JP6613345B2 - コーティングシステム及びそれによって製造された物品 - Google Patents

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バーンダーリ、アビーナブ
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ビトロ、エセ．ア．ベ． デ セ．ウベ．
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Description

本発明は、概して、有機発光ダイオード、太陽光又は光電池（ＰＶ）セル、昼光窓、光抽出基板、摩擦改質面を有する基板、及びそれらの製造方法に関する。
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）は、有機化合物を組み込んだ発光型電界発光（エレクトロルミネッセント）層を有する発光デバイスである。
有機化合物は、電流に応答して発光する。典型的には、有機半導体材料の発光層は、２つの電極（陽極及び陰極）の間に配置される。陽極と陰極との間に電流が流れると、有機材料が発光する。ＯＬＥＤは、多くの用途（例えば、テレビスクリーン、コンピュータモニタ、携帯電話、ＰＤＡ、時計、照明、及び様々な他の電子デバイス）に使用されている。
ＯＬＥＤは、従来の無機デバイス（例えば、液晶ディスプレイ）よりも多くの利点を提供する。例えば、ＯＬＥＤは、バックライトを必要とせずに機能することができる。低周囲光（例えば、暗室）では、ＯＬＥＤスクリーンは、従来の液晶ディスプレイよりも高いコントラスト比を達成することができる。ＯＬＥＤはまた、典型的に、液晶ディスプレイ及び他の照明デバイス（装置）よりも薄く、軽く、より柔軟である。ＯＬＥＤはまた、典型的に、多くの他の従来の照明デバイスよりも少ない動作させるためのエネルギーを必要とする。
米国特許第４，９２４，９３６号明細書 米国特許第５，３５６，４５１号明細書 米国特許第７，７３０，７４７号明細書
しかしながら、ＯＬＥＤデバイスの１つの欠点は、無機固体状態ベースの点光源よりも単位面積当たりの光の放出が少ないことである。典型的なＯＬＥＤ照明デバイスでは、有機材料から放出された光の大部分は、有機発光層からの光が有機発光層／導電層（陽極）の界面、導電層（陽極）／基板の界面、及び外面／空気界面から反射して戻る光導波路効果のためデバイス内部に捕捉される。有機材料から放射された光の比較的小さな割合のみが光導波路効果を免れ、デバイスによって放射される。したがって、従来の方法で可能であるよりも多くの光をＯＬＥＤデバイスから抽出するためのデバイス及び／又は方法を提供することが有利であろう。
光起電太陽電池は、原則的に発光ダイオードの対応物である。ここで、半導体材料は、光（光子）のエネルギーを吸収し、そのエネルギーを電気に変換する。ＯＬＥＤと同様に、光起電デバイスの効率は比較的低い。例えば、モジュールレベルでは、典型的には、入射光の最大２０％のみが電気エネルギーに変換される。薄膜ＰＶセルからなる光起電デバイスの１つのクラスでは、この効率は、半導体材料及び接合設計に依存して、はるかに低くなる可能性がある。したがって、光起電デバイスの効率を高めるために、光起電半導体接合部の近くで吸収される太陽光の割合を増加させることが有利であろう。
ＯＬＥＤ及び光起電デバイスは、典型的には、各コーティング層がコーティングステーション内で塗布されるバッチコーティングプロセス内で製造される。次いで、その基板は、次の層の塗布のために、別の分離したコーティングステーションに搬送され、以下同様である。これは、時間のかかる労働集約的なプロセスである。デバイスのコーティング層又は機能領域の２以上をバッチプロセスではなく連続プロセスで作製することができれば有利である。また、基板の摩擦係数を、例えば、連続コーティングプロセスで改質することができれば有利である。
フロートガラスシステムは、少なくとも１つのナノ粒子堆積コーティング装置と、オプションとして、少なくとも１つの蒸着コーティング装置とを含む。フロートバスコーティングシステムは、フロートバス内に配置された少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置を含む。少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置は、ハウジングと、ナノ粒子放出スロットと、第１燃焼スロットと、第２燃焼スロットとを含む。ナノ粒子放出スロットは、ナノ粒子源及びキャリア流体源に接続される。第１燃焼スロットは、燃料源及び酸化剤源に接続される。第２燃焼スロットは、燃料源及び酸化剤源に接続される。
本発明は添付の図面に示されており、全体を通して同様の参照符号は同様の部分を示している。反対の指示がない限り、図面は縮尺通りではない。
本発明のフロートバスコーティングシステムを組み込んだフロートガラスシステムの側面図である。 図１のフロートバスコーティングシステムの平面図である。 本発明のナノ粒子コーティング装置の側面断面図である。 本発明の蒸発コーティング装置の側面断面図である。 改変したノズルブロックを有する図４の蒸発コーティング装置の側面断面図である。 物品中にナノ粒子領域を有する本発明の物品の側面断面図である。 物品の表面上に摩擦改質面を有する本発明の物品の側面断面図である。 プライバシーグレージングの形態の本発明の物品の側面断面図である。 ＯＬＥＤデバイスの形態の本発明の物品の側面断面図である。 本発明のドローダウンコーティングシステムの概略図である。 物品の対向する主側面に隣接するナノ粒子領域を有する、図１０のドローダウンコーティングシステムによって製造された物品の側面断面図である。 物品の対向する主側面に摩擦改質面を有する本発明の物品の側面断面図である。 プライバシーグレージングの形態の本発明の物品の側面断面図である。 基板の対向する主側面に隣接する光抽出領域を有する、ＯＬＥＤの形態の本発明の物品の側面断面図である。
空間的又は方向的用語（例えば、「左」、「右」、「内側」、「外側」など）は、図面に示されているように本発明に関するものである。本発明は様々な代替の方向を想定することができ、したがって、そのような用語は限定的であるとみなされるべきではないことを理解されたい。
明細書及び特許請求の範囲で使用される全ての数字は、すべての場合において、用語「約」によって修飾されるものとして理解されるべきである。全ての範囲は、開始及び終了範囲値及びその中に包含される任意の及びすべての部分範囲を包含するものと理解されるべきである。本明細書に記載の範囲は、特定の範囲にわたる平均値を表す。
コーティングの層に言及する場合、「上方に」という用語は、「基板表面からより遠い」ことを意味する。例えば、第１層の「上方」に位置する第２層とは、第２層が、第１層よりも層が上に存在する基板表面から遠くに位置することを意味する。第２層は第１層と直接接触することができる、又は１以上の他の層が第２層と第１層との間に配置されることができる。
用語「ポリマー」又は「ポリマー性」には、オリゴマー、ホモポリマー、コポリマー、及びターポリマーが含まれる。
本明細書で言及されるすべての文書は、その全体が「参照により援用される」とみなされるべきである。
量に関する言及は、他に特定しない限り、「重量％」である。
「膜」という用語は、所望の又は選択された組成を有する領域を意味する。「層」は、１以上の「膜」を含む。「コーティング」は、１以上の「層」から構成される。用語「有機材料」は、有機光電子デバイスを製造するために使用可能なポリマー並びに低分子有機材料を含む。
用語「可視光」は、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内の波長を有する電磁放射線を意味する。用語「赤外線放射」は、７８０ｎｍを超え１０００００ｎｍまでの範囲内の波長を有する電磁放射を意味する。「紫外線放射」という用語は、１００ｎｍ〜３８０ｎｍ未満の範囲の波長を有する電磁エネルギーを意味する。
「金属」及び「金属酸化物」という用語は、ケイ素は従来は金属とは見なされなくても、従来から認められている金属及び金属酸化物と同様に、それぞれケイ素及びシリカを含む。用語「硬化性」は、重合又は架橋可能な組成物を意味する。「硬化」とは、材料が少なくとも部分的に重合又は架橋される（好ましくは、完全に重合又は架橋される）ことを意味する。「少なくとも」とは、「以上」を意味する。「超えない」とは、「以下」を意味する。用語「上流」及び「下流」とは、ガラスリボンの移動方向を指す。
本明細書中のヘイズ値及び透過率値は、（ＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒ ＵＳＡから市販されている）ヘイズ−ガードプラスヘイズメーター又はＰｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｄａ ９分光光度計を使用して決定された値である。表面粗さの値は、Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ ３１００ Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ（原子間力顕微鏡）を使用して決定された値である。
本発明の議論は、特定の制約内で「特別の」又は「好ましい」（例えば、特定の制約内で「好ましい」、「より好ましくい」、又は「更により好ましい」）ものとしてある特定の構成を説明することができる。本発明は、これらの特別な又は好ましい制約に限定されず、本開示の範囲全体を包含することが理解されるべきである。
本発明は、本発明の以下の態様を、任意の組み合わせで含むか、それらからなるか、又は本質的にそれらからなる。本発明の様々な態様が別々の図面に示されている。しかしながら、これは単に例示及び説明を容易にするためのものであることを理解されたい。本発明の実施において、１つの図面に示される本発明の１以上の態様は、１以上の他の図面に示される本発明の１以上の態様と組み合わせることができる。
本発明のフロートバスコーティングシステム１１を組み込んだ例示的なフロートガラスシステム１０を図１及び図２に示す。フロートガラスシステム１０は、フロートバス１４の上流にガラス炉１２を含む。フロートバス１４は、冷却炉１６の上流に配置されている。第１コンベア１８は、フロートバス１４と炉１６との間に延在する。カッティングステーション２０は、炉１６の下流に配置されている。炉１６とカッティングステーション２０との間には第２コンベア２２が延在する。
フロートバス１４は、溶融金属２４（例えば、溶融スズ）のプールを含む。フロートバス１４は、炉１２に隣接する入口端部２６と、第１コンベア１８に隣接する出口端部２８とを有する。フロートガラスプロセスでは、炉１２からの溶融ガラスが、フロートバス中の溶融金属２４の頂部に注がれる。溶融ガラスは冷却され始め、溶融金属２４の頂部を横切って広がり、表面３２を有するガラスリボン３０を形成する。
フロートバス１４の内部に延在する複数の対向するローラアセンブリ３４のセットは、フロートバス１４の側面に沿って配置され、フロートバス１４の内部へと延びる。ローラアセンブリ３４は、回転可能なヘッド３８に接続されたシャフト３６を含む。ヘッド３８は、ガラスリボン３０を把持するように構成された複数の円周歯を含む。ローラアセンブリヘッド３８の回転は、ガラスリボン３０を溶融金属２４の頂部に沿ってフロートバス１４の出口端部２８に向かって引っ張る。ヘッド３８の回転速度は、ガラスリボン３０の厚さに影響を与える。回転速度が速ければ速いほど、他のすべてのパラメータが同じである限り、ガラスリボン３０はより薄くなる。回転速度ヘッド３８の角度（又は傾斜）は、ガラスリボン３０の幅に影響を与える。例えば、ヘッド３８を外向きに（フロートバス１４の外側に向かって）傾けると、ガラスリボン３０の幅が増加する。ヘッド３８を内向きに傾けると、ガラスリボン３０の幅が減少する。ヘッド３８のこの傾斜付けはまた、ガラスリボン３０の厚さにも影響を及ぼす可能性がある。
フロートバス１４のローラアセンブリ３４が位置する部分は、「減衰領域」４０と呼ばれる。主として、この減衰領域４０において、ガラスリボン３０は、例えば、横方向及び／又は縦方向に、ローラアセンブリ３４の動作によって伸びる。
フロートバスコーティングシステム１１では、本発明の少なくとも１つの第１ナノ粒子コーティング装置４４が、フロートバス１４内に配置される。図１〜図３に示すように、第１ナノ粒子コーティング装置４４は、ナノ粒子放出スロット４８及び少なくとも１つの燃焼スロットを有するハウジング４６を含む。図示の例では、第１ナノ粒子コーティング装置４４は、第１燃焼スロット５０と第２燃焼スロット５２とを含む。図示の例では、ナノ粒子放出スロット４８は、第１燃焼スロット５０と第２燃焼スロット５２との間に位置する。
ナノ粒子放出スロット４８は、ナノ粒子源５４及びキャリア流体源５６に接続されている。ナノ粒子源５４は、ナノ粒子放出スロット４８から放出するためのナノ粒子又はナノ粒子前駆体を含む及び／又は生成する及び／又は供給する。
ナノ粒子源は、任意の従来の方法によって製造されたナノ粒子を提供するか、又は含むことができる。１つの特定の例では、蒸気を形成するために液体前駆体を蒸発器内で加熱することができる。蒸気は、所望のナノ粒子を形成するために反応ゾーンに向けることができる。液体反応物蒸発器の例は、特許文献１、特許文献２、及び特許文献３に開示されている。例えば、金属塩化物（例えば、四塩化チタン）を蒸発器内で加熱して前駆体蒸気を形成することができる。蒸気は、第１ナノ粒子コーティング装置４４又はコレクタに向けることができる。例えば、蒸発器を第１ナノ粒子コーティング装置４４に接続することができる。四塩化チタン蒸気を加水分解又は酸化して二酸化チタンナノ粒子を形成することができる。他の前駆体（例えば、有機金属化合物）を使用することができる。チタンイソプロポキシドは、気化して二酸化チタンナノ粒子を形成することができる別の材料の一例である。前駆体の流れは、純粋な組成物、混合相及び／又は組成を有する組成物、又は単一又は複数の相の均質な合金を有するナノ粒子を形成するように、異なる組成の１つ、２つ、又はそれ以上の液体反応材料から構成することができる。当業者には理解されるように、液体反応物質を様々な比率で供給して、ナノ粒子及び／又は所望の組成のナノ粒子の混合物を形成することができる。更に、１以上の前駆体を気体源から供給して、ナノ粒子及び／又は所望の組成のナノ粒子の混合物を形成することができる。これの一例は、硫化物含有ナノ粒子を形成するために硫黄含有前駆体として硫化水素を供給することを含む。別の一例は、アンモニア（ＮＨ３）を供給して窒化物含有ナノ粒子を形成することである。
適切なナノ粒子の例は、酸化物ナノ粒子を含む。例えば、金属酸化物ナノ粒子である。例えば、アルミナ、チタニア、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化スズ、シリカ、及びジルコニアである。他の例は、金属ナノ粒子を含む。例えば、鉄、鋼、銅、銀、金、及びチタンが挙げられるが、これらに限定されない。更なる例は、２以上の材料の合金を含む合金ナノ粒子を含む。例えば、亜鉛、スズ、金、銅、及び銀のうちの２以上の合金である。更なる例には、硫化物含有ナノ粒子及び／又は窒化物含有ナノ粒子が含まれる。他の例には、発光材料及び／又はフォトルミネセント材料が含まれる。例えば、燐光体（蛍光体）（例えば、燐光ナノ粒子及び／又は蛍光ナノ粒子）である。例えば、青色、緑色、及び／又は赤色の蛍光体である。例としては、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７、Ｅｕ２＋、Ｙ２Ｏ３：Ｅｕ、ＺｎＳ系蛍光体（例えば、ＺｎＳ：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ）、ＣｄＳ、Ｙ２ＳｉＯ５：Ｃｅ３＋、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、（Ｃａ、Ｓｒ）Ｓ：Ｂｉ、ＳｒＡｌ２Ｏ４：Ｅｕ（ＩＩ）：Ｄｙ（ＩＩＩ）が含まれる。更なる例としては、発光ナノ結晶性材料が含まれる。例えば、ナノ結晶性ナノ粒子である。例えば、ユーロピウムをドープした酸化イットリウム、テルビウムをドープした酸化イットリウム、及び／又はマンガンをドープしたスズ酸亜鉛である。
キャリア流体源５６は、ナノ粒子源５４から第１ナノ粒子コーティング装置４４にナノ粒子蒸気又はナノ粒子を推進又は搬送するためのキャリア流体を供給する。キャリア流体は、好ましくはキャリアガスを含む。例えば、窒素又はアルゴンである。
燃焼スロット５０、５２は、燃料源５８及び酸化剤源６０に接続されている。燃料源５８は、可燃性材料を含む。例えば、天然ガスである。酸化剤源６０は、酸素含有材料を含む。例えば、空気又は酸素ガスである。
第１燃焼スロット５０用の燃料源５８は、第２燃焼スロット５２用の燃料源５８と同じでも異なっていてもよい。すなわち、第１燃焼スロット５０及び第２燃焼スロット５２に同じ種類の燃料を供給することができる。又は、一方の燃焼スロットに第１燃料を供給することができ、他方の燃焼スロットに第２燃料を供給することができ、第１燃料は第２燃料と同じでも異なっていてもよい。
第１燃焼スロット５０用の酸化剤源６０は、第２燃焼スロット５２用の酸化剤源６０と同じでも異なっていてもよい。すなわち、第１燃焼スロット５０及び第２燃焼スロット５２には、同じ種類の酸化剤を供給することができる。又は、一方の燃焼スロットに第１酸化剤を供給することができ、他方の燃焼スロットに第２酸化剤を供給することができ、第１酸化剤は第２酸化剤と同じでも異なっていてもよい。
上記の構造は、燃料及び酸化剤の流量をナノ粒子及びキャリア流体の流量とは別に制御することを可能にする。
第１ナノ粒子コーティング装置４４は、減衰ゾーン４０の上流に配置することができる。あるいはまた、第１ナノ粒子コーティング装置４４は、減衰ゾーン４０の下流に配置することができる。あるいはまた、第１ナノ粒子コーティング装置４４は、減衰ゾーン４０内に配置することができる。
フロートバスコーティングシステム１１は、少なくとも１つの第２ナノ粒子コーティング装置６４を含むことができる。第２ナノ粒子コーティング装置６４は、上記の第１ナノ粒子コーティング装置４４と同じとすることができる。図示の例では、第２ナノ粒子コーティング装置６４のナノ粒子放出スロットは、第２ナノ粒子源６６及び第２キャリア流体源６７に接続されている。第２ナノ粒子コーティング装置６４の燃焼スロットは、第２燃料源６８及び第２酸化剤源７０に接続される。
第２ナノ粒子源６６は、第１ナノ粒子源５４と同じでも異なっていてもよい。すなわち、第２ナノ粒子源６６によって供給されるナノ粒子は、第１ナノ粒子源５４によって供給される粒子と同じでも異なっていてもよい。例えば、第１ナノ粒子源５４は、第２ナノ粒子源６６によって供給されるナノ粒子とは異なるサイズ及び／又は組成のナノ粒子を提供することができる。例えば、第１ナノ粒子源５４は、第２ナノ粒子源６６によって供給されるナノ粒子よりも小さい及び／又は高密度のナノ粒子を提供することができる。
第２燃料源６８は、第１燃料源５８と同じでも異なっていてもよい。第２酸化剤源７０は、第１酸化剤源６０と同じでも異なっていてもよい。
２以上のナノ粒子コーティング装置４４、６４が存在する場合、１以上のナノ粒子コーティング装置４４、６４を減衰ゾーン４０の上流に配置することができる、及び／又は１以上のナノ粒子コーティング装置４４、６４を減衰ゾーン４０の下流に配置することができる、及び／又は１以上のナノ粒子コーティング装置４４、６４を減衰ゾーン４０内に配置することができる。
ナノ粒子コーティング装置４４、６４は、フロートバス１４内の位置に配置することができ、そこではガラスリボン３０は、ナノ粒子コーティング装置４４、６４から放出されたナノ粒子がガラスリボン３０内に所望の深さで埋め込まれるような粘度を有する。
あるいはまた、ナノ粒子コーティング装置４４、６４は、ガラスリボン３０の粘度が、ナノ粒子の所望の深さを達成するための粘度に対応しない位置に配置することができる。例えば、ガラスリボン３０の温度が所望の粘度を提供するのに必要な温度よりも低い位置においてである。この状況では、燃焼スロット５０、５２の一方又は両方を作動させて、ガラスリボン３０の温度を上昇させる、及び／又はガラスリボン３０の粘度を所望の量に低下させることができる。
ナノ粒子コーティング装置４４、６４は、フロートバス１４内の位置に配置することができ、そこではガラスリボン３０の粘度は、ナノ粒子コーティング装置４４、６４から堆積されたナノ粒子がガラスリボン３０内に完全に埋め込まれるようなものである。「完全に埋め込まれた」とは、ナノ粒子コーティング装置４４、６４から堆積されたナノ粒子の少なくとも一部（好ましくはナノ粒子の大部分、より好ましくはナノ粒子のすべて）が、ガラスリボン３０によって完全に取り囲まれていることを意味する。
ナノ粒子は、２５ナノメートル（ｎｍ）〜１０００ｎｍの範囲内の直径を有することができる。例えば、ナノ粒子は、５０ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲内の直径を有することができる。例えば、ナノ粒子は、１５０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲内の直径を有することができる。例えば、ナノ粒子は、２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の直径を有することができる。
例えば、ナノ粒子は、２５ナノメートル（ｎｍ）〜２０００ｎｍの範囲内の深さ（すなわち、ガラスリボンの表面３２からナノ粒子の縁部までの距離）に埋め込むことができる。例えば、ナノ粒子は、５０ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲内の深さに埋め込むことができる。例えば、ナノ粒子は、１００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲内の深さに埋め込むことができる。例えば、ナノ粒子は、１５０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲内の深さに埋め込むことができる。例えば、ナノ粒子は、２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の深さに埋め込むことができる。
図１に示す例では、第１ナノ粒子コーティング装置４４は、第２ナノ粒子コーティング装置６４よりもフロートバス１４の入口端２６の近くに配置されている。したがって、ガラスリボン３０の温度は、第２ナノ粒子コーティング装置６４よりも第１ナノ粒子コーティング装置４４の方が高い。これは、ガラスリボン３０の粘度が、第２ナノ粒子コーティング装置６４よりも第１ナノ粒子コーティング装置４４の方が低いことを意味する。他の全ての因子が同じままであるならば、第１ナノ粒子コーティング装置４４で堆積されたナノ粒子は、第２ナノ粒子コーティング装置６４で堆積されたナノ粒子よりも深くガラスリボン３０内に埋め込まれる。したがって、異なるナノ粒子領域をガラスリボン３０内に形成することができる。
あるいはまた、ナノ粒子コーティング装置４４、６４は、フロートバス内の位置に配置することができ、ガラスリボン３０の粘度は、ナノ粒子がガラスリボン３０内に部分的に埋め込まれるようなものである。「部分的に埋め込まれた」とは、ナノ粒子コーティング装置４４、６４から堆積されたナノ粒子の少なくとも一部（好ましくはナノ粒子の大部分、より好ましくはナノ粒子のすべて）は、ガラスリボン３０によって完全には取り囲まれていないことを意味する。すなわち、少なくとも一部のナノ粒子の少なくとも一部分は、ガラスリボン３０の表面３２の上方に延在する。例えば、１以上のナノ粒子の一部は、ガラスリボン３０の表面の上方に延在する。
フロートバス１４内には、少なくとも１つの蒸着コーティング装置７４（例えば、化学蒸着（ＣＶＤ）コーティング装置）を配置することができる。例えば、蒸着コーティング装置７４は、ナノ粒子コーティング装置４４、６４の下流に配置することができる。蒸着コーティング装置７４は、当業者にはよく理解されているように、従来のＣＶＤコーティング装置とすることができる。
揮発性前駆体を塗布するために特に適した蒸着コーティング装置７４が、図４及び図５に示されている。蒸着コーティング装置７４は、プレナムアセンブリ７６と、ノズルブロック７８とを含む。ノズルブロック７８は、ガラスリボン３０に向けられた放出面８０を有する。図示された例示的なプレナムアセンブリ７６は、第１入口プレナム８２と、第２入口プレナム８４と、第３の入口プレナム８６とを含む。プレナムアセンブリ７６は、第１排出プレナム８８及び第２排出プレナム９０を有する。例示的なノズルブロック７８は、プレナムアセンブリ７６に（例えば、ボルトによって）接続される。
第１入口プレナム８２は、第１放出口（スロット）９４を有する第１放出路９２と流体連通している。第２入口プレナム８４は、第２放出口（スロット）９８を有する第２放出路９６と流体連通している。第３入口プレナム８６は、第３放出口（スロット）１０２を有する第３放出路１００と流体連通している。入口混合チャンバ１０４は、放出路９２、９６、１００内に配置することができる。
第１排出導管１０６は、放出面８０から第１排出プレナム８８まで延びている。第２排出導管１０８は、放出面８０から第２排出プレナム９０まで延びている。放出チャンバ１１０は、排出導管１０６、１０８内に配置することができる。
図示の例では、第２放出路９６は、放出面８０に対して垂直である（すなわち、第２放出路９６の中心軸線は、放出面８０の平面に垂直である）。しかしながら、第１放出路９２及び第３放出路１００は、放出面８０に対して角度が付けられている。第１放出路９２及び第３放出路１００の中心軸線は、放出面８０の下方の位置で交差している。放出口９４、９８、１０２からの前駆体蒸気は、ノズルブロック７８から放出されるまで混合されない。これは、前駆体の予混合が早期反応を引き起こす揮発性前駆体に対して特に有用である。
放出面９２に対する放出路９２、９６、１００のうちの１以上の角度は、放出路９２、９６、１００のうちの２以上の中心軸線が所望の位置（例えば、放出面８０からの距離及び／又は下地のガラスリボン３０に対する位置）で交差するように変更することができる。例えば、異なる放出路角度を有する異なる／交換可能なノズルブロック７８を設けることができる。所望の放出路角度を有するノズルブロック７８を選択してプレナムアセンブリ７６上にボルト締めすることができる。あるいはまた、ノズルブロック７８は別個の部分によって形成することができる。第１排出導管１０６は、１つの部分内に存在することができ、第２排出導管１０８は、別の部分内に存在することができ、放出路９２、９６、１００は、第３の部分内に存在することができる。異なる部分はプレナムアセンブリ７６と個別に接続可能とすることができる。この態様では、放出路９２、９６、１００を有するノズルブロック７８の部分のみを、所望の放出路角度を有する部分に置き換える必要がある。
あるいはまた、第１放出路９２、第２放出路９６、及び第３放出路１００は、ノズルブロック７８の別々の部分に配置され、プレナムアセンブリ７６に移動可能に接続される（例えば、スライド可能に接続される）ことができる。例えば、図４を参照すると、第１放出路９２が１つのスライド可能部分に位置し、第３放出路１００が別個のスライド可能部分に位置する場合、第１放出路９２を含むスライド可能部分及び／又は第３放出路１００を含む他のスライド可能部分を、図４を参照して左又は右にスライドさせることは、放出路９２、９６、１００の中心線の交点を変える。例えば、図４において、第１放出路９２を含む部分を左にスライドさせ、第３放出路１００を含む部分を右にスライドさせることは、放出面８０に対して交点の距離を増加させる。
放出路９２及び／又は１００の角度は、中心軸線がガラスリボン３０の表面上の位置で、又はガラスリボン３０の表面で、又はガラスリボンの表面より下の位置で交差するように変えることができる。計算された交点がガラスリボン３０の表面より下にある場合、放出面８０に垂直な第２放出路９６からの蒸気は、ガラスリボン３０上に単分子層を形成し、第１放出路９２及び第３放出路１００からの物質は、それと反応する。図４では、放出路９２、９６、１００の中心軸線は、ガラスリボン９６の上で交差している。
改変したノズルブロック７８を有する蒸着コーティング装置７４の中央部分が図５に図示される。この改変例では、第１放出口９４及び第３放出口１０２は、第２放出面８０の上方で第２放出流路９６と流体連通している。したがって、３つの放出路９２、９６、１００からの蒸気は、第２放出口９８から放出される前に混合される。
１以上のコーティング層を、蒸着コーティング装置７４によってガラスリボン３０上に塗布することができる。コーティング層は、複数の前駆体材料の選択的堆積によって塗布することができる。例えば、層は、２以上の異なる前駆体を用いて形成することができる。モノブチルスズトリクロリド（ＭＢＴＣ）で作られたスズ酸化物コーティングは、典型的には、他のスズ前駆体（例えば、四塩化スズ（ＴＴＣ））よりも低い曇り（ヘイズ）を有するコーティングを提供する。しかしながら、ＴＴＣに対する堆積効率は、ＭＢＴＣよりも優れている。また、ＴＴＣは、ＭＢＴＣ製のコーティングよりも低いシート抵抗を有するコーティングを生成する傾向がある。したがって、（曇りのために）ＭＢＴＣを用いて層を最初に形成し、次に前駆体材料をＴＴＣに切り替えて残りの層を形成することができる。全体的な効率が高められ、得られたコーティングは、ＭＢＴＣの曇りの利点及びＴＴＣのシート抵抗の利点を有する。
次に、フロートガラスシステム１０を動作させる例示的な方法をここで説明する。
図１に関して、ガラスリボン３０が第１ナノ粒子コーティング装置４４の下を進むにつれて、ナノ粒子１１４は、キャリア流体によってガラスリボン３０の表面３２に向かって推進される。ほとんどのナノ粒子の質量が比較的小さいため、ナノ粒子１１４の浸透深さは、主としてガラスリボン３０の粘度によって決定される。ガラスリボン３０の粘度が低いほど、ナノ粒子１１４はより遠くまでガラスリボン３０内に浸透する。キャリア流体の速度もまた、浸透の深さに影響を及ぼす可能性がある。速度が速いほど、ナノ粒子１１４はより深くガラスリボン３０内に浸透する。
第１ナノ粒子コーティング装置４４は、ガラスリボン３０の粘度が、ナノ粒子１１４がガラスリボン３０を所望の深さまで浸透可能とするのに必要な粘度に対応するフロートバス１４内の位置に配置することができる。あるいはまた、第１ナノ粒子コーティング装置４４の下のガラスリボン３０の粘度が所望のものよりも高い場合、燃焼スロット５０、５２の一方又は両方を作動させることができる。例えば、燃料及び酸化剤を第１燃焼スロット５０に供給して点火して第１火炎１１６を形成することができる。第１燃焼スロット５０からの第１火炎１１６は、ガラスリボン３０の表面３２を加熱し、ガラスリボン３０の粘度を所望のレベルまで低下させ、ナノ粒子１１４を所望の深さまで浸透可能にする。代替的に又は追加的に、第２燃焼スロット５２を作動させて、第２火炎１１８を形成することができる。第２燃焼スロット５２からの第２火炎１１８はまた、ガラスリボン３０の粘度を低下させる。第２火炎１１８は、ナノ粒子１１４を付加した後のガラスリボン３０の表面３２上を平滑にする（表面３２の粗さを低下させる）のを助長することもできる。
複数のナノ粒子コーティング装置４４、６４を使用することができる。例えば、図１及び図２に示すように、第１ナノ粒子コーティング装置４４は、第２ナノ粒子コーティング装置６４の位置よりもガラスリボン３０の温度が高い（したがって粘度が低い）フロートバス１４の入口端２６のより近くに配置される。したがって、他のすべての因子が等しいままならば、第１ナノ粒子コーティング装置４４に堆積したナノ粒子１１４は、第２ナノ粒子コーティング装置６４に堆積したナノ粒子１１４よりもガラスリボン３０内で遠くまで浸透する。このように、ナノ粒子の異なる領域又はバンドをガラスリボン３０内に形成することができる。例えば、第１ナノ粒子コーティング装置４４は、第２ナノ粒子コーティング装置６４から堆積した第２ナノ粒子１２２とは異なる質量及び／又は組成を有する第１ナノ粒子１２０を堆積させることができる。
１以上のコーティング層は、１以上の蒸着コーティング装置７４によってガラスリボン３０の表面３２上に塗布することができる。
図６は、第１寸法及び／又は質量及び／又は組成を有する第１ナノ粒子１２０が第１ナノ粒子コーティング装置４４からガラスリボン３０内の第１深さに堆積される物品１２６を示す。第２寸法及び／又は質量及び／又は組成を有する第２ナノ粒子１２２は、第２ナノ粒子コーティング装置６４からガラスリボン３０内の第２深さに堆積されるガラスリボン３０内において、第１ナノ粒子１２０は、第１ナノ粒子バンド又はナノ粒子領域１２８を形成し、第２ナノ粒子１２２は、第２ナノ粒子バンド又はナノ粒子領域１２８を形成する。第１領域１２８は、ガラスリボン３０内の第２領域１３０とは異なる深さにある。図示の例では、第１ナノ粒子領域１２８と第２ナノ粒子領域１３０は重ならない。しかしながら、第１ナノ粒子領域１２８の少なくとも一部は、第２ナノ粒子領域１３０の少なくとも一部と重なり合うことができる。
減衰ゾーン４０に対するナノ粒子コーティング装置４４、６４の位置は、ガラスリボン３０内のナノ粒子の濃度（例えば、ナノ粒子の個数濃度）に影響を及ぼす。例えば、ガラスリボン３０が減衰ゾーン４０内に引き伸ばされるとき、ナノ粒子コーティング装置４４、６４が減衰ゾーン４０の上流に位置するならば、ガラスリボン３０内のナノ粒子間の個数濃度及び／又は密度及び／又は距離（横方向及び／又は鉛直方向）は影響を受ける可能性がある。例えば、ナノ粒子が減衰ゾーン４０の上流に堆積され、次にガラスリボン３０が減衰ゾーン４０に入り、横方向に伸張される場合、ガラスリボン３０の厚さは減少する。隣接するナノ粒子間の距離（例えば、横方向の距離）は増加する。
ナノ粒子コーティング装置４４、６４が減衰ゾーン４０の下流に位置する場合、ガラスリボン３０がフロートバス１４の残りを通って移動するのと同様に、ナノ粒子の相対的な配置が維持されるべきである。
ナノ粒子コーティング装置４４、６４によってナノ粒子が堆積された後、フロートバス１４内に配置された１以上の蒸着コーティング装置７４によって、１以上のオプションのコーティング層を塗布することができる。図６の物品１２６は、１以上の蒸着コーティング装置１７４によって塗布されたオプションのコーティング１３２を示している。コーティング１３２は、以下に記載されるように、ＯＬＥＤ用の１以上の層とすることができるか、または１以上の層を含むことができる。例えば、コーティング１３２は、導電性酸化物層とすることができる。
ガラスリボン３０がフロートバス１４を出た後に、追加のコーティング層をコーティング１３２上に塗布することができる。例えば、ガラスリボン３０を所望の形状に切断することができ、任意の従来の方法（例えば、化学蒸着及び／又はＭＳＶＤ）によって追加することができる。あるいはまた、ナノ粒子１２０、１２２は、蒸気コーティング装置７４による後続のコーティング層の塗布なしにナノ粒子コーティング装置４４、６４によってガラスリボン３０の上及び／又は中に堆積させることができる。
図７は、基板１３７の表面１３９上に堆積されたナノ粒子１１４を有する基板１３７を有する物品１３６を示しており、摩擦改質面１３８を形成している。例えば、ナノ粒子１１４は、ガラスリボン３０の表面３２上にガラスリボン３０の粘度で及び／又はナノ粒子１１４がガラスリボン３０内に完全には埋め込まれないような堆積速度で堆積させることができる。部分的に埋め込まれたナノ粒子１１４は、物品１３６上に摩擦改質面１３８を形成する。例えば、ナノ粒子１１４は、ガラス表面１３９よりも低い摩擦係数を有する材料から選択することができる。部分的に埋め込まれたナノ粒子１１４は、物品１３６上に摩擦改質面１３８を形成する。例えば、ナノ粒子１１４は、ガラス表面１３９よりも低い摩擦係数を有する材料から選択することができる。基板１３７の表面１３９上に延在するナノ粒子１１４の部分は、ナノ粒子１１４なしで存在するよりも低い摩擦係数を表面１３９にもたらす。一例では、ナノ粒子１１４は、チタニアを含むことができる。あるいはまた、ナノ粒子１１４は、基板１３７のガラスよりも高い摩擦係数を有するように選択することができる。これは、ナノ粒子１１４を含まない表面１３９よりも高い摩擦係数を有する摩擦改質面１３８を物品１３６に提供する。
本発明の別の例示的な物品１４２が図８に示されている。この物品１４２は、図６に示す物品１２６と同様である。この物品１４２は、プライバシーグレージングとしての使用に特に適している。物品１４２は、表面３２に隣接する少なくとも１つのナノ粒子領域１３０、１３２を有するガラス基板１４４を含む。オプションのコーティング１３２が存在してもよい。光源１４６は、物品１４２の縁部１４８に隣接して配置される。光源１４６が停止されると、物品１４２は第１透明度レベルを有する。光源１４６が作動されると、ナノ粒子１１４は光源１４６からの光波１５０を散乱させ、物品１４２は第２透明度レベルを有する。第２透明度レベルは、ナノ粒子１２０、１２２による光波１５０の散乱のため、第１透明度レベルよりも低い。
本発明の構成を組み込んだＯＬＥＤデバイス１５４が図９に示されている。ＯＬＥＤデバイス１５４は、基板１５６と、電極（例えば、カソード１５８）と、発光層１６０と、別の電極（例えば、アノード１６２）とを含む。
カソード１５８は、任意の従来のＯＬＥＤカソードとすることができる。適切なカソード１５８の例には、バリウム及びカルシウムなどの金属が含まれるが、これらに限定されない。カソード１５８は、通常、低い仕事関数を有する。
発光層１６０は、当技術分野で知られているような従来の有機エレクトロルミネッセンス層とすることができる。そのような材料の例には、小分子（例えば、有機金属キレート（例えば、Ａｌｑ３））、蛍光及び燐光染料、及び共役デンドリマーが含まれるが、これらに限定されない。適切な材料の例には、トリフェニルアミン、ペリレン、ルブレン、及びキナクリドンが含まれる。あるいはまた、エレクトロルミネセンスポリマー材料も知られている。このような導電性ポリマーの例としては、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）及びポリフルオレンが挙げられる。燐光材料を使用することもできる。このような材料の例としては、有機金属錯体（例えば、イリジウム錯体）がドーパントとして添加されたポリマー（例えば、ポリ（ｎ−ビニルカルバゾール））が挙げられる。
アノード１６２は、導電性透明材料（例えば、金属酸化物材料（例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）又はアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）が挙げられるが、これらに限定されない））とすることができる。アノード１６２は、通常、高い仕事関数を有する。
基板１５６は、ガラス基板を含み、上述したフロートガラスシステム１０で作製することができる。基板１５６は、５５０ナノメートル（ｎｍ）の基準波長及び３．２ｍｍの基準厚さで高い可視光透過率を有する。「高い可視光透過率」とは、３．２ｍｍの基準厚さで、８５％以上（例えば、８７％以上（例えば、９０％以上（例えば、９１％以上（例えば、９２％以上（例えば、９３％以上（例えば、９５％以上））））））の５５０ｎｍ以上の可視光透過率を意味する。例えば、可視光透過率は、３．２ｍｍの基準厚さで、５５０ｎｍの波長に対して、８５％〜１００％（例えば、８７％〜１００％（例えば、９０％〜１００％（例えば、９１％〜１００％（例えば、９２％〜１００％（例えば、９３％〜１００％（例えば、９４％〜１００％（例えば、９５％〜１００％（例えば、９６％〜１００％））））））））の範囲内とすることができる。本発明の実施に用いることができるガラスの非限定的な例には、ペンシルベニア州ピッツバーグのＰＰＧインダストリーズ社からすべて市販されているＳｔａｒｐｈｉｒｅ（商標名）、Ｓｏｌａｒｐｈｉｒｅ（商標名）、Ｓｏｌａｒｐｈｉｒｅ（商標名）ＰＶ、及びＣＬＥＡＲ（商標名）ガラスが含まれるが、これらに限定されない。
基板１５６は、任意の所望の厚さ（例えば、０．５ｍｍ〜１０ｍｍの範囲内）を有することができる。例えば、基板１５６は、１ｍｍ〜１０ｍｍの範囲内の厚さを有することができる。例えば、基板１５６は、１ｍｍ〜４ｍｍの範囲内の厚さを有することができる。例えば、基板１５６は、２ｍｍ〜３．２ｍｍの範囲内の厚さを有することができる。
基板１５６は、上述したように、１以上のナノ粒子領域１２８及び／又は１３０によって形成された内部光抽出領域１６４を含む。適切なナノ粒子の例としては、酸化物ナノ粒子が挙げられるが、これに限定されない。例えば、アルミナ、チタニア、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化スズ、シリカ、及びジルコニアが挙げられるが、これらに限定されない。他の例は、金属ナノ粒子を含む。例えば、鉄、鋼、銅、銀、金、及びチタンが挙げられるが、これらに限定されない。更なる例は、２以上の材料の合金を含む合金ナノ粒子を含む。更なる例は、硫化物含有ナノ粒子及び窒化物含有ナノ粒子を含む。
内部光抽出領域１６４のナノ粒子１１４は、上記のような発光性及び／又は燐光性のナノ粒子１１４を含むことができる。発光層１６０が電磁放射線を放出するとき、この放射線はナノ粒子１１４によって吸収されることができ、次いでそれ自体、電磁放射線を放出する。したがって、ナノ粒子１１４は、光散乱を増大させるだけでなく、ＯＬＥＤの電磁放射線出力を増加させる。また、ナノ粒子用に選択される燐光体（蛍光体）は、発光層１６０から放出される電磁放射線と組み合わせたときに、所望の色の電磁放射を提供するように選択することができる。例えば、発光層１６０が青色光を放射する場合、発光性及び／又は燐光性ナノ粒子１１４は、結合して緑色光を形成する赤色光を放出するように選択することができる。
これらのナノ粒子は、０ミクロン〜５０ミクロンの範囲の深さで基板１５６に組み込むことができる。例えば、ナノ粒子は、０ミクロン〜１０ミクロンの範囲の深さで基板１５６に組み込むことができる。例えば、ナノ粒子は、０ミクロン〜５ミクロンの範囲の深さで基板１５６に組み込むことができる。例えば、ナノ粒子は、０ミクロン〜３ミクロンの範囲の深さで基板１５６に組み込むことができる。例えば、ナノ粒子は、０ミクロンより大きく３ミクロンまでの範囲の深さで基板１５６に組み込むことができる。
ＯＬＥＤデバイス１５４は、外部光抽出領域１６６を含むことができる．ＥＥＬは、例えば、コーティング中に分散されたナノ粒子１１４を有するコーティングとすることができる。
ナノ粒子は、０．１重量パーセント〜５０重量パーセントの範囲でコーティング材料に組み込むことができる。例えば、ナノ粒子は、０．１重量％〜４０重量％の範囲でコーティング材料に組み込むことができる。例えば、ナノ粒子は、０．１重量％〜３０重量％、例えば、０．１重量％〜２０重量％、例えば、０．１重量％〜１０重量％、例えば、０．１重量％〜８重量パーセント、例えば、０．１重量パーセント〜６重量パーセント、例えば、０．１重量パーセント〜５重量パーセントである。例えば、ナノ粒子は、０．１〜２重量％、例えば、０．１〜１重量％、例えば、０．１〜０．５重量％、例えば、０．１〜０．４重量％、例えば、０．１〜０．３重量パーセント、例えば、０．２重量パーセント〜１０重量パーセント、である。例えば、ナノ粒子は、０．２重量％〜５重量％、例えば、０．２重量％〜１重量％の範囲でコーティング材料に組み込むことができる。例えば、ナノ粒子は、０．２重量％〜０．８重量％の範囲でコーティング材料に組み込むことができる。例えば、ナノ粒子は、０．２重量％〜０．４重量％の範囲でコーティング材料に組み込むことができる。
本発明は、フロートガラスプロセスに限定されない。本発明は、例えば、ガラスドローダウンプロセスを用いて実施することができる。ドローダウンプロセスでは、溶融ガラスは、レシーバ内に配置される。溶融ガラスがレシーバから流出し、ガラスリボンを形成する。ガラスリボンは、重力の影響を受けて下方に移動する。ドローダウンプロセスの例には、スロットドローダウンプロセス及び溶融ドローダウンプロセスが含まれる。スロットドローダウンプロセスにおいて、レシーバは、トラフの底部に開放された放出スロットを有する細長い容器又はトラフである。溶融ガラスは、放出スロットを通って流れ、ガラスリボンを形成する。溶融ドローダウンプロセスにおいて、レシーバは、上部が開放されているが、トラフの底部に放出スロットがないトラフである。溶融ガラスは、トラフの上部からトラフの対向する外側面を流れ落ち、トラフの下にガラスリボンを形成する。
図１０は、スロットドローダウンシステムとして構成された例示的なドローダウンシステム１７０を示す。溶融ガラス１７２は、容器１７４の底部に放出スロット１７６を有する容器１７４（例えば、トラフ）内に配置される。溶融ガラス１７２は、放出スロット１７６から流出し、第１側面１８０及び第２側面１８２を有するガラスリボン１７８を形成する。ガラスリボン１７８は、重力の下で下方に移動する。ガラスリボン１７８が移動する垂直面は、ドローダウンシステム１７０用のガラスリボン経路１８４を画定する。ガラスリボン経路１８４は、第１側面１８６及び第２側面１８８を有する。
１以上のナノ粒子コーティング装置は、ガラスリボン経路１８４の第１側面１８６に隣接して配置されている。図示の例では、第１ナノ粒子コーティング装置４４は、第２ナノ粒子コーティング装置６４の上に配置されている。ガラスリボン経路１８４の第１側面１８６に隣接して、１以上の追加のコーティング装置１９０（例えば、ＣＶＤコーティング装置及び／又はスプレーコーティング装置及び／又はフレームスプレーコーティング装置及び／又は蒸着コーティング装置）を配置することができる。追加のコーティング装置１９０は、例えば、上記のような蒸着コーティング装置７４とすることができる。
１以上のナノ粒子コーティング装置は、ガラスリボン経路１８４の第２側面１８８に隣接して配置されている。図示の例では、第３ナノ粒子コーティング装置１９２は、第４ナノ粒子コーティング装置１９４の上に配置されている。第３ナノ粒子コーティング装置１９２及び第４ナノ粒子コーティング装置１９４は、上述のナノ粒子コーティング装置４４、６４と同じとすることができる。ガラスリボン経路１８４の第２側面１８８に隣接して、１以上の追加のコーティング装置１９０（例えば、ＣＶＤコーティング装置及び／又はスプレーコーティング装置及び／又はフレームスプレーコーティング装置及び／又は蒸着コーティング装置）を配置することができる。追加のコーティング装置１９０は、例えば、上記のような蒸着コーティング装置７４とすることができる。
１以上のナノ粒子領域は、ガラスリボン１７８の片側又は両側１８０、１８２の上及び／又は中にナノ粒子コーティング装置４４、６４、１９２、１９４によって堆積させることができる。例えば、図１１〜図１４に示すように、第１及び／又は第２ナノ粒子コーティング装置４４、６４によって、１以上の第１及び／又は第２ナノ粒子領域１２８、１３０を形成することができる。第３及び／又は第４のナノ粒子コーティング装置１９２、１９４によって、１以上の第３及び／又は第４ナノ粒子領域２２８、２３０を形成することができる。追加のコーティング装置１９０によって、ガラスリボン１７８の片面又は両面１８０、１８２の上に、１以上のコーティング層２０２を塗布することができる。
図１１は、図６に示されたものと同様の物品２００を示しているが、本発明のドローダウンシステム１７０を用いて作られている。１以上の第１及び／又は第２ナノ粒子領域１２８、１３０は、物品２００の第１側面１８０に隣接して配置することができる。１以上の第３及び／又は第４ナノ粒子領域２２８、２３０は、物品２００の第２側面１８２に隣接して配置することができる。追加のコーティング装置１９０によって堆積されたオプションのコーティング２０２は、物品２００の第１側面１８０及び／又は第２側面１８２上に配置することができる。
図１２は、図７に示したものと同様の物品２０４を示しているが、本発明のドローダウンシステム１７０を用いて作られている。物品２０４は、物品２０４の各側面１８０、１８２に形成された摩擦改質面１３８を含む。
図１３は、図８に示したものと同様の物品２０６を示しているが、本発明のドローダウンシステム１７０を用いて作られている。物品２０６は、第１表面１８０に隣接する１以上の第１及び／又は第２ナノ粒子領域１２８、１３０及び第２側面１８２に隣接する１以上の第３及び／又は第４のナノ粒子領域２２８、２３０を含む。光源１４６は、ナノ粒子領域１２８、１３０、２２８、２３０に隣接する物品２０６の縁部１４８に隣接して配置される。
図１４は、図８に示したものと同様のＯＬＥＤデバイスの形態の物品２０８を示しているが、基板１５６は本発明のドローダウンシステム１７０を用いて作られている。基板１５６は、第１表面２１０に隣接する１以上の第１及び／又は第２ナノ粒子領域１２８、１３０、及び第２表面２１２に隣接する１以上の第３及び／又は第４ナノ粒子領域２２８、２３０を含む。
本発明は、以下の番号付けされた項で更に説明することができる。
第１項：フロートバス内に配置された少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置と、少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置の下流に配置された少なくとも１つの蒸着コーティング装置とを含むフロートバスコーティングシステム。
第２項：フロートバスは、減衰領域を含み、少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置は、減衰領域の上流に配置されている、第１項に記載のシステム。
第３項：フロートバスは、減衰領域を含み、少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置は、減衰領域の下流に配置されている、第１項に記載のシステム。
第４項：ナノ粒子コーティング装置は、ハウジングと、ナノ粒子放出スロットと、少なくとも１つの燃焼スロットとを含む、第１項〜第３項に記載のシステム。
第５項：ナノ粒子放出スロットは、ナノ粒子源及びキャリア流体源に接続されている、第４項に記載のシステム。
第６項：ナノ粒子源は、蒸発装置を含む、第５項に記載のシステム。
第７項：ナノ粒子源は、金属酸化物ナノ粒子を含む、第５項又は第６項に記載のシステム。
第８項：ナノ粒子源は、発光性及び／又は燐光性ナノ粒子を含む、第５項〜第７項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第９項：ナノ粒子源は、リンを含む、第５項〜第８項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第１０項：ナノ粒子源は、発光ナノ結晶性ナノ粒子を含む、第５項〜第９項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第１１項：ナノ結晶性ナノ粒子は、ユーロピウムをドープした酸化イットリウム、テルビウムをドープした酸化イットリウム、及びマンガンをドープしたスズ酸亜鉛から選択される、第１０項に記載のシステム。
第１２項：キャリア流体は、窒素を含む、第５項〜第１１項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第１３項：少なくとも１つの燃焼スロットは、燃料源及び酸化剤源に接続されている、第５項〜第１２項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第１４項：燃料源は、天然ガスを含む、第１３項に記載のシステム。
第１５項：酸化剤源は、酸素を含む、第１３項又は第１４項に記載のシステム。
第１６項：少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置は、第１燃焼スロット及び第２燃焼スロットを含み、第１燃焼スロットと第２燃焼スロットとの間にナノ粒子放出スロットが配置されている、第４項〜第１５項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第１７項：第１ナノ粒子コーティング装置及び第２ナノ粒子コーティング装置を含む、第１項〜第１６項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第１８項：第１ナノ粒子コーティング装置は、第１ナノ粒子源に接続され、第２ナノ粒子コーティング装置は、第２ナノ粒子源に接続される、第１７項に記載のシステム。
第１９項：第１ナノ粒子源は、第２ナノ粒子源とは異なる、第１８項に記載のシステム。
第２０項：第１ナノ粒子源は、第２ナノ粒子源のナノ粒子よりも小さいナノ粒子を含む、第１８項又は第１９項に記載のシステム。
第２１項：第１ナノ粒子コーティング装置は、第１燃料源及び第１酸化剤源に接続され、第２ナノ粒子コーティング装置は、第２燃料源及び第２酸化剤に接続されている、第１７項〜第２０項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第２２項：第１燃料源は、第２燃料源とは異なる、第２１項に記載のシステム。
第２３項：第１酸化剤源は、第２酸化剤源とは異なる、第２１項又は第２２項に記載のシステム。
第２４項：フロートバス内に配置された少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置を含み、少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置は、ハウジングと、ナノ粒子放出スロットと、第１燃焼スロットと、第２燃焼スロットとを含み、ナノ粒子放出スロットは、ナノ粒子源及びキャリア流体源に接続され、第１燃焼スロットは、燃料源及び酸化剤源に接続され、第２燃焼スロットは、燃料源及び酸化剤源に接続されるフロートバスコーティングシステム。
第２５項：フロートバスと、減衰ゾーンを画定する複数の対向するローラアセンブリの組と、フロートバス中に配置された少なくとも１つの第１ナノ粒子コーティング装置とを含むフロートガラスシステム。
第２６項：第１ナノ粒子コーティング装置は、ナノ粒子放出スロット及び少なくとも１つの燃焼スロットを有するハウジングを含む、第２５項に記載のシステム。
第２７項：第１ナノ粒子コーティング装置は、第１燃焼スロット及び第２燃焼スロットを含む、第２５項又は第２６項に記載のシステム。
第２８項：ナノ粒子放出スロットは、第１燃焼スロットと第２燃焼スロットとの間に配置されている、第２５項〜第２７項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第２９項：ナノ粒子放出スロットは、ナノ粒子源及びキャリア流体源に接続されている、第２６項〜第２８項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第３０項：ナノ粒子源は、金属酸化物ナノ粒子、金属ナノ粒子、２以上の材料の合金を含む合金ナノ粒子、硫化物含有ナノ粒子、窒化物含有ナノ粒子、発光ナノ粒子、燐光ナノ粒子、及び発光ナノ結晶性ナノ粒子からなる群から選択されるナノ粒子を含む、及び／又は発生させる、及び／又は供給する、第２９項に記載のシステム。
第３１項：燃焼スロットは、燃料源及び酸化剤源に接続されている、第２７項〜第３０項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第３２項：減衰ゾーンの上流に配置された少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置を含む、第２５項〜第３１項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第３３項：減弱ゾーンの下流に配置された少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置を含む、第２５項〜第３２項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第３４項：減衰ゾーン内に配置された少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置を含む、第２５項〜第３３項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第３５項：少なくとも１つの第２ナノ粒子コーティング装置を含む、第２５項〜第３４項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第３６項：第２ナノ粒子コーティング装置は、第２ナノ粒子源、第２燃料源、及び第２酸化剤源に接続されている、第３５項に記載のシステム。
第３７項：ナノ粒子コーティング装置は、フロートバス内の位置に配置され、ガラスリボンは、ナノ粒子コーティング装置から放出されたナノ粒子がガラスリボン内に所望の深さで埋め込まれるような粘度を有する、第２５項〜第３６項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第３８項：ナノ粒子コーティング装置は、ガラスビーズがナノ粒子コーティング装置から放出されたナノ粒子が所望の深さでガラスリボン内に埋め込まれるような粘度をガラスリボンが有さないフロートバス内の位置に配置されている、第２５項〜第３６項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第３９項：ナノ粒子コーティング装置は、ガラスビーズがナノ粒子コーティング装置から放出されたナノ粒子が所望の深さでガラスリボン内に完全に埋め込まれるような粘度をガラスリボンが有するフロートバス内の位置に配置されている、第２５項〜第３６項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第４０項：ナノ粒子コーティング装置は、ガラスビーズがナノ粒子コーティング装置から放出されたナノ粒子が所望の深さでガラスリボン内に部分的に埋め込まれるような粘度をガラスリボンが有するフロートバス内の位置に配置されている、第２５項〜第３６項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第４１項：少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置の下流のフロートバス内に配置された少なくとも１つの蒸着コーティング装置を含む、第２５項〜第４０項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第４２項：ハウジングと、ナノ粒子放出スロットと、少なくとも１つの燃焼スロットとを含むナノ粒子コーティング装置。
第４３項：ナノ粒子放出スロットは、ナノ粒子源及びキャリア流体源に接続されている、第４２項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第４４項：ナノ粒子源は、蒸発器を含む、第４３項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第４５項：ナノ粒子源は、金属酸化物ナノ粒子を含む、第４２項〜第４４項のうちのいずれか１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第４６項：ナノ粒子源は、発光性及び／又は燐光性のナノ粒子を含む、第４２項〜第４５項のうちのいずれか１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第４７項：少なくとも１つの燃焼スロットは、燃料源及び酸化剤源に接続されている、第４２項〜第４６項のうちのいずれか１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第４８項：ナノ粒子は、リン光体である、第４２項〜第４７項のうちのいずれか１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第４９項：ナノ粒子は、ナノ結晶性発光材料である、第４２項〜第４８項のうちのいずれか１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第５０項：ナノ結晶性ナノ粒子は、ユーロピウムをドープした酸化イットリウム、テルビウムをドープした酸化イットリウム、及びマンガンをドープしたスズ酸亜鉛から選択される、請求項４９に記載のナノ粒子コーティング装置。
第５１項：キャリア流体は、窒素を含む、第４３項〜第５０項のうちのいずれか１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第５２項：燃料源は、天然ガスを含む、第４７項〜第５１項のうちのいずれか１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第５３項：酸化剤源は、酸素を含む、第４７項〜第５２項のうちのいずれか１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第５４項：ナノ粒子コーティング装置は、第１燃焼スロット及び第２燃焼スロットを含み、第１燃焼スロットと第２燃焼スロットとの間にナノ粒子放出スロットが配置されている、第４２項〜第５３項のうちのいずれか１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第５５項：第１燃焼スロットは、第１燃料源及び第１酸化剤源に接続され、第２燃焼スロットは、第２燃料源及び第２酸化剤源に接続される、第５４項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第５６項：第１燃料源は、第２燃料源とは異なる、第５５項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第５７項：第１酸化剤源は、第２酸化剤源とは異なる、第５５項又は第５６項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第５８項：ハウジングと、ナノ粒子放出スロットと、第１燃焼スロットと、第２燃焼スロットとを含むナノ粒子コーティング装置。
第５９項：ナノ粒子放出スロットは、第１燃焼スロットと第２燃焼スロットとの間に配置されている、第５８項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第６０項：ナノ粒子放出スロットは、ナノ粒子源及びキャリア流体源に接続されている、第５８項又は第５９項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第６１項：ナノ粒子源は、蒸発器を含む、第６０項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第６２項：ナノ粒子源は、金属酸化物ナノ粒子を含む、第５９項又は第６１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第６３項：ナノ粒子源は、発光性及び／又は燐光性ナノ粒子を含む、第６０項〜第６２項のうちのいずれか１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第６４項：第１燃焼スロットは、第１燃料源及び第１酸化剤源に接続され、第２燃焼スロットは、第２燃料源及び第２酸化剤源に接続されている、第５８項〜第６３項のうちのいずれか１項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第６５項：第１燃料源は、第２燃料源とは異なる、第６４項に記載のナノ粒子コーティング装置。
第６６項：第１表面、第２表面、及び縁部を有するガラス基板と、第１表面及び第２表面のうちの少なくとも１つに隣接して配置された少なくとも１つのナノ粒子領域とを含むガラス物品。
第６７項：少なくとも１つのナノ粒子領域は、第１ナノ粒子を含む第１ナノ粒子領域と、第２ナノ粒子を含む第２ナノ粒子領域とを含む、第６６項に記載の物品。
第６８項：第１ナノ粒子は、第２ナノ粒子とは異なる、第６７項に記載の物品。
第６９項：第１ナノ粒子は、第２ナノ粒子よりも大きい、第６７項又は第６８項に記載の物品。
第７０項：少なくとも１つのナノ粒子領域は、金属酸化物ナノ粒子を含む、第６６項〜第６９項のうちのいずれか１項に記載の物品。
第７１項：少なくとも１つのナノ粒子領域は、発光性及び／又は燐光性ナノ粒子を含む、第６６項〜第７０項のうちのいずれか１項に記載の物品。
第７２項：少なくとも１つのナノ粒子領域は、蛍光体を含む、第６６項〜第７１項のうちのいずれか１項に記載の物品。
第７３項：少なくとも１つのナノ粒子領域は、発光ナノ結晶性ナノ粒子を含む、第６６項〜第７２項のうちのいずれか１項に記載の物品。
第７４項：ナノ粒子は、ユーロピウムをドープした酸化イットリウム、テルビウムをドープした酸化イットリウム、及びマンガンをドープしたスズ酸亜鉛から選択される、第６６項〜第７３項のうちのいずれか１項に記載の物品。
第７５項：基板の縁部に隣接する光源を含む、第６６項〜第７４項のうちのいずれか１項に記載の物品。
第７６項：少なくとも１つのナノ粒子領域は、摩擦改質面を含む、第６６項〜第７５項のいずれか１項に記載の物品。
第７７項：少なくとも１つのナノ粒子領域は、基板内に完全に埋め込まれたナノ粒子を含む、第６６項〜第７６項のうちのいずれか１項に記載の物品。
第７８項：少なくとも１つのナノ粒子領域は、基板内に部分的に埋め込まれたナノ粒子を含む、第６６項〜第７７項のうちのいずれか１項に記載の物品。
第７９項：第１表面に隣接する少なくとも１つのナノ粒子領域と、第２表面に隣接する少なくとも１つの他のナノ粒子領域とを含む、第６６項〜第７８項のうちのいずれか１項に記載の物品。
第８０項：第１表面に隣接する第１ナノ粒子領域及び第２ナノ粒子領域と、第２表面に隣接する第３ナノ粒子領域及び第４ナノ粒子領域とを含む、第７９項に記載の物品。
第８１項：第１ナノ粒子領域は、第２ナノ粒子領域から離間している、第７９項又は第８０項に記載の物品。
第８２項：第３ナノ粒子領域は、第４ナノ粒子領域から離間している、第８０項又は第８１項に記載の物品。
第８３項：第１表面及び第２表面のうちの少なくとも１つの上に少なくとも１つのコーティング層を含む、第６６項〜第８２項のうちのいずれか１項に記載の物品。
第８４項：少なくとも１つのコーティング層は、導電性金属酸化物層を含む、第８３項に記載の物品。
第８５項：少なくとも１つのナノ粒子領域は、第１表面及び第２表面のうちの少なくとも１つの中に部分的に埋め込まれたナノ粒子を含み、ナノ粒子は、基板よりも低い摩擦係数を有する材料を含む、第６６項〜第８４項のいずれか１項に記載の物品。
第８６項：少なくとも１つのナノ粒子領域は、第１表面及び第２表面のうちの少なくとも１つの中に部分的に埋め込まれたナノ粒子を含み、ナノ粒子は、基板よりも高い摩擦係数を有する材料を含む、第６６項〜第８５項のいずれか１項に記載の物品。
第８７項：第１表面と、第２表面と、縁部とを有するガラス基板と、第１表面に隣接して配置され、ナノ粒子を含む光抽出領域と、基板の縁部に隣接する光源とを含むプライバシーグレージング。
第８８項：第１面及び第２面を有するガラスリボン経路を画定する容器と、ガラスリボン経路の第１面及び／又は第２面に隣接して配置された少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置とを含むガラスドローダウンコーティングシステム。
第８９項：少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置は、ハウジングと、ナノ粒子放出スロットと、少なくとも１つの燃焼スロットとを含む、第８８項に記載のシステム。
第９０項：ナノ粒子放出スロットは、ナノ粒子源及びキャリア流体源に接続されている、第８９項に記載のシステム。
第９１項：ナノ粒子源は、蒸発器を含む、第９０項に記載のシステム。
第９２項：ナノ粒子源は、金属酸化物ナノ粒子を含む、第９０項又は第９１項に記載のシステム。
第９３項：ナノ粒子源は、発光性及び／又は燐光性のナノ粒子を含む、請求項９０〜９２のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第９４項：ナノ粒子源は、リンを含む、第９０項〜第９３項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第９５項：ナノ粒子源は、発光ナノ結晶性ナノ粒子を含む、第９０項〜第９４項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第９６項：少なくとも１つの燃焼スロットは、燃料源及び酸化剤源に接続されている、第８９項〜第９５項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第９７項：燃料源は、天然ガスを含む、第９６項に記載のシステム。
第９８項：酸化剤源は、酸素を含む、第９６項又は第９７項に記載のシステム。
第９９項：少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置は、第１燃焼スロット及び第２燃焼スロットを含み、第１燃焼スロットと第２燃焼スロットとの間にナノ粒子放出スロットが配置されている、第８８項〜第９８項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第１００項：ガラスリボン経路の第１側面に隣接して配置された少なくとも１つのナノ粒子コーティング装置と、ガラスリボン経路の第２側面に隣接して配置された少なくとも１つの他のナノ粒子コーティング装置とを含む、第８８項〜第９９項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第１０１項：ガラスリボン経路の第１側面に隣接して配置された第１ナノ粒子コーティング装置及び第２ナノ粒子コーティング装置を含む、第８８項〜第１００項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第１０２項：第１ナノ粒子コーティング装置は、第１ナノ粒子源に接続され、第２ナノ粒子コーティング装置は、第２ナノ粒子源に接続されている、第１０１項に記載のシステム。
第１０３項：第１ナノ粒子源は、第２ナノ粒子源とは異なる、第１０２項に記載のシステム。
第１０４項：ガラスリボン経路の第２側に隣接して配置された第３のナノ粒子コーティング装置及び第４のナノ粒子コーティング装置を含む、第１０１項〜第１０３項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第１０５項：第３ナノ粒子コーティング装置は、第３ナノ粒子源に接続され、第４ナノ粒子コーティング装置は、第４ナノ粒子源に接続されている、第１０４項に記載のシステム。
第１０６項：第３ナノ粒子源は、第４ナノ粒子源とは異なる、第１０４項又は第１０５項に記載のシステム。
第１０７項：ガラスリボン経路の第１側面及び／又は第２側面に隣接して配置された少なくとも１つの蒸着コーティング装置を含む、第８８項〜第１０６項のうちのいずれか１項に記載のシステム。
第１０８項：少なくとも１つの表面と、摩擦改質面を形成するために前記少なくとも１つの表面内に部分的に埋め込まれたナノ粒子とを含む物品。
第１０９項：ナノ粒子は、基板よりも低い摩擦係数を有する、第１０８項に記載の物品。
第１１０項：ナノ粒子は、基板よりも高い摩擦係数を有する、第１０８項に記載の物品。
第１１１項：少なくとも１つの表面を有する基板と、前記表面に隣接する少なくとも１つのナノ粒子領域とを含む物品。
第１１２項：第１ナノ粒子領域及び第２ナノ粒子領域を含む、第１１１項に記載の物品。
第１１３項：第１表面及び第２表面を有する基板と、電極と、発光層と、別の電極とを含み、基板は、第１表面及び／又は第２表面に隣接する少なくとも１つのナノ粒子領域を含むＯＬＥＤ。
第１１４項：第１側面及び第２側面を有するガラスリボン経路と、ガラスリボン経路の第１側面及び／又は第２側面に隣接して配置された１以上のナノ粒子コーティング装置とを含むドローダウンシステム。
第１１５項：ガラスリボン経路の第１側面及び／又は第２側面に隣接して配置された少なくとも１つの蒸着コーティング装置を含む、第１１４項に記載のシステム。
当業者であれば、上記の説明に開示された概念から逸脱することなく本発明を変更することができることは容易に理解されるであろう。したがって、本明細書に詳細に記載される特定の実施形態は、例示的なものに過ぎず、添付の特許請求の範囲及びその任意の及び全ての均等物の全範囲を与えられるべきである本発明の範囲を限定するものではない。

Claims (20)

  1. 第１表面、第２表面、及び縁部を有するガラス基板と、
    前記ガラス基板内の第１ナノ粒子領域であって、該第１ナノ粒子領域は第１ナノ粒子を含み、該第１ナノ粒子は前記ガラス基板により完全に囲まれている、前記第１ナノ粒子領域と、
    前記第１表面及び前記第２表面のうちの少なくとも１つに隣接して配置された第２ナノ粒子領域であって、該第２ナノ粒子領域は第２ナノ粒子を含み、該第２ナノ粒子の幾つかは前記ガラス基板により完全に囲まれている、前記第２ナノ粒子領域と
    を備えるガラス物品。
  2. 前記第１ナノ粒子は前記第２ナノ粒子よりも大きい、請求項１に記載されたガラス物品。
  3. 前記第１ナノ粒子は、金属酸化物ナノ粒子を含む、請求項１に記載されたガラス物品。
  4. 前記第１ナノ粒子は、発光性及び／又は燐光性ナノ粒子を含む、請求項１に記載されたガラス物品。
  5. 前記第１ナノ粒子は蛍光体を含む、請求項１に記載されたガラス物品。
  6. 前記第１ナノ粒子は発光ナノ結晶性ナノ粒子を含む、請求項１に記載されたガラス物品。
  7. 前記ガラス基板の前記縁部に隣接する光源を備える、請求項１に記載されたガラス物品。
  8. 前記第２ナノ粒子は、前記ガラス基板により完全に囲まれている、請求項１に記載されたガラス物品。
  9. 前記第１ナノ粒子領域は前記第１表面に隣接し、前記第２ナノ粒子領域は前記第２表面に隣接する、請求項１に記載されたガラス物品。
  10. 前記第１ナノ粒子領域及び前記第２ナノ粒子領域が前記第１表面に隣接し、前記ガラス物品は、前記第２表面に隣接する第３ナノ粒子領域及び第４ナノ粒子領域をさらに含む、請求項１に記載されたガラス物品。
  11. 前記第１ナノ粒子領域は、前記第２ナノ粒子領域から離間している、請求項１０に記載されたガラス物品。
  12. 前記第３ナノ粒子領域は、前記第４ナノ粒子領域から離間している、請求項１０に記載されたガラス物品。
  13. 前記第１表面及び前記第２表面のうちの少なくとも１つを被覆する少なくとも１つのコーティング層を備える、請求項１に記載されたガラス物品。
  14. 前記少なくとも１つのコーティング層は導電性金属酸化物層を含む、請求項１３に記載されたガラス物品。
  15. 前記第２ナノ粒子は完全には前記ガラス基板により完全には囲まれておらず、前記第２ナノ粒子は、前記ガラス基板よりも摩擦係数の低い材料を含む、請求項１に記載されたガラス物品。
  16. 前記第２ナノ粒子は完全には前記ガラス基板により完全には囲まれておらず、前記第２ナノ粒子は、前記ガラス基板よりも摩擦係数の大きい材料を含む、請求項１に記載されたガラス物品。
  17. 前記第１ナノ粒子または前記第２ナノ粒子が、アルミナ、チタニア、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化スズ、シリカ、及びジルコニアからなる群から選択される、請求項１に記載されたガラス物品。
  18. 前記第１ナノ粒子が、アルミナ、チタニア、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化スズ、シリカ、及びジルコニアからなる群から選択され、
    前記第２ナノ粒子が、アルミナ、チタニア、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化スズ、シリカ、及びジルコニアからなる群から選択される、請求項１に記載されたガラス物品。
  19. 前記第１ナノ粒子領域が第１の深さに存在し、前記第２ナノ粒子領域が第２の深さに存在し、前記第１の深さは前記第２の深さと異なり、前記第２ナノ粒子が前記ガラス基板により完全に囲まれている、請求項１に記載されたガラス物品。
  20. 前記第１ナノ粒子領域と前記第２ナノ粒子領域とが重複しない、請求項１に記載されたガラス物品。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11014118B2 (en) * 2015-12-11 2021-05-25 Vitro Flat Glass Llc Float bath coating system
KR102711982B1 (ko) * 2016-11-30 2024-09-27 엘지디스플레이 주식회사 커버 윈도우 및 이를 포함하는 폴더블 표시장치
EP3827467A1 (en) * 2018-07-23 2021-06-02 Corning Incorporated Light extraction structure with high index nanoparticles for an organic light emitting diode
CN111604233B (zh) * 2020-06-10 2021-07-09 广东宸际内衣生物科技有限公司 一种彩色植绒布的植绒系统及其植绒方法
CN113277712A (zh) * 2021-04-19 2021-08-20 信义节能玻璃（芜湖）有限公司 一种基于浮法联线系统

Family Cites Families (79)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2920001A (en) * 1955-07-11 1960-01-05 Union Carbide Corp Jet flame spraying method and apparatus
DE1184287B (de) * 1957-04-18 1964-12-23 Davy & United Eng Co Ltd Duese zum Erzeugen eines flachen Schmieroelstrahls, insbesondere fuer die Bearbeitung von Blechbahnen
GB1283432A (en) 1970-03-24 1972-07-26 Pilkington Brothers Ltd Improvements in or relating to the coating of glass
SE431196B (sv) * 1980-12-12 1984-01-23 Flemmert Goesta Lennart Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella finfordelad kiseloxid
JPS6022957A (ja) * 1983-07-20 1985-02-05 Japanese National Railways<Jnr> 肉盛溶射装置
DE3403894C1 (de) * 1984-02-04 1985-07-25 Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim Vorrichtung zum Beschichten eines metallischen Dentalprothesenteils und Verfahren zum Betrieb einer solchen Vorrichtung
US4924936A (en) 1987-08-05 1990-05-15 M&T Chemicals Inc. Multiple, parallel packed column vaporizer
FR2675139B1 (fr) 1991-04-09 1993-11-26 Saint Gobain Vitrage Internal Depot de couches pyrolysees a performances ameliorees et vitrage revetu d'une telle couche.
FR2677639B1 (fr) 1991-06-14 1994-02-25 Saint Gobain Vitrage Internal Technique de formation par pyrolyse en voie gazeuse d'un revetement essentiellement a base d'oxygene et de silicium.
US5356451A (en) 1993-12-20 1994-10-18 Corning Incorporated Method and apparatus for vaporization of liquid reactants
TW359943B (en) 1994-07-18 1999-06-01 Silicon Valley Group Thermal Single body injector and method for delivering gases to a surface
US5858046A (en) * 1995-05-30 1999-01-12 Corning Incorporated Method of making an internally channeled glass article
FR2736632B1 (fr) * 1995-07-12 1997-10-24 Saint Gobain Vitrage Vitrage muni d'une couche conductrice et/ou bas-emissive
US5762674A (en) * 1995-09-27 1998-06-09 Glasstech, Inc. Apparatus for coating glass sheet ribbon
US6507116B1 (en) * 1997-04-24 2003-01-14 International Business Machines Corporation Electronic package and method of forming
JP3501709B2 (ja) * 1999-02-25 2004-03-02 キヤノン株式会社 電子線装置用支持部材の製造方法および画像表示装置の製造方法
FI114548B (fi) 1999-10-19 2004-11-15 Liekki Oy Menetelmä materiaalin värjäämiseksi
US6526811B2 (en) 2000-02-23 2003-03-04 Jmic, Inc. Analytical apparatus for measurement of low concentration constituent, method of measurement and calibration using the same
US7078071B2 (en) * 2000-10-05 2006-07-18 Matsumoto Yushi-Seiyaku Co., Ltd. Glass composite including dispersed rare earth iron garnet nanoparticles
US6828043B2 (en) * 2001-03-16 2004-12-07 David K. Sturley Luminous panel
US20030037569A1 (en) 2001-03-20 2003-02-27 Mehran Arbab Method and apparatus for forming patterned and/or textured glass and glass articles formed thereby
US6680578B2 (en) * 2001-09-19 2004-01-20 Osram Opto Semiconductors, Gmbh Organic light emitting diode light source
GB0130057D0 (en) * 2001-12-14 2002-02-06 Dunne Stephen T Liquid atomising system
WO2003080530A1 (fr) 2002-03-26 2003-10-02 Nippon Sheet Glass Company, Limited Substrat de verre et processus de production de ce substrat
ATE370105T1 (de) 2002-06-28 2007-09-15 Prysmian Cavi Sistemi Energia Verfahren und vorrichtung zum verdampfen eines flüssigen vorlaüfers beim herstellen einer glasvorform
US9533913B2 (en) 2002-07-19 2017-01-03 Vitro, S.A.B. De C.V. Methods of making colored glass by surface modification
WO2004035496A2 (en) * 2002-07-19 2004-04-29 Ppg Industries Ohio, Inc. Article having nano-scaled structures and a process for making such article
US6776496B2 (en) * 2002-08-19 2004-08-17 Eastman Kodak Company Area illumination lighting apparatus having OLED planar light source
US7278353B2 (en) * 2003-05-27 2007-10-09 Surface Treatment Technologies, Inc. Reactive shaped charges and thermal spray methods of making same
DE102004029911B4 (de) * 2003-06-20 2006-11-23 Innovent E.V. Technologieentwicklung Verfahren und Anordnung zur Herstellung anorganischer Schichten
JP2007527440A (ja) 2003-06-23 2007-09-27 サン−ゴバン グラス フランス 高い機械的及び光学的性能の照明系
FR2856512A1 (fr) * 2003-06-23 2004-12-24 Saint Gobain Systeme eclairant a haute performance mecanique et optique
US7482220B2 (en) 2005-02-15 2009-01-27 Semiconductor Components Industries, L.L.C. Semiconductor device having deep trench charge compensation regions and method
CN101258027A (zh) * 2005-08-31 2008-09-03 纳幕尔杜邦公司 阳光控制层压体
KR20080078803A (ko) * 2005-10-17 2008-08-28 내셔날 리서치 카운실 오브 캐나다 코팅 및 분말의 반응성 분무 형성
US20070141114A1 (en) * 2005-12-15 2007-06-21 Essilor International Compagnie Generale D'optique Article coated with an ultra high hydrophobic film and process for obtaining same
MY150737A (en) 2006-02-23 2014-02-28 Meadwestvaco Corp Method for treating a substrate
FI121336B (fi) * 2006-03-27 2010-10-15 Beneq Oy Hydrofobinen lasipinta
FI20060288A0 (fi) * 2006-03-27 2006-03-27 Abr Innova Oy Pinnoitusmenetelmä
FI20060924A0 (fi) * 2006-10-20 2006-10-20 Beneq Oy Lasinvärjäämislaite ja menetelmä lasin värjäämiseksi
AU2006349829B2 (en) * 2006-10-24 2011-12-15 Beneq Oy Device and method for producing nanoparticles
FI20061014A0 (fi) * 2006-11-17 2006-11-17 Beneq Oy Diffuusiopinnoitusmenetelmä
TWI327958B (en) * 2007-05-28 2010-08-01 Daxon Technology Inc Antireflective film and method for making thereof
FI122502B (fi) * 2007-12-20 2012-02-29 Beneq Oy Menetelmä ja laite lasin pinnoittamiseksi
FI122879B (fi) * 2008-02-18 2012-08-15 Beneq Oy Menetelmä lasin pinnan muokkaamiseksi
US8795773B2 (en) 2008-03-13 2014-08-05 Guardian Industries Corp. Nano-particle loaded metal oxide matrix coatings deposited via combustion deposition
US20090233088A1 (en) 2008-03-13 2009-09-17 Lewis Mark A In situ nano-particle matrix loading of metal oxide coatings via combustion deposition
EP2257989A2 (en) 2008-03-25 2010-12-08 Corning Incorporated Substrates for photovoltaics
US8231730B2 (en) * 2008-06-09 2012-07-31 Guardian Industries Corp. Combustion deposition burner and/or related methods
US20100009188A1 (en) * 2008-07-11 2010-01-14 John Haozhong Xin Nano-structured surface and an in situ method for forming the same
FI20080675A0 (fi) 2008-12-23 2008-12-23 Beneq Oy Lasinpinnoitusmenetelmä ja -laite
US8553333B2 (en) * 2009-01-23 2013-10-08 State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University Nanostructured anti-reflective coatings for substrates
DE102009007908A1 (de) * 2009-02-06 2010-08-12 Zylum Beteiligungsgesellschaft Mbh & Co. Patente Ii Kg Verfahren zur Herstellung eines Dünnschicht-Photovoltaik-Systems und Dünnschicht-Photovoltaik-System
GB0904803D0 (en) * 2009-03-20 2009-05-06 Univ London Coated substrate
US8864897B2 (en) * 2009-04-30 2014-10-21 Enki Technology, Inc. Anti-reflective and anti-soiling coatings with self-cleaning properties
FI20090319A0 (fi) * 2009-09-03 2009-09-03 Beneq Oy Prosessinsäätömenetelmä
FI122881B (fi) 2009-12-15 2012-08-15 Beneq Oy Menetelmä lasialustan valmistamiseksi
US10581020B2 (en) * 2011-02-08 2020-03-03 Vitro Flat Glass Llc Light extracting substrate for organic light emitting diode
RU2439199C2 (ru) 2010-01-18 2012-01-10 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Балтийский государственный технический университет "ВОЕНМЕХ" им. Д.Ф. Устинова (БГТУ "ВОЕНМЕХ") Способ формирования многослойного покрытия, содержащего наночастицы
RU2417902C1 (ru) 2010-04-27 2011-05-10 Елена Юрьевна Кутузова Изделие с декоративным покрытием, содержащим люминофоры (варианты)
US20110249450A1 (en) * 2010-04-09 2011-10-13 Ngai Peter Y Y Oled luminaire having intensity shaping for oled light source
FR2959244B1 (fr) * 2010-04-23 2012-06-29 Commissariat Energie Atomique Procede de preparation d'un revetement multicouche sur une surface d'un substrat par projection thermique.
US9272947B2 (en) * 2011-05-02 2016-03-01 Corning Incorporated Glass article having antireflective layer and method of making
RU2462536C1 (ru) 2011-05-11 2012-09-27 Государственный научный центр Российской Федерации - федеральное государственное унитарное предприятие "Исследовательский Центр имени М.В. Келдыша" Способ нанесения покрытий
WO2013078040A1 (en) * 2011-11-23 2013-05-30 Corning Incorporated Vapor deposition systems and processes for the protection of glass sheets
JP2013115213A (ja) 2011-11-28 2013-06-10 Panasonic Idemitsu Oled Lighting Co Ltd 面状発光装置、照明装置、及び面状発光装置の製造方法
US8523418B2 (en) * 2011-12-01 2013-09-03 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. LED light bar and backlight module of liquid crystal display device
US10059622B2 (en) * 2012-05-07 2018-08-28 Guardian Glass, LLC Anti-reflection glass with tin oxide nanoparticles
CN102850894A (zh) * 2012-07-03 2013-01-02 杭州和合玻璃工业有限公司 一种减反射镀膜用复合溶胶及减反射镀膜光伏玻璃
FR2993203B1 (fr) * 2012-07-11 2014-07-18 Saint Gobain Vitrage lumineux
US20150343502A1 (en) * 2012-12-20 2015-12-03 3M Innovative Properties Company Anti-soiling, abrasion resistant constructions and methods of making
US9335027B2 (en) 2013-01-02 2016-05-10 Massachusetts Institute Of Technology Methods and apparatus for transparent display using scattering nanoparticles
US9366787B2 (en) * 2013-03-12 2016-06-14 Ppg Industries Ohio, Inc. Organic light emitting diode with light extracting layer
KR20150135415A (ko) * 2013-03-25 2015-12-02 코닝 인코포레이티드 저-tg 클래드 층을 사용하는 텍스처링된 유리 라미네이트
JP2014234487A (ja) 2013-06-05 2014-12-15 日本電気硝子株式会社 波長変換部材及び発光デバイス
DE102014102256A1 (de) 2014-02-21 2015-08-27 Osram Oled Gmbh Glasware, Glasware mit Leuchtstoff-Partikeln, Vorrichtung zum Herstellen einer Glasware, Verfahren zum Herstellen einer Glasware und Verfahren zum Herstellen einer Glasware mit Leuchtstoff-Partikeln
US10672921B2 (en) * 2015-03-12 2020-06-02 Vitro Flat Glass Llc Article with transparent conductive layer and method of making the same
US11014118B2 (en) * 2015-12-11 2021-05-25 Vitro Flat Glass Llc Float bath coating system
CN109461805B (zh) * 2018-03-07 2021-08-10 普瑞光电股份有限公司 具有位于包含荧光体的玻璃转换板上的玻璃透镜的汽车led光源

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