JP6568349B2 - 刻印構造及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は刻印構造に関する。詳しくは、基材凹部に対象物が形成されていても、対象物が浮き出しているように見える視覚的効果を有する刻印構造及びその製造方法に関する。

一般に、製品に施された刻印構造は、その製品イメージを大きく左右し、製品購入者の購買意欲にも大きく影響を及ぼす。同一の機能を備えている製品であれば、製品に施された刻印構造によって、製品の価値が大きく異なる。また、製品に施された刻印構造が、いわゆる出所機能を備えている場合には、刻印構造それ自身がグットウィルを発揮する。このようなことから、製品に文字、図形、記号等の模様を立体的に現出させることによって、高級感のある高度な刻印構造を施した製品の開発が望まれている。

自動車関連部品、家具、キャビネット、テーブル、床等の表面装飾用材料として、金属材料系基材、木質系基材、無機材料系基材、合成樹脂製基材等の化粧板基材の表面に文字、図形、記号等の模様を立体的に現出させた製品が提案されている。製品購入者の高級品志向の影響により、製品購入者は、自動車関連部品、家具、キャビネット、テーブル、床等の表面装飾用材料に対して、高級感を要求し、高級感を与える外観を備えた製品を要望している。

例えば、加飾フィルムをインサート材としたインサート成形により、視覚的に高級感にあふれる立体的かつ鮮明な模様が現出された加飾合成樹脂成形品が提案されている（例えば、特許文献１）。かかる加飾合成樹脂成形品は、合成樹脂成形品の表面側に視覚的に立体的な模様が現出されている。この合成樹脂成形品の表面側において、「１」、「２」、「３」の数字、四角形状の図形、及び三角形状の図形が手前に突出したように視覚的に観察されることができる。合成樹脂成形品の表面側において、手前に突出したように視覚的に観察される数字、図形、文字等は、立体現出層Ｒの隆起部Ｒ１から構成されている。

また、インサートラベルにより表面を加飾した合成樹脂成形品が提案されている（例えば、特許文献２）。このインサートラベルは合成樹脂フィルムを基材層としている。当該基材層の表面は、凹凸構造を有する粗面転写領域を有している。凹凸構造の凸部の形状は、加飾目的に応じて絵柄、模様、文字、図案等の図柄となっている。

また、基材の表面に刻印様の立体的表現によって文字絵柄が表現された刻印構造が提案されている（例えば、特許文献３）。この刻印構造は、文字絵柄が表現された昆布である。文字絵柄が表現された昆布は、乾燥した板昆布にコンピューター制御によりレーザー光線を照射して、昆布の組織を酸化硬化させた後、湯、食塩水等の液体に浸け、昆布を膨張させることによって、形成される。文字絵柄が表現された昆布は、レーザー光線の不照射部分を文字絵柄が表現された立体的な部分として構成されている。文字絵柄が表現された部分は、凸部となっている。文字絵柄が表現された昆布は、文字柄を表示させた凹凸のある刻印様の立体的な絵柄を有している。

一方、視覚的に凹凸感を有すると共に深みのある意匠性に優れた化粧板が提案されている（例えば、特許文献４）。この化粧板は、模様柄印刷層とパターン状低艶印刷層とを同調させることにより、視覚的に凹部として認識される凹凸感と深み（奥行き）とを表現し、立体感に優れた意匠性を備えている。

さらに、コンピュータグラフィックでグラデーション・ぼかし・シャドウ等で表現した立体風な画像を作成し、当該画像の上に透明シートを重ねて、さらに、当該透明シートの上に上記画像に沿った形に切り抜いたイラスト・画像を含む別のシートを備えた立体的表現装飾物が提案されている（例えば、特許文献５）。

しかしながら、特許文献１〜４に提案された合成樹脂成形品等の製品が備えている文字、図形、記号等の模様は、合成樹脂成形品等の基板から手前に突出した凸部として形成されている。すなわち、製品に文字、図形、記号等の模様を立体的に現出させるための部分が凸部として形成されている。

製品に施された模様となる部分として形成された凸部は、基板から手前に突出している。このため、模様となる部分として形成された凸部が、その後の切削工程において、破損しやすい等の技術上の問題がある。この技術上の問題は、基板が金属材料系基材、無機材料系基材、合成樹脂製基材等の化粧板基材である場合には、特に顕著である。

例えば、製品がアルミニウム、マグネシウム等の合金を材料として採用した自動車用ホイールである場合を考える。この自動車用ホイールに文字、図形、記号等の模様を立体的に現出させ、高級感のある高度な刻印構造を施したい場合がある。

自動車用ホイールは、その重量が軽いことが好ましい。自動車用ホイールに刻印構造を形成させる場合は、製品に文字、図形、記号等の模様を立体的に現出させるために、文字、図形、記号等の模様となる刻印構造を「凸部」としないことが好ましい。むしろ、自動車用ホイールに文字、図形、記号等の模様を立体的に現出させたい場合には、文字、図形、記号等の模様となる刻印構造を「凸部」とするよりも、「凹部」とすることが好ましい。なぜなら、自動車用ホイールに施された文字、図形、記号等の模様となる刻印構造が「凹部」として形成されることは、自動車用ホイールの軽量化に関係するからである。

文字、図形、記号等の模様となる刻印構造が自動車用ホイール基板の「凹部」に存在する場合には、文字、図形、記号等の模様が自動車用ホイール基板表面に露出することがない。このため、自動車用ホイール基板に施された文字、図形、記号等の模様となる刻印構造は、自動車が厳しい環境下において使用された場合であっても、長期間にわたって、その意匠性を保持することができる。

また、別の観点においては、自動車用ホイールは、耐食性等を向上させるために表面化学処理がされる。表面化学処理は、適宜必要な処理液を基板に塗布することによって行われる。同様に、自動車用ホイールに文字、図形、記号等の模様を立体的に現出させたい場合には、文字、図形、記号等の模様となる刻印構造を「凸部」とするよりも、「凹部」とすることが好ましい。なぜなら、文字、図形、記号等の模様となる刻印構造を「凹部」とすれば、表面化学処理に必要な処理液を均一に塗布することができるからである。

しかしながら、製品の表面に施された文字、図形、記号等の模様となる刻印構造を「凹部」とすれば、当該「凹部」は、物理的に手前に突出した「凸部」ではないから、視覚的に立体的な文字、図形、記号等の模様が現出された模様とならない。すなわち、一般的には、製品に文字、図形、記号等の模様を構成する部分を「凹部」とし、当該「凹部」からなる文字、図形、記号等の模様を立体的に現出させ、製品に高級感のある高度な刻印構造を施すことができない。

さらに、特許文献５に提案された立体的表現装飾物は、コンピュータグラフィック等の単なる平面的な印刷技術により、対象物を立体的に表現することができるものにすぎない。このため、特許文献５に提案された立体的表現装飾物は、立体感を現出させる点において十分なものとなっていないばかりでなく、製品としての質感、高級感を備えているものとはなっていない。なお、本件特許出願人は、上記文献公知発明が記載された刊行物として、以下の刊行物を提示する。

特開２０１３−２５６０８４号公報 特開２０１１−２１２９０４号公報 特開２００６−１４１３８２号公報 特開２００７−２６８７１７号公報 特開２００８−２９６４８８号公報

本発明は、かかる技術的事情に鑑みなされたものであって、製品に文字、図形、記号等の模様を構成する刻印構造を「凹部」に形成し、当該「凹部」に形成された文字、図形、記号等の模様を立体的に現出させ、製品に高級感のある刻印構造及びその製造方法を提供することを課題とする。

本件発明者は、鋭意技術的検討を行った結果、刻印構造を基材凹部の底面に対象物を特定した第１刻印領域と、対象物を立体的に表現するための形状を特定した第２刻印領域とを備えることとし、第２刻印領域を光のグラデーションを発揮させるような構造とすることにより、文字、図形、記号等の模様の対象物の形状が浮き出しているように見える視覚的効果が発揮されることを見出し、本発明を完成するに至った。より具体的には、本発明は以下の技術的事項から構成される。

（１）基材凹部に形成され、対象物が浮き出しているように見える視覚的効果を有する刻印構造であって、
前記刻印構造は、前記基材凹部の底面に対象物を特定した第１刻印領域と、
前記対象物を立体的に表現するため第２刻印領域と、を備え、
前記第２刻印領域は、前記対象物の形状に沿って、基材の表面を頂点として前記基材凹部の底面から前記基材の表面に向かって立ち上がって行く傾斜部を備えており、
前記傾斜部は、前記対象物の形状に沿った凹部形状からなる複数の溝を備えていることを特徴とする刻印構造。

（２）前記凹部形状が円弧形状及び／又はテーパ形状であることを特徴とする（１）に記載の刻印構造。

（３）前記凹部形状が球形状のミーリングツールにより形成され、
前記溝の幅ＳＷと前記ミーリングツール底部形状の半径Ｒとの関係が下記一般式（Ｄ）の条件を満たすことを特徴とする（１）に記載の刻印構造。

（４）前記第１刻印領域は、複数の直線状の溝を備えており、
前記直線状の溝は、前記第２刻印領域の方向に傾斜していることを特徴とする（１）〜（３）いずれか１に記載の刻印構造。

（５）基材凹部に形成され、対象物が浮き出しているように見える視覚的効果を有する刻印構造の製造方法であって、
前記基材凹部の底面に対象物を特定した第１刻印領域を形成する工程と、
前記対象物に沿って、基材の表面を頂点として前記基材凹部の底面から前記基材の表面に向かって立ち上がって行く傾斜部を形成させ、
前記傾斜部が前記対象物の形状に沿った凹部形状からなる複数の溝を形成させることによって、
前記対象物を立体的に表現するための形状を特定した第２刻印領域を形成する工程と、を備えていることを特徴とする刻印構造の製造方法。

本発明によれば、基材凹部に対象物が形成されていても、対象物が浮き出しているように見える視覚的効果を有する刻印構造が提供される。また、本発明によれば、観察する角度によることなく、ドロップシャドウ効果と光のグラデーション効果が発揮され、対象物が浮き出しているように見え、しかも高級感に訴える視覚的効果を有する刻印構造が提供される。

刻印構造の外観を示したモデル図である。 ドロップシャドウのオフセット・パターンを示したモデル図である。 対象物７をアルファベット「Ｂ」とする刻印構造の正面図、刻印構造（アルファベット「Ｂ」）の断面図（Ａ−Ａ断面）である。 第２刻印領域が有している傾斜部の構造を示した拡大図である。 第１刻印領域と第２刻印領域の傾斜部の構造を示した断面図である。 第２刻印領域の傾斜部が備えている凹部形状の溝による光のグラデーションが発生するメカニズムを示した模式図である。 実施形態２の刻印構造が備えている傾斜部が有している溝の凹部形状を示した模式図である。 刻印構造の製造方法が備える各工程を示した模式図である。 実施例１の刻印構造を示した写真である。 実施例４の刻印構造を示した写真である。 実施例７の刻印構造を示した写真である。 実施例９の刻印構造を示した写真である。 実施例１０の刻印構造を示した写真である。 実施例１１の刻印構造を示した写真である。 実施例１２の刻印構造を示した写真である。 実施例１３の刻印構造を示した写真である。 実施例１５の刻印構造を示した写真である。 比較例１の刻印構造を示した写真である。

以下、本発明の実施形態を適宜図面に基づいて説明する。なお、以下に説明する本発明を実施形態及び実施例は例示のみを目的とし、本発明の技術的範囲を限定するものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められる。本発明の主旨を逸脱しないことを条件として、本発明の変更、例えば、本発明の構成要件の追加、削除及び置換を行うことができる。本明細書において言及される全ての文献はその全体が引用により本明細書に取り込まれる。

＜実施形態１＞
（刻印構造の外観）
図１は、本発明の刻印構造１の外観を示したモデル図である。図１に示されるように、刻印構造１は、基材２の基材表面３から基材裏面４の方向に向かって設けられた凹部５に形成されている。図１に示された刻印構造１は、それぞれ「Ｂ」、「Ｂ」、及び「Ｓ」のアルファベットの文字を表わしている。これらの刻印構造１は、基材２の凹部５の底面６に形成されている対象物７が基材２から浮き出しているように見える視覚的効果を有している。刻印構造１は、第１刻印領域１０と第２刻印領域２０とを備える。例えば、刻印構造１である「Ｂ」は、アルファベット「Ｂ」の意味を伝達する「ビィー」を表す第１刻印領域１０と、アルファベット「Ｂ」が浮き出しているように見える視覚的効果を発揮させるための第２刻印領域２０とを備える。

以下、刻印構造１が備えている第１刻印領域１０と第２刻印領域２０について説明する。

（第１刻印領域）
第１刻印領域１０は、基材２の凹部５の底面６に対象物７を特定した領域である。第１刻印領域１０において、対象物７の特定は、基材２の凹部５の底面６に対象物７の外縁を刻印することにより行われる。第１刻印領域において、刻印される対象物７の形状は、当該対象物７を特定した対象物の形状である。

第１刻印領域１０において、刻印される対象物７の形状が基材２から浮き出しているように見える対象である。第１刻印領域１０において、刻印される対象物７は、特に限定されない。対象物７は、文字、図形、記号、これらの組み合わせであってもよい。文字は一定の意味を伝達する情報媒体を意味する。文字には、アルファベット、カタカナ、ひらがな、漢字が含まれる。図形は、線描きの図形、絵画を含んで意味する。具体的には、イラスト絵、絵文字、交通標識、地図記号、ロゴマーク等が含まれる。記号は、意味を持った図形を意味する。

対象物７の大きさは、切削等の加工が可能な限り、限定されない。例えば、対象物７が文字である場合、文字幅が１．０〜１０００ｍｍであってもよい。対象物７としては、腕時計、置時計の文字盤の文字、メガネのフレーム、食器の模様、自動車用ホイールのスポーク部分に施されるエンブレムを例示することができる。また、対象物としては、広告看板、モニュメント等を例示することができる。

基材２の凹部５は、基材２の基材表面３から基材裏面４の方向に向かって設けられている。第１刻印領域１０は、基材２の凹部５の底面６に設けられている。第１刻印領域１０に対象物７の形状が刻印されている。第１刻印領域１０は、対象物７を特定するために必要な面積を有している。第１刻印領域１０の形状は、刻印される対象物７の形状により異なる。第１刻印領域に特定された対象物７は、対象物７の形状を特定するための外縁を有している。

第１刻印領域１０は、基材表面３から基材裏面４の方向に深さＢＤを有する基材２の凹部５の底面６に位置している。基材２の凹部５の深さＢＤは、第１刻印領域１０において特定される対象物７の輪郭幅ＫＷとの相対関係によって決定される。具体的には、凹部５の深さＢＤは、対象物７の輪郭幅ＫＷに対して、０．００５〜０．０６であることが好ましい。すなわち、基材２の凹部５の深さＢＤと対象物７の輪郭幅ＫＷとの関係は、以下の数式によって表される。

図１に示されるように、対象物７の輪郭幅ＫＷは、対象物の外縁と、当該対象物の外縁に対向している外縁とによって形成される輪郭幅である。かかる対向している外縁は、後述する第２刻印領域に隣接している。対象物７の輪郭幅ＫＷは、対象物７の大きさ、形状により異なる。すなわち、対象物７の輪郭幅ＫＷは、横長形状の対象物であっても、縦長形状の対象物であっても、曲線形状を有する対象物であっても、それぞれの対象物に応じた輪郭幅となっている。基材２の凹部５の深さＢＤは、第２刻印領域と隣接する第１刻印領域の輪郭幅ＫＷとの相対的な関係によって規定されている。そして、凹部５の深さＢＤを有する面である底面６が第１刻印領域１０の基準面である。

基材２の凹部５の深さＢＤが対象物７の輪郭幅ＫＷに対して、０．００５以上であると、第１刻印領域１０において刻印される対象物７が明瞭に特定されるため好ましく、０．０６以下であると、第１刻印領域１０において刻印される対象物７が基材２から浮き出しているように見えることができるため好ましい。

第１刻印領域１０は、基材２の凹部５の深さＢＤの位置する底面６に形成されている。すなわち、刻印構造１は、対象物７の輪郭幅ＫＷに応じて、基材２の凹部５の深さＢＤを設定し、凹部５に深さＢＤを有する底面６を形成させ、底面６に対象物７を特定するための第１刻印領域１０を備えている。刻印構造１は、第１刻印領域１０と、第１刻印領域１０に隣接した第２刻印領域２０とを備えている。刻印構造１は、第１刻印領域１０と、第１刻印領域１０に隣接した第２刻印領域２０とを備えていることによって、人間の目に光学的な錯覚を起こさせる点に技術的特徴を有している。

第１刻印領域１０に対象物７を特定する。底面６の形状が対象物７の形状を特定する形状であってもよい。また、底面６に対象物７の外縁である外形形状を凹部として刻印させてもよい。後者の場合は、対象物７の外縁が「縁取り」されることになり、対象物７がより明確となり、第１刻印領域において際立って特定されることができる。かかる凹部は、基準面となる底面６よりも基材裏面４側に凹んだ形状となっている。

第１刻印領域１０において特定された対象物７は、対象物７を特定している外縁である外形形状で囲まれる領域の内部に直線状の溝８を複数備えていてもよい。例えば、図１に示された刻印構造１が備えている第１刻印領域１０に設けられた直線状の溝８は、刻印構造１が観察される方向から見て、第２刻印領域２０寄りに、角度Ａ３０〜６０°または１２０〜１５０°にて形成されている。これらの直線状の溝８によって、第１刻印領域１０において刻印される対象物７が基材２から浮き出しているように見える効果をより増大させることができる。直線状の溝８の本数は、対象物７の輪郭幅により適宜設定することができ、特に限定されるものではない。

直線状の溝８は、凹部形状を有している。当該凹部形状は、同一であっても異なっていてもよい。凹部形状としては、円弧形状、楕円弧形状、テーパ形状等を例示することができる。直線状の溝８は、連続した溝であっても、一定のピッチ（間隔）を持った溝であってもよい。直線状の溝８の幅、当該溝８の深さは、それぞれ後述する第２刻印領域が備えている傾斜部に形成されている溝の幅、溝の深さと同一であってもよい。直線状の溝８の凹部形状としては、第１刻印領域に光のグラデーションが最も形成され易い形状である円弧形状又はテーパ形状が好ましい。直線状の溝８は、直線であってもよいし、波線であってもよいし、一部に曲線を含んでいてもよい。

基材２に採用できる材料としては、基材２に凹部５を設けることができ、凹部５の底面６に第１刻印領域１０を設けることができる素材であれば特に限定されない。具体的には、基材２として、金属、プラスチック、ガラス、石材等を採用することができる。

基材２に採用することができる金属としては、アルミニウム、アルミニウム合金、マグネシウム、マグネシウム合金、ステンレス、チタン、金、銀、銅、真鍮等を例示することができる。プラスチックとしては、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等を例示することができる。ガラスとしては、ソーダー石灰ガラス、カリガラス、クリスタルガラス、石英ガラス等を例示することができる。石材としては、大理石、石灰石、三波石、御影石、宝石等を例示することができる。

（第２刻印領域）
第２刻印領域２０は、第１刻印領域１０において特定された対象物７が基材２から浮き出しているように見えさせるための刻印領域である。刻印構造１は、第１刻印領域１０と第２刻印領域２０とが相俟って、第１刻印領域１０において特定された対象物７が基材２から浮き出しているように見えさせる効果を奏する。かかる効果を「ドロップシャドウ効果」という。また、対象物７が基材２から浮き出しているように見えさせるための刻印領域を「ドロップシャドウ」という。刻印構造１において、第２刻印領域２０は、第１刻印領域の「ドロップシャドウ」に相当する。

図２は、「ドロップシャドウ」のオフセット・パターンを示したモデル図である。「ドロップシャドウ」は、第１刻印領域１０が基材２から浮き出しているように見えさせる効果を発揮する。「ドロップシャドウ」は、対象物となる文字、図形、記号等の模様につける影である。

具体的には、刻印構造１において、刻印される対象物７の形状が基材２から浮き出しているように見えさせている第２刻印領域２０が「ドロップシャドウ」に相当する。なお、ドロップシャドウは、基材表面を頂点とし基材底面に向かっている傾斜部であり、基材表面の凹部に形成されている。

図２（ａ）に示されるように対象物７である「Ｂ」は、アルファベットの意味を伝達する「ビィー」を表す第１刻印領域１０と、アルファベットが浮き出しているように見えさせる視覚的効果を発揮させるための第２刻印領域２０とを備える。同様に、図２（ｂ）〜（ｄ）に示されるように対象物７である「Ｂ」、「Ｓ」及び「Ｊ」は、それぞれアルファベットの意味を表す第１刻印領域１０と、当該アルファベットが浮き出しているように見える視覚的効果を発揮させるための第２刻印領域２０とを備える。

図２（ａ）に示されるように対象物７である第１番目のアルファベット「Ｂ」は、「斜め右下」の位置に第２刻印領域２０を有している。図２（ｂ）に示されるように対象物７である第２番目のアルファベット「Ｂ」は、「斜め右上」の位置に第２刻印領域２０を有している。図２（ｃ）に示されるように対象物７である第３番目のアルファベット「Ｓ」は、「斜め左下」の位置に第２刻印領域２０を有している。図２（ｄ）に示されるように対象物７である第４番目の「Ｊ」は、「斜め左上」の位置に第２刻印領域２０を有している。なお、刻印構造１において、第２刻印領域２０に相当する「ドロップシャドウ」のオフセット・パターンとしては、「上」、「下」、「右」、「左」、「中央」を例示することができる。

図３は、対象物７をアルファベット「Ｂ」とする刻印構造１００の正面図、及び対象物をアルファベット「Ｂ」とする刻印構造１００のＡ−Ａにて切断した場合の構造を示した断面図である。

図３（ａ）は、刻印構造１００の正面図である。図３（ａ）に示されるように対象物をアルファベット「Ｂ」とする刻印構造１００は、アルファベット「Ｂ」が刻印された第１刻印領域２００と、「ドロップシャドウ」に相当する第２刻印領域３００とを備えている。図３（ａ）示されたにアルファベット「Ｂ」とする刻印構造１００は、「斜め右下」の位置に第２刻印領域３００を有している。第２刻印領域３００は、正面視において、刻印構造１００のアルファベット「Ｂ」の曲線部分と、アルファベット「Ｂ」の底辺部分に沿って形成されている。なお、アルファベット「Ｂ」が刻印された第１刻印領域２００は、アルファベット「Ｂ」を特定している輪郭の内部に複数の直線状の溝２２０を備えている。溝２２０は、刻印構造１００のアルファベット「Ｂ」の下辺を基準として、第２刻印領域３００方向に約６０°の角度にて傾斜している。

図３（ｂ）に示されるように第２刻印領域３００は、基材１２０の基材表面３２０を頂点とし、基材１２０の凹部３４０の底面３６０から基材の表面に立ち上がって行く傾斜部３８０を備えている。刻印構造１００は基材１２０の凹部３４０に深さＢＤの底面３６０を有している。すなわち、基材１２０の凹部３４０の底面３６０から基材１２０の表面３２０に立ち上がって行く高さは、基材１２０の凹部３４０の深さＢＤに相当する。

第２刻印領域３００が備えている傾斜部３８０は、対象物の形状に沿った凹部形状からなる溝４００を備えている。溝４００は、傾斜部３８０に複数存在することが必要である。図３（ｂ）に示されるように傾斜部３８０が備えている溝４００は、複数の溝４２０、溝４４０、溝４６０、溝４８０の４本の溝を備えている。溝４００が複数存在することにより、第２刻印領域３００に存在する複数の溝によって光のグラデーションが形成される。溝４００の数は、光のグラデーションが形成され得る数であれば、特に限定されるものではないが２〜１２が好ましく、特に好ましくは、４〜１０、さらに好ましくは、６〜８である。溝４００の数が２以上であると、光のグラデーション効果を発揮することができるため好ましく、溝４００の数が１２以下であると、刻印構造を製造する工程において、工程の簡略化を図ることができるので好ましい。

図３（ｂ）に示されるように傾斜部３８０が備えている溝４００は、対象物であるアルファベット「Ｂ」の曲線部分と、アルファベット「Ｂ」の底辺部分に沿って形成されている。第１刻印領域２００には、対象物であるアルファベット「Ｂ」の形状が刻印されている。第１刻印領域２００に刻印されているアルファベット「Ｂ」のアルファベット「Ｂ」を特定している輪郭を基礎として、その外側に溝４２０が形成され、溝４２０の外側に溝４４０が形成され、溝４４０の外側に溝４６０が形成され、溝４６０の外側に溝４８０が形成される。これらの溝４２０〜４８０は、傾斜部３８０に等間隔となるように形成されている。なお、本発明の刻印構造において、第２刻印領域の傾斜部が備えている複数の溝は、等間隔となるように形成されているものに限定されない。上記複数の溝のそれぞれが異なる間隔をもって形成されていてもよい。

図４は、第２刻印領域３００が有している傾斜部３８０の構造を示した拡大図である。図４に示されるように傾斜部３８０は、円弧形状の凹部形状を有している溝４００を備えている。溝４００は、溝４２０〜４８０から構成されている。溝４２０〜４８０は、凹部形状を有している。これらの凹部形状は、同一であっても異なっていてもよい。これらの凹部形状が連なって、傾斜部３８０上に形成されている。凹部形状は、傾斜部３８０に凹部の溝を形成することができる形状であれば、特に限定されない。例えば、円弧形状、楕円弧形状、テーパ形状等を例示することができる。これらの凹部形状の中でも光のグラデーションが最も形成され易い形状である円弧形状又はテーパ形状が好ましい。

図４に示されるように溝４２０〜４８０は、一定の溝の深さＳＤと一定の溝の幅ＳＷを有している。溝の深さＳＤ及び溝の幅ＳＷは、隣り合っている２つの溝を用いて、以下のように定義される。例えば、溝４２０と溝４４０は隣り合っている。溝４２０は、円弧形状の凹部形状の底４２０Ｂと凹部形状の頂点４２０Ｔを有している。溝４４０は、円弧形状の凹部形状の底４４０Ｂと凹部形状の頂点４４０Ｔを有している。ここで、凹部形状の底４２０Ｂと凹部形状の底４４０Ｂをそれぞれ「谷」とし、凹部形状の頂点４２０Ｔ、凹部形状の頂点４４０Ｔをそれぞれ「山」とする。なお、図４において、点線は、円弧形状を形成させるために用いる切削工具（以下、「ミーリングツール」という。）の形状を示している。

円弧形状を有する溝４００の溝の幅ＳＷは、隣り合う「山」と「山」との距離を表わす。すなわち、円弧形状を有する溝４００の溝の幅ＳＷは、凹部形状の頂点４２０Ｔと凹部形状の頂点４４０Ｔとの差である。また、円弧形状を有する溝４００の溝の深さＳＤは、「山」と「谷」との距離を表わす。すなわち、円弧形状を有する溝４００の溝の深さＳＤは、円弧形状の凹部形状の底４２０Ｂと凹部形状の頂点４２０Ｔとの差である。

溝４４０と溝４６０は隣り合っている。溝４４０は、円弧形状の凹部形状の底４４０Ｂと凹部形状の頂点４４０Ｔを有している。溝４６０も円弧形状の凹部形状の底４６０Ｂと凹部形状の頂点４６０Ｔを有している。円弧形状を有する溝４００の溝の幅ＳＷは、凹部形状の頂点４４０Ｔと凹部形状の頂点４６０Ｔとの差である。また、円弧形状を有する溝４４０の溝の深さＳＤは、円弧形状の凹部形状の底４４０Ｂと凹部形状の頂点４４０Ｔとの差である。隣り合っている溝４６０と溝４８０との関係も同様である。このように、傾斜部３８０は、一定の溝の深さＳＤと一定の溝の幅ＳＷを有する溝を複数備えている。なお、本発明の刻印構造において、第２刻印領域の傾斜部が備えている複数の溝は、一定の溝の深さＳＤと一定の溝の幅ＳＷを有しているものに限定されない。上記複数の溝のそれぞれが、異なる溝の深さＳＤと、異なる溝の幅ＳＷとを有していてもよい。

傾斜部３８０が備えている溝の凹部形状は、楕円弧形状、テーパ形状であってもよい。溝の凹部形状が楕円弧形状の場合、矩形形状、テーパ形状の場合であっても、凹部形状の頂点及び凹部形状の底は存在する。溝の凹部形状が楕円弧形状の場合、テーパ形状の場合であっても、円弧形状の場合と同様に、一定の溝の深さＳＤと一定の溝の幅ＳＷを有する溝を形成することができる。また、凹部形状が楕円弧形状の場合、テーパ形状の場合であっても、複数の溝は、一定の溝の深さＳＤと一定の溝の幅ＳＷを有しているものに限定されない。上記複数の溝のそれぞれが、異なる溝の深さＳＤと、異なる溝の幅ＳＷとを有していてもよい。

傾斜部３８０が備えている溝４００の凹部形状は、一定の溝の幅ＳＷを有する。溝の幅ＳＷは、下記一般式（Ｂ）を満たすことが必要である。

すなわち、溝４００の溝の幅ＳＷは、対象物７の輪郭幅ＫＷとの相対的な関係によって規定されている。具体的には、溝の幅ＳＷは、対象物７の輪郭幅ＫＷに対して、０．０１〜０．０５であることが好ましい。具体的には、溝の幅ＳＷは、対象物７の輪郭幅ＫＷに対して、０．０１以上であると、光のグラデーションを視覚によって認識することができるため好ましく、０．０５以下であると、複数の溝によって、光のグラデーションを十分に発揮することができるため好ましい。

傾斜部３８０が備えている溝４００の凹部形状は、一定の溝の深さＳＤを有す。溝の深さＳＤは、下記一般式（Ｃ）を満たすことが必要である。

すなわち、溝４００の溝の深さＳＤは、溝の幅ＳＷとの相対的な関係によって規定されている。具体的には、溝の深さＳＤは、溝の幅ＳＷに対して、０．０３〜０．２５である。具体的には、溝の深さＳＤは、溝の幅ＳＷに対して、０．０３以上であると、光のグラデーションを視覚によって認識することができるため好ましく、０．２５以下であると、溝によって、光のグラデーションを発揮することができるため好ましい。

図５は、刻印構造が備えている第１刻印領域と第２刻印領域の傾斜部の構造を示した断面図である。第１刻印領域は、基材表面から基材底面の方向に深さＢＤの基材凹部を有している。第１刻印領域は、基材凹部の底面を基準面として形成されている。第１刻印領域に特定された対象物は、その内部に溝を有している。

第２刻印領域は、傾斜部を備えている。この傾斜部は、ｎ本の凹部形状の溝を有している。傾斜部が有している凹部形状のそれぞれの溝は、溝の深さＳＤ、溝の幅ＳＷを有している。

図５（ａ）は、刻印構造が備えている第２刻印領域を示したモデル図である。第２刻印領域は、第１刻印領域の基準面から基材表面に向かって傾斜部を備えており、当該傾斜部には、複数の溝が形成されている。第２刻印領域が備える傾斜部には、第１刻印領域が形成されている基材凹部外縁に突き当たる段部に第１刻印領域の基準面から基材表面に向かって凹部形状の複数の溝が順番に形成されている。

第２刻印領域は、二次元形状を表示するための便法となっているドロップシャドウ技法を用いて意匠的バランスの観点からデザインされている。第２刻印領域が備えている傾斜部は、複数の溝の幅ＳＷ、及び溝の本数を決定し、基材凹部外縁に突き当たる段部を切削加工することによって形成される。

図５（ａ）に示されるように、溝の幅ＳＷと溝の本数を決定することにより、第２刻印領域が備えている傾斜部の幅が必然的に定まる。図５（ａ）においては、（イ）溝の幅ＳＷを有する溝を２本形成することとしたので、傾斜部の幅は、（溝の幅ＳＷ）×２となっている。（ロ）溝の幅ＳＷを有する溝を４本形成することとした場合、傾斜部の幅は、（溝の幅ＳＷ）×４となっている。（ハ）溝の幅ＳＷを有する溝を８本形成することとした場合、傾斜部の幅は、（溝の幅ＳＷ）×８となっている。

第２刻印領域が備えている傾斜部が有する複数の溝の幅ＳＤは、溝の幅ＳＷに対して、最適値となるように決定されている。溝の深さＳＤは、溝の幅ＳＷの０．０３〜０．２５倍となるように決定されている。特に好ましくは、溝の深さＳＤが、溝の幅ＳＷの０．０５倍となるように決定する。なお、溝の深さＳＤの特定は、ＣＡＤを使用して行う。

図５（ｂ）に示されるように、第２刻印領域の凹部底面側外郭Ａ点と、基材表面側外郭Ｂ点とが、傾斜部が有している複数の溝の加工端部となるようにミーリングツールの軌跡が特定される。その結果、傾斜部に形成されている溝が有する凹部形状が特定される。ミーリングツールの種類を決定することにより、第２刻印領域が備えている傾斜部の断面形状が決定される。なお、第１刻印領域凹部外郭部の端部底面と、第２刻印領域の凹部底面側外郭Ａ点との溝形成のためのミーリングツールとの干渉は、対象物の縁取り溝にて吸収される。

第２刻印領域が備えている傾斜部が有する複数の溝は、ミーリングツールを採択し、基材凹部外縁に突き当たる段部を当該ミーリングツールによって、切削加工することによって形成される。ミーリングツールは、球形状であってもよいし、テーパ形状であってもよい。ミーリングツールが球形状である場合には、ミーリングツール底部形状が最適となるように底部形状の半径を採択することが重要となる。ここで、ミーリングツール底部形状とは、ミーリングツールが基材に対して垂直方向に、決定されたミーリングツールの切り込み深さＴＤにて接触し、基材を切削加工する際に特定される形状という。具体的には、球形状のミーリングツールが基材と接触する際に特定される底部形状は、円弧形状となる。

ミーリングツール底部形状は、第２刻印領域が備えている傾斜部が有する溝の幅ＳＷとの相対的な関係によって定められる。ここで、ミーリングツール底部形状の半径をＲとすると、ミーリングツール底部形状の半径Ｒは、以下の一般式（Ｄ）を満たすことが必要となる。

すなわち、ミーリングツール底部形状の半径Ｒは、第２刻印領域が備えている傾斜部が有する凹部形状の溝の幅ＳＷとの相対関係によって決定される。ミーリングツール底部形状の半径Ｒは、凹部形状の溝の幅ＳＷの０．６２〜４．１８倍であることが好ましい。

一般式（Ｄ）において、ミーリングツール底部形状の半径Ｒと凹部形状の溝の幅ＳＷとの比率であるＲ／ＳＷが０．６２以上であると、ミーリングツール底部形状の半径が小さくなり過ぎることなく、かつ、凹部形状の溝が有する凹部が急な凹部形状とならないため、基材の底部の平坦部から基材表面に立ち上がって形成される傾斜部に明暗の光の縞模様が形成されないため好ましい。一方、ミーリングツール底部形状の半径Ｒと凹部形状の溝の幅ＳＷとの比率であるＲ／ＳＷが４．１８以下であると、ミーリングツール底部形状がほぼ直線となり、光の反射角度が小さくなり、面光源から発生する無方向性の入射光の大半が反射し、基材の底部の平坦部から基材表面に立ち上がって形成される傾斜部に光のグラデーションが形成されないことを回避することができるための好ましい。

ミーリングツール底部形状の半径Ｒは、第２刻印領域が備えている傾斜部が有する凹部形状の溝の幅ＳＷとの相対関係によって決定される。既に説明したように、凹部形状の溝の幅ＳＷは、第１刻印領域に特定された対象物の輪郭幅ＫＷとの相対的関係によって決定され、最大値と最小値を有している。また、凹部形状の溝の深さＳＤは上記溝の幅ＳＷとの相対関係によって決定され、最大値と最小値を有している。

ミーリングツール底部形状の半径Ｒを決定する要素となる、対象物の輪郭幅ＫＷ、溝の幅ＳＷ、及び溝の深さＳＤに具体的な数値を与えて、種々のケースにおけるミーリングツール底部形状の半径Ｒを検討する。

例えば、対象物の輪郭幅ＫＷを１，０００ｍｍとすると、その溝の幅ＳＷが有する最小値の溝の幅ＳＷは、上記一般式（Ｂ）により１０ｍｍとなる。溝の幅ＳＷが有する最小値の溝の幅ＳＷに対する、溝の深さＳＤは、最小値と最大値を有しており、その値は、上記一般式（Ｃ）により、最大値２．５ｍｍ、最小値０．３ｍｍとなる。

溝の深さＳＤが最小値をとる場合には、上記一般式（Ｄ）により、ミーリングツール底部形状の半径Ｒは、溝の幅ＳＷの最小値１０ｍｍ×４．１８により４１．８ｍｍとなる。一方、溝の深さＳＤが最大値をとる場合には、上記一般式（Ｄ）により、ミーリングツール底部形状の半径Ｒは、溝の幅ＳＷの最小値１０ｍｍ×０．６２により６．２５ｍｍとなる。

さらに、対象物の輪郭幅ＫＷを１，０００ｍｍとし、その溝の幅ＳＷが有する最大値の溝の幅ＳＷをとる場合も上記と同様に考え、ミーリングツール底部形状の半径Ｒを算出することができる。また、対象物の輪郭幅ＫＷを２．０ｍｍとし、その溝の幅ＳＷが有する最大値の溝の幅ＳＷ、及び最小値の溝の幅ＳＷをとる場合も同様に考え、ミーリングツール底部形状の半径Ｒを算出することができる。表１に、対象物の輪郭幅ＫＷ、溝の幅ＳＷ、溝の深さＳＤに対応したミーリングツール底部形状の半径Ｒを示した。

このようにミーリングツール底部形状の半径Ｒは、対象物の輪郭幅ＫＷ、溝の幅ＳＷ、溝の深さＳＤとの相対関係によって決定される。ミーリングツール底部形状の半径Ｒが決定されることにより、凹部形状の円弧形状が特定される。

一方、ミーリングツールがテーパ形状である場合には、ミーリングツール先端部形状が最適となるようにミーリングツールを採択する。溝が有している凹部形状は、基材凹部外縁に突き当たる段部を当該ミーリングツールにより切削加工することより形成される。ここで、ミーリングツール先端部形状とは、ミーリングツールが基材に対して垂直方向に、決定されたミーリングツールの切り込み深さＴＤにて接触し、基材を切削加工する際に特定される形状という。具体的には、テーパ形状のミーリングツールが基材と接触する際に特定される先端部形状は、所定の角度を有するテーパ形状となる。

ミーリングツール先端部の先端角度は、１１５°〜１７２°であることが好ましい。ミーリングツール先端部の先端角度が１１５°以上であると対象物が際立って浮き出すように見えるため好ましい。ミーリングツール先端部の先端角度が１７２°以下であると第２刻印領域の傾斜部が緩やかとなり、光のグラデーションが形成され易く好ましい。表２に、対象物の輪郭幅ＫＷ、溝の幅ＳＷ、溝の深さＳＤに対応したミーリングツールがテーパ形状である場合の先端角度を示した。

ミーリングツールがテーパ形状である場合も、第１刻印領域に特定された対象物の輪郭幅ＫＷとの相対的関係によって決定された溝の幅ＳＷの最大値及び最小値と、上記溝の幅ＳＷの最大値及び最小値との相対関係によって決定される溝の深さＳＤの最大値及び最小値によって、テーパ形状が特定される。溝の幅ＳＷ及び溝の深さＳＤによって、テーパ形状の先端角度が決定する。

以下、本発明の刻印構造が光のグラデーションを発揮するメカニズムについて説明する。図６（ａ）〜（ｄ）は、上記メカニズムを説明するためのモデル図である。図６（ａ）は、光のグラデーションの基礎となる光のコントラストが形成されるメカニズムを示している。図６（ａ）に示されるように、まず刻印構造の第２刻印領域が備えている傾斜部に光が入射する。傾斜部に入射する光は、面光源から発生する無方向性の入射光（以下、「入射光」という。）である。

第２刻印領域が備えている傾斜部には、複数の溝が形成されている。入射光は、第２刻印領域が備えている傾斜部に形成されている複数の溝を構成するそれぞれの溝に入射する。傾斜部に形成されている溝は、凹部形状を有している。このため、入射光は、溝が有している凹部形状の接触角に対応して反射する。溝が有している凹部形状が円弧形状である場合には、凹部形状を形成する円弧の曲率半径に対応して反射する。また、溝が有している凹部形状がテーパ形状である場合には、凹部形状を形成する先端部の面角度に対応して反射する。

傾斜部に形成された溝に入射した入射光は、反射光となる。反射光は、人間の網膜を刺激する。人間は反射光を認識する。ここで、反射光の強度は、人間が傾斜部に形成されている溝を見る角度により異なる。反射光の強度が「強い」場合には、反射光は「明るい」光として認識される。一方、反射光の強度が「弱い」場合には、反射光は「暗い」光として認識される。

このように、傾斜部に形成されている溝によって、反射光は、溝の凹部形状が有している曲率半径又は面角度に対応して、凹部形状の左側から「暗い」−「明るい」−「暗い」の順番で光のコントラストとなって現出される。溝の凹部形状によって現出される光のコントラストは、段階的に少しずつ変化している。このような光のコントラストが段階的に変化している「様」が光の明暗を有する「光のグラデーション」となる。

図６（ｂ）左図は、傾斜部に形成される溝によって、光のグラデーションが形成され難い場合を示したモデル図である。図６（ｂ）左図に示された溝が有している凹部形状は、円弧形状であり、入射光に対して、溝の深さＳＤが深くなっており（ＳＤ／ＳＷ＞０．２５）、円弧形状の曲率半径が大きくなっている。入射光が溝の凹部形状に入射した場合を考えると、凹部形状の中心に位置する底部から反射される反射光は、その光の強度が「強すぎる」ものとなっており、「明るくなりすぎる」光となっている。一方、凹部形状の両端部から反射される反射光は、その光の強度が「弱すぎる」ものとなっており、「暗すぎる」光となっている。すなわち、図６（ｂ）左図に示された溝が有している凹部形状は、明るさが段階的に変化している「光のコントラスト」を形成することができない。その結果、図６（ｂ）左図に示された溝が有している凹部形状は、クリア過ぎる「明るい」−「暗い」から構成される、単なる「白黒の縞模様」を形成することができるに過ぎない。

本発明の刻印構造が光のグラデーションを発揮するためには、第２刻印領域が備えている傾斜部に形成された溝が有している凹部形状の曲率半径又は面角度を光のコントラストが段階的に変化するように設計することがきわめて重要となる。

図６（ｂ）右図は、第２刻印領域が備えている傾斜部に形成された複数の溝によって、光のグラデーションが形成されている場合を示したモデル図である。図６（ｂ）右図に示された溝が有している凹部形状は、円弧形状であり、入射光に対して、溝の深さＳＤが浅くなっており（ＳＤ／ＳＷ＝０．２５）、複数の溝を構成するそれぞれの溝から反射される反射光は、相互に干渉し合うことになる。しかしながら、傾斜部が備えている複数の溝をどの角度から観察しても、複数の溝を構成するそれぞれの溝から現出される光のグラデーションが１本ごとに明瞭に強く見える結果、光の明暗のグラデーションが溝の数だけ連続して観察される。

図６（ｃ）は、本発明の刻印構造の技術的ポイントとなっている「ドロップシャドウ効果」と、「光のグラデーション効果」とによる「シナジー効果」が発揮されるメカニズムを示したモデル図である。図６（ｃ）に示されるように、第２刻印領域が備えている傾斜部は、基材表面のＢ点より開始されている。傾斜部は、基材表面のＢ点より、傾斜部の終点であり、かつ第１刻印領域の凹部平面の外縁であるＡ点に向かって凹部を形成するように傾斜している。

第２刻印領域が備えている傾斜部は、基材表面から凹んでいるため、傾斜部それ自身がいわゆる「ドロップシャドウ」となっている。かかる傾斜部のドロップシャドウは、人間の視覚を通じて、対象物が基材から突き出ているように見える光学的な錯覚を引き起こすという、ドロップシャドウ効果を奏する。

さらに、第２刻印領域が備えている傾斜部は、複数の溝を有している。かかる複数の溝は、人間の視覚を通じて、対象物を基材から突き出ているように飛躍的に見せ、立体感をさらに増強し、しかも基材に刻印された対象物の高級感を高めるという、光のグラデーション効果を奏する。すなわち、本発明の刻印構造は、第２刻印領域が備えている傾斜部と、傾斜部が有している複数の溝とか相俟って、ドロップシャドウ効果に光のグラデーション効果が追加された両者からなるシナジー効果を奏する。つまり、本発明の刻印構造が有する特有のシナジー効果によって、どのような角度から観察しても、基材凹部に形成された対象物が浮き上がって、立体的に見え、しかも高級感に訴えることができるという、超視覚的な錯覚が現出される。

刻印構造は、対象物が特定された第１刻印領域と、第２刻印領域を備えており、第２刻印領域それ自体が有するドロップシャドウ効果と共に、第２刻印領域が有する凹部形状の溝によって形成される光のグラデーションによって、基材の凹部に形成されている第１刻印領域に特定された対象物を浮き上がっているようにさせている。

このように、本発明の刻印構造は、第２刻印領域が有する凹部形状の溝によって光のグラデーションが形成されることを技術的特徴としている。このため、第２刻印領域が有する溝の凹部形状は、第１刻印領域に特定された対象物に対して、光のグラデーションがバランス良く形成されることができるものであれば十分である。複数の凹部形状の溝１から反射される光の波長による、光のグラデーションをバランス良く形成させるために、溝が備えている凹部形状を切削加工することができる。例えば、溝の凹部形状を切削加工して、円弧形状、楕円弧形状、テーパ形状とすることもできる。溝の凹部形状を形成するためのミーリングツールとして、球形ツール、楕円形のツール、テーパ形のツールを採用することによって、種々の凹部形状を有する溝を形成することができる。

＜実施形態２＞
実施形態２は、第２刻印領域の傾斜部が有している溝の凹部形状がテーパ形状である刻印構造である。図７は、実施形態２の刻印構造が備えている傾斜部が有している溝の凹部形状を示した模式図である。

溝の凹部形状となっているテーパ形状は、一定の溝の深さＳＤと一定の溝の幅ＳＷを有している。実施形態２の刻印構造は、基材の凹部の深さＢＤ、傾斜部が有している凹部形状の溝の幅ＳＷ、溝の深さＳＤ及び溝の本数ｎを適宜決定することによって設計される。テーパ形状は、基材表面から基材底面の方向に尖った形状となっている。テーパ形状を形成させるために用いるミーリングツールの先端角度を適宜設定することにより、テーパ形状を設計することができる。ミーリングツールの先端角度は、光のグラデーションを形成することができれば、特に制限されるものではないが、１１５°〜１７２°であることが好ましい。なお、図７に示された第２刻印領域の傾斜部が有している溝のテーパ形状の先端角度は、１２５°（図７（ａ））、１４１°（図７（ｂ））となっている。

実施形態２の刻印構造において、テーパ形状を有する凹部形状の溝から反射光が発生する。実施形態２の刻印構造においても、実施形態１の刻印構造と同様に、第２刻印領域が有する凹部形状の溝によって形成される光のグラデーションが形成される。

＜実施形態３＞
（刻印構造の製造方法）
次に、刻印構造の製造方法について説明する。本発明の刻印構造の製造方法は、基材凹部の底面に対象物を特定した第１刻印領域を形成する工程と、上記対象物を立体的に表現するための形状を特定した第２刻印領域を形成する工程と、を備えている。以下、各工程について説明する。図８は、刻印構造の製造方法が備える各工程を示したモデル図である。図８の上段は、刻印構造の製造方法によって得られる刻印構造の断面の模式図である。

（第１刻印領域を形成する工程）
刻印構造の製造方法は、工程（ａ）〜（ｈ）を備えている。第１刻印領域を形成する工程は、工程（ａ）及び（ｂ）である。

工程（ａ）は、刻印構造の基礎となる基材凹部が形成される工程である。工程（ａ）において、基材凹部の深さＢＤは、第１刻印領域に特定される対象物の輪郭幅ＫＷに応じて決定される。工程（ａ）によって形成された基材凹部の底面が基準面となる。なお、基材凹部の深さＢＤは、第１刻印領域に特定される対象物７の輪郭幅ＫＷの０．００５〜０．０６倍となっている。

基材凹部を形成する方法は、基材を切削加工することができる方法であれば、特に限定されない。通常は、数値制御（ＮＣ）による機械による加工方法によって行われる。第１刻印領域に特定される対象物の大きさ、形状等によりミーリングツールの刃先の動作を座標値によって、予め設定する。そして、設定されたミーリングツールの刃先の動作の情報を基礎として、数値制御（ＮＣ）工作機械に内蔵されたサーボ―モータ等が動作することによって、ミーリングツールが基材と接触して、切削加工が行なわれる。なお、ミーリングツールの刃先の動作の情報を数値制御（ＮＣ）工作機械に入力する必要があるが、かかるミーリングツールの刃先の動作の情報を記録したものを数値制御（ＮＣ）加工プログラムという。

工程（ｂ）は、工程（ａ）において形成された基材凹部の基準面として、第１刻印領域に特定される対象物の縁取りを形成するために設けられる凹部を形成する工程である。この凹部が有する溝の深さが第２刻印領域の傾斜部において形成される凹部形状の溝の深さに相当する場合がある。工程（ｂ）において設けられた縁取りを形成するために設けられる凹部の底面が基材凹部の最も低く位置する底面となる。工程（ｂ）において設けられた縁取りによって、対象物が特定される。

（第２刻印領域を形成する工程）
第２刻印領域を形成する工程は、工程（ｃ）〜（ｈ）である。工程（ｃ）〜（ｈ）は、第１刻印領域の基準面から基材表面に向かって傾斜部を形成し、当該傾斜部に複数の溝を形成する工程である。第２刻印領域が備える傾斜部は、工程（ｂ）において形成された基材凹部を構成する凸部となった一方の部分（段部）となっている、基材凹部外縁に突き当たる段部に第１刻印領域の基準面から基材表面に向かって凹部形状の複数の溝が順番に形成される。

工程（ｃ）〜（ｈ）は、工程（ｂ）において形成された基材凹部外縁に突き当たる段部を第２刻印領域に切削加工するために当該第２刻印領域の二次元形状を便法となっているドロップシャドウ技法を用いて意匠的バランスの観点からデザインする工程である。工程（ｃ）〜（ｈ）においては、第２刻印領域が備えている傾斜部が有する溝の本数ｎ、溝の幅ＳＷ及び溝の深さＳＤを決定する。

工程（ｃ）〜（ｈ）において、溝の幅ＳＷと溝の本数を決定することにより、第２刻印領域が備えている傾斜部の幅が必然的に定まる。図８においては、溝の幅ＳＷを有する溝を５本形成することとしたので、傾斜部の幅は、（溝の幅ＳＷ）×５となる。

さらに、工程（ｃ）〜（ｈ）において、第２刻印領域が備えている傾斜部が有する複数の溝の深さＳＤを溝の幅ＳＷに対して、最適値となるように決定している。溝の深さＳＤは、溝の幅ＳＷの０．０３〜０．２５倍となるように決定する。特に好ましくは、溝の深さＳＤが、溝の幅ＳＷの０．０５倍となるように決定する。なお、溝の深さＳＤの特定は、ＣＡＤを使用して行う。

まず、工程（ｃ）において第１本目の溝が形成される。第１本目の溝は、第１刻印領域凹部外縁に突き当たる段部がミーリングツールによって切削加工されることにより形成される。第１本目の溝は、第１刻印領域凹部の縁取りを吸収し、凹部形状を形成している。次に、工程（ｄ）において第２本目の溝が形成される。第２本目の溝は、凹部外縁に突き当たる段部がミーリングツールによって切削加工されることにより形成される。続いて、工程（ｅ）〜（ｇ）において、第３本目の溝、第４本目の溝、第５本目の溝が順次形成される。

このように、傾斜部が有している凹部形状の溝は、基材凹部外縁に突き当たる段部をミーリングツールによって順次、切削加工することによって形成することができる。例えば、凹部形状が円弧形状である場合には、球形状のミーリングツールを使用する。かかる球形状のミーリングツールを基材凹部外縁に突き当たる段部と接触させ、段部を切削加工することにより、複数の円弧形状の溝が形成される。

工程（ｃ）〜（ｈ）において、ミーリングツールは、１本の溝を形成するために、基材凹部外縁に突き当たる段部と接触しながら、基材表面から基材裏面方向に駆動する。ミーリングツールは、形成される溝の凹部形状が有する溝の幅ＳＷ、溝の深さＳＤが設計されたスケール値となるように切り込み深さＴＤに相当する距離だけ基材表面から基材裏面方向に駆動する。

工程（ｃ）〜（ｈ）において、傾斜部が有している凹部形状の溝を形成する際には、凹部形状が有する溝の幅ＳＷ、溝の深さＳＤ及び溝の本数を決定することにより、ミーリングツール切り込み深さＴＤが設定される。同時に傾斜部の大きさ、及び傾斜部が有する基材凹部底面から基材表面に立ち上がる角度を適宜設定することができる。

最後に、工程（ｈ）は、工程（ｂ）において形成された基材凹部の第１刻印領域に特定された対象物の縁取りで囲まれる領域に「底面グラデーション溝」を形成させる。工程（ｈ）において形成される溝は直線状の溝であればよく、直線であっても、曲線を含んでいても、一部に波線を含んでいてもよい。工程（ｈ）において形成される溝は、第２刻印領域に傾斜して対象物の底辺に対して３０〜６０°または、１２０〜１５０°傾斜していてもよい。このようにして工程（ｃ）〜（ｈ）によって、複数の溝を有する傾斜部を備えた第２刻印領域が形成され、刻印構造が完成する。

＜実施形態４＞
（色彩が塗り分けられた刻印構造）
実施形態５は、第１刻印領域及び第２刻印領域の色彩と、基材表面の色彩を塗り分けた実施形態である。本発明の刻印構造は、色彩に依存することなく、対象物が浮き出ているように見える効果をするものである。さらに、本発明の刻印構造は、第１刻印領域及び第２刻印領域の色彩と、基材表面の色彩とを塗り分けることによって、一層その効果を助けるものとなっている。

以下、実施例を比較例と共に挙げ、本発明の効果を具体的に説明するが、本発明はかかる実施例に限定されるものではない。

＜実施例１＞
（刻印構造の製造）
実施例１は、対象物を「Ｂ」のアルファベットとした刻印構造である。基材は、１０センチ×２０センチの寸法を有するアルミニウム板（６０６１合金）とした。実施例１の刻印構造は基材凹部の底部に「Ｂ」の文字が刻印された第１刻印領域と、右斜め下に第１刻印領域に特定された「Ｂ」を視覚的に浮き上がって見えるようするための第２刻印領域を備えている。実施例１において、基板を切削するためのミーリングツールとして球形のミーリングツールを採用した。ミーリングツールは、数値制御（ＮＣ）工作機械と接続されており、あらかじめ数値制御（ＮＣ）プログラムによってプログラミングされた動作をする。基材は、ミーリングツールによって、所望の形状に加工される。

まず、基材に凹部を形成させる。凹部の深さＢＤは、対象物「Ｂ」の文字を構成する曲線部分の輪郭幅の大きさによって定めされる。対象物「Ｂ」の文字を構成する曲線部分の輪郭幅の大きさを９．０ｍｍとした。凹部の深さＢＤをその０．０３倍（１／３０に設定して、０．３０ｍｍとした。基材に形成された凹部を基材凹部とした。この基材凹部に対象物「Ｂ」を刻印した。

次に、基材凹部に形成された第１刻印領域に隣接し、対象物「Ｂ」の右斜め下に第２刻印領域を形成した。第２刻印領域は、基材凹部の底面から基材表面に向かって立ち上がるように形成されている。第２刻印領域は、傾斜部を備えている。球形のミーリングツール（ミーリングツール底部形状の半径Ｒ＝０．５ｍｍ）を用い、凹部形状の溝を形成する。凹部形状の溝の本数を６本とした。溝の形状は円弧形状である。実施例１の刻印構造が備えている溝の深さＳＤを１０μｍ、幅の幅ＳＷを０．２ｍｍとした。最後に第１刻印領域に刻印された対象物「Ｂ」の輪郭内部に深さ０．０５ｍｍの円弧形状の溝を設けた。実施例１において製造した刻印構造の製造条件を表１に示した。

（刻印構造の評価）
実施例１において製造した刻印構造を以下の基準により評価した。評価は、本件特許出願人の研究所内の年齢３０〜５５歳の平均的な視力を有する男女を１００人選出し、日中、本件特許出願人の研究所内等の屋内において、肉眼観察より行った。評価ポイントは１０段階評価とした。表２に評価基準及び評価ポイントを示した。さらに、実施例１において製造された刻印構造の写真を図９に示した。

＜実施例２〜８＞
実施例２〜８は、実施例１で製造した刻印構造において、製造条件を適宜変更して製造した刻印構造である。具体的には、基材の凹部の深さＢＤ、溝の形状（切削用工具（ミーリングツール）、溝の深さＳＤ、幅の幅ＳＷ、溝の本数ｎを変更して刻印構造を製造した。製造条件を表１に示した。さらに、実施例４、７において製造された刻印構造の写真をそれぞれ図１０、１１に示した。

＜実施例９〜１１＞
実施例９〜１１は、実施例１で製造した刻印構造において、製造条件を適宜変更して製造した刻印構造である。具体的には、対象物、基材の凹部の深さＢＤ、溝の形状（切削用工具（ミーリングツール））、溝の深さＳＤ、幅の幅ＳＷ、溝の本数ｎを変更して刻印構造を製造した。実施例９（「化」の文字）、実施例１０（「ホ」の文字）、実施例１１（「星印」の図形）を刻印構造の対象物とした。実施例９〜１１の製造条件を表３に示した。さらに、実施例９〜１１において製造された刻印構造の写真をそれぞれ図１２〜１４に示した。

＜実施例１２〜１４＞
実施例１２〜１４は、刻印構造を形成する基材を実施例１２（ステンレス）、実施例１３（真鍮）、実施例１４（アクリル樹脂）を用いた以外は、実施例１と同様の条件にて本発明の刻印構造を製造した。製造条件と共に評価結果を表４に示した。さらに、実施例１２〜１４において製造された刻印構造の写真をそれぞれ図１５〜１７に示した。

＜比較例１＞
比較例１は、対象物を「Ｂ」のアルファベットを凸部とした形成させた刻印構造である。比較例１の刻印構造は、対象物を「Ｂ」のアルファベットを浮き出させるために実施例１の第１刻印領域に相当する領域を基材表面として残存させて、対象物を特定し、その周辺を凹部とした構造である。比較例１において製造された刻印構造の写真を図１８に示した。

表１及び２からも明らかなように、本発明の刻印構造は、基材の凹部の深さＢＤ、溝の形状（切削用工具（ミーリングツール））、溝の深さＳＤ、幅の幅ＳＷ、溝の本数ｎを緻密に設定することにより、対象物が浮き出しているように見える視覚的効果を有する。表２からも明らかなように、本発明の刻印構造は、アルミニウム、アルミニウム合金、マグネシウム、真鍮、ステンレス等のあらゆる金属材料、アクリル樹脂等の高分子材料にも適用することができる。

図９（実施例１）と図１８（比較例１）の写真とを比較する。図９に示された本発明の刻印構造は、基材に施される文字、図形、記号等の模様を構成する部分を「凹部」とし、当該「凹部」からなる文字、図形、記号等の模様を立体的に現出させ、高級感のある高度な刻印構造であることが明瞭に理解することができる。一方、図１８に示された刻印構造は、基材に施される文字、図形、記号等の模様を構成する部分を「凸部」とし、当該「凸部」からなる文字、図形、記号等の模様を立体的に現出させようと試みたものであったが、対象物を特定することができない刻印構造である。

基材の表面に施された文字、図形、記号等の模様となる刻印構造を「凹部」とすれば、当該「凹部」は、物理的に手前に突出した「凸部」ではないから、視覚的に立体的な文字、図形、記号等の模様が現出されることとはならないことを勘案すると、本発明の刻印構造の技術的意義は、きわめて大きい。

本発明の刻印構造は、基材の基材凹部に対象物が形成されているにも関わらす、対象物が浮き出しているように見える視覚的効果を有する。しかも、本発明の刻印構造は、ドロップシャドウと光のグラデーションにより、対象物の浮き上がり感に加え、突出し感、立体感及び高級感を発揮することができる。このため、本発明の刻印構造は、表面に文字、図形、記号等の模様が施されるあらゆる製品に適用が可能であり、汎用性がきわめて高い。

１ 刻印構造
２ 基材
３ 基材表面
４ 基材裏面
５ 基材凹部
６ 基材凹部底面（基準面）
７ 対象物
８ 溝（第１刻印領域）
１０ 第１刻印領域
２０ 第２刻印領域
１００ 刻印構造（対象物「Ｂ」）
１２０ 基材
２００ 第１刻印領域（対象物「Ｂ」）
２２０ 第１刻印領域溝
３００ 第２刻印領域（対象物「Ｂ」）
３２０ 基材表面
３４０ 基材凹部
３６０ 基材凹部の底面（基準面）
３８０ 傾斜部
４００ 凹部形状の溝
４２０ 円弧形状の溝（第１）
４４０ 円弧形状の溝（第２）
４６０ 円弧形状の溝（第３）
４８０ 円弧形状の溝（第４）

Claims (5)

1. 基材凹部に形成され、対象物が浮き出しているように見える視覚的効果を有する刻印構造であって、
   前記刻印構造は、前記基材凹部の底面に対象物を特定した第１刻印領域と、
   前記対象物を立体的に表現するための第２刻印領域と、を備え、
   前記第２刻印領域は、前記対象物の形状に沿って、基材の表面を頂点として前記基材凹部の底面から前記基材の表面に向かって立ち上がって行く傾斜部を備えており、
   前記傾斜部は、前記対象物の形状に沿った凹部形状からなる複数の溝を備えていることを特徴とする刻印構造。
2. 前記凹部形状が円弧形状及び／又はテーパ形状であることを特徴とする請求項１に記載の刻印構造。
3. 前記凹部形状が球形状のミーリングツールにより形成され、
   前記溝の幅ＳＷと前記ミーリングツール底部形状の半径Ｒとの関係が下記一般式（Ｄ）の条件を満たすことを特徴とする請求項１に記載の刻印構造。
   
4. 前記第１刻印領域は、複数の直線状の溝を備えており、
   前記直線状の溝は、前記第２刻印領域の方向に傾斜していることを特徴とする請求項１〜３いずれか1項に記載の刻印構造。
5. 基材凹部に形成され、対象物が浮き出しているように見える視覚的効果を有する刻印構
   造の製造方法であって、
   前記基材凹部の底面に対象物を特定した第１刻印領域を形成する工程と、
   前記対象物の形状に沿って、基材の表面を頂点として前記基材凹部の底面から前記基材の表面に向かって立ち上がって行く傾斜部を形成させ、
   前記傾斜部が前記対象物の形状に沿った凹部形状からなる複数の溝を形成させることによって、
   前記対象物の形状を立体的に表現するための形状を特定した第２刻印領域を形成する工
   程と、を備えていることを特徴とする刻印構造の製造方法。