面に設けられた圧電体と、
前記圧電体に接続され、前記圧電体から前記支持部の前記第二面に引き出された複数の接続電極と、
前記素子基板の前記第二面側に接合される補強板と、
前記補強板の前記支持部に対向する位置に設けられ、前記補強板を厚み方向に貫通し、前記複数の接続電極のそれぞれに対して接続される複数の貫通電極と、を備え、
前記凹状開口部及び前記圧電体により素子部が構成され、
前記素子部は、前記第一面及び前記第二面の法線方向から見た平面視において、第一方向及び前記第一方向に交差する第二方向に沿ってアレイ状に配置され、
前記接続電極は、前記圧電体の前記第一方向の一端側に引き出された第三接続電極と、
前記圧電体の前記第一方向の他端に引き出された第四接続電極と、を備え、
前記第三接続電極は、前記第二方向の一端側に位置し、前記第四接続電極は、前記第二方向の他端側に位置する
ことを特徴とする圧電デバイス。 - 第一面及び前記第一面とは反対側の第二面を有し、前記第一面に設けられた凹状開口部、及び前記凹状開口部を囲う支持部を有する素子基板と、
前記凹状開口部の前記第二面に設けられた圧電体と、
前記圧電体に接続され、前記圧電体から前記支持部の前記第二面に引き出された複数の接続電極と、
前記素子基板の前記第二面側に接合される補強板と、
前記補強板の前記支持部に対向する位置に設けられ、前記補強板を厚み方向に貫通し、前記複数の接続電極のそれぞれに対して接続される複数の貫通電極と、を備え、
前記凹状開口部及び前記圧電体により素子部が構成され、
前記素子部は、前記第一面及び前記第二面の法線方向から見た平面視において、第一方向及び前記第一方向に交差する第二方向に沿ってアレイ状に配置され、
複数の前記素子部のうちの第一の素子部に接続される前記接続電極は、前記圧電体から前記第一方向に沿って引き出され、
前記第一の素子部に隣り合う第二の素子部に接続される前記接続電極は、前記圧電体から前記第二方向に沿って引き出される
ことを特徴とする圧電デバイス。 - 請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の圧電デバイスと、
前記貫通電極のそれぞれに対して独立して信号を入出力する入出力回路と、を備える
ことを特徴とする圧電モジュール。 - 請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の圧電デバイスと、
前記貫通電極のそれぞれに対して独立して信号を入出力する入出力回路と、
前記圧電体を制御する制御部と、を備える
ことを特徴とする電子機器。 - 請求項5に記載の電子機器において、
前記制御部は、前記圧電体を駆動させて超音波を送信させる超音波送信処理、及び前記素子部で超音波を受信する超音波受信処理を実施し、前記超音波の送受信タイミングに基づいて被測定物を測定する
ことを特徴とする電子機器。
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