CN108367309B - 涂覆系统和由此制造的制品 - Google Patents

涂覆系统和由此制造的制品 Download PDF

Info

Publication number
CN108367309B
CN108367309B CN201680072356.3A CN201680072356A CN108367309B CN 108367309 B CN108367309 B CN 108367309B CN 201680072356 A CN201680072356 A CN 201680072356A CN 108367309 B CN108367309 B CN 108367309B
Authority
CN
China
Prior art keywords
nanoparticle
source
applicator
nanoparticles
clause
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201680072356.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108367309A (zh
Inventor
J·W·麦卡米
C-H·黄
M·阿巴比
A·布翰达利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Vetro Flat Glass Co Ltd
Original Assignee
Vitro SAB de CV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vitro SAB de CV filed Critical Vitro SAB de CV
Priority to CN201810720561.7A priority Critical patent/CN108823528B/zh
Priority claimed from PCT/US2016/065875 external-priority patent/WO2017100607A1/en
Publication of CN108367309A publication Critical patent/CN108367309A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108367309B publication Critical patent/CN108367309B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C19/00—Apparatus specially adapted for applying particulate materials to surfaces
    • B05C19/04—Apparatus specially adapted for applying particulate materials to surfaces the particulate material being projected, poured or allowed to flow onto the surface of the work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
    • C03C14/004—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of particles or flakes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/38—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal at least one coating being a coating of an organic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/046—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • C23C14/165—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon by cathodic sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment
    • C23C14/5806—Thermal treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C24/00—Coating starting from inorganic powder
    • C23C24/02—Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
    • C23C24/04—Impact or kinetic deposition of particles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0003—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being doped with fluorescent agents
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0065—Manufacturing aspects; Material aspects
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0066—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form characterised by the light source being coupled to the light guide
    • G02B6/0073—Light emitting diode [LED]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/054—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/054—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means
    • H01L31/055—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means where light is absorbed and re-emitted at a different wavelength by the optical element directly associated or integrated with the PV cell, e.g. by using luminescent material, fluorescent concentrators or up-conversion arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/854—Arrangements for extracting light from the devices comprising scattering means
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/42—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/77—Coatings having a rough surface
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
    • C03C2218/1525—Deposition methods from the vapour phase by cvd by atmospheric CVD
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/31—Pre-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32—After-treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301—Details of OLEDs
    • H10K2102/331—Nanoparticles used in non-emissive layers, e.g. in packaging layer
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/80—Constructional details
    • H10K30/87—Light-trapping means
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/52—PV systems with concentrators
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Inert Electrodes (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

一种浮槽涂覆系统包括位于浮槽中的至少一个纳米颗粒涂覆器。所述至少一个纳米颗粒涂覆器包括罩壳、纳米颗粒排放槽口、第一燃烧槽口和第二燃烧槽口。所述纳米颗粒排放槽口连接至纳米颗粒源和载送流体源。所述第一燃烧槽口连接至燃料源和氧化剂源。所述第二燃烧槽口连接至燃料源和氧化剂源。

Description

涂覆系统和由此制造的制品
发明背景
相关申请的交叉引用
本申请要求以下优先权：2015年12月14日提交的美国申请号14/967,953；2015年12月14日提交的美国申请号14/967,981；2015年12月14日提交的美国申请号14/968,011；2015年12月14日提交的美国申请号14/968,039；以及2015年12月11日提交的美国临时申请号62/266,239的优先权，通过引用将所有这些申请整体并入本文。
技术领域
本发明大体涉及有机发光二极管、太阳能电池或光伏(PV)电池、采光窗、光提取基底、具有摩擦调整表面的基底、以及制造它们的方法。
技术考虑
有机发光二极管(OLED)是具有包括有机化合物的发射电致发光层的发光装置。有机化合物响应电流而发光。典型地，有机半导体材料的发射层位于两个电极(阳极和阴极)之间。当电流通过阳极和阴极之间时，有机材料发光。OLED被用于许多应用中，如电视屏幕、计算机显示器、移动电话、PDA、手表、照明和各种其它电子装置。
与传统的无机装置(例如液晶显示器)相比，OLED提供许多优点。例如，OLED可以在不需要背光的情况下工作。在低的环境光下，例如暗室，OLED屏幕可以实现比传统的液晶显示器更高的对比度。与液晶显示器和其它照明装置相比，OLED通常也更薄、更轻并且更灵活。与许多其它常规照明装置相比，OLED典型也需要更少的能量来操作。
然而，OLED装置的一个缺点是它们通常每单位面积发射的光比无机固态基的点光源发射更少。在通常的OLED照明装置中，从有机材料发出的大百分比的光被捕集在装置内部，这是由于光波导效应，其中来自有机发光层的光从有机发光层/导电层(阳极)的界面、导电层(阳极)/基底的界面以及外表面/空气界面反射回来。从有机材料发射的光仅有相对较小百分比逃脱光波导效应并被装置发射。因此，相比于用传统方法可能提取的光而言，提供从OLED装置提取更多光的装置和/或方法将是有利的。
光伏太阳能电池在原理上与发光二极管相对应。在此，半导体材料吸收光(光子)的能量并将该能量转变成电。类似于OLED，光伏装置的效率相对较低。例如，在模块级别，通常仅有至多20％的入射光被转变为电能。在一类光伏装置中，由薄膜PV电池组成的那些装置，这种效率可能低得多，这取决于半导体材料和结设计。因此，增加在光伏半导体结附近被吸收的太阳光的分数以增加光伏装置的效率将是有利的。
OLED和光伏装置通常以分批涂覆工艺制造，其中在涂覆站中施加每个涂层。然后将基底转移到另一不同的涂覆站以施加下一层，如此继续。这是一种耗时且耗力的工艺。如果装置的涂层或功能区域中的两个或更多个能够以连续工艺而非分批工艺制备，那么将是有利的。如果可以调整基底的摩擦系数，例如在连续涂覆工艺中，也是有利的。
发明概述
浮法玻璃系统包括至少一个纳米颗粒沉积涂覆器和任选地至少一个气相沉积涂覆器。浮槽涂覆系统包括位于浮槽(float bath)中的至少一个纳米颗粒涂覆器。所述至少一个纳米颗粒涂覆器包括罩壳、纳米颗粒排放槽口(s lot)、第一燃烧槽口和第二燃烧槽口。纳米颗粒排放槽口连接至纳米颗粒源和载送流体源。第一燃烧槽口连接至燃料源和氧化剂源。第二燃烧槽口连接至燃料源和氧化剂源。
附图简述
在附图中对本发明进行说明，其中同样的附图标记始终表示同样的零件。除非有相反说明，则附图不是按比例的。
图1是包含本发明的浮槽涂覆系统的浮法玻璃系统的侧视截面图；
图2是图1的浮槽涂覆系统的平面图；
图3是本发明的纳米颗粒涂覆器的侧视截面图；
图4是本发明的蒸发涂覆器的侧视截面图；
图5是具有调整的喷嘴块的图4蒸发涂覆器的侧视截面图；
图6是在制品中具有纳米颗粒区域的本发明制品的侧视截面图；
图7是在制品表面上具有摩擦调整表面的本发明制品的侧视截面图；
图8是隐私玻璃形式的本发明制品的侧视截面图；
图9是OLED装置形式的本发明制品的侧视截面图；
图10是本发明的下拉(drawdown)涂覆系统的示意图；
图11是通过图10的下拉涂覆系统制成的具有与制品的相对主侧相邻的纳米颗粒区域的制品的侧视截面图；
图12是在制品的相对主侧上具有摩擦调整表面的本发明制品的侧视截面图。
图13是隐私玻璃形式的本发明制品的侧视截面图；和
图14是具有与基底的相对主侧相邻的光提取区域的OLED形式的本发明制品的侧视截面图。
优选实施方案的描述
诸如“左”、“右”、“内”、“外”等的空间术语或方向术语与本发明有关，正如附图中所示。应当理解，本发明可以采取各种可选取向，因此，这些术语不被认为是限制性的。
说明书和权利要求书中使用的所有数字应被理解为在所有情况下都被术语“约”修饰。所有的范围应被理解为包括开始范围值和结束范围值以及其中包括的任何和所有子范围。本文所述的范围表示在指定范围内的平均值。
当提及一层涂层时，术语“上方”是指“更远离基底表面”。例如，位于第一层“上方”的第二层是指第二层比第一层更远离其上存在这些层的基底表面。第二层可以与第一层直接接触，或者一个或多个其它层可以位于第二层和第一层之间。
术语“聚合物”或“聚合的”包括低聚物、均聚物、共聚物和三元共聚物。
本文提到的所有文件均被认为以其整体“通过引用而并入”。
除非另有说明，对数量的任何提及都是“按重量百分比”。
术语“膜”是指具有期望或所选的组成的区域。“层”包含一个或多个“膜”。“涂层”由一个或多个“层”组成。术语“有机材料”包括可用于制造有机光电子装置的聚合物以及小分子有机材料。
术语“可见光”是指具有在380nm至780nm范围内的波长的电磁辐射。术语“红外辐射”是指具有在大于780nm至100,000nm范围内的波长的电磁辐射。术语“紫外辐射”是指具有在100nm至小于380nm范围内的波长的电磁能量。
术语“金属”和“金属氧化物”分别包括硅和氧化硅，以及传统上公认的金属和金属氧化物，尽管硅可能通常不被认为是金属。术语“可固化”是指能够聚合或交联的组合物。“固化的”是指材料是至少部分聚合或交联，优选完全聚合或交联。“至少”是指“大于或等于”。“不超过”是指“小于或等于”。术语“上游”和“下游”是指玻璃带的移动方向。
本文中的雾度值和透射率值是使用Haze-Gard Plus雾度计(可商购自BYK-Gardner USA)或Perkin Elmer Lamda 9分光光度计测定的值。表面粗糙度值是使用Instrument Dimension 3100原子力显微镜测定的值。
本发明的讨论可能将某些特征描述为在一定限度内“特别地”或“优选地”(例如，“优选地”、“更优选地”、或“甚至更优选地”，在一定限度内)。应理解，本发明不限于这些特别或优选的限度，而是涵盖本公开的整个范围。
本发明以任何组合包括本发明的以下方面、由以下方面组成、或基本上由以下方面组成。本发明的各个方面在单独的附图中说明。然而，应该理解，这仅仅是为了便于说明和讨论。在本发明的实施中，在一个附图中示出的本发明的一个或多个方面可以与一个或多个其它附图中示出的本发明的一个或多个方面组合。
包含本发明的浮槽涂覆系统11的示例性浮法玻璃系统10示于图1和2中。浮法玻璃系统10包括在浮槽14上游的玻璃熔炉12。浮槽14位于冷却退火炉16的上游。第一传送器18在浮槽14和退火炉16之间延伸。切割站20位于退火炉16的下游。第二传送器22在退火炉16和切割站20之间延伸。
浮槽14包括熔融金属24的池，例如熔融锡。浮槽14具有与熔炉12邻近的入口端26和与第一传送器18邻近的出口端28。在浮法玻璃工艺中，将来自熔炉12的熔融玻璃倒在浮槽14中的熔融金属24的顶部上。熔融玻璃开始冷却并在熔融金属24的顶部铺展开从而形成具有表面32的玻璃带30。
多个相对组的辊组件34沿浮槽14的侧部定位并延伸到浮槽14的内部。辊组件34包括与可旋转头部38连接的轴36。头部38包括配置成夹持玻璃带30的多个周向齿。辊组件头部38的旋转沿着熔融金属24的顶部将玻璃带30拉向浮槽14的出口端28。头部38的旋转速度影响玻璃带30的厚度。所有其它参数保持相同时，旋转速度越快，玻璃带30将越薄。头部38的角度(或倾斜度)影响玻璃带30的宽度。例如，使头部38向外偏转(朝向浮槽14的外侧)增加玻璃带30的宽度。使头部38向内偏转减小玻璃带30的宽度。头部38的这种偏转(angling)也能够影响玻璃带30的厚度。
辊组件34所在的浮槽14部分被称为“减薄区”40。主要在该减薄区40中，通过辊组件34的操作来拉伸玻璃带30，例如横向和/或纵向拉伸。
在浮槽涂覆系统11中，本发明的至少一个第一纳米颗粒涂覆器44位于浮槽14中。如图1-3所示，第一纳米颗粒涂覆器44包括罩壳46，该罩壳具有纳米颗粒排放槽口48和至少一个燃烧槽口(s lot)。在图示的例子中，第一纳米颗粒涂覆器44包括第一燃烧槽口50和第二燃烧槽口52。在图示的例子中，纳米颗粒排放槽口48位于第一燃烧槽口50和第二燃烧槽口52之间。
纳米颗粒排放槽口48连接至纳米颗粒源54和载送流体源56。纳米颗粒源54包含和/或产生和/或供应纳米颗粒或纳米颗粒前体材料，用于从纳米颗粒排放槽口48排出。
纳米颗粒源可以提供或包含由任何常规方法生产的纳米颗粒。在一个具体实例中，可以在蒸发器中加热液体前体以形成蒸气。可将蒸气引导至反应区以便形成所需的纳米颗粒。液体反应物蒸发器的实例公开于美国专利US 4,924,936、US 5,356,451和US 7,730,747中。例如，可以在蒸发器中加热金属氯化物如四氯化钛以形成前体蒸气。可将蒸气引导至第一纳米颗粒涂覆器44或引导至收集器。例如，蒸发器可以连接至第一纳米颗粒涂覆器44。四氯化钛蒸气可被水解或氧化从而形成二氧化钛纳米颗粒。也可以使用其它前体如有机金属化合物。异丙醇钛是可被蒸发以形成二氧化钛纳米颗粒的另一种材料的实例。前体流可以由具有不同组成的一种、两种或更多种液体反应物材料构成，以形成具有纯组成、具有混合相和/或组合物的组成、或者单相或多相的均质合金的纳米颗粒。如本领域技术人员理解，可以按各种比例供应液体反应物材料以便形成具有期望组成的纳米颗粒和/或纳米颗粒的混合物。此外，可以从气体源提供一种或多种前体以形成具有期望组成的纳米颗粒和/或纳米颗粒的混合物。其实例包括供应硫化氢作为含硫前体以形成含硫化物的纳米颗粒。另一个实例是供应氨(NH3)以形成含氮化物的纳米颗粒。
合适的纳米颗粒的例子包括氧化物纳米颗粒。例如，金属氧化物纳米颗粒。例如，氧化铝、氧化钛、氧化铈、氧化锌、氧化锡、氧化硅和氧化锆。其它例子包括金属纳米颗粒。例如但不限于铁、钢、铜、银、金和钛。其它例子包括含有两种或更多种材料的合金的合金纳米颗粒。例如锌、锡、金、铜和银中的两种或更多种的合金。另外的例子包括含硫化物的纳米颗粒和/或含氮化物的纳米颗粒。其它例子包括发光材料和/或光致发光材料。例如，磷光体(phosphor)，如磷光纳米颗粒和/或荧光纳米颗粒。例如，蓝色、绿色和/或红色磷光体。实例包括BaMgAl10O17:Eu2+；Y2O3:Eu；ZnS基磷光体，例如ZnS:Mn和ZnS:Cu；CdS；Y2SiO5:Ce3+；Zn2SiO4:Mn；(Ca,Sr)S:Bi；和SrAl2O4:Eu(II):Dy(III)。另外的例子包括发光纳米晶体材料。例如纳米晶体纳米颗粒。例如，掺杂铕的氧化钇、掺杂铽的氧化钇和/或掺杂锰的锡酸锌。
载送流体源56供应载送流体，以便将纳米颗粒蒸气或纳米颗粒从纳米颗粒源54推进或携带到第一纳米颗粒涂覆器44。载送流体优选包含载气。例如，氮气或氩气。
燃烧槽口50、52连接至燃料源58和氧化剂源60。燃料源58包含可燃材料。例如，天然气。氧化剂源60包括含氧材料。例如，空气或氧气。
用于第一燃烧槽口50的燃料源58可以与用于第二燃烧槽口52的燃料源相同或不同。也就是说，可以用相同类型的燃料供应第一燃烧槽口50和第二燃烧槽口52。或者，可以用第一燃料供应一个燃烧槽口，并且可以用第二燃料供应另一个燃烧槽口，其中第一燃料与第二燃料相同或不同。
用于第一燃烧槽口50的氧化剂源60可以与用于第二燃烧槽口52的氧化剂源相同或不同。也就是说，可以用相同类型的氧化剂供应第一燃烧槽口50和第二燃烧槽口52。或者，可以用第一氧化剂供应一个燃烧槽口，并且可以用第二氧化剂供应另一个燃烧槽口，其中第一氧化剂与第二氧化剂相同或不同。
上述结构允许从纳米颗粒和载送流体流速分别地控制燃料和氧化剂流速。
第一纳米颗粒涂覆器44可以位于减薄区40的上游。作为替代，第一纳米颗粒涂覆器44可以位于减薄区40的下游。或者，第一纳米颗粒涂覆器44可以位于减薄区40之中。
浮槽涂覆系统11可以包括至少一个第二纳米颗粒涂覆器64。第二纳米颗粒涂覆器64可以与上述第一纳米颗粒涂覆器44相同。在图示的例子中，第二纳米颗粒涂覆器64的纳米颗粒排放槽口连接至第二纳米颗粒源66和第二载送流体源67。第二纳米颗粒涂覆器64的燃烧槽口连接至第二燃料源68和第二氧化剂源70。
第二纳米颗粒源66可以与第一纳米颗粒源54相同或不同。也就是说，由第二纳米颗粒源66供应的纳米颗粒可以与由第一纳米颗粒源54供应的颗粒相同或不同。例如，第一纳米颗粒源54可以提供具有与由第二纳米颗粒源66供应的纳米颗粒不同的尺寸和/或组成的纳米颗粒。例如，第一纳米颗粒源54可以提供比由第二纳米颗粒源66供应的纳米颗粒更小和/或更致密的纳米颗粒。
第二燃料源68可以与第一燃料源58相同或不同。第二氧化剂源70可以与第一氧化剂源60相同或不同。
如果存在多于一个的纳米颗粒涂覆器44、64，则一个或多个纳米颗粒涂覆器44、64可以位于减薄区40的上游，和/或一个或多个纳米颗粒涂覆器44、64可以位于减薄区40的下游，和/或一个或多个纳米颗粒涂覆器44、64可以位于减薄区40之内。
纳米颗粒涂覆器44、64可以位于在浮槽14中的一定位置，在该位置处玻璃带30的粘度使得从纳米颗粒涂覆器44、64排出的纳米颗粒以期望深度嵌入玻璃带30。
作为替代，纳米颗粒涂覆器44、64可以位于一定位置，在该位置处玻璃带30的粘度不对应于实现纳米颗粒期望深度的粘度。例如，在玻璃带30的温度低于提供期望粘度所需的温度的位置处。在该情形中，可启动燃烧槽口50、52中的一个或两个以增加玻璃带30的温度和/或将玻璃带30的粘度降低到期望的量。
纳米颗粒涂覆器44、64可以位于浮槽14中的一定位置，在该位置处玻璃带30的粘度使得从纳米颗粒涂覆器44、64沉积的纳米颗粒完全嵌入玻璃带30中。“完全嵌入”是指从纳米颗粒涂覆器44、64沉积的至少一些纳米颗粒，优选大部分纳米颗粒，更优选全部纳米颗粒被玻璃带30完全包围。
纳米颗粒可以具有25纳米(nm)至1000nm范围内的直径。例如，纳米颗粒可以具有50nm至750nm范围内的直径。例如，纳米颗粒可以具有150nm至600nm范围内的直径。例如，纳米颗粒可以具有200nm至500nm范围内的直径。
例如，纳米颗粒可以嵌入到25纳米(nm)至2000nm范围内的深度(即，从玻璃带的表面32到纳米颗粒的边缘的距离)。例如，纳米颗粒可以嵌入到50nm至1500nm范围内的深度。例如，纳米颗粒可以嵌入到100nm至750nm范围内的深度。例如，纳米颗粒可以嵌入到150nm至600nm范围内的深度。例如，纳米颗粒可以嵌入到200nm至500nm范围内的深度。
在图1所示的例子中，第一纳米颗粒涂覆器44的位置比第二纳米颗粒涂覆器64更靠近浮槽14的入口端26。因此，玻璃带30在第一纳米颗粒涂覆器44处的温度高于在第二纳米颗粒涂覆器64处的温度。这意味着玻璃带30在第一纳米颗粒涂覆器44处的粘度低于在第二纳米颗粒涂覆器64处的粘度。所有其它因素保持相同，在第一纳米颗粒涂覆器44处沉积的纳米颗粒将比在第二纳米颗粒涂覆器64处沉积的纳米颗粒更深地嵌入玻璃带30中。因此，可以在玻璃带30中形成不同的纳米颗粒区域。
作为替代，纳米颗粒涂覆器44、64可以位于在浮槽中的一定位置，在该位置处玻璃带30的粘度使得纳米颗粒部分地嵌入玻璃带30中。“部分地嵌入”是指从纳米颗粒涂覆器44、64沉积的至少一些纳米颗粒，优选大部分纳米颗粒，更优选全部纳米颗粒不完全被玻璃带30包围。也就是说，至少一部分纳米颗粒的至少一部分在玻璃带30的表面32以上延伸。例如，一个或多个纳米颗粒的一部分在玻璃带30的表面以上延伸。
至少一个气相沉积涂覆器74，例如化学气相沉积(CVD)涂覆器，可以位于浮槽14中。例如，气相沉积涂覆器74可位于纳米颗粒涂覆器44、64的下游。如本领域普通技术人员所理解的，气相沉积涂覆器74可以是常规的CVD涂覆器。
特别适合于施加挥发性前体的气相沉积涂覆器74示于图4和5中。气相沉积涂覆器74包括气室(plenum)组件76和喷嘴块78。喷嘴块78具有指向玻璃带30的排放面80。图示的示例性气室组件76具有第一入口气室82、第二入口气室84和第三入口气室86。气室组件76具有第一排气气室88和第二排气气室90。示例性的喷嘴块78例如通过螺栓连接到气室组件76。
第一入口气室82与具有第一排放出口(槽口)94的第一排放通道92流动连通。第二入口气室84与具有第二排放出口(槽口)98的第二排放通道96流动连通。第三入口气室86与具有第三排放出口(槽口)102的第三排放通道100流动连通。进气混合室104可位于排放通道92、96、100中。
第一排气导管106从排放面80延伸到第一排气气室88。第二排气导管108从排放面80延伸到第二排气气室90。排气腔室110可以位于排气导管106、108中。
在图示的例子中，第二排放通道96垂直于排放面80(即，第二排放通道96的中心线轴线垂直于排放面80的平面)。然而，第一排放通道92和第三排放通道100相对于排放面80成角度。第一排放通道92和第三排放通道100的中心线轴线在低于排放面80的位置处相交。因此，来自排放出口94、98、102的前体蒸气直到从喷嘴块78排放之后才被混合。这对挥发性前体特别有用，其中前体的预混合会引起过早的反应。
排放通道92、96、100中一个或多个相对于排放面80的角度可以改变，使得排放通道92、96、100中的两个或更多个的中心线轴线在期望的位置(例如，离排放面80的距离和/或相对于下方的玻璃带30的位置)处相交。例如，可以提供具有不同排放通道角度的不同/可互换的喷嘴块78。可以选择具有期望排放通道角度的喷嘴块78并且用螺栓将其连接到气室组件76上。作为替代，喷嘴块78可以由独立的区段形成。第一排气导管106可以处于一个区段中，第二排气导管108可以处于另一个区段中，并且排放通道92、96、100可以处于第三区段中。不同的区段可以独立地与气室组件76连接。在这方面，仅喷嘴块78的区段(其具有排放通道92、96、100)将需要被具有期望的排放通道角度的区段替换。
作为替代，第一排放通道92、第二排放通道96和第三排放通道100可位于喷嘴块78的独立区段中并且可移动地连接(例如可滑动地连接)至气室组件76。例如，参照图4，如果第一排放通道92位于一个可滑动区段中并且第三排放通道100位于不同的可滑动区段中，则使包含第一排放通道92的可滑动区段和/或包含第三排放通道100的另一可滑动区段向左或向右滑动(关于图4而言)将改变排放通道92、96、100的中心线的交点。例如，在图4中将包含第一排放通道92的区段向左滑动并且将包含第三排放通道100的区段向右滑动将增加交点相对于排放面80的距离。
排放通道92和/或100的角度可以改变，使得中心线轴线相交于如下位置：在玻璃带30的表面上方或者在玻璃带30的表面处或者在玻璃带30的表面下方。如果计算出的交点在玻璃带30表面的下方，那么来自垂直于排放面80的第二排放通道96的蒸气在玻璃带30上形成单层，并且来自第一排放通道92和第三排放通道100的材料与其反应。在图4中，排放通道92、96、100的中心线轴线将在玻璃带96上方相交。
在图5中示出具有调整的喷嘴块78的蒸气涂覆器74的中心部分。在该调整中，第一排放出口94和第三排放出口102与第二排放通道96在排放面80上方流动连通。因此，来自三个排放通道92、96、100的蒸气在它们从第二排放出口98排出之前被混合。
可以通过气相沉积涂覆器74将一个或多个涂覆层施加到玻璃带30上。可以通过选择性沉积多种前体材料来施加涂覆层。例如，可以使用两种或更多种不同的前体材料来形成层。用单丁基锡三氯化物(MBTC)制成的氧化锡涂层通常提供比其它锡前体如四氯化锡(TTC)更低雾度的涂层。但是，TTC的沉积效率优于MBTC。此外，TTC倾向于产生具有比由MBTC制成的涂层更低薄层电阻的涂层。因此，最初可以使用MBTC(出于雾度)形成该层，然后将前体材料切换至TTC以形成该层的剩余部分。总体效率得以提高并且所得涂层具有MBTC的雾度益处和TTC的薄层电阻益处。
现在将描述操作该浮法玻璃系统10的示例性方法。
参照图1，当玻璃带30在第一纳米颗粒涂覆器44下方行进时，纳米颗粒114被载送流体推向玻璃带30的表面32。由于大多数纳米颗粒的质量相对较低，纳米颗粒114的渗透深度主要由玻璃带30的粘度决定。玻璃带30的粘度越低，纳米颗粒114将越深地渗透到玻璃带30中。载送流体的速度也会影响渗透深度。速度越高，则纳米颗粒114将越深地渗透到玻璃带30中。
第一纳米颗粒涂覆器44可以位于浮槽14中的一定位置，在该位置处玻璃带30的粘度对应于允许纳米颗粒114渗入玻璃带30达到期望深度所需的粘度。作为替代，如果第一纳米颗粒涂覆器44下方的玻璃带30的粘度高于所需的粘度，则可启动燃烧槽口50、52中的一个或两个。例如，可将燃料和氧化剂输送到第一燃烧槽口50并且点燃以形成第一火焰116。来自第一燃烧槽口50的第一火焰116加热玻璃带30的表面32，使玻璃带30的粘度降低到期望的水平以允许纳米颗粒114渗透至期望深度。作为替代或作为补充，可启动第二燃烧槽口52以形成第二火焰118。来自第二燃烧槽口52的第二火焰118也降低玻璃带30的粘度。在添加纳米颗粒114之后，第二火焰118也能够帮助平滑玻璃带30的表面32(降低粗糙度)。
可以使用多个纳米颗粒涂覆器44、64。例如，如图1和2所示，第一纳米颗粒涂覆器44的位置更靠近浮槽14的入口端26，在该位置处玻璃带30的温度大于第二纳米颗粒涂覆器64的位置处(并且因此粘度更低)。因此，当所有其它因素保持相同时，在第一纳米颗粒涂覆器44处沉积的纳米颗粒114将比在第二纳米颗粒涂覆器64处沉积的纳米颗粒114更深地渗透到玻璃带30中。以这种方式，可以在玻璃带30中形成纳米颗粒的不同区域或条带。例如，第一纳米颗粒涂覆器44可沉积具有与从第二纳米颗粒涂覆器64沉积的第二纳米颗粒122不同的质量和/或组成的第一纳米颗粒120。
可通过一个或多个气相沉积涂覆器74在玻璃带30的表面32上方施加一个或多个涂覆层。
图6示出制品126，其中将具有第一尺寸和/或质量和/或组成的第一纳米颗粒120从第一纳米颗粒涂覆器44沉积到玻璃带30中的第一深度。将具有第二尺寸和/或质量和/或组成的第二纳米颗粒122从第二纳米颗粒涂覆器64沉积到玻璃带30中的第二深度。第一纳米颗粒120形成第一纳米颗粒条带或纳米颗粒区域128，并且第二纳米颗粒122在玻璃带30中形成第二纳米颗粒条带或纳米颗粒区域130。第一区域128在玻璃带30中的深度不同于第二区域130。在图示的例子中，第一纳米颗粒区域128和第二纳米颗粒区域130不重叠。然而，第一纳米颗粒区域128的至少一部分可以与第二纳米颗粒区域130的至少一部分重叠。
纳米颗粒涂覆器44、64相对于减薄区40的位置影响玻璃带30中纳米颗粒的浓度，例如纳米颗粒的数量浓度。例如，如果纳米颗粒涂覆器44、64位于减薄区40的上游，则当在减薄区40中拉伸玻璃带30时，玻璃带30中纳米颗粒之间的数量浓度和/或密度和/或距离(横向和/或竖向)可能受到影响。例如，如果纳米颗粒沉积在减薄区40的上游，然后玻璃带30进入减薄区40并横向拉伸，则玻璃带30的厚度将减小。相邻纳米颗粒之间的距离(例如横向距离)将增加。
如果纳米颗粒涂覆器44、64位于减薄区40的下游，那么当玻璃带30移动通过浮槽14的剩余部分时，纳米颗粒的相对定位应保持相同。
在通过纳米颗粒涂覆器44、64沉积纳米颗粒之后，可以通过位于浮槽14中的一个或多个气相沉积涂覆器74施加一个或多个任选的涂覆层。图6中的制品126示出了通过一个或多个蒸气涂覆器174施加的任选的涂层132。如下所述，涂层132可以是或者可以包括用于OLED的一个或多个层。例如，涂层132可以是导电氧化物层。
在玻璃带30离开浮槽14之后，可以在涂层132上方施加另外的涂层。例如，可以将玻璃带30切割成期望的形状，并且通过任何常规方法例如化学气相沉积和/或MSVD来添加一个或多个另外的涂覆层。作为替代，可以通过纳米颗粒涂覆器44、64将纳米颗粒120、122沉积到玻璃带30上和/或玻璃带30中，而无需通过蒸气涂覆器74施加任何后续的涂覆层。
图7示出具有基底137的制品136，其中纳米颗粒114沉积在基底137的表面139上以形成摩擦调整表面138。例如，可以在一定玻璃带30粘度和/或一定沉积速度下将纳米颗粒114沉积到玻璃带30的表面32上，使得纳米颗粒114不完全嵌入玻璃带30中。局部嵌入的纳米颗粒114在制品136上形成摩擦调整表面138。例如，纳米颗粒114可以选自具有比玻璃表面139更低摩擦系数的材料。在基底137的表面139上方延伸的纳米颗粒114部分为表面139提供了更低的摩擦系数，相比于没有纳米颗粒114时存在的摩擦系数而言。一个例子，纳米颗粒114可包含氧化钛。作为替代，可以选择纳米颗粒114以具有比基底137的玻璃更高的摩擦系数。这将为制品136提供摩擦调整表面138，该摩擦调整表面具有比没有纳米颗粒114的表面139更高的摩擦系数。
图8示出了本发明的另一示例性制品142。该制品142类似于图6所示的制品126。该制品142特别适合用作隐私玻璃。制品142包括玻璃基底144，该玻璃基底具有与表面32邻近的至少一个纳米颗粒区域130、132。可以存在任选的涂覆层132。光源146位于制品142的边缘148附近。当光源146被停用时，制品142具有第一透明度水平。当光源146被启动时，纳米颗粒114散射来自光源146的光波150，并且制品142具有第二透明度水平。由于纳米颗粒120、122对光波150的散射，第二透明度水平小于第一透明度水平。
图9中示出包含本发明特征的OLED装置154。OLED装置154包括基底156、电极如阴极158、发射层160、以及另一电极如阳极162。
阴极158可以是任何常规OLED阴极。合适的阴极158的实例包括金属，例如但不限于钡和钙。阴极158典型具有低的功函数。
发射层160可以是本领域已知的常规有机电致发光层。此类材料的实例包括但不限于小分子如有机金属螯合物(例如Alq3)、荧光染料和磷光染料、和共轭树枝状化合物。合适材料的例子包括三苯基胺、苝、红荧烯和喹吖啶酮。作为替代，电致发光聚合材料也是已知的。此类导电聚合物的例子包括聚(对苯撑亚乙烯)和聚芴。也可以使用磷光材料。这种材料的例子包括聚合物，如聚(n-乙烯基咔唑)，其中添加有机金属络合物如铱络合物作为掺杂剂。
阳极162可以是导电的透明材料，例如金属氧化物材料，例如但不限于氧化铟锡(ITO)或铝掺杂的氧化锌(AZO)。阳极162典型具有高的功函数。
基底156包括玻璃基底并且可以用上述浮法玻璃系统10制造。在550纳米(nm)的参考波长和3.2mm的参考厚度下，基底156具有高的可见光透射。“高的可见光透射”是指在3.2mm的参考厚度下，在550nm下的可见光透射大于或等于85％，例如大于或等于87％，例如大于或等于90％，例如大于或等于91％，例如大于或等于92％，例如大于或等于93％，例如大于或等于95％。例如，在3.2mm的参考厚度下并且对于550nm的波长，可见光透射可以在85％至100％的范围内，例如87％至100％，例如90％至100％，例如91％至100％，例如92％至100％，例如93％至100％，例如94％至100％，例如95％至100％，例如96％至100％。可用于实施本发明的玻璃的非限制性例子包括但不限于
Figure BDA0001690835310000151
PV和CLEARTM玻璃，均可商购自宾夕法尼亚州匹兹堡市的PPG工业公司。
基底156可以具有任何期望的厚度，例如在0.5mm至10mm范围内。例如，基底156可以具有1mm至10mm范围内的厚度。例如，基底156可以具有1mm至4mm范围内的厚度。例如，基底156可以具有2mm至3.2mm范围内的厚度。
基底156包括由一个或多个纳米颗粒区域128和/或130形成的内部光提取区域164，如上所述。合适的纳米颗粒的例子包括但不限于氧化物纳米颗粒。例如但不限于氧化铝、氧化钛、氧化铈、氧化锌、氧化锡、氧化硅和氧化锆。其它例子包括金属纳米颗粒。例如但不限于铁、钢、铜、银、金和钛。进一步的例子包括合金纳米颗粒，其含有两种或更多种材料的合金。其它例子包括含硫化物的纳米颗粒和含氮化物的纳米颗粒。
内部光提取区域164的纳米颗粒114可以包括如上所述的发光和/或磷光纳米颗粒114。当发射层160发射电磁辐射时，该辐射可以被纳米颗粒114吸收，然后纳米颗粒114自身发射电磁辐射。因此，纳米颗粒114不仅提供增加的光散射，而且增加OLED的电磁辐射输出。另外，可以选择用于纳米颗粒的磷光体以发出一定颜色的电磁辐射，该电磁辐射在与从发射层160发出的电磁辐射结合时提供期望颜色的电磁辐射。例如，如果发射层160发出蓝光，则可选择发光和/或磷光纳米颗粒114以发出红光，它们结合从而形成绿光。
这些纳米颗粒能够以0微米至50微米范围内的深度纳入基底156中。例如，所述纳米颗粒能够以0微米至10微米范围内的深度纳入基底156中。例如，所述纳米颗粒能够以0微米至5微米范围内的深度纳入基底156中。例如，所述纳米颗粒能够以0微米至3微米范围内的深度纳入基底156中。例如，所述纳米颗粒能够以大于0微米至3微米范围内的深度纳入基底156中。
OLED装置154可以包括外部光提取区域166。EEL可以是例如具有分布在涂层中的纳米颗粒114的涂层。
纳米颗粒能够以0.1重量％至50重量％的范围纳入涂覆材料中。例如，纳米颗粒能够以0.1重量％至40重量％的范围纳入涂覆材料中。例如，纳米颗粒能够以0.1重量％至30重量％的范围纳入涂覆材料中，例如0.1重量％至20重量％，例如0.1重量％至10重量％，例如0.1重量％至8重量％，例如0.1重量％至6重量％，例如0.1重量％至5重量％。例如，纳米颗粒能够以0.1至2重量％的范围纳入涂覆材料中，例如0.1至1重量％，例如0.1至0.5重量％，例如0.1至0.4重量％，例如0.1至0.3重量％，例如0.2重量％至10重量％。例如，纳米颗粒能够以0.2重量％至5重量％、例如0.2重量％至1重量％的范围纳入涂覆材料中。例如，纳米颗粒能够以0.2重量％至0.8重量％的范围纳入涂覆材料中。例如，纳米颗粒能够以0.2重量％至0.4重量％的范围纳入涂覆材料中。
本发明不限于浮法玻璃工艺。例如，可以使用玻璃下拉工艺来实施本发明。在下拉工艺中，熔融玻璃位于接受器(receiver)中。熔融玻璃从接受器流出并形成玻璃带。玻璃带在重力的影响下向下移动。下拉工艺的例子包括槽口下拉工艺和熔融下拉工艺。在槽口下拉工艺中，接受器是狭长的容器或沟槽(trough)，其具有在沟槽底部的敞开的排放槽口。熔融玻璃流过排放槽口从而形成玻璃带。在熔融下拉工艺中，接受器是具有敞开顶部的沟槽，但在槽底部没有排放槽口。熔融玻璃从沟槽的顶部流出，沿沟槽的相对外侧向下流动，并在槽下方形成玻璃带。
图10示出配置为槽口下拉系统的示例性下拉系统170。熔融玻璃172位于容器174中，例如沟槽，在容器174的底部中具有排放槽口176。熔融玻璃172从排放槽口176流出并形成具有第一侧180和第二侧182的玻璃带178。玻璃带178在重力作用下向下移动。玻璃带178沿其移动的竖直平面限定了下拉系统170的玻璃带路径184。玻璃带路径184具有第一侧186和第二侧188。
一个或多个纳米颗粒涂覆器位于玻璃带路径184的第一侧186附近。在图示的实例中，第一纳米颗粒涂覆器44位于第二纳米颗粒涂覆器64上方。一个或多个另外的涂覆器190，例如CVD涂覆器和/或喷涂机和/或火焰喷涂机和/或蒸气涂覆器，可以位于玻璃带路径184的第一侧186附近。另外的涂覆器190可以是例如上文所述的蒸气涂覆器74。
一个或多个纳米颗粒涂覆器位于玻璃带路径184的第二侧188附近。在图示的实例中，第三纳米颗粒涂覆器192位于第四纳米颗粒涂覆器194上方。第三纳米颗粒涂覆器192和第四纳米颗粒涂覆器194可以与上述的纳米颗粒涂覆器44、64相同。一个或多个另外的涂覆器190，例如CVD涂覆器和/或喷涂机和/或火焰喷涂机和/或蒸气涂覆器，可位于玻璃带路径184的第二侧188附近。另外的涂覆器190可以是例如上文所述的蒸气涂覆器74。
可以通过纳米颗粒涂覆器44、64、192、194向玻璃带178的一侧或两侧180、182上和/或中沉积一个或多个纳米颗粒区域。例如并且如图11-14中所示，可以通过第一和/或第二纳米颗粒涂覆器44、64形成一个或多个第一和/或第二纳米颗粒区域128、130。可以通过第三和/或第四纳米颗粒涂覆器192、194形成一个或多个第三和/或第四纳米颗粒区域228、230。可以通过另外的涂覆器190在玻璃带178的一侧或两侧180、182上施加一个或多个涂覆层202。
图11示出与图6所示的制品相似但是用本发明的下拉系统170制备的制品200。一个或多个第一和/或第二纳米颗粒区域128、130可位于制品200的第一侧180附近。一个或多个第三和/或第四纳米颗粒区域228、230可位于制品200的第二侧182附近。通过另外的涂覆器190沉积的任选涂层202可以位于制品200的第一侧180和/或第二侧182上。
图12示出与图7所示的制品相似但是用本发明的下拉系统170制备的制品204。制品204包括形成在制品204的每一侧180,182上的摩擦调整表面138。
图13示出与图8所示的制品相似但是用本发明的下拉系统170制备的制品206。制品206包括与第一表面180邻近的一个或多个第一和/或第二纳米颗粒区域128、130以及与第二侧182邻近的一个或多个第三和/或第四纳米颗粒区域228、230。光源146位于制品206的边缘148附近，在纳米颗粒区域128、130、228、230附近。
图14示出与图8所示类似的OLED装置形式的制品208，但其中用本发明的下拉系统170制备基底156。基底156包括与第一表面210邻近的一个或多个第一和/或第二纳米颗粒区域128、130以及与第二表面212邻近的一个或多个第三和/或第四纳米颗粒区域228、230。
可以在以下编号的条款中进一步描述本发明：
条款1：一种浮槽涂覆系统，包括：位于浮槽中的至少一个纳米颗粒涂覆器；和位于所述至少一个纳米颗粒涂覆器下游的至少一个气相沉积涂覆器。
条款2：根据条款1所述的系统，其中所述浮槽包括减薄区，并且所述至少一个纳米颗粒涂覆器位于所述减薄区的上游。
条款3：根据条款1所述的系统，其中所述浮槽包括减薄区，并且所述至少一个纳米颗粒涂覆器位于所述减薄区的下游。
条款4：根据条款1至3中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒涂覆器包括：罩壳；纳米颗粒排放槽口；和至少一个燃烧槽口。
条款5：根据条款4所述的系统，其中所述纳米颗粒排放槽口连接至纳米颗粒源和载送流体源。
条款6：根据条款5所述的系统，其中所述纳米颗粒源包括蒸发器。
条款7：根据条款5或6所述的系统，其中所述纳米颗粒源包含金属氧化物纳米颗粒。
条款8：根据条款5至7中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒源包含发光和/或磷光纳米颗粒。
条款9：根据条款5至8中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒源包含磷光体(phosphor)。
条款10：根据条款5至9中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒源包括发光纳米晶体纳米颗粒。
条款11：根据条款10所述的系统，其中所述纳米晶体纳米颗粒选自用铕掺杂的氧化钇、用铽掺杂的氧化钇以及用锰掺杂的锡酸锌。
条款12：根据条款5至11中任一项所述的系统，其中所述载送流体包括氮气。
条款13：根据条款5至12中任一项所述的系统，其中所述至少一个燃烧槽口连接至燃料源和氧化剂源。
条款14：根据条款13所述的系统，其中所述燃料源包含天然气。
条款15：根据条款13或14所述的系统，其中所述氧化剂源包含氧气。
条款16：根据条款4至15中任一项所述的系统，其中所述至少一个纳米颗粒涂覆器包括第一燃烧槽口和第二燃烧槽口，并且其中所述纳米颗粒排放槽口位于所述第一燃烧槽口和所述第二燃烧槽口之间。
条款17：根据条款1至16中任一项所述的系统，包括第一纳米颗粒涂覆器和第二纳米颗粒涂覆器。
条款18：根据条款17所述的系统，其中所述第一纳米颗粒涂覆器连接至第一纳米颗粒源并且所述第二纳米颗粒涂覆器连接至第二纳米颗粒源。
条款19：根据条款18所述的系统，其中第一纳米颗粒源不同于第二纳米颗粒源。
条款20：根据条款18或19所述的系统，其中第一纳米颗粒源包括比第二纳米颗粒源的纳米颗粒更小的纳米颗粒。
条款21：根据条款17至20中任一项所述的系统，其中所述第一纳米颗粒涂覆器连接至第一燃料源和第一氧化剂源，并且所述第二纳米颗粒涂覆器连接至第二燃料源和第二氧化剂源。
条款22：根据条款21所述的系统，其中第一燃料源不同于第二燃料源。
条款23：根据条款21或22所述的系统，其中第一氧化剂源不同于第二氧化剂源。
条款24：一种浮槽涂覆系统，包括：位于浮槽中的至少一个纳米颗粒涂覆器，其中所述至少一个纳米颗粒涂覆器包括罩壳、纳米颗粒排放槽口、第一燃烧槽口和第二燃烧槽口，其中所述纳米颗粒排放槽口连接至纳米颗粒源和载送流体源，其中所述第一燃烧槽口连接至燃料源和氧化剂源，其中所述第二燃烧槽口连接至燃料源和氧化剂源。
条款25：一种浮法玻璃系统，包括：浮槽；限定减薄区的多个相对组的辊组件；和位于浮槽中的至少一个第一纳米颗粒涂覆器。
条款26：根据条款25所述的系统，其中所述第一纳米颗粒涂覆器包括具有纳米颗粒排放槽口和至少一个燃烧槽口的罩壳。
条款27：根据条款25或26所述的系统，其中所述第一纳米颗粒涂覆器包括第一燃烧槽口和第二燃烧槽口。
条款28：根据条款25至27中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒排放槽口位于第一燃烧槽口和第二燃烧槽口之间。
条款29：根据条款26至28中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒排放槽口连接至纳米颗粒源和载送流体源。
条款30：根据条款29所述的系统，其中所述纳米颗粒源包含和/或产生和/或供应选自于由以下构成的组中的纳米颗粒：金属氧化物纳米颗粒、金属纳米颗粒、含两种或更多种材料的合金的合金纳米颗粒、含硫化物的纳米颗粒、含氮化物的纳米颗粒、发光纳米颗粒、磷光纳米颗粒和发光纳米晶体纳米颗粒。
条款31：根据条款27至30中任一项所述的系统，其中所述燃烧槽口连接至燃料源和氧化剂源。
条款32：根据条款25至31中任一项所述的系统，包括位于减薄区上游的至少一个纳米颗粒涂覆器。
条款33：根据条款25至32中任一项所述的系统，包括位于减薄区下游的至少一个纳米颗粒涂覆器。
条款34：根据条款25至33中任一项所述的系统，包括位于减薄区中的至少一个纳米颗粒涂覆器。
条款35：根据条款25至34中任一项所述的系统，包括至少一个第二纳米颗粒涂覆器。
条款36：根据条款35所述的系统，其中所述第二纳米颗粒涂覆器连接至第二纳米颗粒源、第二燃料源和第二氧化剂源。
条款37：根据条款25至36中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒涂覆器位于所述浮槽中的一定位置，在该位置处玻璃带的粘度使得从纳米颗粒涂覆器排出的纳米颗粒以期望深度嵌入玻璃带中。
条款38：根据条款25至36中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒涂覆器设置在所述浮槽中的一定位置，在该位置处玻璃带的粘度不具有使得从纳米颗粒涂覆器排出的纳米颗粒以期望深度嵌入玻璃带中的粘度。
条款39：根据条款25至36中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒涂覆器位于浮槽中的一定位置，在该位置处玻璃带的粘度使得从纳米颗粒涂覆器排出的纳米颗粒以期望深度完全嵌入玻璃带中。
条款40：根据条款25至36中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒涂覆器位于浮槽中的一定位置，在该位置处玻璃带的粘度使得从纳米颗粒涂覆器排出的纳米颗粒以期望深度部分地嵌入玻璃带中。
条款41：根据条款25至40中任一项所述的系统，包括位于至少一个纳米颗粒涂覆器下游的浮槽中的至少一个气相沉积涂覆器。
条款42：一种纳米颗粒涂覆器，包括：罩壳；纳米颗粒排放槽口；和至少一个燃烧槽口。
条款43：根据条款42所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒排放槽口连接至纳米颗粒源和载送流体源。
条款44：根据条款43所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒源包括蒸发器。
条款45：根据条款42至44中任一项所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒源包含金属氧化物纳米颗粒。
条款46：根据条款42至45中任一项所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒源包括发光和/或磷光纳米颗粒。
条款47：根据条款42至46中任一项所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述至少一个燃烧槽口连接至燃料源和氧化剂源。
条款48：根据条款42至47中任一项所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒是磷光体。
条款49：根据条款42至48中任一项所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒是纳米晶体发光材料。
条款50：根据条款49所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米晶体纳米颗粒选自用铕掺杂的氧化钇、用铽掺杂的氧化钇以及用锰掺杂的锡酸锌。
条款51：根据条款43至50中任一项所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述载送流体包含氮气。
条款52：根据条款47至51中任一项所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述燃料源包含天然气。
条款53：根据条款47至52中任一项所述的纳米颗粒涂覆器，其中氧化剂源包含氧气。
条款54：根据条款42至53中任一项所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒涂覆器包括第一燃烧槽口和第二燃烧槽口，并且其中所述纳米颗粒排放槽口位于第一燃烧槽口和第二燃烧槽口之间。
条款55：根据条款54所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述第一燃烧槽口连接至第一燃料源和第一氧化剂源，并且所述第二燃烧槽口连接至第二燃料源和第二氧化剂源。
条款56：根据条款55所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述第一燃料源不同于所述第二燃料源。
条款57：根据条款55或56所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述第一氧化剂源不同于所述第二氧化剂源。
条款58：一种纳米颗粒涂覆器，包括：罩壳；纳米颗粒排放槽口；第一燃烧槽口；和第二燃烧槽口。
条款59：根据条款58所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒排放槽口位于第一燃烧槽口和第二燃烧槽口之间。
条款60：根据条款58或59所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒排放槽口连接至纳米颗粒源和载送流体源。
条款61：根据条款60所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒源包括蒸发器。
条款62：根据条款59或61所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒源包括金属氧化物纳米颗粒。
条款63：根据条款60至62中任一项所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述纳米颗粒源包括发光和/或磷光纳米颗粒。
条款64：根据条款58至63中任一项所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述第一燃烧槽口连接至第一燃料源和第一氧化剂源，并且所述第二燃烧槽口连接至第二燃料源和第二氧化剂源。
条款65：根据条款64所述的纳米颗粒涂覆器，其中所述第一燃料源不同于所述第二燃料源。
条款66：一种玻璃制品，包括：玻璃基底，该玻璃基底具有第一表面、第二表面和边缘；以及位于所述第一表面和所述第二表面中的至少一个附近的至少一个纳米颗粒区域。
条款67：根据条款66所述的制品，其中所述至少一个纳米颗粒区域包括包含第一纳米颗粒的第一纳米颗粒区域以及包含第二纳米颗粒的第二纳米颗粒区域。
条款68：根据条款67所述的制品，其中所述第一纳米颗粒不同于所述第二纳米颗粒。
条款69：根据条款67或68所述的制品，其中所述第一纳米颗粒大于所述第二纳米颗粒。
条款70：根据条款66至69中任一项所述的制品，其中所述至少一个纳米颗粒区域包含金属氧化物纳米颗粒。
条款71：根据条款66至70中任一项所述的制品，其中所述至少一个纳米颗粒区域包含发光和/或磷光纳米颗粒。
条款72：根据条款66至71中任一项所述的制品，其中所述至少一个纳米颗粒区域包含磷光体。
条款73：根据条款66至72中任一项所述的制品，其中所述至少一个纳米颗粒区域包含发光纳米晶体纳米颗粒。
条款74：根据条款66至73中任一项所述的制品，其中所述纳米颗粒选自用铕掺杂的氧化钇、用铽掺杂的氧化钇以及用锰掺杂的锡酸锌。
条款75：根据条款66至74中任一项所述的制品，包括与基底的边缘邻近的光源。
条款76：根据条款66至75中任一项所述的制品，其中所述至少一个纳米颗粒区域包含摩擦调整表面。
条款77：根据条款66至76中任一项所述的制品，其中所述至少一个纳米颗粒区域包含完全嵌入所述基底中的纳米颗粒。
条款78：根据条款66至77中任一项所述的制品，其中所述至少一个纳米颗粒区域包含部分嵌入所述基底中的纳米颗粒。
条款79：根据条款66至78中任一项所述的制品，包括与第一表面邻近的至少一个纳米颗粒区域和与第二表面邻近的至少一个其它纳米颗粒区域。
条款80：根据条款79所述的制品，包括与第一表面邻近的第一纳米颗粒区域和第二纳米颗粒区域以及与第二表面邻近的第三纳米颗粒区域和第四纳米颗粒区域。
条款81：根据条款79或80所述的制品，其中所述第一纳米颗粒区域与所述第二纳米颗粒区域间隔开。
条款82：根据条款80或81所述的制品，其中所述第三纳米颗粒区域与所述第四纳米颗粒区域间隔开。
条款83：根据条款66至82中任一项所述的制品，包括在第一表面和第二表面中的至少一个上方的至少一个涂覆层。
条款84：根据条款83所述的制品，其中所述至少一个涂覆层包含导电金属氧化物层。
条款85：根据条款66至84中任一项所述的制品，其中所述至少一个纳米颗粒区域包含部分嵌入所述第一表面和所述第二表面中的至少一个中的纳米颗粒，其中所述纳米颗粒包含摩擦系数低于基底的材料。
条款86：根据条款66至85中任一项所述的制品，其中所述至少一个纳米颗粒区域包含部分嵌入所述第一表面和所述第二表面中的至少一个中的纳米颗粒，其中所述纳米颗粒包含摩擦系数高于基底的材料。
条款87：一种隐私玻璃，包括：玻璃基底，该玻璃基底具有第一表面、第二表面和边缘；位于所述第一表面附近的光提取区域，所述光提取区域包含纳米颗粒；以及在所述基底的边缘附近的光源。
条款88：一种玻璃下拉涂覆系统，包括：容器，其限定具有第一侧和第二侧的玻璃带路径；以及位于玻璃带路径的第一侧和/或第二侧附近的至少一个纳米颗粒涂覆器。
条款89：根据条款88所述的系统，其中所述至少一个纳米颗粒涂覆器包括：罩壳；纳米颗粒排放槽口；和至少一个燃烧槽口。
条款90：根据条款89所述的系统，其中所述纳米颗粒排放槽口连接至纳米颗粒源和载送流体源。
条款91：根据条款90所述的系统，其中所述纳米颗粒源包含蒸发器。
条款92：根据条款90或91所述的系统，其中所述纳米颗粒源包含金属氧化物纳米颗粒。
条款93：根据条款90至92中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒源包含发光和/或磷光纳米颗粒。
条款94：根据条款90至93中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒源包含磷光体。
条款95：根据条款90至94中任一项所述的系统，其中所述纳米颗粒源包含发光纳米晶体纳米颗粒。
条款96：根据条款89至95中任一项所述的系统，其中所述至少一个燃烧槽口连接至燃料源和氧化剂源。
条款97：根据条款96所述的系统，其中所述燃料源包含天然气。
条款98：根据条款96或97所述的系统，其中所述氧化剂源包含氧气。
条款99：根据条款88至98中任一项所述的系统，其中所述至少一个纳米颗粒涂覆器包括第一燃烧槽口和第二燃烧槽口，并且其中所述纳米颗粒排放槽口位于所述第一燃烧槽口和所述第二燃烧槽口之间。
条款100：根据条款88至99中任一项所述的系统，包括位于玻璃带路径的第一侧附近的至少一个纳米颗粒涂覆器以及位于玻璃带路径的第二侧附近的至少一个其它纳米颗粒涂覆器。
条款101：根据条款88至100中任一项所述的系统，包括与玻璃带路径的第一侧邻近的第一纳米颗粒涂覆器和第二纳米颗粒涂覆器。
条款102：根据条款101所述的系统，其中所述第一纳米颗粒涂覆器连接至第一纳米颗粒源，并且所述第二纳米颗粒涂覆器连接至第二纳米颗粒源。
条款103：根据条款102所述的系统，其中所述第一纳米颗粒源不同于所述第二纳米颗粒源。
条款104：根据条款101至103中任一项所述的系统，包括与玻璃带路径的第二侧邻近的第三纳米颗粒涂覆器和第四纳米颗粒涂覆器。
条款105：根据条款104所述的系统，其中所述第三纳米颗粒涂覆器连接至第三纳米颗粒源，并且所述第四纳米颗粒涂覆器连接至第四纳米颗粒源。
条款106：根据条款104或105所述的系统，其中所述第三纳米颗粒源不同于所述第四纳米颗粒源。
条款107：根据条款88至106中任一项所述的系统，包括位于玻璃带路径的第一侧和/或第二侧邻近的至少一个气相沉积涂覆器。
条款108：一种制品，包括具有至少一个表面的基底和部分嵌入所述至少一个表面的纳米颗粒以形成摩擦调整表面。
条款109：根据条款108所述的制品，其中所述纳米颗粒具有比所述基底更低的摩擦系数。
条款110：根据条款108所述的制品，其中所述纳米颗粒具有比所述基底更高的摩擦系数。
条款111：一种制品，包括具有至少一个表面的基底以及与所述表面邻近的至少一个纳米颗粒区域。
条款112：根据条款111所述的制品，包括第一纳米颗粒区域和第二纳米颗粒区域。
条款113：一种OLED，包括：具有第一表面和第二表面的基底；电极；发射层；和另一个电极，其中所述基底包括与所述第一表面和/或所述第二表面邻近的至少一个纳米颗粒区域。
条款114：一种下拉系统，包括：具有第一侧和第二侧的玻璃带路径；以及位于玻璃带路径的第一侧和/或第二侧邻近的一个或多个纳米颗粒涂覆器。
条款115：根据条款114所述的系统，包括位于玻璃带路径的第一侧和/或第二侧邻近的至少一个气相沉积涂覆器。
本领域的普通技术人员将易于理解，在不脱离前面描述中所公开概念的情况下，可以对本发明进行修改。因此，本文详细描述的具体实施方案仅仅是说明性的而并不限制本发明的范围，本发明的范围由所附权利要求书及其任何和所有等同物的全部范围给出。

Claims (10)

1.一种浮槽涂覆系统，包括：
位于浮槽中的至少一个纳米颗粒涂覆器；以及
位于所述至少一个纳米颗粒涂覆器下游的至少一个气相沉积涂覆器，
其中所述至少一个纳米颗粒涂覆器包括：
罩壳；
纳米颗粒排放槽口，所述纳米颗粒排放槽口连接至纳米颗粒源和载送流体源用以从纳米颗粒源直接向玻璃带上沉积纳米颗粒；
位于所述纳米颗粒排放槽口上游的第一燃烧槽口，该第一燃烧槽口被配置为点燃第一火焰，其中所述第一火焰被配置为加热玻璃带的表面；和
第二燃烧槽口，该第二燃烧槽口被配置为点燃第二火焰，其中所述第二火焰被配置为加热玻璃带的表面以便在沉积纳米颗粒之后加热玻璃带的表面以使玻璃带的表面平滑,其中所述第一燃烧槽口连接至第一燃料源和第一氧化剂源，并且所述第二燃烧槽口连接至第二燃料源和第二氧化剂源，并且其中用于所述第一燃烧槽口和所述第二燃烧槽口的燃料和氧化剂流速被配置为彼此分别且独立地控制。
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述浮槽包括减薄区并且至少一个纳米颗粒涂覆器位于所述减薄区的上游。
3.根据权利要求1或2所述的系统，其中所述浮槽包括减薄区并且至少一个纳米颗粒涂覆器位于所述减薄区的下游。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述纳米颗粒源包括蒸发器。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述纳米颗粒源包括金属氧化物纳米颗粒。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述纳米颗粒排放槽口位于所述第一燃烧槽口和所述第二燃烧槽口之间。
7.根据权利要求1所述的系统，其包括第一纳米颗粒涂覆器和第二纳米颗粒涂覆器。
8.根据权利要求7所述的系统，其中所述第一纳米颗粒涂覆器连接至第一纳米颗粒源，并且所述第二纳米颗粒涂覆器连接至第二纳米颗粒源。
9.根据权利要求8所述的系统，其中所述第一纳米颗粒源不同于所述第二纳米颗粒源。
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一燃料源不同于所述第二燃料源。
CN201680072356.3A 2015-12-11 2016-12-09 涂覆系统和由此制造的制品 Active CN108367309B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810720561.7A CN108823528B (zh) 2015-12-11 2016-12-09 涂覆系统和由此制造的制品

Applications Claiming Priority (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201562266239P 2015-12-11 2015-12-11
US62/266,239 2015-12-11
US14/967,953 US11014118B2 (en) 2015-12-11 2015-12-14 Float bath coating system
US14/968,011 US10112208B2 (en) 2015-12-11 2015-12-14 Glass articles with nanoparticle regions
US14/967,981 US11213848B2 (en) 2015-12-11 2015-12-14 Nanoparticle coater
US14/967,953 2015-12-14
US14/967,981 2015-12-14
US14/968,011 2015-12-14
US14/968,039 2015-12-14
US14/968,039 US10112209B2 (en) 2015-12-11 2015-12-14 Glass drawdown coating system
PCT/US2016/065875 WO2017100607A1 (en) 2015-12-11 2016-12-09 Coating system and articles made thereby

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810720561.7A Division CN108823528B (zh) 2015-12-11 2016-12-09 涂覆系统和由此制造的制品

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108367309A CN108367309A (zh) 2018-08-03
CN108367309B true CN108367309B (zh) 2021-06-11

Family

ID=59018330

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680072356.3A Active CN108367309B (zh) 2015-12-11 2016-12-09 涂覆系统和由此制造的制品
CN201810720561.7A Active CN108823528B (zh) 2015-12-11 2016-12-09 涂覆系统和由此制造的制品

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810720561.7A Active CN108823528B (zh) 2015-12-11 2016-12-09 涂覆系统和由此制造的制品

Country Status (11)

Country Link
US (5) US11213848B2 (zh)
EP (1) EP3386645A1 (zh)
JP (4) JP6642927B2 (zh)
KR (2) KR102135520B1 (zh)
CN (2) CN108367309B (zh)
CA (1) CA3007961C (zh)
CO (1) CO2018005907A2 (zh)
MX (1) MX2018007063A (zh)
RU (2) RU2699611C1 (zh)
SG (2) SG10202004570PA (zh)
TW (1) TWI642638B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180062249A (ko) * 2016-11-30 2018-06-08 엘지디스플레이 주식회사 커버 윈도우 및 이를 포함하는 폴더블 표시장치
US20210305539A1 (en) * 2018-07-23 2021-09-30 Corning Incorporated Light extraction structure with high index nanoparticles for an organic light emitting diode
CN111604233B (zh) * 2020-06-10 2021-07-09 广东宸际内衣生物科技有限公司 一种彩色植绒布的植绒系统及其植绒方法
CN113277712A (zh) * 2021-04-19 2021-08-20 信义节能玻璃（芜湖）有限公司 一种基于浮法联线系统

Family Cites Families (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2920001A (en) * 1955-07-11 1960-01-05 Union Carbide Corp Jet flame spraying method and apparatus
DE1184287B (de) * 1957-04-18 1964-12-23 Davy & United Eng Co Ltd Duese zum Erzeugen eines flachen Schmieroelstrahls, insbesondere fuer die Bearbeitung von Blechbahnen
GB1283432A (en) * 1970-03-24 1972-07-26 Pilkington Brothers Ltd Improvements in or relating to the coating of glass
SE431196B (sv) * 1980-12-12 1984-01-23 Flemmert Goesta Lennart Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella finfordelad kiseloxid
JPS6022957A (ja) * 1983-07-20 1985-02-05 Japanese National Railways<Jnr> 肉盛溶射装置
DE3403894C1 (de) * 1984-02-04 1985-07-25 Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim Vorrichtung zum Beschichten eines metallischen Dentalprothesenteils und Verfahren zum Betrieb einer solchen Vorrichtung
US4924936A (en) 1987-08-05 1990-05-15 M&T Chemicals Inc. Multiple, parallel packed column vaporizer
FR2675139B1 (fr) 1991-04-09 1993-11-26 Saint Gobain Vitrage Internal Depot de couches pyrolysees a performances ameliorees et vitrage revetu d'une telle couche.
FR2677639B1 (fr) * 1991-06-14 1994-02-25 Saint Gobain Vitrage Internal Technique de formation par pyrolyse en voie gazeuse d'un revetement essentiellement a base d'oxygene et de silicium.
US5356451A (en) 1993-12-20 1994-10-18 Corning Incorporated Method and apparatus for vaporization of liquid reactants
TW359943B (en) 1994-07-18 1999-06-01 Silicon Valley Group Thermal Single body injector and method for delivering gases to a surface
US5858046A (en) * 1995-05-30 1999-01-12 Corning Incorporated Method of making an internally channeled glass article
FR2736632B1 (fr) 1995-07-12 1997-10-24 Saint Gobain Vitrage Vitrage muni d'une couche conductrice et/ou bas-emissive
US5762674A (en) * 1995-09-27 1998-06-09 Glasstech, Inc. Apparatus for coating glass sheet ribbon
US6507116B1 (en) * 1997-04-24 2003-01-14 International Business Machines Corporation Electronic package and method of forming
JP3501709B2 (ja) * 1999-02-25 2004-03-02 キヤノン株式会社 電子線装置用支持部材の製造方法および画像表示装置の製造方法
FI114548B (fi) 1999-10-19 2004-11-15 Liekki Oy Menetelmä materiaalin värjäämiseksi
US6526811B2 (en) 2000-02-23 2003-03-04 Jmic, Inc. Analytical apparatus for measurement of low concentration constituent, method of measurement and calibration using the same
US6828043B2 (en) * 2001-03-16 2004-12-07 David K. Sturley Luminous panel
WO2002081390A1 (en) * 2001-03-20 2002-10-17 Ppg Industries Ohio, Inc. Method and apparatus for forming patterned and/or textured glass and glass articles formed thereby
GB0130057D0 (en) * 2001-12-14 2002-02-06 Dunne Stephen T Liquid atomising system
EP1500634A4 (en) 2002-03-26 2008-01-23 Nippon Sheet Glass Co Ltd GLASS SUBSTRATE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
ATE370105T1 (de) 2002-06-28 2007-09-15 Prysmian Cavi Sistemi Energia Verfahren und vorrichtung zum verdampfen eines flüssigen vorlaüfers beim herstellen einer glasvorform
CN100335434C (zh) 2002-07-19 2007-09-05 Ppg工业俄亥俄公司 具有纳米级结构的玻璃制品及其生产方法
US9533913B2 (en) 2002-07-19 2017-01-03 Vitro, S.A.B. De C.V. Methods of making colored glass by surface modification
US7278353B2 (en) 2003-05-27 2007-10-09 Surface Treatment Technologies, Inc. Reactive shaped charges and thermal spray methods of making same
DE102004029911B4 (de) * 2003-06-20 2006-11-23 Innovent E.V. Technologieentwicklung Verfahren und Anordnung zur Herstellung anorganischer Schichten
KR20060017882A (ko) 2003-06-23 2006-02-27 쌩-고벵 글래스 프랑스 높은 기계적 및 광학적 성능의 조명 시스템
FR2856512A1 (fr) * 2003-06-23 2004-12-24 Saint Gobain Systeme eclairant a haute performance mecanique et optique
US7482220B2 (en) 2005-02-15 2009-01-27 Semiconductor Components Industries, L.L.C. Semiconductor device having deep trench charge compensation regions and method
CN101258027A (zh) * 2005-08-31 2008-09-03 纳幕尔杜邦公司 阳光控制层压体
KR20080078803A (ko) * 2005-10-17 2008-08-28 내셔날 리서치 카운실 오브 캐나다 코팅 및 분말의 반응성 분무 형성
RU2436882C2 (ru) 2006-02-23 2011-12-20 Мидвествако Корпорейшн Способ обработки субстрата
FI20060288A0 (fi) * 2006-03-27 2006-03-27 Abr Innova Oy Pinnoitusmenetelmä
FI121336B (fi) 2006-03-27 2010-10-15 Beneq Oy Hydrofobinen lasipinta
FI20060924A0 (fi) * 2006-10-20 2006-10-20 Beneq Oy Lasinvärjäämislaite ja menetelmä lasin värjäämiseksi
EA015999B1 (ru) * 2006-10-24 2012-01-30 Бенек Ой Устройство для получения наночастиц
FI20061014A0 (fi) * 2006-11-17 2006-11-17 Beneq Oy Diffuusiopinnoitusmenetelmä
FI122502B (fi) * 2007-12-20 2012-02-29 Beneq Oy Menetelmä ja laite lasin pinnoittamiseksi
US8795773B2 (en) 2008-03-13 2014-08-05 Guardian Industries Corp. Nano-particle loaded metal oxide matrix coatings deposited via combustion deposition
US20090233088A1 (en) 2008-03-13 2009-09-17 Lewis Mark A In situ nano-particle matrix loading of metal oxide coatings via combustion deposition
AU2009229329A1 (en) 2008-03-25 2009-10-01 Corning Incorporated Substrates for photovoltaics
US8231730B2 (en) * 2008-06-09 2012-07-31 Guardian Industries Corp. Combustion deposition burner and/or related methods
US20100126227A1 (en) * 2008-11-24 2010-05-27 Curtis Robert Fekety Electrostatically depositing conductive films during glass draw
FI20080675A0 (fi) 2008-12-23 2008-12-23 Beneq Oy Lasinpinnoitusmenetelmä ja -laite
DE102009007908A1 (de) * 2009-02-06 2010-08-12 Zylum Beteiligungsgesellschaft Mbh & Co. Patente Ii Kg Verfahren zur Herstellung eines Dünnschicht-Photovoltaik-Systems und Dünnschicht-Photovoltaik-System
GB0904803D0 (en) * 2009-03-20 2009-05-06 Univ London Coated substrate
US8864897B2 (en) * 2009-04-30 2014-10-21 Enki Technology, Inc. Anti-reflective and anti-soiling coatings with self-cleaning properties
FI20090319A0 (fi) * 2009-09-03 2009-09-03 Beneq Oy Prosessinsäätömenetelmä
FI122881B (fi) 2009-12-15 2012-08-15 Beneq Oy Menetelmä lasialustan valmistamiseksi
US10581020B2 (en) * 2011-02-08 2020-03-03 Vitro Flat Glass Llc Light extracting substrate for organic light emitting diode
RU2439199C2 (ru) 2010-01-18 2012-01-10 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Балтийский государственный технический университет "ВОЕНМЕХ" им. Д.Ф. Устинова (БГТУ "ВОЕНМЕХ") Способ формирования многослойного покрытия, содержащего наночастицы
RU2417902C1 (ru) 2010-04-27 2011-05-10 Елена Юрьевна Кутузова Изделие с декоративным покрытием, содержащим люминофоры (варианты)
FR2959244B1 (fr) * 2010-04-23 2012-06-29 Commissariat Energie Atomique Procede de preparation d'un revetement multicouche sur une surface d'un substrat par projection thermique.
RU2462536C1 (ru) 2011-05-11 2012-09-27 Государственный научный центр Российской Федерации - федеральное государственное унитарное предприятие "Исследовательский Центр имени М.В. Келдыша" Способ нанесения покрытий
CN104081456B (zh) * 2011-11-23 2018-07-03 康宁股份有限公司 用于保护玻璃板的气相沉积方法
JP2013115213A (ja) 2011-11-28 2013-06-10 Panasonic Idemitsu Oled Lighting Co Ltd 面状発光装置、照明装置、及び面状発光装置の製造方法
US8523418B2 (en) * 2011-12-01 2013-09-03 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. LED light bar and backlight module of liquid crystal display device
TWI593644B (zh) * 2012-05-09 2017-08-01 康寧公司 製造覆蓋玻璃的方法
CN102850894A (zh) * 2012-07-03 2013-01-02 杭州和合玻璃工业有限公司 一种减反射镀膜用复合溶胶及减反射镀膜光伏玻璃
US9335027B2 (en) 2013-01-02 2016-05-10 Massachusetts Institute Of Technology Methods and apparatus for transparent display using scattering nanoparticles
JP2014234487A (ja) 2013-06-05 2014-12-15 日本電気硝子株式会社 波長変換部材及び発光デバイス
DE102014102256A1 (de) 2014-02-21 2015-08-27 Osram Oled Gmbh Glasware, Glasware mit Leuchtstoff-Partikeln, Vorrichtung zum Herstellen einer Glasware, Verfahren zum Herstellen einer Glasware und Verfahren zum Herstellen einer Glasware mit Leuchtstoff-Partikeln

Also Published As

Publication number Publication date
SG10202004570PA (en) 2020-06-29
CA3007961A1 (en) 2017-06-15
RU2019119799A (ru) 2019-07-16
RU2718869C2 (ru) 2020-04-15
RU2019119799A3 (zh) 2019-10-30
US11014118B2 (en) 2021-05-25
US20220118474A1 (en) 2022-04-21
SG11201804751YA (en) 2018-07-30
US10112208B2 (en) 2018-10-30
JP2020109050A (ja) 2020-07-16
US20170168224A1 (en) 2017-06-15
CN108823528B (zh) 2020-08-11
TWI642638B (zh) 2018-12-01
RU2699611C1 (ru) 2019-09-06
MX2018007063A (es) 2018-08-24
KR20180085034A (ko) 2018-07-25
KR20180094006A (ko) 2018-08-22
TW201733928A (zh) 2017-10-01
US20170166476A1 (en) 2017-06-15
JP2021120343A (ja) 2021-08-19
JP2019501102A (ja) 2019-01-17
CN108823528A (zh) 2018-11-16
CO2018005907A2 (es) 2018-06-20
US11213848B2 (en) 2022-01-04
US10112209B2 (en) 2018-10-30
CN108367309A (zh) 2018-08-03
CA3007961C (en) 2020-09-29
EP3386645A1 (en) 2018-10-17
US20170165706A1 (en) 2017-06-15
US20170165703A1 (en) 2017-06-15
JP2019001710A (ja) 2019-01-10
JP6919097B2 (ja) 2021-08-18
KR102079463B1 (ko) 2020-02-19
KR102135520B1 (ko) 2020-07-17
JP6613345B2 (ja) 2019-11-27
JP6642927B2 (ja) 2020-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20220118474A1 (en) Nanoparticle coater
US11943960B2 (en) Light extracting substrate for organic light emitting diode
US20200295204A1 (en) Article with Transparent Conductive Oxide Coating
WO2017100607A1 (en) Coating system and articles made thereby
WO2016144869A1 (en) Optoelectronic device and method of making the same

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20191112

Address after: Pennsylvania, USA

Applicant after: Vetro Flat Glass Co., Ltd.

Address before: Nuevo Leon, Mexico

Applicant before: VITRO variable capital Limited by Share Ltd

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant