JP6564065B2 - 永久的な誘電体としてのマレイミド及びシクロオレフィンモノマーのポリマー - Google Patents

永久的な誘電体としてのマレイミド及びシクロオレフィンモノマーのポリマー Download PDF

Info

Publication number
JP6564065B2
JP6564065B2 JP2017557903A JP2017557903A JP6564065B2 JP 6564065 B2 JP6564065 B2 JP 6564065B2 JP 2017557903 A JP2017557903 A JP 2017557903A JP 2017557903 A JP2017557903 A JP 2017557903A JP 6564065 B2 JP6564065 B2 JP 6564065B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alkyl
dione
formula
polymer
hept
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017557903A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018520222A (ja
JP2018520222A5 (ja
Inventor
エドモンド・エルス
ロイス・グロッフ
Original Assignee
プロメラス, エルエルシー
プロメラス, エルエルシー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by プロメラス, エルエルシー, プロメラス, エルエルシー filed Critical プロメラス, エルエルシー
Publication of JP2018520222A publication Critical patent/JP2018520222A/ja
Publication of JP2018520222A5 publication Critical patent/JP2018520222A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6564065B2 publication Critical patent/JP6564065B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F232/00Copolymers of cyclic compounds containing no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system
    • C08F232/08Copolymers of cyclic compounds containing no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system having condensed rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/04Anhydrides, e.g. cyclic anhydrides
    • C08F222/06Maleic anhydride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/36Amides or imides
    • C08F222/40Imides, e.g. cyclic imides
    • C08F222/402Alkyl substituted imides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G61/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/12Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/122Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
    • C08G61/123Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
    • C08G61/124Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds with a five-membered ring containing one nitrogen atom in the ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L45/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having no unsaturated aliphatic radicals in side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic or in a heterocyclic ring system; Compositions of derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325Non-aqueous compositions
    • G03F7/327Non-aqueous alkaline compositions, e.g. anhydrous quaternary ammonium salts
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/10Definition of the polymer structure
    • C08G2261/12Copolymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/30Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
    • C08G2261/33Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating non-aromatic structural elements in the main chain
    • C08G2261/332Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating non-aromatic structural elements in the main chain containing only carbon atoms
    • C08G2261/3325Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating non-aromatic structural elements in the main chain containing only carbon atoms derived from other polycyclic systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

本出願は、2015年5月6日に出願された米国仮出願62/157,607を優先権として主張し、この出願の全文は参照により本願に組み込まれる。
本発明は、永久的な誘電体として有用なマレイミド及びシクロオレフィンモノマーのポリマーのシリーズに関する。より詳しくは、本発明は、様々なノルボルネン型シクロオレフィンモノマー及び無水マレイン酸(ここで、無水マレイン酸は、完全又は部分加水分解すなわち開環され、完全又は部分エステル化される)と共重合された非置換、一置換又は二置換マレイミドモノマーのシリーズに関する。本発明はまた、これらのポリマーの製造方法及びそれらの応用に関する。特に、本発明のポリマーは、様々な異なる用途の中でも永久的な誘電体としての様々な電子材料への応用に有用であることが明らかになった。
マイクロ電子デバイスがより小さいジオメトリで製造されることにより、限定されたより小さいジオメトリの厳しい要件を満たす先端物質に対する要求が増加している。特に、サブミクロン素子ジオメトリは、メモリ及びロジック集積回路(IC)、液晶ディスプレイ(LCD)、有機発光ダイオード(OLED)及びその他の無線周波数(Rf)及びマイクロ波装置用の様々なマイクロ電子パッケージの製造において日常的なものになった。例えば、無線周波数集積回路(RFIC)、マイクロマシン集積回路(MMIC)、スイッチ、カプラ、位相調整器(phase shifter)、表面音響波(SAW)フィルタ及びSAWデュプレクサのような装置が最近サブミクロン寸法で作製されている。
このようなより小さいジオメトリによって、容量結合に起因した隣接する信号ライン間又は信号ラインと素子フィーチャ(例えば、ピクセル電極)との間の任意の混線を減少又は除去するために、低い誘電定数を有する誘電体に対する要求が生じた。多くの低誘電性(low−K)物質がマイクロ電子デバイスに利用可能であるが、光電子デバイスの場合、このような物質は、可視光線スペクトルにおいて広範囲に透明でなければならず、そのような光電子デバイスの他の要素と両立できない高温処理(300℃以上)は要求されず、大規模の光電子デバイス作製において低費用かつ実現可能でなければならない。
したがって、別途のイメージ化層の蒸着必要性を回避するために、自己イメージ化可能な層を形成可能な物質を具備することが好ましい。このような物質はまた、基板に適用しやすく、低い誘電定数(3.9以下)と250℃を超える温度に対する熱安定性を有するべきである。むろん、そのような物質は、より低コストで用いることができ、ポジティブ又はネガティブトーン光イメージ化性能、水性塩基現像能、熱応力後の高い透明性及び硬化温度における低い重量損失のような特性を特徴とすることが好ましい。安価なアクリルポリマーは、良好な光イメージ化特性を提供し、水性塩基現像可能なものであることが報告されている(例えば、特開平5−165214号公報及び特開2003−162054号公報に開示された脂環族オレフィン樹脂を含む感放射線性樹脂組成物を参照)。同様に、ポリイミドは、良好な熱安定性を提供するものであることが報告されている。しかし、これらの物質は、特定の欠点を有し、これにより、本願で考慮される適用に適していない。例えば、アクリルは、高い熱安定性(すなわち、200℃より高温)が要求される適用には適しておらず、一般的にポリイミドの多くは、水性塩基現像性が要求されるポジティブトーン又はネガティブトーン剤形に適しておらず、一般的に好ましい透明性を表さないので、これらを特定の光電子応用に適さないものにする。一部のポリイミド及びポリベンゾオキサゾールは誘電定数が低いが、依然として配線密度が高く、信号速度が速い高集積及び/又は小型化デバイスに効果的であるため、十分に低い誘電率を有し得ない可能性もある。また、ポリイミドとポリベンゾオキサゾールは、いずれも300℃を超える硬化温度を必要とするため、これらを様々な適用に適さないものにする。このような公知のポリイミド物質の1つは、日本特許第3,262,108号公報に開示されたポリイミド前駆体及びジアゾキノン型化合物を含むポジティブトーン感光性樹脂である。
最近、ペンダントマレイミド基を有するノルボルネン型繰り返し単位及び無水マレイン酸型繰り返し単位を含有する特定の共重合体は、化学線に画像露光されると、自己イメージ形成層能力を特徴とする特定のマイクロ電子適用に有用であることが報告された(2013年9月24日に出願された同時係留中の米国特許出願第14/034,682号明細書を参照)。
特開平5−165214号公報 特開2003−162054号公報 日本特許第3,262,108号公報 米国特許出願第14/034,682号明細書
しかしながら、他の特性の中でも自己光パターン型の特性だけでなく、ポジティブトーン剤形の未露光領域から膜厚の維持(すなわち、低い暗視野損失)、硬化後の低い熱リフロー、例えば、再分配層(RDL)を含むデバイスのようなダウンストリーム工程製造ステップ及び/又は溶媒ストリッパ作業に係る様々な化学物質及び工程条件に対する改善した安定性を有する費用効果的な永久誘電体が依然として必要である。
したがって、本発明の目的は、様々な電子及び/又は光電子デバイス製造への適用のための上述した特性を有する有機ポリマー物質を提供することである。
本発明による実施形態を、下記の添付の図面及び/又はイメージを参照して以下に説明する。図面が提供される場合、それは単に例示を目的として提供されるデバイスを単純化した一部の図面である。
図1上は、無水マレイン酸繰り返し単位が開環されていない本発明の実施形態のポリマー(COMA−MIポリマー)のFT−IRスペクトルを示し、図1下は、無水マレイン酸繰り返し単位が開環された本発明の実施形態のポリマー(ROMA−MIポリマー)のFT−IRスペクトルを示す。
図2は、熱硬化後における、本発明の感光性組成物の一実施形態のポジティブトーンリソグラフィーイメージの光学顕微鏡写真(5倍拡大)を示す。
図3A及び図3Bは、本発明の感光性組成物の一実施形態の熱硬化前(図3A)及び後(図3B)における10μm離隔されたトレンチのポジティブトーンリソグラフィーイメージの断面走査電子顕微鏡写真(SEM)を示す。
図4A及び図4Bは、比較感光性組成物の1つの熱硬化前(図4A)及び後(図4B)における10μm離隔されたトレンチのポジティブトーンリソグラフィーイメージの断面走査電子顕微鏡写真(SEM)を示し、ここで、10μmトレンチが熱硬化中に閉状態に流動したことが明らかである。
図5は、膜のシワが明確に表れた、熱硬化の間に比較ポリマー組成物の1つのポジティブトーンリソグラフィーイメージの光学顕微鏡写真を示す。
本発明による実施形態は、本願に記載したような特定の類型のノルボルネン型モノマー由来の少なくとも1つの繰り返し単位、以下において定義する無水マレイン酸型モノマー由来の少なくとも1つの第2繰り返し単位、及びマレイミド由来の少なくとも1つの第3繰り返し単位を含むポリマーを含んだ(これに対して限定されない)様々なポリマー、及びこのようなポリマーを含む組成物に関する。このようなポリマー組成物は、マイクロ電子デバイス及び光電子デバイスの製造において層として有用な自己イメージ化可能な膜を形成することができる。すなわち、化学線に画像露光した後、このような層(又は膜)を現像してパターン化された層(又は膜)を形成することができ、ここで、このようなパターンは層(又は膜)が露光されたイメージを反映する。このような方式により、それらのマイクロ電子デバイス及び/又は光電子デバイスの一部分であるか又はその一部分になる構造を提供することができる。
本願において用いられる用語は次の意味を有する。
本願において用いられるように、冠詞「a」、「an」、及び「the」は別途に明示するか、又は明確に1つの指示対象を限定していない限り、複数の指示対象を含む。
本願及び添付の特許請求の範囲で用いられる成分、反応条件などの数量を言及するすべての数、値及び/又は表現は、それらの値を得る際に生じる計測の様々な不確実性に影響されるため、特に断りのない限り、すべての場合において用語「約」によって修飾されていると理解されるべきである。
数値の範囲が本願に開示される場合、それらの範囲は、範囲の最小値と最大値、及びそれらの最小値と最大値の間のすべての値を含み、連続的である。さらに、範囲が整数を言及する場合、それらの範囲の最小値と最大値の間のすべての整数が含まれる。また、多重範囲を提供して特徴又は特性を記載する場合、それらの範囲は組み合わせることができる。言い換えれば、特に断りのない限り、本願に開示されたすべての範囲は、その中に包含される任意の及びすべての下位範囲が含まれるものと理解されるべきである。例えば、「1〜10」の規定範囲には、最小値1と最大値10との間の任意の及びすべての下位範囲が含まれるものであると考えるべきである。1〜10の例示的な下位範囲は、1〜6.1、3.5〜7.8、5.5〜10などを含むが、これらに限定されない。
本願において用いられるように、記号
(波線)は、他の繰り返し単位もしくは他の原子又は分子又は基又は部位と、必要に応じては、表されるような基の部位と結合が生じる位置を示す。
本願において用いられるように、「ヒドロカルビル」とは、炭素及び水素原子を含む基のラジカルを言及し、非制限的な例としては、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、アルカリール、及びアルケニルである。「ハロヒドロカルビル」という用語は、少なくとも1つの水素がハロゲンで置換されたヒドロカルビル基を指す。パーハロカルビルという用語は、すべての水素がハロゲンで置換されたヒドロカルビル基を指す。
本願において用いられるように、用語「(C−C15)アルキル」には、メチル及びエチル基と、直鎖もしくは分岐鎖プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル及び様々な別の同族体基が含まれる。特定のアルキル基は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル及びtert−ブチルである。派生用語、例えば、「(C−C15)アルコキシ」、「(C−C15)チオアルキル」、「(C−C15)アルコキシ(C−C15)アルキル」、「ヒドロキシ(C−C15)アルキル」、「(C−C15)アルキルカルボニル」、「(C−C15)アルコキシカルボニル(C−C15)アルキル」、「(C−C15)アルコキシカルボニル」、「アミノ(C−C15)アルキル」、「(C−C15)アルキルアミノ」、「(C−C15)アルキルカルバモイル(C−C15)アルキル」、「(C−C15)ジアルキルカルバモイル(C−C15)アルキル」、「モノ−又はジ−(C−C15)アルキルアミノ(C−C15)アルキル」、「アミノ(C−C15)アルキルカルボニル」、「ジフェニル(C−C15)アルキル」、「フェニル(C−C15)アルキル」、「フェニルカルボニル(C−C15)アルキル」及び「フェノキシ(C−C15)アルキル」は、状況に応じて適切に解釈されるべきである。
本願において用いられるように、用語「シクロアルキル」には、公知のシクリックラジカルのすべてが含まれる。「シクロアルキル」の代表例には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどが含まれるが、これらに限定されない。派生用語、例えば、「シクロアルコキシ」、「シクロアルキルアルキル」、「シクロアルキルアリール」、「シクロアルキルカルボニル」は、状況に応じて適切に解釈されるべきである。
本願において用いられるように、用語「(C−C)アルケニル」には、エテニル及び直鎖もしくは分岐鎖プロペニル、ブテニル、ペンテニル及びヘキセニル基が含まれる。同様に、用語「(C−C)アルキニル」には、エチニル及びプロピニル、及び直鎖もしくは分岐鎖ブチニル、ペンチニル及びヘキシニル基が含まれる。
本願において用いられるように、用語「(C−C)アシル」は、「(C−C)アルカノイル」と同様であり、また構造的には「R−CO−」として表すことができ、式中Rは、本願において定義したような(C−C)アルキルである。さらに、「(C−C)アルキルカルボニル」は、(C−C)アシルと同様である。具体的には、「(C−C)アシル」は、ホルミル、アセチル又はエタノイル、プロパノイル、n−ブタノイルなどを意味する。派生用語、例えば、「(C−C)アシルオキシ」及び「(C−C)アシルオキシアルキル」は、状況に応じて適切に解釈されるべきである。
本願において用いられるように、用語「(C−C15)パーフルオロアルキル」は、前記アルキル基中のすべての水素原子がフッ素原子で置換されることを意味する。例示としては、トリフルオロメチル及びペンタフルオロエチル、及び直鎖もしくは分岐鎖ヘプタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、ウンデカフルオロペンチル及びトリデカフルオロヘキシル基が含まれる。派生用語「(C−C15)パーフルオロアルコキシ」は、状況に応じて適切に解釈されるべきである。
本願において用いられるように、用語「(C−C10)アリール」は置換又は非置換フェニル又はナフチルを意味する。置換フェニル又はナフチルの具体例としては、o−、p−、m−トリル、1,2−、1,3−、1,4−キシリル、1−メチルナフチル、2−メチルナフチルなどが含まれる。「置換フェニル」又は「置換ナフチル」には、本願においてさらに定義するような、可能な置換基のいずれか、又は当該技術分野における公知のものが含まれる。派生用語「(C−C10)アリールスルホニル」は、状況に応じて適切に解釈されるべきである。
本願において用いられるように、用語「(C−C10)アリール(C−C)アルキル」は、本願において定義したような(C−C10)アリールが、さらに本願において定義したような(C−C)アルキルに結合することを意味する。代表例には、ベンジル、フェニルエチル、2−フェニルプロピル、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメチルなどが含まれる。
本願において用いられるように、用語「ヘテロアリール」には公知のヘテロ原子含有芳香族ラジカルのすべてが含まれる。代表的な5員ヘテロアリールラジカルには、フラニル、チエニル又はチオフェニル、ピロリル、イソピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリルなどが含まれる。代表的な6員ヘテロアリールラジカルには、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニルラジカルなどが含まれる。ビシクリックヘテロアリールラジカルの代表例には、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、インドリル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリル、ベンズイミダゾリル、インダゾリル、ピリドフラニル、ピリドチエニルラジカルなどが含まれる。
本願において用いられるように、用語「ヘテロサイクル」には、公知の還元ヘテロ原子含有シクリックラジカルのすべてが含まれる。代表的な5員ヘテロサイクルラジカルには、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピロリジニル、2−チアゾリニル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロオキサゾリルなどが含まれる。代表的な6員ヘテロサイクルラジカルには、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリニルなどが含まれる。他の様々なヘテロサイクルラジカルには、アジリジニル、アゼパニル、ジアゼパニル、ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル、及びトリアゾカニルなどが含まれるが、これに限定されない。
「ハロゲン」又は「ハロ」とは、クロロ、フルオロ、ブロモ及びヨードを意味する。
広義には、用語「置換」は、有機化合物のすべての許容可能な置換基を含むことが意図される。本願に開示されるようないくつかの特定の実施形態において、用語「置換」は、(C1−6)アルキル、(C2−6)アルケニル、(C1−6)パーフルオロアルキル、フェニル、ヒドロキシ、−COH、エステル、アミド、(C−C)アルコキシ、(C−C)チオアルキル、(C−C)パーフルオロアルコキシ、−NH2、Cl、Br、I、F、−NH(C−C)アルキル、及び−N((C−C)アルキル)からなる群より独立に選択された1つ以上の置換基での置換を意味する。しかし、当業者に知られている他の好適な置換基のいずれも、これらの実施形態において用いることができる。
例えば、R及びRが置換基の群より独立に選択されるという下記の説明は、R及びRが独立に選択されることを意味するが、また、Rの変数が分子内で1回以上示される場合、これらの発生は独立に選択されることを意味する(例えば、R及びRが、それぞれ化学式(A)の基を含むと、RがRにおいて水素であってもよく、RがRにおいてメチルであってもよい)。当業者は、置換基の大きさ及び性質が存在する他の置換基の数及び性質に影響を及ぼすこともあることを認識すべきである。
注目すべき点は、本願のテキスト、スキーム、実施例及び表において原子価が満たされていない任意の原子は、それらの原子価を満たす適切な個数の水素原子を有すると推定されることである。
本願において用いられるように、「ポリマー組成物」又は「ターポリマー組成物」という用語は、本願では相互交換可能に用いられ、少なくとも1つの合成ポリマー又はターポリマー、及びそれらのポリマーの合成に伴う開始剤、溶媒又はその他の要素からの残渣を含むと意図され、それらの残渣は、共有的に混入されるものではないと理解される。「ポリマー」又は「ポリマー組成物」の一部として考えられるそれらの残渣及びその他の要素は、典型的には、容器間で又は溶媒又は分散媒間で移動するとき、それらがポリマーと共に残留する傾向があるように、ポリマーと混合又は共混合される。ポリマー組成物は、それらの組成物の特定の性質を提供又は変更するためにポリマーの合成後に添加される物質をさらに含むことができる。それらの物質には、以下でより詳しく議論されるように、溶媒、酸化防止剤、光開始剤、増感剤及びその他の物質を含むが、これらに限定されない。
「由来の」という用語は、ポリマー繰り返し単位が、例えば、化学式(I)によるポリシクリックノルボルネン型モノマー、化学式(II)の無水マレイン酸モノマー、及び化学式(III)のマレイミドから重合(形成)されることを意味し、ここで、結果として生じるポリマーは、以下に示すような交互方式でノルボルネン型モノマーと無水マレイン酸又はマレイミドモノマーの2,3連鎖によって形成され、下記式において、XはO又はN−R11であり、ここで、R11は、以下で定義する通りである。
与えられたポリマー中のモノマー組成に応じて、繰り返し単位は、交互的でないこともあることを理解すべきである。すなわち、例えば、ノルボルネン型モノマーと無水マレイン酸及びマレイミドモノマーの合計モル量のモル比50:50以外のモル比を含有するポリマーでは、繰り返し単位は交互的でないこともあり、モノマーのランダムブロックがより高いモル含量で存在する。
「低K」という用語は、一般的に、熱的に形成された二酸化ケイ素の誘電定数(3.9)よりも低い誘電定数を示し、「低K物質」に関連して用いられるとき、これは、誘電定数が3.9未満の物質を意味すると理解される。
「フォトディファイナブル」という用語は、それ自体でパターン化された層又は構造に形成される、本発明の実施形態によるポリマー組成物のような、物質又は物質の組成物の特徴を指す。代わりの用語として、「フォトディファイナブル層」は、上述したパターン化された層又は構造を形成するために、その上に形成された別の物質層、例えば、フォトレジスト層の使用を求めない。また、このような特性を有するポリマー組成物は、パターン化された膜/層又は構造を形成するためのパターン形成スキームに用いられるものと理解される。そのようなスキームには、フォトディファイナブル物質又は層の「画像露光」が含まれることが分かる。そのような画像露光は、層の選択された部分の化学線への露光を意味すると解釈され、ここで、選択されていない部分は化学線へのその露光から保護される。
「光子的に触媒を形成する物質」という用語は、「化学線」に露光するとき、破壊、分解し、又は、他の方式でその分子組成を変え、ポリマーで架橋反応を開始することができる化合物を形成する物質を意味し、ここで、「化学線」という用語は、上述した分子組成の変化を引き起こすことができる任意の類型の放射線を含むことを意味する。例えば、そのような放射線又は適切なX線及び電子ビーム供給源からの放射線の供給源に関係ない任意の波長の紫外線又は可視光線である。「光子的に触媒を形成する」好適な物質の非制限的な例には、以下で詳しく議論される光酸発生剤及び光塩基発生剤が含まれる。一般的に、「光子的に触媒を形成する物質」はまた、適切な温度で加熱されると触媒を形成することに留意すべきである。このような露光は、多くの場合、ポジティブトーンイメージを現像した後、ブランケット露光により好適な放射線へのイメージを後現像し、固定させるのに好ましい。
組成物、例えば、「硬化組成物」に関連して用いられる、「硬化する」(又は「硬化の」)という用語は、組成物に含まれる架橋結合性成分の少なくとも一部が少なくとも部分的に架橋結合されることを意味する。本発明の一部の実施形態において、架橋結合は、ポリマー膜を現像液に不溶化するのに十分であり、一部の他の実施形態においては、ポリマー膜は、通常用いられる溶媒に不溶性である。当業者は、架橋結合の存在及び程度(架橋結合密度)が動的機械的熱分析(DMTA)のような様々な方法によって決定され得るものであると理解される。この方法は、コーティング又はポリマーの自由膜のガラス転移温度及び架橋結合密度を決定する。硬化した物質のこのような物理的特性は、架橋結合されたネットワークの構造に関連がある。より高い架橋結合密度値は、コーティング又は膜におけるより高い架橋結合度を示す。
モノマー
本発明によるポリマーの実施形態の一部である、本願に記載したような様々な第1タイプのモノマーは、当業界に一般的に知られている。一般的に、本発明のポリマーは、広範囲の第1タイプの「ポリシクリック」繰り返し単位を含む。本願で定義したように、「ポリシクリックオレフィン」又は「ポリシクロオレフィン」という用語は同じ意味であり、本発明のポリマーを製造するのに用いられる第1タイプのモノマー化合物のいくつかを示すために相互交換的に用いられる。このような化合物又はモノマーの代表例は「ノルボルネン型」モノマーであり、一般的に、本願では下記に示されたような少なくとも1つのノルボルネン部位を含む付加重合性モノマー(又は結果として生成される繰り返し単位)と呼ばれる。
本発明による実施形態に含まれる最も単純なノルボルネン型又はポリシクリックオレフィンモノマーは、ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エンとしても知られているノルボルネンそれ自体である。しかしながら、ノルボルネン型モノマー又は繰り返し単位という用語は本願において、ノルボルネンそれ自体だけでなく、任意の置換ノルボルネン又はその置換又は非置換高級シクリック誘導体を意味することとして用いられる。そのようなモノマーの代表例には、ビシクロ[2.2.2]オクト−2−エン、1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロ−1,4:5,8−ジメタノナフタレン、1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロ−1,4−エポキシ−5,8−メタノナフタレンなどが含まれるが、それらに限定されない。
上述したように、本発明に用いられた「ノルボルネン型」モノマー化合物は、当業者に公知の任意の手順によって合成することができる。具体的には、本願において用いられる第1タイプのモノマーの製造に用いられる出発物質のいくつかは公知のものであるか、それ自体が商業的に利用可能である。本願において用いられた第1タイプのモノマーだけでなく、いくつかの前駆体化合物は、文献に報告され、本願に追加記載されたように、類似の化合物を製造するのに用いられる方法によって製造できる。例えば、米国特許出願第2012/0056183A1号を参照する。
一般的に、m=0である化学式(I)の第1タイプのモノマーの製造のための経済的な経路は、シクロペンタジエン(CPD、IV)を典型的に昇温である、好適な反応温度で化学式(V)又は(VI)の好適なジエノフィル(dienophile)と反応させ、一般に下記反応スキームIで示す化学式(I)又は(III)のモノマーを形成するディールスアルダー添加反応に依存する。
上記式において、R、R、R及びRは、本願で定義した通りである。
m=1又は2である化学式(I)の他のモノマー化合物はまた、化学式(V)の好適なジエノフィルの存在下でジシクロペンタジエン(DCPD、VI)の熱分解によって同様に製造できる。この方法において形成された化学式(I)の化合物自体は、ジエノフィルとして作用し、CPD、IVと反応してm=1である化学式(I)の化合物を生成し、これは、再度CPD、IVの別の分子と反応させ、スキームIIに示したように、m=2である化学式(I)の化合物などを形成することができる。
上記式において、m、R、R、R及びRは、本願で定義した通りである。化学式(V)のジエノフィルは、一般的に商業的に利用可能であるか又は任意の公知の文献の手順により製造できる。
同様に、本願に記載したような化学式(II)及び(III)の様々な異なるモノマーも当業界に知られているか又はそれ自体が商業的に利用可能である。また、化学式(II)及び(III)のモノマーは、当業者に公知の任意の手順によって合成できる。
ポリマー
本発明による実施形態は、本願で定義したような化学式(I)のノルボルネン型モノマー由来の少なくとも1つの繰り返し単位、本願で定義したような化学式(II)の無水マレイン酸型モノマー由来の少なくとも1つの繰り返し単位、及び本願で定義したような化学式(III)のマレイミド型モノマー由来の少なくとも1つの繰り返し単位を有するポリマーを含む。
したがって、本発明の実施により、
化学式(IA)で表される1つ以上の別個の第1タイプの繰り返し単位、
化学式(IIA)又は(IIB)で表される1つ以上の別個の第2タイプの繰り返し単位、及び
化学式(IIIA)で表される1つ以上の別個の第3タイプの繰り返し単位を含み、前記第1タイプの繰り返し単位のそれぞれは、化学式(I)のモノマーに由来し、前記第2タイプの繰り返し単位のそれぞれは、化学式(II)のモノマーに由来し、前記第3タイプの繰り返し単位のそれぞれは、化学式(III)のモノマーに由来するポリマーが提供される。
上記式において、
は、他の繰り返し単位との結合が生じる位置を示し、
mは、0、1又は2の整数であり、
、R、R及びRは、独立に水素、直鎖もしくは分岐鎖(C−C16)アルキル、ヒドロキシ(C−C12)アルキル、パーフルオロ(C−C12)アルキル、(C−C12)シクロアルキル、(C−C12)ビシクロアルキル、(C−C14)トリシクロアルキル、(C−C10)アリール、(C−C10)アリール(C−C)アルキル、パーフルオロ(C−C10)アリール、パーフルオロ(C−C10)アリール(C−C)アルキル、(C−C10)ヘテロアリール、(C−C10)ヘテロアリール(C−C)アルキル、ヒドロキシ、(C−C12)アルコキシ、(C−C12)シクロアルコキシ、(C−C12)ビシクロアルコキシ、(C−C14)トリシクロアルコキシ、−(CH−(O−(CH−O−(C−C)アルキル(ここで、a、b及びcは1〜4の整数である)、(C−C10)アリールオキシ(C−C)アルキル、(C−C10)ヘテロアリールオキシ(C−C)アルキル、(C−C10)アリールオキシ、(C−C10)ヘテロアリールオキシ、(C−C)アシルオキシ及びハロゲンを示し、
上記式において、
、R、R及びRは、それぞれ互いに独立に水素、直鎖もしくは分岐鎖(C−C)アルキル、フルオロ化又はパーフルオロ化(C−C)アルキル、(C−C12)アルコキシ(C−C12)アルキル及び(C−C12)アルコキシ(C−C12)アルコキシ(C−C12)アルキルであり、
上記式において、
及びR10は、それぞれ互いに独立に水素、直鎖もしくは分岐鎖(C−C12)アルキル、(C−C)シクロアルキル、(C−C12)アリール及び(C−C12)アリール(C−C12)アルキルであり、
11は、直鎖もしくは分岐鎖(C−C12)アルキル、(C−C)シクロアルキル、(C−C12)アリール及び(C−C12)アリール(C−C12)アルキルから選択され、
上述した基のそれぞれは、原子価が許容する場合、直鎖もしくは分岐鎖(C−C)アルキル、(C−C)シクロアルキル、(C−C)パーフルオロアルキル、(C−C)アルコキシ、(C−C)シクロアルコキシ、(C−C)パーフルオロアルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、直鎖もしくは分岐鎖ヒドロキシ(C−C)アルキル、アセトキシ、フェニル、ヒドロキシフェニル及びアセトキシフェニルから選択された1つ以上の基で任意に置換される。
一部の実施形態において、R11が水素である化学式(III)のモノマーも用いることができる。すなわち、非置換マレイミドも本発明の一部の実施例でモノマーとして好適であり得る。
上記のように、本発明のポリマーは、一般的に、化学式(I)、(II)及び(III)のそれぞれの少なくとも1つのモノマーを含む。しかし、本発明のポリマーは、化学式(I)、(II)及び(III)の1つより多いモノマーを含むことができ、このような様々な組み合わせは、いずれも本発明の一部である。したがって、本発明の一実施形態において、本発明のポリマーは、化学式(II)及び(III)のそれぞれの少なくとも1つのモノマーを有する化学式(I)の2以上の別個の繰り返し単位を含む。本発明のさらに別の実施形態において、本発明のポリマーは、化学式(II)及び(III)のそれぞれの少なくとも1つのモノマーを有する化学式(I)の3以上の異なる繰り返し単位を含む。
さらに別の実施形態において、本発明のポリマーは
mは0であり、
、R、R及びRは、独立に水素、直鎖もしくは分岐鎖(C−C12)アルキル、フェニル(C−C)アルキル、−(CH−(O−(CH−O−(C−C)アルキル(ここで、aは1又は2であり、bは2ないし4であり、cは2又は3である)の化学式(I)のモノマーを含む。
さらに別の実施形態において、本発明のポリマーは、化学式(II)及び(III)のモノマーを含み、
ここで、R及びRは、互いに独立に水素及びメチルから選択され、それぞれのR及びRは、互いに独立に水素、メチル、エチル、n−プロピル及びn−ブチルから選択され、
及びR10は、互いに独立に水素及びメチルから選択され、R11はヘキシル、シクロヘキシル及びフェニルから選択される。
本発明による実施形態に有用なモノマーは、本願に一般的に記載されており、本願に提供されたモノマー及び置換基構造によってさらに記載される。
本発明のポリマーは、一般的に化学式(I)の1つ以上のモノマー由来の繰り返し単位と、化学式(II)及び(III)の合計モル量由来の繰り返し単位の等モル量を含む。すなわち、化学式(I)の1つ以上の異なるタイプの総モル量と化学式(II)及び(III)の総モル量は、一般的に同一である。これに関して、ポリマーの骨格における化学式(IA)、(IIA)又は(IIB)及び(IIIA)の繰り返し単位の3つの異なるタイプは、大部分が(IIA)又は(IIB)の無水マレイン酸繰り返し単位又は化学式(IIIA)のマレイミド型繰り返し単位の1つを有する化学式(I)のノルボルネン型繰り返し単位と交互することができる。しかしながら、化学式(IA)、(IIA)、(IIB)又は(IIIA)のそのような繰り返し単位はまた、ランダムに配列されるかブロックを形成することができ、このようなすべての形態のポリマーは、本発明の一部である。一部の実施形態において、ノルボルネン型繰り返し単位は、大部分が無水マレイン酸又はマレイミド型繰り返し単位と交互する。他の実施形態において、このようなポリマー組成物は、2以上の別個のタイプのノルボルネン型繰り返し単位及び少なくとも1つの無水マレイン酸型及び少なくとも1つのマレイミド型繰り返し単位を含有するポリマー、又は少なくとも1つのノルボルネン型繰り返し単位及び本願でさらに記載されたような2以上の別個のタイプの無水マレイン酸及びマレイミド型繰り返し単位を含有するポリマーを含む。
一般的に、R、R、R及びRに対して定義した様々な可能な置換基に関しては、このような置換基は、広範囲に「ヒドロカルビル」基として定義され得ることが理解されるべきである。上記で定義したように、「ヒドロカルビル」基のこのような定義は、任意のC〜C30アルキル、アリール、アラルキル、アルカリール、シクロアルキル又はヘテロアルキル基を含む。代表的なアルキル基には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル及びデシルが含まれるが、これらに限定されない。代表的なシクロアルキル基には、アダマンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロオクチルが含まれるが、これらに限定されない。代表的なアリール基には、フェニル、ナフチル及びアントラセニルが含まれるが、これらに限定されない。代表的なアラルキル基には、ベンジル及びフェネチルが含まれるが、これらに限定されない。また、注目すべき点は、前記ヒドロカルビル基は置換されてもよいこと、すなわち、水素原子の少なくとも1つは、例えば、(C−C10)アルキル、ハロアルキル、パーハロアルキル、アリール及び/又はシクロアルキル基で置換されてもよいことである。代表的な置換シクロアルキル基は、特に、4−t−ブチルシクロヘキシル及び2−メチル−2−アダマンチルを含む。非制限的な代表的な置換アリール基は4−t−ブチルフェニルである。
様々なタイプの化学式(I)のノルボルネン型モノマーは、それに由来した第1繰り返し単位を含有する本発明のポリマーを形成するためにを用いることができる。より具体的には、化学式(I)の公知の任意のノルボルネン型モノマーを用いることができる。例えば、そのような様々なモノマーが米国特許公開第2012/0056183A1に開示されている。このような第1繰り返し単位を形成する例示的なモノマーには、下記からなる群より選択されるモノマーが含まれるが、それらに限定されない。
ノルボルネン(NB)、
5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(MeNB)、
5−ブチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(BuNB)、
5−ヘキシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(HexNB)、
5−オクチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(OctNB)、
5−デシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(DecNB)、
5−パーフルオロブチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(NBC)、
5−ペンタフルオロベンジルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(PFBNB)、
5−ペンタフルオロフェニルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(PFPNB)、
5−ベンジルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(BzNB)、
5−フェネチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(PENB)、
1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロ−1,4:5,8−ジメタノナフタレン(TD)、
ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−イルメチルアセテート(MeOAcNB)、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−イル)プロパン−2−オール(NBXOH)、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−イルメトキシ)エチルアセテート(NBCHGlyOAc)、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−イルメトキシ)エタノール(NBCHGlyOH)、
5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(NBTON)、
1−(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−イル)−2,5,8,11−テトラオキサドデカン(NBTODD)、
5−(3,4−ジフルオロベンジル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(NBCH)、
5−(4−(トリフルオロメチル)ベンジル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(NBCHCF)、
5−((パーフルオロフェニル)アルキル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(NBアルキルC)(ここで、p=1(メチル)、2(エチル)、3(プロピル)、4(ブチル)、5(ペンチル)又は6(ヘキシル)、
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−カルボキシレート(PFPrCNB)、
パーフルオロペンチルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−カルボキシレート(PFPMeCNB)、
1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−カルボキシレート(FOCHNB)、
ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−イルメチルパーフルオロオクタノエート(CPFAcNB)、及び
5−((1,1,2−トリフルオロ−2−(パーフルオロプロポキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(PPVENB)。
次に、本発明のポリマーを形成するための第2繰り返し単位を見ると、任意の無水マレイン酸誘導体が無水マレイン酸自体を含んでモノマーとして用いることがと考慮される。そのようなタイプの例示的なモノマーには、下記からなる群より選択されるモノマーが含まれるが、それらに限定されない。
無水マレイン酸、
2−メチル−無水マレイン酸(3−メチルフラン−2,5−ジオン)、
2,3−ジメチル−無水マレイン酸(3,4−ジメチルフラン−2,5−ジオン)、
2−エチル−無水マレイン酸(3−エチルフラン−2,5−ジオン)、
2,3−ジエチル−無水マレイン酸(3,4−ジエチルフラン−2,5−ジオン)、
2−トリフルオロメチル−無水マレイン酸(3−トリフルオロメチルフラン−2,5−ジオン)、
2,3−ビス(トリフルオロメチル)−無水マレイン酸(3,4−ビス(トリフルオロメチル)フラン−2,5−ジオン)、及び
2−メチル−3−トリフルオロメチル−無水マレイン酸(3−メチル−4−(トリフルオロメチル)フラン−2,5−ジオン)。
上記のように、本発明のポリマーは、さらに、化学式(III)のマレイミドモノマー由来の第3繰り返し単位を含有する。任意の公知の化学式(III)のマレイミドモノマーを用いることができる。このような第3繰り返し単位を形成する例示的なモノマーには、下記からなる群より選択されるモノマーが含まれるが、それらに限定されない。
N−メチルマレイミド(1−メチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−エチルマレイミド(1−エチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
3−メチル−N−エチルマレイミド(1−エチル−3−メチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
3,4−ジメチル−N−エチルマレイミド(1−エチル−3,4−ジメチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−ブチルマレイミド(1−ブチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−ヘキシルマレイミド(1−ヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−オクチルマレイミド(1−オクチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−シクロペンチルマレイミド(1−シクロペンチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−シクロヘキシルマレイミド(1−シクロヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−シクロヘプチルマレイミド(1−シクロヘプチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−フェニルマレイミド(1−フェニル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−置換フェニルマレイミド(1−置換フェニル−1H−ピロール−2,5−ジオン)(ここで、R12=−OCOCH、メチル、エチル又はt−ブチルである)、及び
N−ベンジルマレイミド(1−ベンジル−1H−ピロール−2,5−ジオン)。
一実施形態において、本発明のポリマーには、それぞれが下記からなる群より選択された相応するモノマー由来の1つ以上の第1繰り返し単位が含まれる。
5−ヘキシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
5−オクチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
5−デシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
1−(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−イル)−2,5,8,11−テトラオキサドデカン、
5−ベンジルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、及び
5−フェネチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン。
さらに別の実施形態において、本発明のポリマーは、それぞれが下記からなる群より選択された相応するモノマー由来の1つ以上の第2繰り返し単位を含む。
無水マレイン酸、
2−メチル−無水マレイン酸(3−メチルフラン−2,5−ジオン)、
2,3−ジメチル−無水マレイン酸(3,4−ジメチルフラン−2,5−ジオン)、
2−エチル−無水マレイン酸(3−エチルフラン−2,5−ジオン)、
2,3−ジエチル−無水マレイン酸(3,4−ジエチルフラン−2,5−ジオン)、
2−トリフルオロメチル−無水マレイン酸(3−トリフルオロメチルフラン−2,5−ジオン)、
2,3−ビス(トリフルオロメチル)−無水マレイン酸(3,4−ビス(トリフルオロメチル)フラン−2,5−ジオン)、及び
2−メチル−3−トリフルオロメチル−無水マレイン酸(3−メチル−4−(トリフルオロメチル)フラン−2,5−ジオン)。
さらに別の実施形態において、本発明のポリマーは、それぞれが下記からなる群より選択された相応するモノマー由来の1つ以上の第3繰り返し単位を含む。
N−エチルマレイミド(1−エチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−ブチルマレイミド(1−ブチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−ヘキシルマレイミド(1−ヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−オクチルマレイミド(1−オクチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−シクロペンチルマレイミド(1−シクロペンチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−シクロヘキシルマレイミド(1−シクロヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−シクロヘプチルマレイミド(1−シクロヘプチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−フェニルマレイミド(1−フェニル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、及び
N−ベンジルマレイミド(1−ベンジル−1H−ピロール−2,5−ジオン)。
さらに別の実施形態において、本発明のポリマーは、それぞれが下記から選択された相応するモノマー由来の1つ以上の第1繰り返し単位を含む。
5−オクチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(OctNB)、
5−デシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(DecNB)、
5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(NBTON)、
1−(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−イル)−2,5, 8,11−テトラオキサドデカン(NBTODD)、及び
5−フェネチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(PENB)。
本発明の実施形態において、本実施形態の第2繰り返し単位は無水マレイン酸に由来する。また、本発明の実施形態における第3繰り返し単位は下記に由来する。
N−ヘキシルマレイミド(1−ヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−シクロヘキシルマレイミド(1−シクロヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、及び
N−フェニルマレイミド(1−フェニル−1H−ピロール−2,5−ジオン)。
さらに別の実施形態において、本発明のポリマーは、それぞれが下記から選択された相応するモノマー由来の1つ以上の第1繰り返し単位を含む。
5−デシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(DecNB)、
5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(NBTON)、及び
5−フェネチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(PENB)。
本発明の実施形態において、本実施形態の第2繰り返し単位は無水マレイン酸に由来する。また、本発明の実施形態における第3繰り返し単位は下記に由来する。
N−ヘキシルマレイミド(1−ヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
N−シクロヘキシルマレイミド(1−シクロヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、及び
N−フェニルマレイミド(1−フェニル−1H−ピロール−2,5−ジオン)。
ポリマーの製造
一般的に、本発明のポリマーは、当業界に公知の手順のいずれか1つによって製造される。例えば、本願に記載したような化学式(I)の1つ以上のモノマーは、化学式(II)の少なくとも1つのモノマー及び化学式(III)の少なくとも1つのモノマーと共に重合され、以下で「COMA−MI」ポリマー(無水マレイン酸とマレイミドの共重合体)と呼ばれる、化学式(IA)、(IIB)及び(IIIA)で表されるようなそれぞれのモノマー繰り返し単位を含有する本発明のポリマーを形成することができる。続いて、化学式(IIB)の無水マレイン酸繰り返し単位を好適な反応条件に投入することによって、部分的又は完全に開環させ、以下で「ROMA−MI」ポリマー(開環無水マレイン酸及びマレイミドポリマー)と呼ばれる、本願に記載したような化学式(IIA)の繰り返し単位を形成する。また、任意の重合方法を用いて本発明のポリマーを形成することができる。一般的に、重合は、好適には、触媒又は開始剤の存在下で好ましい溶媒を用い、溶液中又は塊状で、またいずれの場合で行うことができる。化学式(I)のモノマーと化学式(II)及び化学式(III)のモノマーの重合をもたらす任意の公知の触媒システムを用いることができる。
有利には、本発明のポリマーは、任意の公知のフリーラジカル重合手順によって製造されることが明らかになった。典型的には、フリーラジカル重合工程において、モノマーは、フリーラジカル開始剤の存在下で昇温(約50℃ないし約150℃)で溶媒中で重合される。しかし、特定の状況では、用いられる開始剤だけでなく、用いられるモノマーのタイプにより周囲温度又は周囲温度以下の温度を用いることができる。好適な開始剤には、アゾ化合物及び過酸化物が含まれるが、これらに限定されない。アゾ化合物の非制限的な例には、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、(E)−ジメチル2,2’−(ジアゼン−1,2−ジイル)ビス(2−メチルプロパノエート)(AMMP)、(E)−2,2’−(ジアゼン−1,2−ジイル)ビス(2,4−ジメチルペンタンニトリル(ADMPN)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)(ABCN)、アゾビスイソカプロニトリル及びアゾビスイソバレロニトリルが含まれる。過酸化物の非制限的な例には、過酸化水素、tert−ブチルヒドロペルオキシド、ジー(ターシャリ−ブチルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ラウリルペルオキシド及びメチルエチルケトンペルオキシドが含まれる。上記のように、他のアゾ化合物及び過酸化物をはじめとする任意の他の公知の開始剤も当該重合工程において用いることができる。
上述したフリーラジカル重合反応に好適な重合溶媒には、炭化水素、ハロアルカン及び芳香族溶媒が含まれる。例示的な炭化水素溶媒には、アルカン及びシクロアルカン、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン及びシクロヘキサンが含まれるが、これらに限定されない。例示的なハロアルカン溶媒には、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、エチルクロリド、1,1−ジクロロエタン、1,2−ジクロロエタン、1−クロロプロパン、2−クロロプロパン、1−クロロブタン、2−クロロブタン、1−クロロ−2−メチルプロパン、1−クロロペンタン、及びFreonTM 112ハロカーボン溶媒が含まれるが、これらに限定されない。例示的な芳香族溶媒には、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、及びo−ジクロロベンゼンが含まれるが、これらに限定されない。ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセテート(例えば、エチルアセテート)及びその他のエステル、ラクトン、ケトン(例えば、メチルエチルケトン(MEK))及びアミドのような他の有機溶媒も有用である。前記溶媒の1つ以上の混合物を重合溶媒として用いることができる。一部の実施形態において、用いられた溶媒には、シクロヘキサン、トルエン、メシチレン、ジクロロメタン及び1,2−ジクロロエタンが含まれる。
有利には、上記のように、特に、ポリマーが本願に記載したようなフリーラジカル重合によって製造される場合、本発明のポリマーは、第1タイプの化学式(IA)の繰り返し単位と化学式(IIB)の無水マレイン酸又は化学式(IIIA)のマレイミドの1つとの交互的な配列を特徴とすることが明らかになった。したがって、本発明のポリマーは、一般的に、約40モル%ないし約60モル%の化学式(IA)の繰り返し単位を含む。残りの繰り返し単位は、化学式(IIB)及び(IIIA)の繰り返し単位の組み合わせに由来する。したがって、一部の実施形態において、化学式(IA):(IIB):(IIIA)の繰り返し単位のモル比は、40:30:30、40:40:20、50:20:30、50:25:25、50:30:20、50:40:10、50:45:5、60:20:20などである。
また、上記のように、1つ以上の異なるタイプの化学式(IA)の繰り返し単位が本発明のポリマーに存在してもよい。したがって、一実施形態において、本発明のポリマーは、ただ1つのタイプの化学式(IA)の繰り返し単位を含有する。さらに別の実施形態において、本発明のポリマーは、2つの異なるタイプの化学式(IA)の繰り返し単位を含有する。他の実施形態において、本発明のポリマーは、2つよりも多くの異なるタイプの化学式(IA)の繰り返し単位を含有する。同様に、化学式(IIB)及び(IIIA)の繰り返し単位の様々な異なるタイプは、本発明のポリマーの形成に用いることができる。
上述したように、上記から得られたポリマーは、次いで、好適な反応条件に投入され、化学式(IIB)の無水マレイン酸繰り返し単位を開環させる。このような開環をもたらす任意の公知の方法は、本発明の当該方法において用いることができる。このような開環反応の非制限的な例には、ポリマーを、任意には好適な塩基又は酸の存在下で好適なアルコールと反応させることが含まれる。アルコールの非制限的な例には、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、ペンタンオール、ヘキサノール、オクタノール、フルオロアルカノール、メトキシエタノール、メトキシエトキシメタノール、メトキシエトキシエタノールなどが含まれる。塩基の非制限的な例には、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、アンモニア、水酸化アンモニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウムなどが含まれる。様々な異なる公知の有機塩基も用いることができる。その代表例には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド(TEAH)、ピリジン、イミダゾールなどが含まれる。酸の非制限的な例には、酢酸、トリフルオロ酢酸、硫酸、塩酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びこれらの混合物が含まれる。上記のように、一部の実施形態において、開環は、さらに、酸又は塩基なしで、行うことができる。
上述した開環反応は、当該技術分野における任意の公知の方法を用いて行うことができる。典型的に、このような反応は、塩基及びアルコールの存在下で好適な溶媒又は溶媒の混合物中で行われる。塩基及びアルコールの例は上述した通りである。溶媒の非制限的な例には、テトラヒドロフラン(THF)、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチルピロリドン(NMP)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、エチルアセテート、メチルエチルケトン(MEK)、トルエン、ヘキサン、水及びこれらの任意の組み合わせの混合物が含まれる。反応は、周囲条件、準周囲条件および過周囲条件を含む適切な温度で行うことができる。典型的に、用いられた反応温度は、約40ないし90℃の範囲であり、特定の実施形態において、温度は、50ないし80℃の範囲であってもよく、一部の他の実施形態においては、60ないし70℃の範囲であってもよい。
本発明により、そのように形成されたROMA−MIポリマーは、このような上記の試薬との接触により、無水マレイン酸繰り返し単位の完全又は部分的開環を引き起こし、化学式(IIA)の繰り返し単位を形成する。したがって、このようなROMAポリマーは、化学式(IA)、(IIA)及び(IIB)のランダムに順序付けられた繰り返し単位だけでなく、化学式(IIIA)の繰り返し単位を有することができ、ここで、化学式(IIA)の繰り返し単位は、アルコールとのエステル化度により二酸(すなわち、R及びRがいずれも水素)、モノエステル(すなわち、R及びRのいずれか1つが水素)又はジエステル(すなわち、R及びRがいずれもアルキルなど)の組み合わせを含むことができる。したがって、本発明の実施形態の当該側面によると、化学式(IIA)の無水マレイン酸繰り返し単位の開環の部分は、約1モル%ないし約100モル%程度であり、一部の他の実施形態においては40モル%よりも高く、一部の他の実施形態においては60モル%よりも高く、一部の他の実施形態においては80モル%よりも高い。一部の他の実施形態において、R及びRのいずれか1つが水素である無水マレイン酸単位の90モル%より多くの単位が開環される。すなわち、これらの実施形態におけるポリマーには、R及びRのいずれか1つが水素である化学式(IIA)の無水マレイン酸繰り返し単位が含まれる。したがって、開環された無水マレイン酸繰り返し単位は、モノカルボン酸(すなわち、R及びRのいずれか1つは水素)で部分加水分解又はジカルボン酸(すなわち、R及びRはいずれも水素)で完全加水分解される。存在する遊離酸の量は、アルコールでエステル化度を制御することによって調節することができる。したがって、一実施形態において、化学式(IIA)の無水マレイン酸繰り返し単位に存在する二酸の量は、約0モル%ないし約100モル%であり、一部の他の実施形態においては約20モル%ないし約80モル%であり、一部の他の実施形態においては約40モル%ないし約60モル%であり、一部の他の実施形態においては約45モル%ないし約55モル%である。すなわち、化学式(IIA)の繰り返し単位の50モル%が二酸である場合、繰り返し単位の残り部分はエステル化され、よって、繰り返し単位の一部はモノエステル化されるか又はジエステル化され、エステル化される繰り返し単位の累計50%を生成する。
本発明により形成されたCOMA−MI及びROMA−MIポリマーは、一般的に、少なくとも約2,000の重量平均分子量(M)を示す。さらに別の実施形態において、本発明のポリマーは、少なくとも約6,000のMを有する。さらに別の実施形態において、本発明のポリマーは、少なくとも約10,000のMを有する。一部の他の実施形態において、本発明のポリマーは、少なくとも約25,000のMを有する。一部の他の実施形態において、本発明のポリマーは25,000超のMを有する。ポリマーの重量平均分子量(Mw)は、例えば、狭い分布ポリスチレン標準で補正された時差屈折率検出器のような適切な検出器と補正標準が備えられたゲル透過クロマトグラフィー(GPC)などによる任意の公知技術で測定することができる。
ポリマー組成物/適用
上記のように、本発明による実施形態はまた、化学式(IA)の1つ以上のノルボルネン型繰り返し単位、化学式(IIB)の1つ以上の無水マレイン酸型繰り返し単位(COMA−MI)、及び上述及び後述するように、それから生成された化学式(IIA)の部分又は完全開環された無水マレイン酸型繰り返し単位(ROMA−MI)、及び化学式(IIIA)の1つ以上のマレイミド型繰り返し単位を含むポリマーを含有する様々な層形成感光性ポリマー組成物に関する。このようなポリマー組成物は、光活性化合物(PAC)、エポキシ樹脂及び溶媒をさらに含有することができる。また、このような組成物は、マイクロ電子デバイス及び光電子デバイスの製造において、自己イメージ化可能な層として有用な膜を形成することができる。すなわち、化学線に画像露光されるとき、このような層(又は膜)は現像され、パターン化された膜を形成することができ、ここで、そのパターンは膜が露光されたイメージを反映する。
このような方式により、それらのマイクロ電子デバイス及び/又は光電子デバイスの一部分であるか又はその一部分になる構造が提供される。例えば、このような膜は、液晶ディスプレイ又はマイクロ電子デバイスにおいて低k誘電層として有用となり得る。注目すべき点は、そのような例は、このような自己イメージ化可能な膜に対する多数の用途の単に一部に過ぎなく、それらの例は、このような膜又はこれらを形成するのに用いられるポリマー及びポリマー組成物の範囲を制限しないことである。
有利には、本発明のポリマー組成物は、特に、類似した用途に対する文献に報告されたいくつかのポリマーと比較すると、いくつか好ましい特性を提供するということが明らかになった。例えば、いくつかのスチレン−無水マレイン酸共重合体は、非常に高い暗視野損失(DFL)を示し、これらをポジティブトーン(PT)に適用するのは好ましくないことが観察された。本願において用いられたように、用語DFL又は非露光領域の膜厚の損失は、適切な化学線に画像露光し、好適な現像液で現像した後の膜厚の損失の尺度である。つまり、本発明のポリマー組成物を膜にキャスティングし、膜の非露光領域における現像前後の膜厚を測定し、放射線に露光されていない膜の領域における膜厚の%損失として報告する。一般的に、DFLのパーセントが高いほどポリマー組成物の性能が悪く、これは、膜の非露光領域が現像により敏感であり、よって、現像液に溶解することを意味する。また、測定されたDFLは、用いられた現像時間に左右する。一般的に、現像時間が長くなるほどDFLが大きくなる。
驚くべきことに、本発明の組成物は、より短い現像時間でも膜の非露光領域が失われないという点から非常に低いDFLを示す。したがって、本発明の一部の実施形態において、組成物のDFLは、約20%未満であってもよく、一部の他の実施形態において、DFLは25%未満であってもよく、一部の他の実施形態において、DFLは約0%ないし30%の範囲であってもよい。同時に、本発明の組成物に対する現像時間は、一般的に、約10秒ないし約80秒の範囲であってもよく、一部の他の実施形態において現像時間は、約20秒ないし約60秒の範囲であってもよく、一部の他の実施形態において現像時間は、約30秒ないし約40秒の範囲であってもよい。
また、有利にも、本発明の組成物は、現像溶媒、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)を含む水系アルカリ現像液で優れた溶解速度を示すことが明らかになった。これは、ポリマー内のマレイミド繰り返し単位のモル含量に基づいてさらに調整することができる。一般的に、開環された無水マレイン酸繰り返し単位及びマレイミド繰り返し単位のモル比を賢明に選択することにより、本発明の組成物の溶解速度を好ましい範囲に制御可能であることが現在明らかになった。一般的に、マレイミド繰り返し単位のモル量を増加させることは、熱リフロー特性を改善しながら溶解速度を低下させるが、このような側面は、膜を現像した後、ダウンストリーム作業の間により重要になる。また、本発明の組成物は、他の様々な好ましい性質の中でも非常に必要なリソグラフィー解像度、フォトスピード及び高度な耐薬品性を保有する。
さらに、本発明の組成物は、1つ以上の光活性化合物(PAC)を含有する。一般的に、ポジティブトーン組成物に好ましい効果をもたらすことができる任意のPACは、本願において用いることができる。これら感光性組成物に用いられることができる好適な光活性化合物(PAC)の非制限的な例には、それぞれ構造式(VIIa)及び(VIIb)で表される1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル部位及び/又は1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホニル部位のような光活性基が含まれる。
このような他の光活性部位には、特に、構造式(VIIc)で表されるスルホニルベンゾキノンジアジド基が含まれる。
一般的に、化学式(VIIa)、(VIIb)及び/又は(VIIc)の官能基は、それぞれのスルホニルクロリド(又は他の反応性残基)とフェノール化合物、例えば、構造式(VIIIa)ないし(VIIIag)としてまとめて下記に示した1つ以上の例示的な化合物のエステル化生成物として感光性組成物に混入される。したがって、本発明の感光性樹脂組成物を形成するとき、そのようなエステル化生成物の任意の1つ又は2つ以上の任意の混合物が樹脂と組み合わされる。下記式(VIII)において、Qは構造式(VIIa)、(VIIb)又は(VIIc)のいずれかを示すことができる。有利には、感光性組成物の膜又は層の一部分が適切な電磁気放射線に露光されると、これらエステル化生成物はカルボン酸を生成し、このカルボン酸は、その膜の任意の非露光の部分と比較して、アルカリ水溶液でのその露光の部分の溶解度を向上させる。一般的に、このような感光性物質は、樹脂、すなわち、本発明のポリマーの100重量部に対して1〜50重量部の物質の量で組成物に混入され、典型的には、約2ないし約30重量部である。ここで、樹脂に対する感光性物質の特定比は、非露光部と比較された露光部の溶解速度及び所望の溶解速度差を達成するために必要な放射線の量の関数である。
上記に列挙された化学式(VIIIa)ないし(VIIIag)のPACにおいて、Qは、化学式(VIIa)、(VIIb)又は(VIIc)の光活性部位のいずれか1つを示す。上記に列挙されたPACのいくつかは商業的に利用可能である。例えば、化学式(VIIIc)のPAC−5570(カナダ、ケベック所在のSt.Jean Photochemicals Inc.)、化学式(VIIId)のSCL6(米国、マサチューセッツウィンチェンドン所在のSecant Chemicals Inc.)、化学式(VIIIo)のTrisP−3M6C−2−201(本願では、TrisPとも称する)、総括的に、化学式(VIIIa)のTS−200、TS−250及びTS−300、及び化学式(VIIIe)の4NT−300(これらは、いずれも日本千葉所在の東洋合成工業(株)製)である。注目すべき点は、タイプTS−200、TS−250及びTS−300のPACの場合、Qの置換度は用いられた製品により多様であることである。例えば、TS−200はQの67%、TS−250はQの83%、TS−300はQの100%で置換され、非置換の部分は水素である。これら場合のそれぞれにおけるQは、構造式(VIIa)、(VIIb)又は(VIIc)の基の1つを示す。
上記のように、例示的なエポキシ及びその他の架橋結合添加剤には、以下に示したように、ビスフェノールAエポキシ樹脂(LX−01、ここで、n=1〜2、日本大阪所在のダイソーケミカル(株))、2,2’−((((1−(4−(2−(4−(オキシラン−2−イルメトキシ)フェニル)プロパン−2−イル)フェニル)エタン−1,1−ジイル)ビス(4,1−フェニレン))ビス(オキシ))ビス(メチレン))ビス(オキシラン)(Techmore VG3101L、三井化学(株))、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル(TMPTGE−CVC、Specialty Chemicals,Inc.)、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチル−1,5−ビス(3−(オキシラン−2−イルメトキシ)プロピル)トリシロキサン(DMS−E09、Gelest,Inc.)、液体エポキシ樹脂(D.E.R.TM 732、ここで、n=8〜10、及びD.E.R.TM 736、ここで、n=4〜6、いずれもDow Chemical Company製)、ビス(4−(オキシラン−2−イルメトキシ)フェニル)メタン(EPONTM 862、Hexion Specialty Chemicals,Inc.)、グリセロールのポリ(オキシプロピレン)エポキシドエーテルのトリグリシジルエーテル(Momentive Specialty Chemicals Inc.からHeloxy 84又はGE−36として市販されている)、2−((4−(tert−ブチル)フェノキシ)メチル)オキシラン(Momentive Specialty Chemicals Inc.からHeloxy 65として市販されている)及びシリコーン−変性エポキシ化合物(東レダウコーニング−シリコーン(株)からBY16−115として市販されている)が含まれる。
D.E.R.TM 732、ここで、n=8〜10、及びD.E.R.TM 736、ここで、n=4〜6
グリセロールのポリ(オキシプロピレン)エポキシドエーテルのトリグリシジルエーテル、Momentive Specialty Chemicals Inc.からHeloxy 84又はGE−36として市販、
2−((4−(tert−ブチル)フェノキシ)メチル)オキシラン、Momentive Specialty Chemicals Inc.からHeloxy 65として市販、及び
東レダウコーニング−シリコーン(株)からBY16−115として市販されているシリコーン−変性エポキシ化合物。
さらに他の例示的なエポキシ樹脂又は架橋結合添加剤には、特に、Araldite MTO163及びAraldite CY179(Ciba Geigy製)、及びEHPE−3150及びEpolite GT300(Daicel Chemical製)が含まれる。
エポキシ化合物の量は、さらに、PACに対して言及されたように変わり得る。その量は、一般的に、ポリマーの約0ないし50重量部及び典型的に、約2ないし約30重量部の範囲で変わり得るが、このような物質の他の有利な量は、本発明の範囲内において適切に含まれ得る。また、本願で列挙されたような1つ以上の異なるタイプのエポキシ化合物を本発明の組成物に用いることができ、これにより、それぞれの量は必要に応じて変化され得る。
有利には、本発明の組成物において、エポキシ化合物を賢明に選択すると所定の予想し得ない利点を提供することができることが明らかになった。例えば、所定の好ましいエポキシ当量及びLogPを有するエポキシ化合物が所定の驚くべき利点を提供することが明らかになった。本願において用いられたように、「LogP」は、分配係数(P)の尺度、つまり、平衡状態での2つの非混和性相(水及び1−オクタノール)の混合物中の化合物の濃度の比率である。一般的に、LogP値が低いほどこのようなエポキシ化合物の水中混和性が高くなる。このような利点は、特に向上したDFL特性及び熱リフロー特性を含む。これらの特徴は、後続する特定の例からより明らかになる。また、注目すべき点は、本発明から得られる様々な利点は、本願に既に記載されたような多数の要因に左右され、その中の一部は、当業者によって容易に理解され得ることである。したがって、一部の実施形態において、本発明の感光性組成物は、約200より大きいエポキシ当量を有するエポキシ化合物を含有する。他の実施形態において、このようなエポキシ当量は、約200ないし400又はそれ以上の範囲であり得る。さらに、このようなエポキシ化合物のLogP値は、約−0.3ないし約−0.8の範囲であってもよく、他の実施形態において、このようなLogP値は、約−0.4ないし約−0.6である。一部の実施形態において、エポキシ化合物は約300ないし400当量及び約−0.3ないし−0.4のLogPを有する。
本発明の例示的な実施形態は、本発明によるポリマー組成物を剤形化して用いるのに必要な他の好適な成分及び/又は物質を含むことが理解される。このような他の好適な成分及び/又は物質は、増感剤成分、溶媒、触媒除去剤、接着促進剤、安定化剤及び反応性希釈剤から選択された1つ以上の成分を含む。
本発明によるポリマー組成物は、組成物及び結果として生成される層の両方の特性、例えば、露光放射線の所望の波長に対する組成物の感度を改善する目的で有用な任意の成分をさらに含有することができる。このような任意の成分の例には、溶解促進剤、界面活性剤、シランカップリング剤、レベリング剤、抗酸化剤、難燃剤、可塑剤、架橋結合剤などのような様々な添加剤が含まれる。このような添加剤には、溶解促進剤として、ビスフェノールA及び5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸、TSF4452(東芝シリコーン(株))のようなシリコーン界面活性剤、γ−アミノプロピルトリエトキシシランのようなシランカップリング剤、γ−(メタクリロイルオキシプロピル)トリメトキシシランのようなレベリング剤、ペンタエリスリトールテトラキス(3−(3,5−ジ−tert.−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)(IRGANOXTM 1010、BASF)、3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−オクタデシルエステルベンゼンプロパン酸(IRGANOXTM 1076、BASF)及びチオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート](IRGANOXTM 1035、BASF)のような抗酸化剤、トリアルキルフォスフェート又は他の有機リン化合物のような難燃剤、及びポリ(プロピレングリコール)のような可塑剤が含まれるが、それらに限定されない。
さらに、光−イメージ化可能な層の形成に用いられる本発明の組成物に、その機械的特性及びその他の特性が所望通りに調整できるように、様々な異なる添加剤/成分を添加することができる。また、熱及び/又は光放射に対するポリマーの安定性を増加させることを含み、加工性を変更するために異なる添加剤を用いることができる。これに関連して、添加剤には、架橋結合剤、接着促進剤などが含まれるが、これらに限定されない。その化合物の非制限的な例としては、下記からなる群より選択され、商業的に入手可能な物質は、その商品名によって表示される。
トリメトキシ(3−(オキシラン−2−イルメトキシ)プロピル)シラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−403E、信越化学工業(株))とも称する、
トリエトキシ(3−(オキシラン−2−イルメトキシ)プロピル)シラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン(KBE−403、信越化学工業(株))とも称する、
((トリエトキシシリル)プロピル)ジスルフィド(Si−75又はSi−266、Evonik)、
((トリメトキシシリル)プロピル)ジスルフィド、
ジエトキシ(プロポキシ)(3−チオシアナトプロピル)シラン、GelestからSIT−7908.0として市販、
2,2’−((2−ヒドロキシ−5−メチル−1,3−フェニレン)ビス(メチレン))ビス(4−メチルフェノール)(AO−80、TCI Japan)、
6,6’−メチレンビス(2−(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェノール)(4−PC)、
ビス(4−(2−フェニルプロパン−2−イル)フェニル)アミン、AddivantからNaugard−445として市販、
ペンタエリスリトールテトラキス(3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)(Irganox 1010、BASF)、
3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−オクタデシルエステルベンゼンプロパン酸(Irganox 1076、BASF)、及び
3,3’−[[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジイルビス(メチレンオキシメチレン)]ビス[3−エチル−オキセタン]
有利には、特定の熱塩基発生剤(TBG)が本発明の感光性組成物に、特に本願に記載したような熱硬化ステップの間に有用であることがさらに明らかになった。このような熱塩基発生剤の一部の例には、化学式(IX)のアミジン化合物が含まれる。
上記式において、R16は水素又は(C−C)アルキルから独立に選択され、
13、R14及びR17は、同じであるか異なり、それぞれ互いに独立に水素、メチル又はエチル基、直鎖、分岐鎖又はシクリック(C−C12)アルキル基、窒素、酸素又は硫黄から独立に選択された1〜4個のヘテロ原子を有する直鎖、分岐鎖又はシクリック(C−C12)ヘテロアルキル基、(C−C10)アリール基、窒素、酸素又は硫黄から独立に選択された1〜4個のヘテロ原子を有する(C−C10)ヘテロアリール基から選択されるか、又はR16、R17、R13及びR14は、任意の介在原子と共に、またこれらの任意の組み合わせで1つ以上のシクリックアルキル又はヘテロアルキル基を形成し、
15は、水素又は(C−C)アルキルであり、
は、ハライド、スルホネート、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート又はカルボキシレートアニオンである。
独占的なアミジン塩であるK−PURE CXC−1761は、King Industriesから入手することができ、また、具体的な例で下記においてさらに議論されるように、TBGとして評価された。本発明による熱的に活性化した塩基発生剤の一部は、一般的に、カルボキシレートアニオンを有する塩である。このような塩は、効果的な活性化温度で加熱されるとき、遊離塩基を放出することを特徴とし、その遊離塩基は、添加剤と本発明の組成物の実施形態の基材ポリマーとの架橋結合を引き起こすのに十分な塩基性を有する。また、文献に公知のTBGの様々な異なる例が本発明の感光性組成物を形成するのに用いられることにも注目すべきである。このようなTBGの非制限的な例には、添加剤と本発明の組成物に含まれるポリマーとの架橋結合を引き起こす適切な温度に露出されるとき、遊離塩基を形成するイミダゾール化合物、グアニジン化合物及びホスファゼン化合物が含まれる。
本発明の実施形態において、これら成分は、一般的に溶媒に溶解され、ワニス形態で製造されて用いられる。溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、γ−ブチロラクトン(GBL)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、メチルラクテート、エチルラクテート、ブチルラクテート、メチルエチルケトン(MEK)、メチルアミルケトン(MAK)、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、メチル−1,3−ブチレングリコールアセテート、1,3−ブチレングリコール−3−モノメチルエーテル、メチルピルベート、エチルピルベート、メチル−3−メトキシプロピオネートなどが挙げられる。これらは単独で又は2以上を任意に選択して、これらを混合して用いてもよく、これらの任意の組み合わせで用いてもよい。
上述したように、本発明の一部実施形態は、本発明によるポリマー組成物の実施形態の膜から形成された少なくとも1つの自己イメージ化可能な層を含む、光電子構造物のような構造物を含む。上述したように、このような組成物の実施形態のポリマーは、ノルボルネン型モノマー由来の化学式(IA)の少なくとも1つの繰り返し単位、無水マレイン酸型モノマー由来の化学式(IIA)又は(IIB)の少なくとも1つの繰り返し単位、及びマレイミド型モノマー由来の化学式(IIIA)の少なくとも1つの繰り返し単位を含む。また、上述したように、ポリマー組成物の実施形態は、少なくとも1つのキャスティング溶媒、本願に列挙されたような1つ以上の光活性化合物(PAC)及び上述したような1つ以上のエポキシ樹脂をさらに含む。
本発明の上述の構造の実施形態は、まず、適切な基板上にポリマー組成物をキャスティングしてその層を形成した後、基板を適切な時間、適切な温度で加熱することによって容易に形成され、ここで、その時間及び温度は、本質的にそれらの組成物のすべてのキャスティング溶媒を除去するのに十分である。このような第1加熱後に、層は適切な波長の化学線に画像露光される。当業者に周知であるように、「ポジティブトーン」組成物に対して、上述の画像露光は、層の露光部に含有されたPACが塩基水溶液(一般的に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)の溶液)に対するその露光部の溶解速度を向上させる化学反応を起こす。このような方式により、このような露光部が除去され、非露光部は残る。次に、第2加熱を行い、ポリマーの一部分をエポキシ添加剤と架橋結合させることによって、本質的にこのような非露光部のポリマーを「硬化」させ、本発明の上述した構造の実施形態を形成する。
再度注目すべき点は、第2加熱ステップはイメージ化され、現像された層に対して行うことである。第2加熱の該ステップにおいて、ポリマー層の熱硬化は添加された添加剤、例えば、エポキシ及び/又は本願に記載したような他の架橋結合剤で達成され得る。
下記実施例は限定的ではなく、本発明によるポリマーの実施形態を製造する方法を説明する。このような実施例は、本願でシクリックオレフィン無水マレイン酸−マレイミドポリマー(COMA−MI)と称する、上述のポリマーを先に形成することを説明する。また、このような実施例は、本願でROMA−MIポリマーと言及されるそのCOMA−MIポリマーの開環類似体を形成することを記載する。
さらに注目すべき点は、下記実施例は、本発明の特定の化合物/モノマー、ポリマー及び組成物の製造及び使用方法の詳細な説明であることである。詳細な製造は、上記開示のより一般的に記載された製造方法の範囲内にあり、それを例示する役割をする。実施例は、単に例示的な目的のために提示されたものであり、本発明の範囲に対する制限として意図するものではない。実施例及び明細書全般にわたって用いられるように、モノマー対触媒の比はモル対モル基準である。
実施例(一般)
特に断りのない限り、下記実施例では下記の定義が用いられた。
PENB:5−フェネチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、DecNB:5−デシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、NBTON:5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、MA:無水マレイン酸、AIBN:アゾビスイソブチロニトリル、THF:テトラヒドロフラン、EtOAc:エチルアセテート、MeOH:メタノール、NMP:N−メチル−2−ピロリドン、PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、TMPTGE:トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、COMA−MI:シクリックオレフィン無水マレイン酸マレイミドポリマー、ROMA−MI:開環無水マレイン酸シクリックオレフィンマレイミドポリマー、Irganox 1010:ペンタエリスリトールテトラキス(3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)、Si−75:((トリエトキシシリル)プロピル)ジスルフィド、KBM−403E:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、GE−36:グリセロールのポリ(オキシプロピレン)エポキシドエーテルのトリグリシジルエーテル、EPON 862:ビス(4−(オキシラン−2−イルメトキシ)フェニル)メタン、TS:総固形分、HPLC:高性能液体クロマトグラフィー、GPC:ゲル透過クロマトグラフィー、M:重量平均分子量、M:数平均分子量、PDI:多分散指数、FT−IR:フーリエ変換−赤外線、NMR:核磁気共鳴、TGA:熱重量分析。N−シクロヘキシルマレイミド及びN−フェニルマレイミドはTCI Americaから購入した。
マレイミドモノマー
下記実施例1は、N−ヘキシルマレイミドの製造を説明する。本願に記載したような様々な異なるマレイミドモノマーは、この手順を用い、適切な出発物質を用いて製造される。
実施例1
N−ヘキシルマレイミド
温度計、ディーンスタークトラップ付きの還流凝縮器、窒素ガス注入口及び機械的攪拌機が取り付けられた適切な大きさの容器に、窒素の雰囲気下で、キシレン(1600g、Acros Organics)及び無水マレイン酸(176g、Acros Organics)を入れ、40℃に昇温させた。キシレン溶液を、溶液が均質になるまで攪拌した。N−ヘキシルアミン(174g、Acros Organics)をフラスコに30分間かけて滴加した。発熱反応が生じ、反応溶液の温度が70℃に上昇した。エチル−ジ−イソプロピルアミン(10.4g、Acros Organics)、シリカゲル(40−60Å、160g、Acros Organics)、o−リン酸(80g、Fisher)、酢酸亜鉛(1.2g、Acros Organics)及び2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェノール(1.2g、Sigma−Aldrich)を反応混合物に添加した。次いで、140℃に昇温させ、反応混合物を3時間の還流させた。反応中に生成された水をキシレンとの共沸混合物として除去し、約33.1mLの水を回収した。3時間後に加熱を中断し、反応器を室温に冷却させた。攪拌を停止し、有機相を傾斜除去した。残留固体を粉砕し、800mLのキシレンでリンスした。前記キシレンを傾斜除去し、回収された反応液に添加した。キシレン溶液を500gの5%重炭酸ナトリウム溶液で20分間攪拌することによって洗浄した。攪拌を中断し、30分後に有機相及び水性相を分離し、有機相を500gの脱イオン水で2回洗浄した。有機相を分離し、キシレンを減圧下で除去して標題化合物(142.4g、46%収率、GC分析で測定し、99%純度)を得た。
COMA−MIポリマー
下記実施例2は、本発明のCOMA−MIポリマーの製造を説明する。本発明の様々な異なるCOMA−MIポリマーは、適切な出発物質を用いて同様に製造することができる。
実施例2
PENB/MA/N−フェニルマレイミドポリマー
適切な大きさの反応容器に無水エチルアセテート(100g、Acros Organics)、無水マレイン酸(MA)(43.6g、Acros Organics)、フェネチルノルボルネン(PENB)(97.9g)及びN−フェニルマレイミド(8.6g)を入れた。反応容器を密封し、窒素の雰囲気でブランケット処理し、65℃に加熱した後、均質溶液が得られるまで攪拌した。均質溶液に15分間窒素ガスを散布して溶存酸素を除去した。反応フラスコに2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)(AIBN)(8.1g、Sigma−Aldrich)を添加し、反応溶液を17時間攪拌した。反応混合物を周囲温度に冷却させ、エチルアセテート(EtOAc)(750g)で希釈した。反応混合物を1L分液漏斗に移し、溶液が混濁するまでヘプタン(150g)でさらに希釈した。ヘプタン(2kg)に沈殿させ、濾過によって固体を回収することで標題のポリマーを単離した。ポリマーを45℃で18時間真空(1torr)下で乾燥し、淡黄色固体としての標題のターポリマー(116.5g、収率77.6%)を得た。GPCで測定した分子量は、M=5,150、M=9,730、PDI=1.9であった。H NMRで測定したポリマーのモル組成は、PENB/MA/N−フェニルマレイミド=48/48/4であった。
ROMA−MIポリマー
実施例3は、実施例2のCOMA−MIポリマーの無水マレイン酸繰り返し単位をメタノールで開環する方法を説明する。本発明の様々な異なるROMA−MIポリマーは、無水マレイン酸繰り返し単位を開環するための様々な異なるアルコールを含む適切な出発物質を用いて同様に製造することができる。
実施例3
実施例2のPENB/MA/N−フェニルマレイミドのROMA−MIポリマー
適切な大きさの反応容器に実施例2のポリマー(25g)及びテトラヒドロフラン(THF)(75mL、Fisher)を入れ、均質溶液が得られるまで周囲温度で攪拌した。反応溶液を窒素の雰囲気でブランケット処理した。
別途の容器で、水酸化ナトリウム(NaOH)(2.2g、Acros Organics)及びメタノール(22.5g、Fisher)を均質溶液が得られるまで周囲温度で混合した。メタノール性NaOH溶液を前記ポリマー溶液に滴加し、ポリマー塩の懸濁液を反応容器内に形成した。次いで、その溶液を、透明で、わずかに粘性のある反応溶液が得られるまで16時間攪拌した。濃塩酸(HCl)(6.6g、Fisher)を徐々に添加し、結果として生じる混合物を20分間攪拌した。反応溶液を分液漏斗に移し、2つに相分離した。より濃密な水性相を除去し、有機相を塩水(12.5g)で2回及び脱イオン水(25g)で3回洗浄した。有機相を適切な大きさの丸底フラスコに移し、有機溶媒を減圧下で除去した。結果として生じる 粗生成物をEtOAc(90g)及びトルエン(10g、Fisher)に溶解し、分液漏斗に移した。ポリマー溶液を脱イオン水(15g)で7回洗浄した後、丸底フラスコに移し、溶媒を減圧下で除去した。回収された固体ポリマーをTHF(110g)及びヘプタン(15g)に溶解した後、ヘプタン(250g)中に沈殿させた。固体ポリマーを濾過して回収し、45℃で18時間減圧下で乾燥した(14.2g、87%収率、灰白色粉末として得られる)。
MeOHで単離された開環ポリマーがGPC及びFT−IRによって特徴付けられた。図1Aは、実施例2のポリマーのFT−IRスペクトルを示す。図1Bは、実施例3のポリマーのFT−IRスペクトルを示す。1777及び1857cm−1での無水カルボニル吸収ピークの消失によって立証されるように、実施例3のポリマーで無水マレイン酸繰り返し単位が開環されたことがこれらのスペクトルから明らかである。エステル化率(%エステル)は、エステル(COOMe)及び酸(−COOH)の両方に対して、C=Oに対するメチルエステル(−COOMe)の−CHに対する積分値によってDMSO−d6中の13C NMRで計算した。エステル化度は120%と計算された(すなわち、Rはメチルであり、Rは80%H及び20%メチルである)。ポリマーのM及びMは、GPC(THF)(M=9,900、M=5,200、PDI=1.9)で測定した。
実施例4ないし7
表1に示したように、様々な異なるモノマーを用いることを除き、実施例4ないし7においては、実施例2及び3の手順を実質的に繰り返した。表1には、また、実施例2の手順によりそれぞれのCOMA−MIポリマーを形成するために用いられたモノマーの供給物組成がまとめられており、これらのそれぞれは、無水マレイン酸繰り返し単位の開環アルコールとしてMeOHを用いて実施例3の手順によりROMA−MIポリマーを形成するのに使用した。結果として生じるポリマーの重量平均分子量(M)、数平均分子量(M)及びPDIをGPC(THF)で測定し、これらのそれぞれの実施例に対して表1に示した。表1にはまた、これら実施例4ないし8のそれぞれから得られたポリマーの収率及び無水マレイン酸繰り返し単位の開環率(%)を示した。
実施例8
DecNB/NBTON/MA/N−フェニルマレイミドのROMA−MIポリマー(40/10/30/20)
DecNB/NBTON/MA/N−フェニルマレイミドを(40/10/30/20)のモル比で用いることを除き、当該実施例8においては、実施例2及び3の手順を実質的に繰り返した。結果として生じるポリマーは、GPC(THF)で特徴付けられ、M=13,800、M=6,500、PDI=2.1であった。無水マレイン酸繰り返し単位の開環率は99%と測定され、ポリマーの収率は78%であった。
比較例1
PENB/MA(50:50)のROMAポリマー
PENB及びMAを(50/50)のモル比で用いることを除き、当該比較例1においては、実施例2及び3の手順を実質的に繰り返した。結果として生じるポリマーは、GPC(THF)で特徴付けられ、M=8,300、M=4,500、及びPDI=1.9。無水マレイン酸繰り返し単位の開環率は98%と測定され、ポリマーの収率は89%であった。
比較例2
DecNB/NBTON/MA(40/10/50)のROMAポリマー
DecNB/NBTON/MAを(40/10/50)のモル比で用いることを除き、当該比較例2においては、実施例2及び3の手順を実質的に繰り返した。結果として生じるポリマーは、GPC(THF)で特徴付けられ、M=7,700、M=3700、及びPDI=2.1であった。無水マレイン酸繰り返し単位の開環率は99%と測定され、ポリマーの収率は95%であった。
実施例9ないし11
ROMA−MIポリマーの感光性組成物
実施例4のROMA−MIポリマーを下記のように本発明の様々な感光性組成物/剤形に剤形化した。PGMEA中の実施例4のポリマーの40重量%溶液、TrisP−3M6C−2−201、Irganox 1010、Si−75、KBM−403E、GE−36、EPON 862及びCXC−1761を必要に応じて適切な大きさの黄褐色HDPEボトルで混合した。混合物を18時間ローリングして均質溶液を製造した。粒子汚染は35psi圧力下で0.2μmポアのナイロンディスクフィルタを通して濾過し、除去した。濾過されたポリマー剤形を黄褐色の低粒子HDPEボトルに回収し、5℃で貯蔵した。表2には、実施例9ないし11の感光性組成物を形成するのに用いられた様々な成分を示した。
実施例12ないし14
実施例5のポリマー及び表3に示したような様々な成分を用いることを除き、当該実施例12ないし14においては、実施例9ないし11の手順を実質的に繰り返した。
実施例15
実施例8のポリマー及び表4に示したような様々な成分を用いることを除き、当該実施例15においては、実施例9ないし11の手順を実質的に繰り返した。
比較例3ないし5
比較例1のポリマー及び表5に示したような様々な成分を用いることを除き、当該比較例3ないし5においては、実施例9ないし11の手順を実質的に繰り返した。
比較例6
比較例2のポリマー及び表6に示したような様々な成分を用いることを除き、当該比較例6においては、実施例9ないし11の手順を実質的に繰り返した。
実施例16
スピンコーティング手順
実施例9ないし15及び比較例3ないし6に記載の手順により製造された感光性組成物を下記のスピンプロトコルを用いて、好適な基板上にスピンコートした。実施例9ないし15及び比較例3ないし6の組成物は、使用前に周囲温度になるようにした後、CEE−200 CBスピンコータ(Brewer Scientific)上で500rpmで10秒間、次に、1200rpmで30秒間スピンコートすることにより直径125mmのシリコンウェハ(ウェハ厚さ:725μm)に塗布した。次いで、基板を120℃のホットプレート上に3分間置いて残留溶媒を除去し、11.1μmの厚さの膜を提供した(塗布後ベーク)。露光前の膜厚は、DekTak150触針式表面形状測定装置を用いて接触形状測定により測定した。
実施例17
露光及び水性塩基現像
I線(365nm)バンドパスフィルタが取り付けられたAB−M接触マスクアライナーは、0ないし976mJ/cmの露光エネルギーの範囲を用いてマスキング要素を介してポリマー膜を画像露光することに用いられた。潜像を、5秒間の噴霧及び70秒間のパドル浸漬サイクルからなるパドル現像法を用いて、0.26 N TMAH溶液(CD−26)で現像した。ウェハ及びパターン化された膜を脱イオン水を5秒間噴霧することによりリンスして残留現像液溶媒を除去した後、3000rpmで15秒間回転させることによって乾燥した。次いで、その膜をOptiphot−88顕微鏡[Nikon]で評価して、残留物のない10μm離隔したトレンチ開口部を開くのに必要な閾値エネルギー(Eth)を決定した。
図2は、実施例11の感光性組成物から得られたラインアンドスペースパターンのイメージの代表例である。図2より、本発明の感光性組成物によって良好な解像度の優れたパターンを得ることができることが明らかである。
実施例18
暗視野損失(DFL)測定
0.26 N TMAH現像及び乾燥後の膜厚は、Dektak 150を用いて測定した。次いで、暗視野損失(DFL)を下記のように膜厚の%変化として計算した。
%DFL=[(PAB後の厚さ−0.26 N TMAH現像後の厚さ)/PAB後の厚さ]x100
上記式において、PABは、実施例16に記載されたような塗布後ベークである。これらの測定の結果は、表7にまとめた。
表7に示されたデータから、本発明のすべての組成物は、相当に許容可能な暗視野損失(DFL)を示したことが明らかである。一般的に、20秒未満の現像時間で20%未満のDFLは良好であると考えられる。表7のデータから分かるように、実施例9の組成物は40%の最も高いDFLを有したが、また、72秒の最も長い現像時間を有した。一方、比較例6の組成物は15秒でも36%のDFLを有した。同様に、比較例3ないし5の組成物も35又は40秒の比較的長い現像時間で28%、33%及び33%の一般的に高いDFLを示した。
これは、本発明組成物の優れた特性を明確に立証している。
実施例19
熱硬化中の熱パターンリフロー
直径125mmのシリコンウェハ(ウェハ厚さ:725μm)を実施例10の組成物でコーティングし、光活性膜を露光量255mJ/cmの365nmのUV放射線に露光し、潜像を実施例17に記載されたように0.26 N TMAH現像液で現像することによって潜在マスクパターンを膜に転写した。ウェハを2つの半分体に切断した。ウェハの半分の1つをDespatchオーブンに入れた。オーブンを窒素ガスでパージした後、ウェハを10℃/分の速度で180℃に加熱し、サンプルを180℃で120分間維持させた。ウェハをオーブンから取り出す前にオーブンを45℃に冷却させた。サンプルは、Hitachi S−4500電界放出ガン走査型電子顕微鏡(SEM)上で断面分析のために投入した。図3a及び3bは、サンプルの硬化前後の断面イメージを示す。図3bより明らかなように、硬化前の離隔した10.8μmトレンチのサイズは、硬化後10.1μmで実質的に維持され、これは、本発明の感光性組成物の熱流動が殆どないことを示している。
実施例20ないし25及び比較例7ないし10
実施例9及び11〜15の様々な異なる感光性組成物及び比較例3ないし6の組成物を用いることを除き、当該実施例20ないし25においては、実施例19の手順を実質的に繰り返した。当該実施例20ないし25及び比較例7ないし10のそれぞれにおいて、実施例19に記載されたように、硬化前後の現像されたイメージをSEMイメージで撮影し、イメージの断面寸法を測定した。表8に、180℃で2時間の熱硬化の前後にこれらのサンプルのそれぞれに対する離隔した10μmトレンチの寸法をまとめた。
当該データから、イメージの寸法のほとんどは、本発明のすべての組成物に対する熱硬化後に維持されたことが非常に明らかである。しかし、イメージの完全性は必ずしも同じではなかった。例えば、実施例21及び24から得られたイメージは、イメージの寸法を維持していたが、イメージには著しいシワがあった。このシワの効果の代表例を、現像された膜の光学顕微鏡写真である図5に示した。これらの結果から、好ましい結果に基づいて本発明の組成物の好ましい効果を得るためには様々な要因が関連していることが明らかである。したがって、本発明の組成物は、寸法安定性及び様々な異なる要件の好ましい結果に基づいて調整することができる。
さらに、注目すべき点は、感光性組成物の特性も用いられたポリマーのタイプに依存するということである。例えば、実施例8のポリマーから製造された実施例15の感光性組成物は、表8にまとめた実施例25から立証されるように、比較的不良な熱安定性を提供した。図4a及び4bは、当該実施例25で得られたウェハサンプルの硬化前後の断面イメージを示す。図4bより、ポリマーは、硬化後に顕著な熱流動を示したことに対して、硬化前の組成物は非常に微細な10.7μmのトレンチを示したことが明らかである。一方、表7に提示したデータから比較例7ないし10のすべては、硬化後の不良な熱リフロー特性を示したことが明らかである。
特定の先行実施例によって本発明を説明したが、これに制限されるものと解釈されてはならず、むしろ発明は上記に開示したような包括的な分野を含んでいる。発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、様々な変形及び実施形態が行われ得る。

Claims (20)

  1. 化学式(IA)で表される1つ以上の別個の第1繰り返し単位、
    化学式(IIA)で表される1つ以上の別個の第2繰り返し単位、及び
    化学式(IIIA)で表される1つ以上の別個の第3繰り返し単位
    からなり
    前記第1繰り返し単位のそれぞれは、化学式(I)のモノマーに由来し、
    前記第2繰り返し単位のそれぞれは、化学式(II)のモノマーに由来し、
    前記第3繰り返し単位のそれぞれは、化学式(III)のモノマーに由来するポリマー。
    上記式において、
    は、他の繰り返し単位との結合が生じる位置を示し、
    mは、0、1又は2の整数であり、
    、R、R及びRは、それぞれ互いに独立に水素、直鎖もしくは分岐鎖(C−C16)アルキル、ヒドロキシ(C−C12)アルキル、パーフルオロ(C−C12)アルキル、(C−C12)シクロアルキル、(C−C12)ビシクロアルキル、(C−C14)トリシクロアルキル、(C−C10)アリール、(C−C10)アリール(C−C)アルキル、パーフルオロ(C−C10)アリール、パーフルオロ(C−C10)アリール(C−C)アルキル、(C−C10)ヘテロアリール、(C−C10)ヘテロアリール(C−C)アルキル、ヒドロキシ、(C−C12)アルコキシ、(C−C12)シクロアルコキシ、(C−C12)ビシクロアルコキシ、(C−C14)トリシクロアルコキシ、−(CH−(O−(CH−O−(C−C)アルキル(ここで、a、b及びcは1〜4の整数である)、(C−C10)アリールオキシ(C−C)アルキル、(C−C10)ヘテロアリールオキシ(C−C)アルキル、(C−C10)アリールオキシ、(C−C10)ヘテロアリールオキシ及びハロゲンからなる群より選択され、
    上記式において、
    、R、R及びRは、それぞれ互いに独立に水素、直鎖もしくは分岐鎖(C−C)アルキル及びフルオロ化又はパーフルオロ化(C−C)アルキルからなる群より選択され、
    上記式において、
    及びR10は、それぞれ互いに独立に水素、直鎖もしくは分岐鎖(C−C12)アルキル、(C−C)シクロアルキル、(C−C12)アリール及び(C−C12)アリール(C−C12)アルキルからなる群より選択され、
    11は直鎖もしくは分岐鎖(C−C12)アルキル、(C−C)シクロアルキル、(C−C12)アリール及び(C−C12)アリール(C−C12)アルキルから選択される
  2. 前記ポリマーは、化学式(I)の2以上の別個の繰り返し単位からなる請求項1に記載のポリマー。
  3. mは0であり、
    、R、R及びRは、それぞれ独立に水素、直鎖もしくは分岐鎖(C−C12)アルキル、フェニル(C−C)アルキル及び−(CH−(O−(CH−O−(C−C)アルキル(ここで、aは1又は2であり、bは2ないし4であり、cは2又は3である)からなる群より選択される請求項1に記載のポリマー。
  4. 及びRは、互いに独立に水素及びメチルから選択され、それぞれのR及びRは、互いに独立に水素、メチル、エチル、n−プロピル及びn−ブチルから選択され、R及びR10は、互いに独立に水素及びメチルから選択され、R11は、ヘキシル、シクロヘキシル及びフェニルから選択される請求項1に記載のポリマー。
  5. 前記1つ以上の第1繰り返し単位は、下記からなる群より選択されるモノマーに由来する請求項1に記載のポリマー。
    5−ヘキシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
    5−オクチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
    5−デシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
    5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
    1−(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−イル)−2,5,8,11−テトラオキサドデカン、
    5−ベンジルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、及び
    5−フェネチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン。
  6. 前記第2繰り返し単位は、下記からなる群より選択されるモノマーに由来する請求項1に記載のポリマー。
    無水マレイン酸、
    2−メチル−無水マレイン酸(3−メチルフラン−2,5−ジオン)、
    2,3−ジメチル−無水マレイン酸(3,4−ジメチルフラン−2,5−ジオン)、
    2−エチル−無水マレイン酸(3−エチルフラン−2,5−ジオン)、
    2,3−ジエチル−無水マレイン酸(3,4−ジエチルフラン−2,5−ジオン)、
    2−トリフルオロメチル−無水マレイン酸(3−トリフルオロメチルフラン−2,5−ジオン)、
    2,3−ビス(トリフルオロメチル)−無水マレイン酸(3,4−ビス(トリフルオロメチル)フラン−2,5−ジオン)、及び
    2−メチル−3−トリフルオロメチル−無水マレイン酸(3−メチル−4−(トリフルオロメチル)フラン−2,5−ジオン)。
  7. 前記第3繰り返し単位は、下記からなる群より選択されるモノマーに由来する請求項2に記載のポリマー。
    N−エチルマレイミド(1−エチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
    N−ブチルマレイミド(1−ブチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
    N−ヘキシルマレイミド(1−ヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
    N−オクチルマレイミド(1−オクチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
    N−シクロペンチルマレイミド(1−シクロペンチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
    N−シクロヘキシルマレイミド(1−シクロヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
    N−シクロヘプチルマレイミド(1−シクロヘプチル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
    N−フェニルマレイミド(1−フェニル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、及び
    N−ベンジルマレイミド(1−ベンジル−1H−ピロール−2,5−ジオン)。
  8. 前記第1繰り返し単位は、
    5−オクチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
    5−デシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
    5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
    1−(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−イル)−2,5,8,11−テトラオキサドデカン、及び
    5−フェネチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エンに由来し、
    前記第2繰り返し単位は無水マレイン酸に由来し、
    前記第3繰り返し単位は、
    N−ヘキシルマレイミド(1−ヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
    N−シクロヘキシルマレイミド(1−シクロヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、及び
    N−フェニルマレイミド(1−フェニル−1H−ピロール−2,5−ジオン)に由来する請求項1に記載のポリマー。
  9. 前記第1繰り返し単位は
    5−デシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
    5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、及び
    5−フェネチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エンに由来し、
    前記第2繰り返し単位は無水マレイン酸に由来し、
    前記第3繰り返し単位は、
    N−ヘキシルマレイミド(1−ヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
    N−シクロヘキシルマレイミド(1−シクロヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、及び
    N−フェニルマレイミド(1−フェニル−1H−ピロール−2,5−ジオン)に由来する請求項1に記載のポリマー。
  10. 化学式(IA)で表される1つ以上の別個の第1繰り返し単位、
    化学式(IIA)で表される1つ以上の別個の第2繰り返し単位、及び
    化学式(IIIA)で表される1つ以上の別個の第3繰り返し単位
    からなり
    前記第1繰り返し単位のそれぞれは、化学式(I)のモノマーに由来し、
    前記第2繰り返し単位のそれぞれは、化学式(II)のモノマーに由来し、
    前記第3繰り返し単位のそれぞれは、化学式(III)のモノマーに由来するポリマー、
    光活性化合物、
    エポキシ樹脂、及び
    溶媒を含む、層形成組成物。
    上記式において、
    は、他の繰り返し単位との結合が生じる位置を示し、
    mは、0、1又は2の整数であり、
    、R、R及びRは、それぞれ互いに独立に水素、直鎖もしくは分岐鎖(C−C16)アルキル、ヒドロキシ(C−C12)アルキル、パーフルオロ(C−C12)アルキル、(C−C12)シクロアルキル、(C−C12)ビシクロアルキル、(C−C14)トリシクロアルキル、(C−C10)アリール、(C−C10)アリール(C−C)アルキル、パーフルオロ(C−C10)アリール、パーフルオロ(C−C10)アリール(C−C)アルキル、(C−C10)ヘテロアリール、(C−C10)ヘテロアリール(C−C)アルキル、ヒドロキシ、(C−C12)アルコキシ、(C−C12)シクロアルコキシ、(C−C12)ビシクロアルコキシ、(C−C14)トリシクロアルコキシ、−(CH−(O−(CH−O−(C−C)アルキル(ここで、a、b及びcは1〜4の整数である)、(C−C10)アリールオキシ(C−C)アルキル、(C−C10)ヘテロアリールオキシ(C−C)アルキル、(C−C10)アリールオキシ、(C−C10)ヘテロアリールオキシ及びハロゲンからなる群より選択され、
    上記式において、
    、R、R及びRは、それぞれ互いに独立に水素、直鎖もしくは分岐鎖(C−C)アルキル及びフルオロ化又はパーフルオロ化(C−C)アルキルからなる群より選択され、
    上記式において、
    及びR10は、それぞれ互いに独立に水素、直鎖もしくは分岐鎖(C−C12)アルキル、(C−C)シクロアルキル、(C−C12)アリール及び(C−C12)アリール(C−C12)アルキルからなる群より選択され、
    11は直鎖もしくは分岐鎖(C−C12)アルキル、(C−C)シクロアルキル、(C−C12)アリール及び(C−C12)アリール(C−C12)アルキルから選択される
  11. 前記ポリマーは、化学式(I)の2以上の別個の繰り返し単位からなる請求項10に記載の組成物。
  12. 前記ポリマーの前記第1繰り返し単位は、
    5−デシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、
    5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、及び
    5−フェネチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エンに由来し、
    前記第2繰り返し単位は無水マレイン酸に由来し、
    前記第3繰り返し単位は、
    N−ヘキシルマレイミド(1−ヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、
    N−シクロヘキシルマレイミド(1−シクロヘキシル−1H−ピロール−2,5−ジオン)、及び
    N−フェニルマレイミド(1−フェニル−1H−ピロール−2,5−ジオン)に由来する請求項10に記載の組成物。
  13. 前記光活性化合物は、それぞれ構造式(VIIa)及び(VIIb)
    で表される1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル部位及び/又は1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホニル部位
    又は構造式(VIIc)
    で表されるスルホニルベンゾキノンジアジド基を含む請求項10に記載の組成物。
  14. 前記光活性化合物は下記化合物である請求項13に記載の組成物。
    上記式において、Qの少なくとも1つは化学式(VIIa)又は(VIIb)の基であり:
    残りのQは水素である。
  15. 前記エポキシ樹脂は下記からなる群より選択される請求項10に記載の組成物:
    ビスフェノールAエピクロロヒドリン系エポキシ樹脂、
    ポリプロピレングリコールエピクロロヒドリン系エポキシ樹脂、
    ビス(4−(オキシラン−2−イルメトキシ)フェニル)メタン、
    パラ−ターシャリ−ブチルフェノールのグリシジルエーテル、
    ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、
    ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、及び
    これらの任意の組み合わせによる混合物。
  16. 前記溶媒は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ‐ブチロラクトン、N−メチルピロリドン及びこれらの任意の組み合わせによる混合物からなる群より選択される請求項10に記載の組成物。
  17. 前記溶媒は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである請求項10に記載の組成物。
  18. 前記組成物は、下記からなる群より選択された1つ以上の添加剤をさらに含む請求項10に記載の組成物:
    接着促進剤、
    抗酸化剤、
    界面活性剤、
    熱酸又は熱塩基発生剤、及び
    これらの任意の組み合わせによる混合物。
  19. (i)請求項10に記載の層形成組成物を基板上に塗布してコーティング膜を形成するステップ、
    (ii)目的のパターンマスクを介してコーティング膜を露光するステップ、
    (iii)アルカリ性現像液で現像することによって露光部を溶解及び除去して目的のパターンを得るステップ、及び
    (iv)得られた目的のパターンを加熱するステップを含む、硬化物の形成方法。
  20. 請求項10に記載の層形成組成物を硬化して得られた硬化物。
JP2017557903A 2015-05-06 2016-05-06 永久的な誘電体としてのマレイミド及びシクロオレフィンモノマーのポリマー Active JP6564065B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201562157607P 2015-05-06 2015-05-06
US62/157,607 2015-05-06
PCT/US2016/031101 WO2016179452A1 (en) 2015-05-06 2016-05-06 Polymers of maleimide and cycloolefinic monomers as permanent dielectric materials

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018520222A JP2018520222A (ja) 2018-07-26
JP2018520222A5 JP2018520222A5 (ja) 2019-04-04
JP6564065B2 true JP6564065B2 (ja) 2019-08-21

Family

ID=56113041

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017557903A Active JP6564065B2 (ja) 2015-05-06 2016-05-06 永久的な誘電体としてのマレイミド及びシクロオレフィンモノマーのポリマー

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9932432B2 (ja)
JP (1) JP6564065B2 (ja)
KR (1) KR20180003564A (ja)
TW (1) TWI659046B (ja)
WO (1) WO2016179452A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018538396A (ja) * 2015-11-30 2018-12-27 プロメラス, エルエルシー 光酸発生剤及び塩基を含有する永久誘電体組成物

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI659046B (zh) * 2015-05-06 2019-05-11 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. 作爲永久介電材料的順丁烯二醯亞胺及環烯烴單體之聚合物
JP6707854B2 (ja) * 2015-12-18 2020-06-10 住友ベークライト株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、保護膜、絶縁膜および電子装置
TWI794520B (zh) * 2018-06-29 2023-03-01 日商住友電木股份有限公司 作為 3d 列印材料之聚環烯烴單體及由能夠產生光酸之化合物活化之催化劑
JP7200532B2 (ja) * 2018-08-09 2023-01-10 住友ベークライト株式会社 感光性樹脂組成物、及び、電子装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0380676B1 (en) * 1988-02-17 1994-05-04 Tosoh Corporation Photoresist composition
JPH02146045A (ja) * 1988-02-17 1990-06-05 Tosoh Corp フォトレジスト組成物
JP2961722B2 (ja) 1991-12-11 1999-10-12 ジェイエスアール株式会社 感放射線性樹脂組成物
KR100254472B1 (ko) * 1997-11-01 2000-05-01 김영환 신규한 말레이미드계 또는 지방족 환형 올레핀계 단량체와 이들 단량체들의 공중합체수지 및 이수지를 이용한 포토레지스트
JP3262108B2 (ja) 1998-09-09 2002-03-04 東レ株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
JP2002179744A (ja) * 2000-12-13 2002-06-26 Daicel Chem Ind Ltd マレイミド系重合体及びレジスト用組成物
JP3827290B2 (ja) * 2001-10-03 2006-09-27 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物
JP3952756B2 (ja) 2001-11-29 2007-08-01 日本ゼオン株式会社 感放射線性樹脂組成物及びその利用
JP6097216B2 (ja) 2010-09-02 2017-03-15 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung 電子デバイス用のゲート絶縁層
WO2012071496A1 (en) * 2010-11-24 2012-05-31 Promerus Llc A self-imageable film forming polymer, compositions thereof and devices and structures made therefrom
KR101572049B1 (ko) * 2012-09-25 2015-11-26 프로메러스, 엘엘씨 사이클로올레핀성 중합체를 함유하는 말레이미드 및 그의 용도
WO2015038411A2 (en) * 2013-09-16 2015-03-19 Promerus, Llc Amine treated maleic anhydride polymers, compositions and applications thereof
TWI659046B (zh) * 2015-05-06 2019-05-11 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. 作爲永久介電材料的順丁烯二醯亞胺及環烯烴單體之聚合物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018538396A (ja) * 2015-11-30 2018-12-27 プロメラス, エルエルシー 光酸発生剤及び塩基を含有する永久誘電体組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018520222A (ja) 2018-07-26
US9932432B2 (en) 2018-04-03
KR20180003564A (ko) 2018-01-09
TW201708285A (zh) 2017-03-01
TWI659046B (zh) 2019-05-11
WO2016179452A1 (en) 2016-11-10
US20160326292A1 (en) 2016-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5860193B2 (ja) マレイミド含有シクロオレフィンポリマーおよびその利用
JP6564065B2 (ja) 永久的な誘電体としてのマレイミド及びシクロオレフィンモノマーのポリマー
US9944730B2 (en) Polymers derived from norbornadiene and maleic anhydride and use thereof
WO2013010190A2 (en) A self-imageable layer forming polymer and compositions thereof
US20160187775A1 (en) Photoimageable compositions containing thermal base generators
US11048168B2 (en) Permanent dielectric compositions containing photoacid generator and base
US10303057B2 (en) Fluorine free photopatternable phenol functional group containing polymer compositions
TWI684826B (zh) 可光成像組成物、硬化產物形成方法、硬化產物及包含該硬化產物的光電子或微電子裝置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190222

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190222

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20190222

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20190227

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190612

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190701

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190725

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6564065

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350