JP6597537B2 - 単結晶製造用坩堝及びシリコン単結晶製造装置 - Google Patents
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図2A〜図2Eは、本発明に係るカーボン製坩堝22と坩堝受け皿29の第1実施形態を示す図である。一体成形品からなるカーボン製坩堝22は、図2Aに示すように有底筒状とされ、全体として下へ凸のドーム状に形成された底部221と、底部221の外周縁部から上方へ立ち上がる円筒形状の直胴部222とを有する。底部221の外面(下面)は平坦面とされ、底部221の内面(上面)は下方へ凸の滑らかな湾曲面とされている。この湾曲面及び直胴部222の内面に沿って石英製坩堝21が嵌合される。そして、図2A及び図2Bに示すように、底部221の外面の中央領域には、2つの円形凹部からなる第1嵌合部223,224が機械加工により形成されている。
上記結果によれば、実施例1の偏芯量は、1.2mm〜1.9mmであるのに対し、比較例1の偏芯量は、1.3mm〜3.3mmであった。サンプルによっては、比較例1の偏芯量が小さいこともあるが、平均値を比較すると実施例1の偏芯量は比較例1の偏芯量に対して68%に低減している。また、実施例2の偏芯量は、1.1mm〜1.2mmであるのに対し、比較例2の偏芯量は、0.9mm〜1.7mmであった。全てのサンプルについて実施例2の偏芯量は比較例2の偏芯量に対して小さく、平均値を比較すると、実施例2の偏芯量は比較例2の偏芯量の79%に低減している。ちなみに、坩堝22を構成する材料に炭素繊維強化炭素複合材を用いた実施例1及び比較例1と、黒鉛を用いた実施例2及び比較例2を比べると、実施例1及び比較例1の偏芯量は、実施例2及び比較例2の偏芯量よりも大きい。これは、炭素繊維強化炭素複合材を用いた実施例1及び比較例1の方が、黒鉛を用いた実施例2及び比較例2より、その製法上の違いから加工精度が悪くなるため、寸法公差を大きくする必要があるからである。
図3A〜図3Dは、本発明に係る単結晶製造用坩堝の第2実施形態を示す図である。上述した第1実施形態では、第1嵌合部223,224及び第2嵌合部291,292は、カーボン製坩堝22の底部221の外面及び坩堝受け皿29の載置面290のそれぞれに点在して形成されているが、本実施形態では、第1嵌合部225及び第2嵌合部293の一の対は、カーボン製坩堝22の底部221及び坩堝受け皿29の載置面290のそれぞれの中央領域に形成され、第1嵌合部226及び第2嵌合部294の他の対は、カーボン製坩堝22の底部221及び坩堝受け皿29の載置面290のそれぞれの、前記一の対225,293を取り囲む位置に形成されている。
11…第1チャンバ
12…第2チャンバ
13…ガス導入口
14…ガス排出口
21…石英製坩堝
22…カーボン製坩堝
221…底部
222…直胴部
223,224,225,226…第1嵌合部
23…支持軸
24…駆動機構
25…ヒータ
26…保温筒
27…熱遮蔽部材
28…ブラケット
29…坩堝受け皿
290…載置面
291,292,293,294…第2嵌合部
31…ワイヤ
32…引上げ機構
41…磁場発生装置
M…シリコン融液
C…シリコン単結晶
S…種結晶
Claims (5)
- 単結晶の原料融液を収容する石英製坩堝を内部に収容し、底部の外面に複数の第1嵌合部が形成された、一体成形品からなるカーボン製坩堝と、
回転軸上に設けられ、前記カーボン製坩堝が載置され、その載置面に前記複数の第1嵌合部とそれぞれ嵌め合う複数の第2嵌合部が形成された坩堝受け皿とを備え、
前記第1嵌合部及び前記第2嵌合部の一方は、凸状に形成され、他方は凹状又は孔に形成され、
前記第1嵌合部及び前記第2嵌合部は、前記カーボン製坩堝の底部の外面及び前記坩堝受け皿の載置面のそれぞれに点在して形成されている単結晶製造用坩堝。 - 前記第1嵌合部及び前記第2嵌合部は、機械加工により形成されている請求項1に記載の単結晶製造用坩堝。
- 前記カーボン製坩堝は、炭素繊維強化炭素複合材料からなる請求項1又は2に記載の単結晶製造用坩堝。
- チャンバと、
前記チャンバ内に、回転昇降機構により回転可能及び昇降可能に設けられ、シリコン融液が収容される坩堝と、
前記坩堝に収容されたシリコン原料を融解するヒータと、
チョクラルスキー法によりシリコン単結晶を育成するために、前記坩堝内のシリコン融液に浸漬されて引き上げられる種結晶が先端に装着され、前記チャンバ内に回転可能及び昇降可能に設けられた引上げ機構と、を備え、
前記坩堝は、
前記シリコン融液を収容する石英製坩堝と、
前記石英製坩堝を内部に収容し、底部の外面に複数の第1嵌合部が形成された、一体成形品からなるカーボン製坩堝と、
前記回転昇降機構の回転軸上に設けられ、前記カーボン製坩堝が載置され、その載置面に前記複数の第1嵌合部とそれぞれ嵌め合う複数の第2嵌合部が形成された坩堝受け皿とを含み、
前記第1嵌合部及び前記第2嵌合部の一方は、凸状に形成され、他方は凹状又は孔に形成され、
前記第1嵌合部及び前記第2嵌合部は、前記カーボン製坩堝の底部の外面及び前記坩堝受け皿の載置面のそれぞれに点在して形成されているシリコン単結晶製造装置。 - 請求項4に記載のシリコン単結晶製造装置を用いてシリコン単結晶を製造するシリコン単結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016184220A JP6597537B2 (ja) | 2016-09-21 | 2016-09-21 | 単結晶製造用坩堝及びシリコン単結晶製造装置 |
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JP2018048041A JP2018048041A (ja) | 2018-03-29 |
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ID=61767200
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JP2016184220A Active JP6597537B2 (ja) | 2016-09-21 | 2016-09-21 | 単結晶製造用坩堝及びシリコン単結晶製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6597537B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114105641A (zh) * | 2021-11-02 | 2022-03-01 | 宝丰县五星石墨有限公司 | 一种光伏用石墨坩埚的生产工艺 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09221383A (ja) * | 1996-02-13 | 1997-08-26 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 単結晶引き上げ用黒鉛部品 |
WO2001038625A2 (fr) * | 1999-11-24 | 2001-05-31 | Snecma Moteurs | Procede de fabrication d'un bol en materiau composite thermostructural, bol tel qu'obtenu par le procede, et utilisation du bol comme support de creuset |
JP3617466B2 (ja) * | 2001-03-16 | 2005-02-02 | 三菱住友シリコン株式会社 | 単結晶引上げ装置 |
JP4018503B2 (ja) * | 2001-10-25 | 2007-12-05 | 東洋炭素株式会社 | 単結晶引き上げ用ルツボ |
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2016
- 2016-09-21 JP JP2016184220A patent/JP6597537B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018048041A (ja) | 2018-03-29 |
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