JP6573845B2 - 極低温冷凍機 - Google Patents

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Description

本発明は、極低温冷凍機に関する。
ギフォード・マクマホン(Gifford-McMahon;GM)冷凍機に代表される極低温冷凍機は、作動ガス(冷媒ガスともいう)の膨張機と圧縮機を有する。膨張機はたいてい、駆動手段によって軸方向に往復移動するディスプレーサとこれに内蔵された蓄冷器を有する。ディスプレーサは、その往復移動を案内するシリンダに収容されている。シリンダに対するディスプレーサの相対移動により両者の間に形成される可変容積が、作動ガスの膨張室として用いられる。膨張室の容積変化と圧力変化とを適切に同期させることによって、膨張機は寒冷を発生させることができる。
特開2014−194291号公報
ディスプレーサの駆動手段を収容しうるハウジングが、膨張室と軸方向反対側でシリンダに固定されている。ディスプレーサの軸方向往復移動のストロークを確保するために、もう1つのガス空間がディスプレーサとハウジングの間に形成される。膨張室とは異なり、このガス空間は、寒冷の発生に寄与しない死容積である。よって、その容積は、ディスプレーサ往復移動のストロークを適正に確保する限り、なるべく小さいことが望まれる。
ディスプレーサとハウジングの間に形成されるガス空間は、極低温冷凍機の作動ガス流路の一部を構成するという別の役割も有しうる。ガス空間が過剰に狭い場合、とくにディスプレーサが往復移動における上死点に位置するとき、ガス空間を通るガス流れに過大な圧力損失がもたらされうる。その結果、極低温冷凍機の冷凍能力が低下しうる。
本発明のある態様の例示的な目的のひとつは、極低温冷凍機の作動ガス流路における圧力損失を低減しつつ死容積の過剰な増加を抑えることにある。
本発明のある態様によると、極低温冷凍機は、ハウジング底面を備えるハウジングと、前記ハウジング底面との間に上部ガス室を形成するディスプレーサ上面を備え、前記ハウジングに対し軸方向に往復移動可能であるディスプレーサと、前記ハウジングに形成され、前記上部ガス室に開口したハウジングガス流路と、前記ディスプレーサに形成され、前記上部ガス室に開口したディスプレーサ上部ガス流路と、前記上部ガス室の一部をなすよう前記ハウジング底面および前記ディスプレーサ上面の少なくとも一方に形成されたガス導流溝であって、前記ディスプレーサがその軸方向往復移動において上死点に位置するとき前記ハウジングガス流路を前記ディスプレーサ上部ガス流路に連絡するガス導流溝と、を備える。
本発明によれば、極低温冷凍機の作動ガス流路における圧力損失を低減しつつ死容積の過剰な増加を抑えることができる。
ある実施形態に係る極低温冷凍機の全体構成を概略的に示す図である。 ある実施形態に係る膨張機の作動ガス流路構成の一部を示す。 ある実施形態に係る膨張機の作動ガス流路構成の一部を示す。 ある実施形態に係る膨張機の作動ガス流路構成の一部を示す。 ある実施形態に係る膨張機の作動ガス流路構成の一部を示す。 他の実施形態に係る極低温冷凍機の全体構成を概略的に示す図である。 他の実施形態に係る膨張機の作動ガス流路構成の一部を示す。
以下、図面を参照しながら、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。なお、説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を適宜省略する。また、以下に述べる構成は例示であり、本発明の範囲を何ら限定するものではない。
図1は、ある実施形態に係る極低温冷凍機10を概略的に示す図である。極低温冷凍機10は、作動ガスを圧縮する圧縮機12と、作動ガスを断熱膨張により冷却する膨張機14とを備える。作動ガスは例えばヘリウムガスである。膨張機14はコールドヘッドとも呼ばれる。膨張機14には作動ガスを予冷する蓄冷器16が備えられている。極低温冷凍機10は、圧縮機12と膨張機14とを各々が接続する第1管18aと第2管18bを含むガス配管18を備える。図示される極低温冷凍機10は、単段式のGM冷凍機である。
知られているように、第1高圧を有する作動ガスが圧縮機12の吐出口12aから第1管18aを通じて膨張機14に供給される。膨張機14における断熱膨張により、作動ガスは第1高圧からそれより低い第2高圧に減圧される。第2高圧を有する作動ガスは、膨張機14から第2管18bを通じて圧縮機12の吸入口12bに回収される。圧縮機12は、回収された第2高圧を有する作動ガスを圧縮する。こうして作動ガスは再び第1高圧に昇圧される。一般に第1高圧及び第2高圧はともに大気圧よりかなり高い。説明の便宜上、第1高圧及び第2高圧はそれぞれ単に高圧及び低圧とも呼ばれる。通例、高圧は例えば2〜3MPaであり、低圧は例えば0.5〜1.5MPaである。高圧と低圧との差圧は例えば1.2〜2MPa程度である。
膨張機14は、膨張機可動部分20と膨張機静止部分22とを備える。膨張機可動部分20は、膨張機静止部分22に対し軸方向(図1における上下方向)に往復移動可能であるよう構成されている。膨張機可動部分20の移動方向を図1に矢印Aで示す。膨張機静止部分22は、膨張機可動部分20を軸方向に往復移動可能に支持するよう構成されている。また、膨張機静止部分22は、膨張機可動部分20を高圧ガス(第1高圧ガス及び第2高圧ガスを含む)とともに収容する気密容器として構成されている。
膨張機可動部分20は、ディスプレーサ24と、その往復移動を駆動するディスプレーサ駆動軸26とを含む。ディスプレーサ24には蓄冷器16が内蔵されている。ディスプレーサ24は、蓄冷器16を包囲するディスプレーサ部材24aを有する。ディスプレーサ部材24aの内部空間に蓄冷材が充填され、それによりディスプレーサ24内に蓄冷器16が形成されている。ディスプレーサ24は、例えば、軸方向に延在する実質的に円柱状の形状を有する。ディスプレーサ部材24aは、軸方向において実質的に一様な外径及び内径を有する。よって、蓄冷器16も、軸方向に延在する実質的に円柱状の形状を有する。
また、ディスプレーサ24は、ディスプレーサ上面24bを備える。ディスプレーサ上面24bは、軸方向に垂直な実質的に円形の領域である。ディスプレーサ上面24bの中心にディスプレーサ駆動軸26の一端が固定されている。
膨張機静止部分22は、大まかに、シリンダ28及び駆動機構ハウジング(以下単にハウジングともいう)30からなる二部構成を有する。膨張機静止部分22の軸方向上部がハウジング30であり、膨張機静止部分22の軸方向下部がシリンダ28であり、これらは相互に堅く結合されている。シリンダ28は、ディスプレーサ24の往復移動を案内するよう構成されている。シリンダ28は、ハウジング30から軸方向に延在する。シリンダ28は、軸方向において実質的に一様な内径を有し、よって、シリンダ28は、軸方向に延在する実質的に円筒の内面を有する。この内径は、ディスプレーサ部材24aの外径よりわずかに大きい。
ハウジング30は、ハウジング底面30aを備える。ハウジング底面30aは、ハウジング30の表面の一部であり、ディスプレーサ上面24bと向かい合っている。ハウジング底面30aは、ディスプレーサ上面24bと平行であり、ディスプレーサ上面24bと同様に、軸方向に垂直な実質的に円形の領域である。ただし、ハウジング底面30aの中心はディスプレーサ駆動軸26によって貫通されている。ディスプレーサ24は、ハウジング30に対し軸方向に往復移動可能である。
また、膨張機静止部分22は、冷却ステージ32を含む。冷却ステージ32は、軸方向においてハウジング30と反対側でシリンダ28の末端に固定されている。冷却ステージ32は、膨張機14が生成する寒冷を他の物体に伝導するために設けられている。その物体は冷却ステージ32に取り付けられ、極低温冷凍機10の動作時に冷却ステージ32によって冷却される。
本書では説明の便宜上、軸方向、径方向、周方向との用語が使用される。軸方向は、矢印Aで図示されるように、膨張機静止部分22に対する膨張機可動部分20の移動方向を表す。径方向は軸方向に垂直な方向(図において横方向)を表し、周方向は軸方向を囲む方向を表す。膨張機14のある要素が軸方向に関して冷却ステージ32に相対的に近いことを「下」、相対的に遠いことを「上」と呼ぶことがある。よって、膨張機14の高温部及び低温部はそれぞれ軸方向において上部及び下部に位置する。こうした表現は、膨張機14の要素間の相対的な位置関係の理解を助けるために用いられるにすぎず、現場で設置されるときの膨張機14の配置とは関係しない。例えば、膨張機14は、冷却ステージ32を上向きにハウジング30を下向きにして設置されてもよい。あるいは、膨張機14は、軸方向を水平方向に一致させるようにして設置されてもよい。
極低温冷凍機10の動作時において、蓄冷器16は、軸方向において一方側(図において上側)に蓄冷器高温部16aを有し反対側(図において下側)に蓄冷器低温部16bを有する。このように蓄冷器16は軸方向に温度分布を有する。蓄冷器16を包囲する膨張機14の他の構成要素(例えばディスプレーサ24及びシリンダ28)も同様に軸方向温度分布を有し、従って膨張機14はその動作時に軸方向一方側に高温部を有し軸方向他方側に低温部を有する。高温部は、例えば室温程度の温度を有する。低温部は、極低温冷凍機10の用途により異なるが、例えば約100Kから約10Kの範囲に含まれるある温度に冷却される。冷却ステージ32は、シリンダ28の低温部を外包するようにシリンダ28に固着されている。
膨張機14における作動ガスの流路構成を説明する。図2および図3は、ある実施形態に係る膨張機14の作動ガス流路構成の一部を示す。図2および図3には、ディスプレーサ上面24bおよびハウジング底面30aとその周囲の作動ガス流路を示す。
膨張機14は、バルブ部34、ハウジングガス流路36、上部ガス室37、ディスプレーサ上部ガス流路38、ディスプレーサ下部ガス流路39、ガス膨張室40、及び低圧ガス室42を備える。高圧ガスは、第1管18aからバルブ部34、ハウジングガス流路36、上部ガス室37、ディスプレーサ上部ガス流路38、蓄冷器16、ディスプレーサ下部ガス流路39を経てガス膨張室40に流入する。ガス膨張室40からの戻りガスは、ディスプレーサ下部ガス流路39、蓄冷器16、ディスプレーサ上部ガス流路38、上部ガス室37、ハウジングガス流路36、バルブ部34を経て低圧ガス室42に受け入れられる。
詳しくは後述するが、上部ガス室37は、ガス導流溝43を含む。ガス導流溝43は、ハウジング底面30aに形成され、上部ガス室37の一部をなす。ガス導流溝43は、ディスプレーサ24がその軸方向往復移動において上死点に位置するときハウジングガス流路36をディスプレーサ上部ガス流路38に連絡する。図2には、上部ガス室37における軸方向に垂直な平面による膨張機14の断面が概略的に示されている。図3は、図1に示すガス導流溝43の一部を拡大して示す。
バルブ部34は、ディスプレーサ24の往復移動と同期してガス膨張室40の圧力を制御するよう構成されている。バルブ部34は、高圧ガスをガス膨張室40に供給するための供給路の一部として機能するとともに、低圧ガスをガス膨張室40から排出するための排出路の一部として機能する。バルブ部34は、ディスプレーサ24が下死点またはその近傍を通過するとき低圧ガスの排出を終了し高圧ガスの供給を開始するよう構成されている。バルブ部34は、ディスプレーサ24が上死点またはその近傍を通過するとき高圧ガスの供給を終了し低圧ガスの排出を開始するよう構成されている。このように、バルブ部34は、ディスプレーサ24の往復移動と同期して作動ガスの供給機能と排出機能とを切り替えるよう構成されている。
ハウジングガス流路36は、膨張機静止部分22と上部ガス室37との間のガス流通のためにハウジング30に貫通形成されている。ハウジングガス流路36は、ハウジング30に形成され、上部ガス室37に開口している。ハウジングガス流路36は、バルブ部34から始まり上部ガス室37で終端する。つまり、ハウジングガス流路36の一端はバルブ部34のガス通路に接続され、ハウジングガス流路36の他端は上部ガス室37に接続されている。
上部ガス室37は、蓄冷器高温部16aの側で膨張機静止部分22とディスプレーサ24との間に形成されている。より詳しくは、上部ガス室37は、軸方向においてハウジング底面30aとディスプレーサ上面24bとに挟まれ、周方向にシリンダ28に囲まれている。上部ガス室37は、低圧ガス室42に隣接する。上部ガス室37は室温室とも呼ばれる。上部ガス室37は膨張機可動部分20と膨張機静止部分22との間に形成された可変容積である。
ディスプレーサ上部ガス流路38は、ディスプレーサ24に形成され、上部ガス室37に開口している。ディスプレーサ上部ガス流路38は、蓄冷器高温部16aを上部ガス室37に連通するよう形成されたディスプレーサ部材24aの少なくとも1つの穴である。
具体的には、ディスプレーサ上部ガス流路38は、ディスプレーサ上面24bに形成された複数の穴を備える。これら複数の穴は、ディスプレーサ上面24bから蓄冷器高温部16aへとディスプレーサ部材24aを軸方向に貫通している。また、これらの穴は、ディスプレーサ駆動軸26を囲むようにディスプレーサ上面24bに配列されている。複数の穴は、ディスプレーサ中心軸を中心とするある円周上で周方向に等角度間隔に配置されている。例えば、ディスプレーサ上面24bには4つの穴が90度おきに形成され、これら4つの穴はディスプレーサ上面24bの中心から等距離にある。理解のために、図2においてディスプレーサ上部ガス流路38を破線で示す。
複数の穴のうちある1つの穴が軸方向に垂直な平面による断面においてハウジングガス流路36と同じ位置(すなわちハウジングガス流路36の直下)に配置されている。複数の穴のうち残りの穴は、軸方向に垂直な平面による断面においてハウジングガス流路36と異なる位置に形成されている。
図1に示されるように、ディスプレーサ下部ガス流路39は、蓄冷器低温部16bをガス膨張室40に連通するよう形成されたディスプレーサ部材24aの少なくとも1つの穴である。
ディスプレーサ24とシリンダ28とのクリアランスを封じるシール部44が、ディスプレーサ部材24aの側面に設けられている。シール部44は、ディスプレーサ上部ガス流路38を周方向に囲むようディスプレーサ部材24aに取り付けられていてもよい。
ガス膨張室40は、蓄冷器低温部16bの側でシリンダ28とディスプレーサ24との間に形成されている。ガス膨張室40は上部ガス室37と同様に膨張機可動部分20と膨張機静止部分22との間に形成された可変容積であり、シリンダ28に対するディスプレーサ24の相対移動によってガス膨張室40の容積は上部ガス室37の容積と相補的に変動する。シール部44が設けられているので、上部ガス室37とガス膨張室40との直接のガス流通(つまり蓄冷器16を迂回するガス流れ)はない。
低圧ガス室42は、ハウジング30の内部に画定されている。第2管18bがハウジング30に接続されており、それにより低圧ガス室42が第2管18bを通じて圧縮機12の吸入口12bに連通している。そのため、低圧ガス室42は常に低圧に維持される。
膨張機14の駆動構成を説明する。図1に示されるように、ディスプレーサ駆動軸26は、ディスプレーサ24から上部ガス室37を貫通して低圧ガス室42へと突き出している。膨張機静止部分22は、ディスプレーサ駆動軸26を軸方向に移動可能に支持する一対の駆動軸ガイド46a、46bを備える。駆動軸ガイド46a、46bはそれぞれ、ディスプレーサ駆動軸26を囲むようにハウジング30に設けられている。軸方向下側の駆動軸ガイド46bまたはハウジング30の下端部は気密に構成されており、そのため低圧ガス室42は上部ガス室37から隔離されている。低圧ガス室42と上部ガス室37との直接のガス流通はない。
膨張機14は、ディスプレーサ24を駆動する駆動機構48を備える。駆動機構48は、低圧ガス室42に収容されており、モータ48a及びスコッチヨーク機構48bを含む。ディスプレーサ駆動軸26はスコッチヨーク機構48bの一部を形成する。また、スコッチヨーク機構48bは、モータ48aの出力軸と平行に延在するとともに当該出力軸から偏心したクランクピン49を備える。ディスプレーサ駆動軸26はスコッチヨーク機構48bによって軸方向に駆動されるようスコッチヨーク機構48bに連結されている。したがって、モータ48aの回転によりディスプレーサ24の軸方向往復移動が駆動される。駆動軸ガイド46a、46bは、スコッチヨーク機構48bを挟んで軸方向に異なる位置にある。
バルブ部34は、駆動機構48に連結され、ハウジング30に収容されている。バルブ部34は、バルブロータ34aおよびバルブステータ34bを有するロータリバルブの形式をとる。バルブロータ34aおよびバルブステータ34bはともに、低圧ガス室42に配設されている。バルブロータ34aは、モータ48aの回転により回転するようモータ48aの出力軸に連結されている。バルブロータ34aは、バルブステータ34bに対し回転摺動するようバルブステータ34bと面接触している。バルブステータ34bは、ハウジング30に固定されている。バルブステータ34bは、第1管18aからハウジング30に入る高圧ガスを受け入れるよう構成されている。
ガス導流溝43の詳細を説明する。図示されるように、ガス導流溝43は、ディスプレーサ上部ガス流路38を構成する複数の穴に面するようハウジング底面30aに形成されている。また、ガス導流溝43には、ハウジングガス流路36が開口している。つまり、ハウジングガス流路36の出口は、ガス導流溝43の底面に配置されている。こうした構成によれば、ディスプレーサ24が上死点に位置するときのようにディスプレーサ上面24bがハウジング底面30aにごく近接するときであっても、ハウジングガス流路36とディスプレーサ上部ガス流路38との間のガス流れを許容する容積がガス導流溝43によって確保される。また、ガス導流溝43をハウジング底面30aに加工するのは比較的容易であり、膨張機14の製造工程への新たな負荷は小さい。
ガス導流溝43は、ガス導流溝43の容積がディスプレーサ24が上死点に位置するときの上部ガス室37の容積の半分以下となるように形成されている。このようにすれば、ガス導流溝43の容積を比較的小さくすることができるので、ガス導流溝43の形成による死容積の過剰な増加を防ぐことができる。それとともに、ディスプレーサ24が上死点に位置するときの上部ガス室37での圧力損失が低減され、極低温冷凍機10の冷凍能力の低下が抑制される。
具体的には、ガス導流溝43の高さ、幅、および長さが、ガス導流溝43の容積を、ディスプレーサ24が上死点に位置するときの上部ガス室37の容積の半分以下とするように定められている。ここで、ガス導流溝43の高さ、幅、および長さはそれぞれ、例えば、ガス導流溝43の軸方向寸法、径方向寸法、および周方向寸法にあたる。
図3に示されるように、ガス導流溝43は、ハウジング底面30aからのガス導流溝43の軸方向高さD1が、ディスプレーサ24が上死点に位置するときのハウジング底面30aからディスプレーサ上面24bへの軸方向間隔D2より大きくなるように形成されていてもよい。軸方向間隔D2は、ディスプレーサ24の往復移動におけるハウジング底面30aからディスプレーサ上面24bへの最小距離にあたる。また、ガス導流溝43は、ハウジング底面30aからのガス導流溝43の軸方向高さD1が、ガス導流溝43の径方向幅D3より小さくなるように形成されていてもよい。このようにしても、上部ガス室37での死容積の過剰な増加を防ぐとともに、上部ガス室37での圧力損失を低減することができる。
図2に示されるように、ガス導流溝43は、ディスプレーサ24の中心軸(例えばディスプレーサ駆動軸26)まわりに延在する。例えば、ガス導流溝43は、ディスプレーサ24の中心軸を中心とする環状の溝である。このようにすれば、ガス導流溝43を比較的容易に加工することができる。
図示されるように、ガス導流溝43の断面形状は例えば矩形状であるが、これに限られず、ガス導流溝43はその他任意の断面形状を有してもよい。
上記の構成をもつ極低温冷凍機10の動作を説明する。ディスプレーサ24がシリンダ28の下死点またはその近傍の位置に移動するとき、バルブ部34は、圧縮機12の吐出口をガス膨張室40に接続するよう切り替わる。ディスプレーサ24がシリンダ28の下死点またはその近傍に位置するから、上部ガス室37は広い。高圧ガスが、バルブ部34から、ハウジングガス流路36、ガス導流溝43、上部ガス室37、ディスプレーサ上部ガス流路38を通じて蓄冷器高温部16aに容易に流入する。ガスは蓄冷器16を通過しながら冷却され、蓄冷器低温部16bからディスプレーサ下部ガス流路39を通じてガス膨張室40に入る。ガスがガス膨張室40に流入する間、ディスプレーサ24はシリンダ28の上死点に向けて移動する。それによりガス膨張室40の容積が増加される。こうしてガス膨張室40は高圧ガスで満たされる。
ディスプレーサ24がシリンダ28の上死点またはその近傍の位置に移動するとき(図1および図3参照)、バルブ部34は、圧縮機12の吸入口をガス膨張室40に接続するよう切り替わる。高圧ガスはガス膨張室40で膨張し冷却される。膨張したガスは、ガス膨張室40からディスプレーサ下部ガス流路39を通じて蓄冷器16に入る。ガスは蓄冷器16を通過しながら冷却する。ガスは、蓄冷器16からディスプレーサ上部ガス流路38、ガス導流溝43、ハウジングガス流路36、バルブ部34、低圧ガス室42を経て圧縮機12に戻る。ガスがガス膨張室40から流出する間、ディスプレーサ24はシリンダ28の下死点に向けて移動する。それによりガス膨張室40の容積が減少され、ガス膨張室40から低圧ガスが排出される。
以上が極低温冷凍機10における1回の冷却サイクルである。極低温冷凍機10は冷却サイクルを繰り返すことで、冷却ステージ32を所望の温度に冷却する。よって、極低温冷凍機10は、冷却ステージ32に熱的に結合された物体を極低温に冷却することができる。
ディスプレーサ24が上死点に位置するときハウジング底面30aとディスプレーサ上面24bとの軸方向間隔はかなり狭く、例えば数mm(例えば1〜3mm程度)である。これは、死容積を低減するためである。上述のように、ガス導流溝43は、ハウジング底面30aに形成され、上部ガス室37の一部をなす。ガス導流溝43は、ディスプレーサ24がその軸方向往復移動において上死点に位置するときハウジングガス流路36をディスプレーサ上部ガス流路38に連絡する。したがって、ディスプレーサ24が上死点に位置するときであっても、ハウジングガス流路36とディスプレーサ上部ガス流路38との間の作動ガス流れが確保される。蓄冷器16の中をガスがスムーズかつ均等に流れることができる。圧力損失が低減され、極低温冷凍機10の冷凍能力の低下が抑制される。
ある実施形態においては、図4に示されるように、ディスプレーサ上部ガス流路38の複数の穴がすべて、軸方向に垂直な平面による断面においてハウジングガス流路36と異なる位置に形成されていてもよい(つまり、この場合、ハウジングガス流路36の直下にディスプレーサ上部ガス流路38が存在しない)。この構成は、作動ガス流れの均一化に役立つ。
ある実施形態においては、ガス導流溝43は、複数の穴に面する限り、ディスプレーサ24の中心軸まわりに全周にわたり延在していなくてもよい。図5に示されるように、ガス導流溝43は、例えばC字状の溝であってもよい。C字状のガス導流溝43は、ハウジングガス流路36と反対側で開いており、ガス導流溝43の2つの端部それぞれにディスプレーサ上部ガス流路38としての穴が配置されている。このようにすれば、ガス導流溝43の長さが(ガス導流溝43が全周にわたる場合に比べて)短くなり、ガス導流溝43による死容積の過剰な増加を防ぐことができる。
図6は、他の実施形態に係る極低温冷凍機10の全体構成を概略的に示す図である。図7は、他の実施形態に係る膨張機14の作動ガス流路構成の一部を示す。
図1から図3を参照して説明した実施形態においては、ガス導流溝43がハウジング底面30aに形成されているが、これに限られない。図6および図7に示すように、ガス導流溝43は、ディスプレーサ上面24bに形成されてもよい。ガス導流溝43は、ハウジングガス流路36に面するようディスプレーサ上面24bに形成されている。ディスプレーサ上部ガス流路38は、ガス導流溝43に開口した複数の穴を備える。理解のために、図7においてハウジングガス流路36を破線で示す。
このようにしても、上部ガス室37での死容積の過剰な増加を防ぐとともに、上部ガス室37での圧力損失を低減することができる。また、ガス導流溝43を比較的容易に加工することができ、製造性が向上される。
以上、本発明を実施例にもとづいて説明した。本発明は上記実施形態に限定されず、種々の設計変更が可能であり、様々な変形例が可能であること、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは、当業者に理解されるところである。
ガス導流溝43は、上部ガス室37の一部をなすようハウジング底面30aおよびディスプレーサ上面24bの両方に形成されていてもよい。すなわち、ハウジング底面30aに形成された溝状の凹部とディスプレーサ上面24bに形成された溝状の凹部との組み合わせによって、ガス導流溝43が形成されていてもよい。
図示されるように、ハウジングガス流路36は1本だけであり、上部ガス室37に開口したハウジングガス流路36の出口は1つである。しかし、ある実施形態においては、ハウジングガス流路36が上部ガス室37に開口した複数の出口を有するようハウジング30内で分岐してもよいし、あるいは、ハウジング30に複数のハウジングガス流路36が形成されていてもよい。上部ガス室37に開口したハウジングガス流路36の複数の出口がディスプレーサ駆動軸26を囲むようにハウジング底面30a(またはガス導流溝43)に配置されていてもよい。
上記においては、単段式のGM冷凍機に言及して実施の形態を説明した。本発明はこれに限られず、実施の形態に係る作動ガス流路構成は、二段式または多段式のGM冷凍機、または、パルス管冷凍機などその他の極低温冷凍機に適用可能である。
10 極低温冷凍機、 24 ディスプレーサ、 24b ディスプレーサ上面、 30 ハウジング、 30a ハウジング底面、 36 ハウジングガス流路、 37 上部ガス室、 38 ディスプレーサ上部ガス流路、 43 ガス導流溝。

Claims (5)

  1. ハウジング底面を備えるハウジングと、
    前記ハウジング底面との間に上部ガス室を形成するディスプレーサ上面を備え、前記ハウジングに対し軸方向に往復移動可能であるディスプレーサと、
    前記ハウジングに形成され、前記上部ガス室に開口したハウジングガス流路と、
    前記ディスプレーサに形成され、前記上部ガス室に開口したディスプレーサ上部ガス流路と、
    前記上部ガス室の一部をなすよう前記ハウジング底面および前記ディスプレーサ上面の少なくとも一方に形成されたガス導流溝であって、前記ディスプレーサがその軸方向往復移動において上死点に位置するとき前記ハウジングガス流路を前記ディスプレーサ上部ガス流路に連絡するガス導流溝と、を備えることを特徴とする極低温冷凍機。
  2. 前記ディスプレーサ上部ガス流路は、前記ディスプレーサ上面に形成された複数の穴を備え、
    前記ガス導流溝は、前記複数の穴に面するよう前記ハウジング底面に形成され、
    前記ハウジングガス流路は、前記ガス導流溝に開口していることを特徴とする請求項1に記載の極低温冷凍機。
  3. 前記ガス導流溝は、前記ハウジングガス流路に面するよう前記ディスプレーサ上面に形成され、
    前記ディスプレーサ上部ガス流路は、前記ガス導流溝に開口した複数の穴を備えることを特徴とする請求項1に記載の極低温冷凍機。
  4. 前記ガス導流溝は、前記ガス導流溝の容積が前記ディスプレーサが前記上死点に位置するときの前記上部ガス室の容積の半分以下となるように形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の極低温冷凍機。
  5. 前記ガス導流溝は、前記ディスプレーサの中心軸まわりに延在することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の極低温冷凍機。
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