JP6612647B2 - 硬化性組成物 - Google Patents
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Description
本発明の他の目的は、高温条件で基板実装する際に、半導体シリコンチップに反りが生じるのを防止する反り防止層を有する半導体シリコンチップの製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、高温条件で基板実装する際に、半導体シリコンチップに反りが生じるのを防止する反り防止層を有する半導体シリコンチップを提供することにある。
本発明の他の目的は、前記反り防止層を有する半導体シリコンチップを備えた電子機器を提供することにある。
1.エポキシ化合物は硬化性に優れ、チップに損傷を与えない温和な温度で速やかに硬化物を形成することができること
2.エポキシ化合物の硬化物からなる樹脂層をチップの裏面に設けると、基板実装時の熱膨張により、チップに反りを生じさせる応力とは逆方向の応力を発生することにより、チップの反りを防止することができること(すなわち、反り防止効果を発揮すること)
3.エポキシ化合物の硬化物からなる樹脂層は250℃以上の高温域にガラス転移温度を有するため、鉛フリー半田を用いたリフロー半田付け付け処理の際の高温条件下でも、前記反り防止効果を発揮することができること
4.基板実装時に発生するチップの反りは、チップの厚みによって変化するものであるが、反り防止層の厚みと線膨張係数を制御することで対応できること
本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。
で表される化合物である前記の硬化性組成物を提供する。
工程1:半導体シリコンウェハの裏面に前記の硬化性組成物の塗膜を形成する
工程2:塗膜を硬化させて反り防止層を形成する
工程3:裏面に反り防止層が形成された半導体シリコンウェハを個片化する
本発明の硬化性組成物を使用して得られた前記反り防止層は、基板実装時に、熱膨張することにより、チップに反りを生じさせる応力とは逆方向の応力を発生して応力を相殺し、チップが反るのを防止することができる。
また、前記反り防止層は、鉛フリー半田を用いたリフロー半田付け処理温度(例えば、150〜250℃の高温)を超える高温域にガラス転移温度を有するため、前記反り防止層を有するチップを、鉛フリー半田を用いてリフロー半田付けしても、前記反り防止層が優れた反り防止効果を発揮することができる。
そのため、本発明の硬化性組成物の硬化物からなる反り防止層を裏面に有するチップは、鉛フリー半田を用いたリフロー半田付けにより効率よく基板実装を行うことができ、前記チップを有する電子機器を歩留まり良く製造することができる。
本発明の硬化性組成物は、硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)としてエポキシ化合物(A)を1種又は2種以上を含有する。前記エポキシ化合物(A)は、ホモポリマーのガラス転移温度(Tg)が250℃以上(好ましくは280℃以上、特に好ましくは300℃以上)の化合物である。
本発明の硬化性組成物はカチオン重合開始剤(B)を含有することが好ましい。カチオン重合開始剤(B)には光カチオン重合開始剤と熱カチオン重合開始剤が含まれる。
本発明の硬化性組成物は、上記成分以外にも必要に応じて他の成分(例えば、フィラー、重合禁止剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、消泡剤、溶剤、紫外線吸収剤、イオン吸着体、色材、蛍光体等)を1種又は2種以上含有していても良い。
例えば球状である場合、フィラーのメディアン径(d50)は、例えば0.1〜10μm、好ましくは0.1〜5μm、特に好ましくは0.1〜1μmである。
例えば球状以外の形状である場合、フィラーの最小径は、例えば0.1〜10μm、好ましくは0.1〜5μm、特に好ましくは0.1〜2μm、さらに好ましくは0.1〜1μmである。また、フィラーの最大径は、例えば0.1〜100μm、好ましくは0.1〜50μm、特に好ましくは0.1〜10μm、さらに好ましくは0.1〜5μmである。
本発明の硬化性組成物は、チップ裏面にチップの反りを防止する反り防止層を形成する為の硬化性組成物であり、硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)として上記エポキシ化合物(A)を少なくとも含有する。
本発明の反り防止層付き半導体シリコンチップ(以後、「反り防止層付きチップ」と称する場合がある)は、チップの裏面に上記硬化性組成物の硬化物からなる反り防止層を少なくとも1層有する。チップの基板実装時の反りの大きさはチップの厚みに依存し、チップが薄くなるほど反りが大きくなる傾向がある。そのため、反り防止層の組成や厚みは、チップの厚みに応じて適宜調整することが好ましい。
反り防止層のヤング率×反り防止層の線膨張係数×反り防止層の厚み/半導体シリコンチップの厚み1/3=1000〜2000(好ましくは1000〜1500、特に好ましくは1200〜1300)
工程1:半導体シリコンウェハの裏面に上記硬化性組成物の塗膜を形成する
工程2:塗膜を硬化させて反り防止層を形成する
工程3:裏面に反り防止層が形成された半導体シリコンウェハを個片化する
本発明の電子機器は、上記反り防止層付きチップを備えることを特徴とする。本発明の電子機器には、例えば、携帯電話、デジタルカメラ、スマートフォン、タブレット端末、電子辞書等の携帯型電子機器が含まれる。
尚、線膨張係数及び弾性率は下記方法で測定した。
線膨張係数(CTE):熱・応力・歪測定装置として、商品名「TMA/SS 6100」(SIIナノテクノロジー(株)製)を使用し、JIS K7197に準拠した方法で測定した。
ヤング率(弾性率):引張圧縮試験機として、商品名「TGI 100kN」(ミネベア製)を使用し、JIS K7161に準拠した方法(試験片寸法:縦5cm×横1.5cm×厚み0.1cm、試験速度:0.5mm/min)で測定した。
95重量%硫酸70g(0.68モル)と1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)55g(0.36モル)を撹拌混合して脱水触媒を調製した。
撹拌機、温度計、および脱水剤が充填され且つ保温された留出配管を具備した3Lのフラスコに、水添ビフェノール(=4,4’−ジヒドロキシビシクロヘキシル)1000g(5.05モル)、上記で調製した脱水触媒125g(硫酸として0.68モル)、プソイドクメン1500gを入れ、フラスコを加熱した。内温が115℃を超えたあたりから水の生成が確認された。さらに昇温を続けてプソイドクメンの沸点まで温度を上げ(内温162〜170℃)、常圧で脱水反応を行った。副生した水は留出させ、脱水管により系外に排出した。なお、脱水触媒は反応条件下において液体であり反応液中に微分散していた。3時間経過後、ほぼ理論量の水(180g)が留出したため反応終了とした。
反応終了後、反応器内の液について、10段のオールダーショウ型の蒸留塔を用い、プソイドクメンを留去した後、内部圧力10Torr(1.33kPa)、内温137〜140℃にて蒸留し、731gのビシクロヘキシル−3,3’−ジエンを得た。
(硬化性組成物の調製)
調製例1で得られた(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル10gに熱カチオン重合開始剤(スルホニウム塩系化合物、商品名「サンエイドSI−150L」、三新化学工業(株)製、以後「SI−150L」と称する場合がある)の50重量%シクロヘキサノン溶液を25mg(主成分含有量:12.5mg)添加して、自転・公転真空ミキサー(商品名「あわとり練太郎」、シンキー社製)を使用し、真空状態で2分間混練して硬化性組成物(1)を得た。
仮止め接着剤((株)ダイセル製開発品)でシリコン基材に固定され100μm厚に薄化された20mm角のTEGチップ(信頼性評価用シリコンチップ、ウォルツ社製)の裏面に、硬化性組成物(1)をスキージを使用して塗布した。その後、100℃で1時間、続いて150℃で2時間、更に200℃で1時間加熱処理を施して前記硬化性組成物(1)を硬化させて、反り防止層付きTEGチップ(1)(反り防止層厚み:25μm)を得た。硬化後に、230℃の熱スライド剥離によりシリコン基材から反り防止層付きTEGチップ(1)を剥がし、PGMEAで洗浄した。
反り防止層付きTEGチップ(1)を平板上に置いたときの、チップの中心部とエッジ部の平板からの高さの差を「反り」とした。平板の温度を室温(20℃)、100℃、200℃、又は250℃に制御し、それぞれの温度における「反り」を測定した。「反り」の数値が全ての温度において50μm以下のとき、反り防止効果の評価を「○」、いずれかの温度において50μmを超えるとき、反り防止効果の評価を「×」とした。
また、得られた硬化性組成物(1)をコの字型のテフロン(登録商標)スペーサーを介して、スライドガラスに挟んで硬化した。硬化条件は、100℃で1時間、続いて150℃で2時間、更に200℃で1時間である。得られた硬化物の、100℃、200℃、及び250℃における、線膨張係数(CTE)とヤング率を測定した。
(硬化性組成物の調製)
調製例1で得られた(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル10gとナノシリカ(球状フィラー、メディアン径(d50):0.5μm、商品名「アドマファインSO−C2」、(株)アドマテックス製)5gを自転・公転真空ミキサーを使用して真空状態で5分間×2回混練した。これに、SI−150Lの50重量%シクロヘキサノン溶液を25mg(主成分含有量:12.5mg)添加し、自転・公転真空ミキサーを使用して真空状態で2分間混練して硬化性組成物(2)を得た。
硬化性組成物(1)に代えて硬化性組成物(2)を使用した以外は実施例1と同様に行って、反り防止層付きTEGチップ(2)(反り防止層厚み:25μm)を得、実施例1と同様に反り評価と硬化物の物性測定を行った。
(硬化性組成物の調製)
調製例1で得られた(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル10gとグラフェン(平板状フィラー、最大径:100μm、最小径(厚み):約10nm、商品名「iGurafenα」、アイテック社製)1.0gを自転・公転真空ミキサーを使用して真空状態で5分間×2回混練した。更に前記グラフェン0.5gを追加して、自転・公転真空ミキサーを使用して真空状態で5分間×2回混練した。これに、SI−150Lの50重量%シクロヘキサノン溶液を25mg(主成分含有量:12.5mg)添加し、自転・公転真空ミキサーを使用して真空状態で2分間混練して硬化性組成物(3)を得た。
硬化性組成物(1)に代えて硬化性組成物(3)を使用し、塗布厚みを変更した以外は実施例1と同様に行って、反り防止層付きTEGチップ(3)(反り防止層厚み:15μm)を得、実施例1と同様に反り評価と硬化物の物性測定を行った。
(反り評価)
反り防止層を形成しないTEGチップについて、実施例と同様にして反り評価を行った。
(硬化性組成物の調製)
(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシルに代えてビスフェノールAタイプのエポキシ樹脂(商品名「エピクロン850S」、DIC社製、以後「エピクロン850S」と称する場合がある)を使用した以外は実施例1と同様にして硬化性組成物(4)を得た。
硬化性組成物(1)に代えて硬化性組成物(4)を使用し、塗布厚みを変更した以外は実施例1と同様に行って、反り防止層付きTEGチップ(4)(反り防止層厚み:30μm)を得、実施例1と同様に反り評価と硬化物の物性測定を行った。
(反り防止層の形成)、(反り評価)、(硬化物の物性測定)
硬化性組成物(1)に代えて硬化性組成物(4)を使用し、塗布厚みを変更した以外は実施例1と同様に行って、反り防止層付きTEGチップ(5)(反り防止層厚み:60μm)を得、実施例1と同様に反り評価と硬化物の物性測定を行った。
(硬化性組成物の調製)
(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシルに代えてエピクロン850Sを使用した以外は実施例2と同様にして硬化性組成物(5)を得た。
硬化性組成物(1)に代えて硬化性組成物(5)を使用し、塗布厚みを変更した以外は実施例1と同様に行って、反り防止層付きTEGチップ(6)(反り防止層厚み:30μm)を得、実施例1と同様に反り評価と硬化物の物性測定を行った。
実施例で得られた反り防止層付きTEGチップは、反り防止層を構成する硬化物のTgが300℃超であるため、20℃から250℃までの何れの温度においても反り量を極めて小さく抑制することができた。従って、本発明の硬化性組成物は、150〜250℃の高温条件下でチップに反りが生じるのを防止する反り防止層を形成する用途に好適に使用できることがわかった。
一方、比較例2〜4で得られた反り防止層付きTEGチップは、反り防止層を構成する硬化物のTgが130℃程度と低いため、Tgより低い100℃ではチップの反りをある程度防止することができたが、150〜250℃の高温環境下ではチップの反りを防止することができなかった。
Claims (6)
- 半導体シリコンチップの反りを防止する反り防止層を半導体シリコンチップの裏面に形成する為の硬化性組成物であって、硬化性化合物とカチオン重合開始剤を含有し、前記硬化性化合物として、下記式(a)
で表され、ホモポリマーのガラス転移温度が250℃以上であるエポキシ化合物(A)を含有し、前記エポキシ化合物(A)の含有量は、硬化性組成物に含まれる硬化性化合物全量の80重量%以上であり、前記カチオン重合開始剤の含有量は、硬化性化合物100重量部に対して0.1〜10.0重量部である硬化性組成物。 - 下記工程を有する反り防止層付き半導体シリコンチップの製造方法。
工程1:半導体シリコンウェハの裏面に請求項1に記載の硬化性組成物の塗膜を形成する
工程2:塗膜を硬化させて反り防止層を形成する
工程3:裏面に反り防止層が形成された半導体シリコンウェハを個片化する - 半導体シリコンチップの裏面に、請求項1に記載の硬化性組成物の硬化物からなる反り防止層を有する反り防止層付き半導体シリコンチップ。
- 半導体シリコンチップの裏面に、下記反り防止層を有する反り防止層付き半導体シリコンチップ。
反り防止層:硬化性化合物として、ホモポリマーのガラス転移温度が250℃以上であるエポキシ化合物(A)を含有する硬化性組成物の硬化物からなり、150〜250℃におけるヤング率(GPa)と150〜250℃における線膨張係数(ppm)と厚み(μm)の積を、半導体シリコンチップの厚み(μm)の3乗根で除した値が1000〜1300の範囲である - 請求項3又は4に記載の反り防止層付き半導体シリコンチップをリフロー半田付けにより基板に実装する工程を有する電子機器の製造方法。
- 請求項3又は4に記載の反り防止層付き半導体シリコンチップを備えた電子機器。
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