JP6584696B2 - 3−((2s,5s)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体の製造方法及びそのための中間体 - Google Patents

3−((2s,5s)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体の製造方法及びそのための中間体 Download PDF

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Description

本発明は、3−((2S,5S)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体の製造方法及びそのための中間体に係り、より詳しくは、3−((2S,5S)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体を簡易な工程によって高収率で製造する方法及びそのために用いられる中間体に関する。
3−((2S,5S)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体は、下記の化学式1で表される構造を有する化合物であって、抗癌活性を持つ下記の化学式2で表されるハリコンドリンB(Halichondrin B)及び下記の化学式3で表されるエリブリンメシル酸塩(Eribulin mesylate)の製造に際してC14−C23部分のための中間体として有効に用いられている[米国登録特許第5,436,238号及び韓国登録特許第10−1434673号参照]。
このような化学式1で表される3−((2S,5S)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体の製造のためにこれまで様々な合成法が報告されているが、大半の場合、合成経路が非常に長くて収率が低いという問題点がある。
例えば、韓国登録特許第10−1434673号で開示された製造方法の場合は、オゾン分解反応(Ozonolysis)、水素化反応(Hydrogenation)、そして繰り返しの保護化及び脱保護化反応を経ることから非効率的で且つ反応段階が長いため工業化が困難であるという問題点がある。
また、WO2014/183211 A1には、下記の反応式1で表すような合成段階を経て化学式1で表される3−((2S,5S)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体を製造可能であることが開示されている。
しかし、前記反応式1で生成される化学式6aで表される化合物は、フラン環の2位において低い立体選択性でエピマーが形成され分離し難いという問題点がある。
したがって、化学式1で表される3−((2S,5S)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体をより簡易に且つ高収率で製造可能な方法の開発が必要である。
本発明者らは、3−((2S,5S)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体の製造に際して前記した問題点を解決すべく鋭意研究検討を重ねた結果、中間体としてトリアゾール化合物を用いて前記目的化合物をより簡易な工程によって高収率で製造可能であることを見出し、本発明を完成するように至った。
したがって、本発明の目的は、3−((2S,5S)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体を簡易に且つ高収率で製造する方法を提供することである。
本発明の他の目的は、前記製造方法に用いられる中間体を提供することである。
本発明の一実施形態は、下記の化学式1で表される3−((2S,5S)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体の製造方法に関するものであって、本発明の製造方法は
(i)下記の化学式4で表される化合物を臭化アリルと反応させて、下記の化学式5で表される化合物を収得する段階;
(ii)前記化学式5で表される化合物をアリールスルホニルアジドと反応させて、下記の化学式6で表されるトリアゾール化合物を収得する段階;
(iii)前記化学式6で表されるトリアゾール化合物を脱窒素化及び再配列反応させた後、加水分解反応させて、下記の化学式7で表されるテトラヒドロフラン化合物を収得する段階;
(iv)前記化学式7で表されるテトラヒドロフラン化合物をウィッティヒ(Wittig)反応させて、下記の化学式8で表される化合物を収得する段階;
(v)前記化学式8で表される化合物を水素化ホウ素添加反応させた後、酸化反応させて、下記の化学式9で表される化合物を収得する段階;及び
(vi)前記化学式9で表される化合物のヒドロキシ基を酸化反応させる段階を含む。
前記式中、
Rは、C−Cのアルキル基で置換または非置換のアリールスルホニル基、特に、p−トルエンスルホニルを示し、PGは、保護基(protecting group)、特に、t−ブチルジフェニルシリル、テトラヒドロピラニル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、またはt−ブチルジメチルシリルを示す。
本明細書において用いられるC−Cのアルキル基は、炭素数1〜6個から構成された直鎖状または分岐状の炭化水素を意味し、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシルなどが含まれるが、これらに限定されるものではない。
本明細書において用いられるアリールスルホニル基はアリール基が置換されたスルホニル基(−SO−)を意味し、前記アリール基は芳香族基とヘテロ芳香族基及びそれらの部分的に還元された誘導体をいずれも含む。前記芳香族基は5員〜15員の単純または縮合環型であり、ヘテロ芳香族基は酸素、硫黄または窒素を一つ以上含む芳香族基を意味する。代表的なアリール基の例としては、フェニル、ナフチル、ピリジニル(pyridinyl)、フラニル(furanyl)、チオフェニル(thiophenyl)、インドリル(indolyl)、キノリニル(quinolinyl)、イミダゾリニル(imidazolinyl)、オキサゾリル(oxazolyl)、チアゾリル(thiazolyl)、テトラヒドロナフチルなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
以下、本発明の製造方法について下記の反応式2を参照でより詳しく説明する。なお、下記の反応式2で表された方法は、代表的に用いられた方法を例示したものに過ぎず、反応試薬や反応条件などは場合に応じて適宜変更され得る。
〔第1段階:化学式5で表される化合物の合成〕
化学式5で表される化合物は、化学式4で表される化合物を塩基の存在下で臭化アリルと反応させて収得することができる。
前記塩基としては、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミドなどが使用可能であり、特に、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミドが好適である。
また、前記反応は、触媒としてn−テトラブチルアンモニウムヨージドの存在下で行われていてよい。
このとき、反応温度は0〜25℃が好適であり、且つ反応時間は3〜6時間が好ましい。
反応溶媒としては、反応に影響を与えない極性溶媒が使用可能であり、具体的には、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、トルエンなどが用いられてよく、特に、ジメチルホルムアミドが好ましい。
一方、出発物質として用いられた化学式4で表される化合物は、公知の方法[参考文献:Org.Lett.2005、7、19、4083−4086;Tetrahedron 2003、59、5861−5868]に従って容易に合成して得られ、または商業的に容易に入手することができる。
〔第2段階:化学式6で表される化合物の合成〕
化学式6で表されるトリアゾール化合物は、化学式5で表される化合物を塩基の存在下でアリールスルホニルアジド(RN)と反応させて収得することができる。
前記塩基としては、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、メチルリチウムなどが使用可能であり、特に、n−ブチルリチウムが好適である。
このとき、反応温度は−78〜−20℃が好適であり、且つ反応時間は30分〜4時間が好ましい。
反応溶媒としては、反応に影響を与えない極性溶媒が使用可能であり、具体的には、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、トルエンなどが用いられてよく、特に、テトラヒドロフランが好ましい。
〔第3段階:化学式7で表される化合物の合成〕
化学式7で表される化合物は、化学式6で表されるトリアゾール化合物を脱窒素化及び再配列反応させた後、加水分解反応させて収得することができる。
前記脱窒素化及び再配列反応は、下記の反応式3で表すように、ロジウム触媒の存在下で連続的に行われてよく、このような反応によって立体選択的に(stereoselectively)テトラヒドロフラン環化合物を合成することができる。したがって、ラセミ体を分離する困難なく、高収率で化学式1で表される化合物を製造することができる。
前記ロジウム触媒としては、ジロジウム(II)テトラアセテート、ジロジウム(II)カルボキシレート、ジロジウム(II)カルボアミダートなどが使用可能であり、特に、ジロジウム(II)テトラアセテートが好適である。
前記脱窒素化及び再配列反応は、還流条件下で0.5〜2時間行うのが好ましい。
前記脱窒素化及び再配列反応によって生成されたイミン化合物をアルミナ(Al)の存在下で加水分解反応させて、化学式7で表される化合物を収得する。
前記加水分解反応は、常温で0.5〜1時間行うのが好ましい。
前記脱窒素化及び再配列反応と加水分解反応の反応溶媒としては、反応に影響を与えない極性溶媒が使用可能であり、具体的には、トルエン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライドなどが用いられてよく、特に、トルエンが好ましい。
〔第4段階:化学式8で表される化合物の合成〕
化学式8で表される化合物は、化学式7で表される化合物をウィッティヒ(Wittig)反応させて収得することができる。
前記ウィッティヒ反応は、メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド(MePPhBr)及びカリウムt−ブトキシド(KOtBu)を用いて行われてよい。
このとき、反応温度は0〜10℃が好適であり、且つ反応時間は1〜2時間が好ましい。
反応溶媒としては、反応に影響を与えない極性溶媒が使用可能であり、具体的には、トルエン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライドなどが用いられてよく、特に、テトラヒドロフランが好ましい。
〔第5段階:化学式9で表される化合物の合成〕
化学式9で表される化合物は、化学式8で表される化合物を水素化ホウ素添加反応させた後、酸化反応させて収得することができる。
前記水素化ホウ素添加反応は、ジシアミルボラン、9−ボラビシクロ[3.3.1]ノナンなどを用いて行われてよく、特に、ジシアミルボランが好適である。
このとき、反応温度は−20〜−10℃が好適であり、且つ反応時間は30分〜3時間が好ましい。
前記酸化反応は、塩基の存在下で過酸化水素、ナトリウムペルボラートなどを用いて行われてよく、特に、過酸化水素が好適である。
前記塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが使用可能であり、特に、水酸化ナトリウムが好適である。
このとき、反応温度は15〜25℃が好適であり、且つ反応時間は4〜15時間が好ましい。
反応溶媒としては、反応に影響を与えない極性溶媒が使用可能であり、具体的には、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、トルエンなどが用いられてよく、特に、テトラヒドロフランが好ましい。
〔第6段階:化学式1で表される化合物の合成〕
最終目的化合物である化学式1で表される化合物は、化学式9で表される化合物のヒドロキシ基を酸化反応させて製造することができる。
前記酸化反応は、デス・マーチン試薬(Dess−Martin periodinane)、スワーン酸化反応(Swern oxidation)、コリンズ試薬(Collins reagent)、ピリジニウムジクロメート(PDC)、フィッツナー・モファット酸化反応(Pfitzner−Moffatt oxidation)、パリック・デーリング酸化反応(Parikh−Doering oxidation)、レイ酸化反応(Ley oxidation)などを用いて行われてよく、特に、デス・マーチン試薬を用いるのが好適である。
このとき、反応温度は15〜30℃が好適であり、且つ反応時間は1〜4時間が好ましい。
反応溶媒としては、反応に影響を与えない極性溶媒が使用可能であり、具体的には、メチレンクロライド、テトラヒドロフラン、トルエンなどが用いられてよく、特に、メチレンクロライドが好ましい。
本発明の一実施形態は、化学式1で表される化合物の製造中間体である下記の化学式6で表される化合物に関するものである。
前記式中、
Rは、C−Cのアルキル基で置換または非置換のアリールスルホニル基、特に、p−トルエンスルホニルを示し、PGは、保護基(protecting group)、特に、t−ブチルジフェニルシリル、テトラヒドロピラニル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、またはt−ブチルジメチルシリルを示す。
本発明の一実施形態は、前記化学式6で表される化合物の製造方法に関するものであって、本発明の製造方法は、
(i)下記の化学式4で表される化合物を臭化アリルと反応させて、下記の化学式5で表される化合物を収得する段階;及び
(ii)前記化学式5で表される化合物をアリールスルホニルアジドと反応させる段階を含む。
前記式中、
Rは、C−Cのアルキル基で置換または非置換のアリールスルホニル基、特に、p−トルエンスルホニルを示し、PGは、保護基(protecting group)、特に、t−ブチルジフェニルシリル、テトラヒドロピラニル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、またはt−ブチルジメチルシリルを示す。
前記化学式6で表される化合物の製造方法に関する詳細な説明は、化学式1で表される化合物の製造方法に関して前述した第1段階及び第2段階と同様であるため、重複を避けるために具体的な説明を省略する。
本発明の一実施形態は、前記化学式1で表される化合物の製造方法に関するものであって、本発明の製造方法は、
(iii)下記の化学式6で表されるトリアゾール化合物を脱窒素化及び再配列反応させた後、加水分解反応させて、下記の化学式7で表されるテトラヒドロフラン化合物を収得する段階;
(iv)前記化学式7で表されるテトラヒドロフラン化合物をウィッティヒ(Wittig)反応させて、下記の化学式8で表される化合物を収得する段階;
(v)前記化学式8で表される化合物を水素化ホウ素添加反応させた後、酸化反応させて、下記の化学式9で表される化合物を収得する段階;及び
(vi)前記化学式9で表される化合物のヒドロキシ基を酸化反応させる段階を含む。
前記式中、
Rは、C−Cのアルキル基で置換または非置換のアリールスルホニル基、特に、p−トルエンスルホニルを示し、PGは、保護基(protecting group)、特に、t−ブチルジフェニルシリル、テトラヒドロピラニル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、またはt−ブチルジメチルシリルを示す。
前記製造方法に関する詳細な説明は、化学式1で表される化合物の製造方法に関して前述した第3段階〜第6段階と同様であるため、重複を避けるために具体的な説明を省略する。
本発明の製造方法によれば、化学式6で表されるトリアゾール化合物を中間体として用い、化学式1で表される3−((2S,5S)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体を簡易に且つ高収率で製造可能である。
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明することにする。なお、これらの実施例は、単に本発明を説明するためのものに過ぎず、本発明の範囲がこれらの実施例に限定されるものではないことは当業者にとって自明である。
〔実施例1:化学式5で表される化合物の合成〕
(4S)−7−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)1−ヘプチン−4−オール(6.74g)をN,N−ジメチルホルムアミド(167ml)に溶解し反応液を0℃に冷却した。反応液にナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド(27.58ml)、臭化アリル(2.46ml)、n−テトラブチルアンモニウムヨージド(2.08g)をこの順に投入し、反応液を徐々に常温に昇温して6時間撹拌した。反応液に飽和アンモニウムクロライド水溶液を投入して反応を終結し、エチルエーテルで抽出した。有機層を10wt%リチウムクロライドで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮した。生成物をシリカゲルコラムクロマトグラフィーにて精製して、黄色オイルの(4S)−4−(アリルオキシ)−7−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)1−ヘプチン(6.56g、87.7%)を収得した。
H NMR(300MHz、CDCl)δ=7.68−7.65(m、4H)、7.42−7.34(m、6H)、5.88−5.84(m、1H)、5.29−5.22(dd、J=17.1Hz、1H)、5.16−5.12(dd、J=10.4、1H)、4.07−4.05(dd、1H)、3.98−3.96(dd、1H)、3.70(t、J=5.7Hz、2H)、3.48(m、1H)、2.42−2.36(m、2H)、1.97(t、J=3.0Hz、1H)、1.70−1.63(m、4H)、1.05(s、9H)。
〔実施例2:化学式6で表される化合物の合成〕
実施例1で収得した(4S)−4−(アリルオキシ)−7−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)1−ヘプチン(21g)をテトラヒドロフラン(65ml)に溶解した。反応液を−78℃に冷却し、n−ブチルリチウム(27.6ml、1.93Mヘキサン溶液)を滴加投入した。10分間撹拌後、p−トルエンスルホニルアジド(103.4ml、11〜15w/w%トルエン溶液)を滴加投入し、−78℃で3時間撹拌した。反応液に飽和アンモニウムクロライド水溶液を投入して反応を終結した。反応液を常温に昇温した後、エチルアセテートを投入して抽出した。有機層を精製水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮した。生成物をシリカゲルコラムクロマトグラフィーにて精製して、黄色オイルの(1S)−5−(1−アリルオキシ)−5−((t−ブチルジフェニルシリル)オキシ)ブチル)−1−トシル−1H−1,2,3−トリアゾール(25.4g、81.5%)を収得した。
H NMR(300MHz、CDCl)δ=7.95(d、J=8.4Hz、2H)、7.66(d、J=5.7Hz、4H)、7.49(s、1H)、7.43−7.33(m、8H)、5.79−5.66(m、1H)、5.18−5.07(m、2H)、3.96−3.77(m、2H)、3.68−3.62(m、3H)、3.12(d、J=6.0Hz、2H)、2.34(s、3H)、1.65−1.63(m、4H)、0.15(s、9H)。
〔実施例3:化学式7で表される化合物の合成〕
実施例2で収得した(1S)−5−(1−アリルオキシ)−5−((t−ブチルジフェニルシリル)オキシ)ブチル)−1−トシル−1H−1,2,3−トリアゾール(1.4g)をトルエン(80ml)に溶解し、ジロジウム(II)テトラアセテート(0.053g)を投入した。反応液を昇温して1時間還流撹拌した。反応液を常温に冷却し、アルミナ(23.7g、水分含量6wt%)を投入して常温で1時間撹拌した。生成物をシリカゲルコラムクロマトグラフィーにて精製して、無色オイルの(2S,5S)−2−アリル−5−(3−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)プロピル)ジヒドロフラン−3(2H)−オン(0.77g、78.6%)を収得した。
H NMR(300MHz、CDCl)δ=7.67−7.64(m、4H)、7.42−7.35(m、6H)、5.87−5.74(m、1H)、5.17−5.08(m、2H)、4.39−4.30(m、1H)、4.00−3.98(m、1H)、3.70(t、J=6.0Hz、2H)、2.57−2.15 (m、4H)、1.80−1.56(m、4H)、1.05(s、9H)。
〔実施例4:化学式8で表される化合物の合成〕
メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド(3.8g)をテトラヒドロフラン(22.5ml)に投入し、反応液を0℃以下に冷却した。反応液にカリウムt−ブトキシド(1.2g)を投入し、0℃で1.5時間撹拌した。実施例3で収得した(2S,5S)−2−アリル−5−(3−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)プロピル)ジヒドロフラン−3(2H)−オン(1.5g)をテトラヒドロフラン(7.5ml)で希釈して反応液に滴加投入した後、0℃で1時間撹拌した。反応液に精製水(15ml)を滴加投入して反応を終結した後、反応液を常温に昇温した。反応液にエチルアセテートを投入して抽出した。有機層を精製水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮した。生成物にトルエンとヘプタンを投入して結晶化し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して黄色オイルの(3−((2S,5S)−5−アリル−4−メチレンテトラヒドロフラン−2−イル)プロポキシ)t−ブチルジフェニルシラン(1.55g)を収得した。収得した生成物をさらに精製せずに次の反応で用いた。
〔実施例5:化学式9で表される化合物の合成〕
実施例4で収得した(3−((2S,5S)−5−アリル−4−メチレンテトラヒドロフラン−2−イル)プロポキシ)t−ブチルジフェニルシラン(0.3g)をテトラヒドロフラン(6ml)に投入し、反応液を−20℃以下に冷却した。反応液を−20℃以下に保持しながら、これにジシアミルボラン(17.1ml、0.5Mテトラヒドロフラン溶液)を30分置きに6回分割して滴加投入した。反応液を20℃以下に保持しながら、これに3M水酸化ナトリウム水溶液(3ml)と35%過酸化水素(3ml)をこの順に滴加投入した。反応液を常温で15時間撹拌した。反応液にエチルアセテートを投入して抽出し、有機層を塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮した。生成物をシリカゲルコラムクロマトグラフィーにて精製して、黄色オイルの3−((2S,5S)−3−メチレン−5−(3−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)プロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール(0.24g、77.4%)を収得した。
H NMR(300MHz、CDCl)δ=9.76(t、1H)、7.67−7.64(m、4H)、7.39−7.37(m、6H)、5.01(d、J=2.1Hz、1H)、4.86(q、J=2.1Hz、1H)、4.39(d、J=8.4、1H)、4.04−4.01(m、1H)、3.69−3.63(m、4H)、2.64(dd、1H)、2.57(t、1H)、2.25(dd、1H)、1.72−1.56(m、8H)、1.04(s、9H)。
〔実施例6:化学式1で表される化合物の合成〕
実施例5で収得した3−((2S,5S)−3−メチレン−5−(3−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)プロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール(50mg)をジクロロメタン(2ml)に溶解した。反応液に重炭酸ナトリウム(20mg)、デス・マーチンペルヨージナン(0.11g)を投入し、常温で1時間撹拌した。反応液に25%チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和重炭酸ナトリウム水溶液を投入して反応を終結した後、抽出した。有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮して、黄色オイルの生成物の3−((2S,5S)−3−メチレン−5−(3−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)プロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパナール(46mg、96.4%)を収得した。
H NMR(300MHz、CDCl)δ=7.67−7.64(m、4H)、7.40−7.37(m、6H)、4.99(d、J=2.1Hz、1H)、4.85(d、J=1.8Hz、1H)、4.41(m、1H)、3.98−3.96(m、1H)、3.69−3.66(m、2H)、2.62(dd、1H)、2.54−2.45(m、2H)、2.26(dd、1H)、1.96−1.91(m、1H)、1.85−1.80(m、1H)1.63−1.56(m、4H)、1.04(s、9H)。

Claims (12)

  1. (i)下記の化学式4で表される化合物を臭化アリルと反応させて、下記の化学式5で表される化合物を収得する段階;
    (ii)前記化学式5で表される化合物をアリールスルホニルアジドと反応させて、下記の化学式6で表されるトリアゾール化合物を収得する段階;
    (iii)前記化学式6で表されるトリアゾール化合物を脱窒素化及び再配列反応させた後、加水分解反応させて、下記の化学式7で表されるテトラヒドロフラン化合物を収得する段階;
    (iv)前記化学式7で表されるテトラヒドロフラン化合物をウィッティヒ(Wittig)反応させて、下記の化学式8で表される化合物を収得する段階;
    (v)前記化学式8で表される化合物を水素化ホウ素添加反応させた後、酸化反応させて、下記の化学式9で表される化合物を収得する段階;及び
    (vi)前記化学式9で表される化合物のヒドロキシ基を酸化反応させる段階を含む、下記の化学式1で表される3−((2S,5S)−4−メチレン−5−(3−オキソプロピル)テトラヒドロフラン−2−イル)プロパノール誘導体の製造方法。







    前記式中、
    Rは、C−Cのアルキル基で置換または非置換のアリールスルホニル基を示し、
    PGは、保護基(protecting group)を示す。
  2. Rがp−トルエンスルホニルであり、
    PGがt−ブチルジフェニルシリルである、請求項1に記載の製造方法。
  3. 段階(i)の反応がナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド及びn−テトラブチルアンモニウムヨージドの存在下で行われる、請求項1に記載の製造方法。
  4. 段階(ii)の反応がn−ブチルリチウムの存在下で行われる、請求項1に記載の製造方法。
  5. 段階(iii)における脱窒素化及び再配列反応がロジウム触媒の存在下で行われる、請求項1に記載の製造方法。
  6. 段階(iii)における加水分解反応がアルミナ(Al)の存在下で行われる、請求項1に記載の製造方法。
  7. 下記の化学式6で表される化合物。

    前記式中、
    Rは、C−Cのアルキル基で置換または非置換のアリールスルホニル基を示し、
    PGは、t−ブチルジフェニルシリル、テトラヒドロピラニル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、またはt−ブチルジメチルシリルを示す。
  8. Rがp−トルエンスルホニルであり、PGがt−ブチルジフェニルシリルである、請求項7に記載の化合物。
  9. (i)下記の化学式4で表される化合物を臭化アリルと反応させて、下記の化学式5で表される化合物を収得する段階;及び
    (ii)前記化学式5で表される化合物をアリールスルホニルアジドと反応させる段階を含む、下記の化学式6で表される化合物の製造方法。



    前記式中、
    Rは、C−Cのアルキル基で置換または非置換のアリールスルホニル基を示し、
    PGは、保護基(protecting group)を示す。
  10. Rがp−トルエンスルホニルであり、
    PGがt−ブチルジフェニルシリルである、請求項9に記載の製造方法。
  11. (iii)下記の化学式6で表されるトリアゾール化合物を脱窒素化及び再配列反応させた後、加水分解反応させて、下記の化学式7で表されるテトラヒドロフラン化合物を収得する段階;
    (iv)前記化学式7で表されるテトラヒドロフラン化合物をウィッティヒ(Wittig)反応させて、下記の化学式8で表される化合物を収得する段階;
    (v)前記化学式8で表される化合物を水素化ホウ素添加反応させた後、酸化反応させて、下記の化学式9で表される化合物を収得する段階;及び
    (vi)前記化学式9で表される化合物のヒドロキシ基を酸化反応させる段階を含む、下記の化学式1で表される化合物の製造方法。





    前記式中、
    Rは、C−Cのアルキル基で置換または非置換のアリールスルホニル基を示し、
    PGは保護基(protecting group)を示す。
  12. Rがp−トルエンスルホニルであり、PGがt−ブチルジフェニルシリルである、請求項11に記載の製造方法。
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