JP6578104B2 - 銀ナノワイヤパターンを有する部材およびその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1実施形態に係わる銀ナノワイヤパターンの製造方法を説明する断面構成図であり、図1(a)は、レジスト形成工程P1後を示す図であり、図1(b)は、パターニング工程P2後を示す図であり、図1(c)は、パターン形成工程P3後を示す図であり、図1(d)は、透明層形成工程P4後を示す図であり、図1(e)は、ピーリング工程P5後を示す図である。図2は、パターン形成工程P3を説明する断面構成図であり、図2(a)は、レジスト膜R1及び開口部1kにインクNKが塗布された状態を示し、図2(b)は、スキージSKでインクNKを開口部1kに掻き落とす途中の状態を示し、図2(c)は、パターン形成工程P3後の状態を示している。図3は、パターン形成工程P3中の実例を示した電子顕微鏡写真であり、図3(a)は、パターニング工程P2後のレジスト膜R1及び開口部1kにインクNKが塗布された状態を示し、図3(b)は、図3(a)に示すT部分を拡大したものである。なお、図3(a)に示すレジスト膜R1及び開口部1kの基材19の表面は、インクNKに全て覆われている。
図4は、本発明の第1実施形態に係わる銀ナノワイヤパターンの製造方法における変形例1を示した断面模式図である。上記第1実施形態のパターニング工程P2では、レーザ光を用いてレジスト膜R1に開口部1kを形成したが、これに限るものではない。例えば、フォトリソグラフィー法を用いて、図4に示すように、開口部C1kを有したレジスト膜CR1を形成しても良い。この場合、レジスト形成工程P1とパターニング工程P2が同時に行われることになる。また、この際には、レジスト膜CR1の断面形状が逆テーパー形状であるのが好ましい。これにより、図4に示すように、レジスト膜CR1の断面形状に沿ってインクNKが塗布されておらず、レジスト膜CR1のエッジ部C1eにおける銀ナノワイヤAG2(図示していない)の切断が容易に行われる。
上記第1実施形態の透明層形成工程P4では、透明膜13として、好適に透明導電性高分子を用いたが、これに限るものではなく、例えば透明な絶縁膜でも良い。
上記第1実施形態では、パターン形成工程P3とピーリング工程P5との間に、透明層形成工程P4を好適に行ったが、この透明層形成工程P4を省略しても、充分な効果を奏する。
1k、C1k 開口部
12 銀ナノワイヤ膜
AG2 銀ナノワイヤ
B2 バインダ
13 透明膜
19 基材
NK インク
SK スキージ
P1 レジスト形成工程
P2 パターニング工程
P3 パターン形成工程
P4 透明層形成工程
P5 ピーリング工程
Claims (5)
- 基材上に、硬化後に前記基材から物理的に引き剥がし可能なレジスト膜を形成するレジスト形成工程と、
前記レジスト膜に開口部を形成するパターニング工程と、
前記開口部を含む領域に銀ナノワイヤ膜を形成するパターン形成工程と、
前記レジスト膜を引き剥がして除去することにより、前記開口部に対応する領域に銀ナノワイヤパターンを形成するピーリング工程と、を有し、
前記パターン形成工程と前記ピーリング工程の間において、
前記開口部内の前記銀ナノワイヤ膜上に透明膜を形成する工程を有することを特徴とする銀ナノワイヤパターンの形成方法。 - 前記パターン形成工程では、銀ナノワイヤがバインダ中に分散したインクを用い、
前記インクを前記開口部に落とし込むようにしてスキージで塗布することを特徴とする請求項1に記載の銀ナノワイヤパターンの形成方法。 - 前記透明膜が透明導電性高分子であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の銀ナノワイヤパターンの形成方法。
- 基材と、
バインダに銀ナノワイヤが分散された構造を有する銀ナノワイヤ膜が前記基材上にパターン形成されてなる銀ナノワイヤーパターンと、
前記銀ナノワイヤパターンの前記銀ナノワイヤ膜上に形成された透明膜と、を有し、
前記透明膜は透明導電性高分子の皮膜であり、
前記銀ナノワイヤ膜および前記透明膜は、前記銀ナノワイヤパターンに対応して、前記基材上に間隔を開けて配置されていることを特徴とする銀ナノワイヤパターンを有する部材。 - 前記透明導電性高分子は、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸の混合体を含むことを特徴とする請求項4に記載の銀ナノワイヤパターンを有する部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Country | Link |
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JP (1) | JP6578104B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3587884B2 (ja) * | 1994-07-21 | 2004-11-10 | 富士通株式会社 | 多層回路基板の製造方法 |
JP4644882B2 (ja) * | 2005-05-30 | 2011-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 配線基板製造方法、配線基板、吐出ヘッド及び画像形成装置 |
KR100922810B1 (ko) * | 2007-12-11 | 2009-10-21 | 주식회사 잉크테크 | 흑화 전도성 패턴의 제조방법 |
WO2010082429A1 (ja) * | 2009-01-16 | 2010-07-22 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | パターン電極の製造方法及びパターン電極 |
JP2010205836A (ja) * | 2009-03-02 | 2010-09-16 | Fujikura Ltd | フレキシブルプリント基板の製造方法 |
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