JP6560072B2 - Vacuum drying apparatus and vacuum drying method - Google Patents

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Description

この発明は、液晶表示装置用ガラス基板、半導体ウェハ、PDP用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、カラーフィルター用基板、記録ディスク用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板などの精密電子装置用基板(以下、単に「基板」と称する)上に形成される塗布膜を乾燥させる減圧乾燥装置および減圧乾燥方法に関するものである。   The present invention is for precision electronic devices such as glass substrates for liquid crystal display devices, semiconductor wafers, glass substrates for PDPs, glass substrates for photomasks, substrates for color filters, substrates for recording disks, substrates for solar cells, substrates for electronic paper, etc. The present invention relates to a vacuum drying apparatus and a vacuum drying method for drying a coating film formed on a substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”).

従来、上記した精密電子装置用基板の製造工程では、基板の表面に形成された塗布膜を乾燥させるために、減圧処理によって塗布膜に含まれる溶媒成分を気化させて乾燥させる減圧乾燥技術が用いられていた。しかしながら、塗布膜が厚くなるのにしたがって、減圧乾燥に要する時間が長くなり、より効率的な減圧乾燥技術が望まれている。この要望を満足させるために、減圧処理と並行して加熱処理を行う減圧乾燥装置が提案されている(例えば特許文献1参照)。   Conventionally, in the manufacturing process of the substrate for precision electronic devices described above, in order to dry the coating film formed on the surface of the substrate, a vacuum drying technique is used in which the solvent component contained in the coating film is vaporized and dried by a vacuum process. It was done. However, as the coating film becomes thicker, the time required for reduced-pressure drying becomes longer, and a more efficient reduced-pressure drying technique is desired. In order to satisfy this demand, a reduced-pressure drying apparatus that performs heat treatment in parallel with the reduced-pressure treatment has been proposed (for example, see Patent Document 1).

この減圧乾燥装置は、その内部空間で塗布膜が形成された基板を収納するチャンバを有している。また、減圧乾燥装置は、内部空間を減圧する機能と、内部空間を加熱する機能とを備えており、減圧処理と加熱処理とを並行して行うことで塗布膜の減圧乾燥時間の短縮を図っている。   This vacuum drying apparatus has a chamber for storing a substrate on which a coating film is formed in its internal space. The vacuum drying apparatus has a function of decompressing the internal space and a function of heating the internal space. By performing the decompression process and the heating process in parallel, the decompression drying time of the coating film is shortened. ing.

特開2008−202930号公報JP 2008-202930 A

ところで、減圧処理と加熱処理とを並行して行うと、塗布膜に含まれる溶媒成分が短時間で大量に気化し、チャンバに接続される排気配管を介して上記内部空間から排出される。特許文献1では排気配管は常温状態に置かれており、後述する実験および分析で説明するように、種々の問題が発生することがある。例えば減圧乾燥処理に要する時間、いわゆるタクトタイムを短縮することが難しい。また、減圧乾燥処理毎にタクトタイムが変動し、減圧乾燥処理が不安定なものとなる。   By the way, when the decompression process and the heating process are performed in parallel, a large amount of the solvent component contained in the coating film is vaporized in a short time and is discharged from the internal space via the exhaust pipe connected to the chamber. In Patent Document 1, the exhaust pipe is placed at room temperature, and various problems may occur as will be described in the experiments and analysis described below. For example, it is difficult to shorten the time required for the reduced pressure drying process, the so-called tact time. In addition, the tact time varies for each vacuum drying process, and the vacuum drying process becomes unstable.

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、減圧と加熱とを並行して行う減圧乾燥処理を短時間で、しかも安定して行うことができる減圧乾燥装置および減圧乾燥方法を提供することを目的とする。   This invention is made in view of the said subject, and provides the reduced pressure drying apparatus and reduced pressure drying method which can perform the reduced pressure drying process which performs pressure reduction and a heating in parallel in a short time, and also stably. Objective.

この発明の一態様は、チャンバの内部空間に基板を収納しながらチャンバに接続される排気配管を介して内部空間の雰囲気を排気することで内部空間を減圧するとともに内部空間を加熱することで、基板上の塗布膜に含まれる溶媒成分を気化させて塗布膜を乾燥させる減圧乾燥装置であって、排気配管の外周面側から排気配管を加熱する配管加熱部を備え、配管加熱部は、チャンバから離れるにしたがって排気配管の温度が高くなるように加熱することを特徴としている。 One aspect of the present invention is to depressurize the internal space and heat the internal space by exhausting the atmosphere of the internal space through the exhaust pipe connected to the chamber while storing the substrate in the internal space of the chamber. the solvent component contained in the coating film on the substrate is vaporized by a vacuum drying apparatus for drying the coated film, provided with a pipe heating part for heating the exhaust pipe from the outer peripheral surface of the exhaust pipe, the pipe heating section, the chamber The exhaust pipe is heated so that the temperature of the exhaust pipe increases as the distance from the engine increases .

また、この発明の他の態様は、減圧乾燥方法であって、塗布膜が形成された基板をチャンバの内部空間に収納する収納工程と、チャンバに接続される排気配管を介して内部空間の雰囲気を排気して内部空間を減圧するとともに内部空間を加熱することで、基板上の塗布膜に含まれる溶媒成分を気化させて塗布膜を乾燥させる乾燥工程と、乾燥工程と並行してチャンバから離れるにしたがって排気配管の温度が高くなるように排気配管の外周面側から排気配管を加熱する配管加熱工程と
を備えることを特徴としている。
Another aspect of the present invention is a vacuum drying method, comprising: a housing step of housing a substrate on which a coating film is formed in an internal space of a chamber; and an atmosphere of the internal space via an exhaust pipe connected to the chamber The internal space is decompressed and the internal space is heated, and the solvent component contained in the coating film on the substrate is vaporized to dry the coating film, and the chamber is separated from the chamber in parallel with the drying process. And a pipe heating step for heating the exhaust pipe from the outer peripheral surface side of the exhaust pipe so as to increase the temperature of the exhaust pipe .

チャンバの内部空間で減圧処理のみならず加熱処理を並行して行う場合、基板上の塗布膜から溶媒成分が効率的に気化され、排気配管を介してチャンバから排出される。この排出時に排気配管が常温程度であれば、気化した溶媒成分が液化して排気配管に付着する。しかしながら、本発明では、排気配管が加熱されているため、溶媒成分の液化が抑えられ、塗布膜を短時間でしかも安定して乾燥させることができる。   When performing not only the decompression process but also the heat process in parallel in the internal space of the chamber, the solvent component is efficiently vaporized from the coating film on the substrate and is discharged from the chamber through the exhaust pipe. If the exhaust pipe is at room temperature at the time of discharge, the vaporized solvent component is liquefied and adheres to the exhaust pipe. However, in the present invention, since the exhaust pipe is heated, liquefaction of the solvent component can be suppressed, and the coating film can be stably dried in a short time.

本発明にかかる減圧乾燥装置の一実施形態の構成を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the structure of one Embodiment of the reduced pressure drying apparatus concerning this invention. 図1に示す減圧乾燥装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the reduced pressure drying apparatus shown in FIG. 図1に示す減圧乾燥装置における減圧特性を示すグラフである。It is a graph which shows the pressure reduction characteristic in the vacuum drying apparatus shown in FIG. 溶媒の蒸気圧曲線の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the vapor pressure curve of a solvent. 図1に示す減圧乾燥装置の動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows operation | movement of the reduced pressure drying apparatus shown in FIG.

図1は本発明にかかる減圧乾燥装置の一実施形態の構成を示す縦断面図である。また、図2は図1に示す減圧乾燥装置の構成を示すブロック図である。この減圧乾燥装置1は、基板9の上面91に塗布液を塗布してなる塗布膜92に含まれる溶媒成分を気化させて塗布膜92を乾燥させる装置である。例えば基板9の上面91にポリイミド膜を形成する場合には、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸(ポリアミック酸)を有機溶媒、例えばNMB(N−メチル−2−ピロリドン:N-Methyl-2-Pyrrolidone)で溶解させてなるポリアミド酸溶液を塗布液として用いる。当該塗布液を塗布して、所望厚みの10倍程度(例えば5〜10[μm]程度のポリイミド膜を形成する場合には、50〜100[μm]程度)の比較的厚い塗布膜を形成する。そして、当該塗布膜に含まれる溶媒成分を減圧乾燥装置1によって気化させて除去し、さらに減圧乾燥装置1とは異なる加熱装置によって高温加熱してイミド化させることで基板9の上面91にポリイミド膜が形成される。このように、本発明にかかる減圧乾燥装置1は比較的厚い塗布膜92を減圧乾燥させることができ、特に減圧乾燥処理時に大量の溶媒成分が気化する場合に好適である。   FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a configuration of an embodiment of a reduced pressure drying apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the vacuum drying apparatus shown in FIG. The reduced-pressure drying apparatus 1 is an apparatus that evaporates a solvent component contained in a coating film 92 formed by applying a coating liquid on the upper surface 91 of the substrate 9 to dry the coating film 92. For example, when a polyimide film is formed on the upper surface 91 of the substrate 9, polyamic acid (polyamic acid) which is a polyimide precursor is used as an organic solvent, for example, NMB (N-Methyl-2-pyrrolidone: N-Methyl-2-Pyrrolidone). ) Is used as a coating solution. The coating solution is applied to form a relatively thick coating film having a thickness about 10 times the desired thickness (for example, about 50 to 100 [μm] when a polyimide film of about 5 to 10 [μm] is formed). . Then, the solvent component contained in the coating film is vaporized and removed by the reduced-pressure drying apparatus 1 and further heated at a high temperature by a heating apparatus different from the reduced-pressure drying apparatus 1 to imidize the polyimide film on the upper surface 91 of the substrate 9. Is formed. As described above, the reduced pressure drying apparatus 1 according to the present invention can dry the relatively thick coating film 92 under reduced pressure, and is particularly suitable when a large amount of solvent components are vaporized during the reduced pressure drying process.

減圧乾燥装置1は、図1に示すように、チャンバ10と、基板保持部20と、基板加熱部30と、排気部40と、配管加熱部50と、装置全体を制御する制御部60(図2)とを備えている。   As shown in FIG. 1, the vacuum drying apparatus 1 includes a chamber 10, a substrate holding unit 20, a substrate heating unit 30, an exhaust unit 40, a pipe heating unit 50, and a control unit 60 (FIG. 2).

チャンバ10は、基板9に対して減圧乾燥処理(=減圧処理+加熱処理)を行うための内部空間SPを有する耐圧容器である。チャンバ10は、互いに分離可能なベース部11と蓋部12とを有している。ベース部11は、装置フレーム(図示省略)上に固定設置されている。また、蓋部12には、図1において概念的に示したチャンバ昇降機構12aが接続されている。このため、制御部60からの昇降指令に応じてチャンバ昇降機構12aが動作することで、ベース部11に対して蓋部12が上下に昇降移動する。蓋部12を下降させたときには、ベース部11と蓋部12とが当接して一体となり、その内部に内部空間SP(基板9の処理空間)が形成される。本実施形態では、ベース部11の上面の周縁部には、シリコンゴムなどで構成されたOリング13が設けられている。このため、蓋部12の下降時には、ベース部11の上面と蓋部12の下面との間にOリング13が介在し、チャンバ10内部空間SPは気密状態となる。一方、蓋部12を上昇させたときにはチャンバ10が開放され、チャンバ10への基板9の搬入およびチャンバ10からの基板9の搬出が可能となる。   The chamber 10 is a pressure vessel having an internal space SP for performing a reduced-pressure drying process (= depressurization process + heating process) on the substrate 9. The chamber 10 has a base portion 11 and a lid portion 12 that are separable from each other. The base portion 11 is fixedly installed on an apparatus frame (not shown). Further, the lid 12 is connected to a chamber lifting mechanism 12a conceptually shown in FIG. For this reason, the lid 12 moves up and down with respect to the base 11 by operating the chamber lifting mechanism 12 a according to the lifting command from the controller 60. When the lid portion 12 is lowered, the base portion 11 and the lid portion 12 come into contact with each other, and an internal space SP (processing space for the substrate 9) is formed therein. In the present embodiment, an O-ring 13 made of silicon rubber or the like is provided on the peripheral edge portion of the upper surface of the base portion 11. For this reason, when the lid portion 12 is lowered, the O-ring 13 is interposed between the upper surface of the base portion 11 and the lower surface of the lid portion 12, and the chamber 10 internal space SP is in an airtight state. On the other hand, when the lid 12 is raised, the chamber 10 is opened, and the substrate 9 can be carried into and out of the chamber 10.

基板保持部20は、チャンバ10の内部空間SPにおいて基板9を保持するための機構である。基板保持部20は、複数の基板保持ピン21を有しており、各基板保持ピン21の頭部を基板9の下面に当接させることにより、基板9を水平姿勢に支持する。複数の基板保持ピン21は、チャンバ10の外部に配置された1つの支持部材22上に立設されており、それぞれベース部11および基板加熱部30を貫通してチャンバ10の内部空間SPに突設されている。   The substrate holding unit 20 is a mechanism for holding the substrate 9 in the internal space SP of the chamber 10. The substrate holding unit 20 has a plurality of substrate holding pins 21, and supports the substrate 9 in a horizontal posture by bringing the head of each substrate holding pin 21 into contact with the lower surface of the substrate 9. The plurality of substrate holding pins 21 are erected on one support member 22 arranged outside the chamber 10, and protrude through the base portion 11 and the substrate heating portion 30 into the internal space SP of the chamber 10. It is installed.

この支持部材22には、図1に示すように、ピン昇降機構22aが接続されている。このため、制御部60からの昇降指令に応じてピン昇降機構22aが動作することで、支持部材22および複数の基板保持ピン21が一体として上下に昇降移動する。減圧乾燥装置1では、複数の基板保持ピン21上に基板9を保持しつつピン昇降機構22aを動作させることにより、基板加熱部30に対する基板9の高さ位置を調整することが可能となっている。   As shown in FIG. 1, a pin elevating mechanism 22a is connected to the support member 22. For this reason, the pin elevating mechanism 22a operates in accordance with the elevating command from the control unit 60, whereby the support member 22 and the plurality of substrate holding pins 21 move up and down as a unit. In the vacuum drying apparatus 1, it is possible to adjust the height position of the substrate 9 relative to the substrate heating unit 30 by operating the pin lifting mechanism 22 a while holding the substrate 9 on the plurality of substrate holding pins 21. Yes.

基板加熱部30はベース部11の上面中央部に配置されている。この基板加熱部30では、加熱源となる棒状ヒータが複数本設けられている。そして、複数の基板保持ピン21に基板9が搬入される前に制御部60からの加熱指令に応じて棒状ヒータを動作させておくと、基板9が搬入される前に内部空間SPが加熱されるとともに、搬入された基板9がその下面側から加熱される。このように、雰囲気温度が上昇した内部空間SP内で基板9を加熱して塗布膜92から溶媒成分を気化させる。   The substrate heating unit 30 is arranged at the center of the upper surface of the base unit 11. In the substrate heating unit 30, a plurality of rod heaters serving as heating sources are provided. If the rod heater is operated in accordance with a heating command from the control unit 60 before the substrate 9 is loaded into the plurality of substrate holding pins 21, the internal space SP is heated before the substrate 9 is loaded. At the same time, the loaded substrate 9 is heated from the lower surface side. In this way, the substrate 9 is heated in the internal space SP where the ambient temperature has risen, and the solvent component is vaporized from the coating film 92.

また、本実施形態では、加熱処理と並行して減圧処理を施すために、排気部40が設けられている。この排気部40は、チャンバ10の内部空間SPから溶媒成分を含むガス(以下「排気ガス」という)を吸引排気するための排気配管41と、排気配管41を介してチャンバ10から排出される排気ガスの排気量を制御するためのバタフライバルブ42、43と、開閉弁44と、排気ポンプ45とを有している。本実施形態では、ベース部11の周縁部に2つの排気口111、112が設けられている。また、このように排気口を2つ設けたことに対応し、排気配管41の一方端部は2つに分岐し、分岐端部411、412がそれぞれ排気口111、112に接続されている。さらに、排気口111、112の近傍位置でバタフライバルブ42、43がそれぞれ分岐端部411、412に介挿されている。一方、排気配管41の他方端部は開閉弁44および排気ポンプ45を介して図示を省略する排気ラインと接続されている。このため、制御部60からの開閉指令に応じて開閉弁44が開くとともに制御部60からの動作指令に応じて排気ポンプ45が動作すると、バタフライバルブ42、43の開度に応じた排気量で排気ガスが排気配管41を介して排気ラインへ排気される。   Moreover, in this embodiment, in order to perform a pressure reduction process in parallel with a heat processing, the exhaust part 40 is provided. The exhaust unit 40 includes an exhaust pipe 41 for sucking and exhausting a gas containing a solvent component (hereinafter referred to as “exhaust gas”) from the internal space SP of the chamber 10, and exhaust exhausted from the chamber 10 via the exhaust pipe 41. It has butterfly valves 42 and 43 for controlling the exhaust amount of gas, an on-off valve 44, and an exhaust pump 45. In the present embodiment, two exhaust ports 111 and 112 are provided in the peripheral edge portion of the base portion 11. Corresponding to the provision of two exhaust ports in this way, one end portion of the exhaust pipe 41 branches into two, and the branch end portions 411 and 412 are connected to the exhaust ports 111 and 112, respectively. Further, butterfly valves 42 and 43 are inserted into the branch end portions 411 and 412 at positions near the exhaust ports 111 and 112, respectively. On the other hand, the other end of the exhaust pipe 41 is connected to an exhaust line (not shown) via an on-off valve 44 and an exhaust pump 45. For this reason, when the on-off valve 44 is opened according to the opening / closing command from the control unit 60 and the exhaust pump 45 is operated according to the operation command from the control unit 60, the exhaust amount according to the opening degree of the butterfly valves 42, 43 is obtained. Exhaust gas is exhausted to the exhaust line via the exhaust pipe 41.

本実施形態では、排気配管41に配管加熱部50が設けられている。配管加熱部50は排気配管41の外周面にラバーヒータを配管ヒータ51として巻き付けたものである。制御部60からの加熱指令に応じて配管ヒータ51が発熱することで、排気配管41が加熱される。なお、配管ヒータ51としては、上記ラバーヒータ以外に、リボンヒータ、ケーブルヒータ、シートヒータなどを用いてもよい。   In the present embodiment, the exhaust pipe 41 is provided with a pipe heating unit 50. The pipe heating unit 50 is obtained by winding a rubber heater around the outer peripheral surface of the exhaust pipe 41 as a pipe heater 51. The exhaust pipe 41 is heated when the pipe heater 51 generates heat in response to a heating command from the control unit 60. As the piping heater 51, a ribbon heater, a cable heater, a seat heater, or the like may be used in addition to the rubber heater.

また、排気配管41を高精度に調整するために、本実施形態では、図2に示すように、排気配管41の温度を検出する配管温度センサ41aが設けられ、検出した温度に関連する検出信号を制御部60に出力する。そして、制御部60は、減圧乾燥処理と並行して、排気配管41の温度に基づいて気配管加熱部50をフィードバック制御することで排気配管41の温度を調整して排気ガスに含まれる溶媒成分が排気配管41に触れて液化するのを抑制する。このように、本実施形態では、制御部60は本発明の「配管温度制御部」として機能している。以下においては、上記のように構成された減圧乾燥装置1の動作を説明する前に、気配管加熱部50により排気配管41を加熱して温度調整することの技術的意義について図3および図4を参照しつつ説明する。   In order to adjust the exhaust pipe 41 with high accuracy, in this embodiment, as shown in FIG. 2, a pipe temperature sensor 41a for detecting the temperature of the exhaust pipe 41 is provided, and a detection signal related to the detected temperature. Is output to the control unit 60. And the control part 60 adjusts the temperature of the exhaust piping 41 by feedback-controlling the air piping heating part 50 based on the temperature of the exhaust piping 41 in parallel with a decompression drying process, and is a solvent component contained in exhaust gas Is prevented from touching the exhaust pipe 41 and liquefying. Thus, in this embodiment, the control unit 60 functions as the “pipe temperature control unit” of the present invention. In the following, before explaining the operation of the vacuum drying apparatus 1 configured as described above, the technical significance of heating and adjusting the temperature of the exhaust pipe 41 by the air pipe heating unit 50 will be described with reference to FIGS. 3 and 4. Will be described with reference to FIG.

図3は図1に示す減圧乾燥装置における減圧特性を示すグラフであり、次の実験によって減圧特性を求めている。減圧乾燥処理の初期段階で塗布膜92から溶媒成分が急激に気化するが、これに見合った排気量で減圧動作を実行している。このため、チャンバ10内の圧力は下降し、減圧乾燥処理の進行に伴い当該圧力は次第に減少して塗布膜92の減圧乾燥処理が完了する。そこで、本実験では、配管ヒータ51をON/OFFさせるという条件以外については全て同一に設定しながら、3枚の基板9について減圧乾燥処理を連続的に行い、一定値Ps(この実験では大気圧(100000Pa))から塗布膜92の減圧乾燥処理が完了するまでのチャンバ10内の圧力の変化をそれぞれ計測した。同図中の上段波形は配管ヒータ51を作動させないとき(OFF時)の減圧特性を示し、下段波形は配管ヒータ51を作動させたとき(ON時)の減圧特性を示している。   FIG. 3 is a graph showing the pressure reduction characteristics in the vacuum drying apparatus shown in FIG. 1, and the pressure reduction characteristics are obtained by the following experiment. In the initial stage of the reduced pressure drying process, the solvent component is rapidly vaporized from the coating film 92, but the reduced pressure operation is executed with an exhaust amount corresponding to the solvent component. For this reason, the pressure in the chamber 10 decreases, and the pressure gradually decreases as the vacuum drying process proceeds, and the vacuum drying process of the coating film 92 is completed. Therefore, in this experiment, the three substrates 9 were continuously subjected to the reduced-pressure drying process while setting the same except for the condition that the pipe heater 51 was turned on / off, and a constant value Ps (atmospheric pressure in this experiment). (100,000 Pa)) until the vacuum drying process of the coating film 92 was completed, the change in the pressure in the chamber 10 was measured. The upper waveform in the figure shows the pressure reduction characteristic when the pipe heater 51 is not operated (OFF), and the lower waveform shows the pressure reduction characteristic when the pipe heater 51 is operated (ON).

減圧乾燥装置1では、チャンバ10内で発生する溶媒成分を含む排気ガスが排気配管41を介してチャンバ10から排出されるため、時間経過にとともにチャンバ10内の圧力は低下する。ここで、図3に示す減圧特性において注目すべきことが3点存在する。   In the vacuum drying apparatus 1, the exhaust gas containing the solvent component generated in the chamber 10 is exhausted from the chamber 10 through the exhaust pipe 41, so that the pressure in the chamber 10 decreases with time. Here, there are three points to be noted in the decompression characteristics shown in FIG.

まず1点目は、圧力減少の初期においては配管ヒータ51をOFF状態に保ったケース(従来装置に実質的に相当し、以下「従来例」という)の方が配管ヒータ51をON状態に保ったケース(本実施形態に相当し、以下「実施例」という)よりも圧力低下率が大きい点である。これは、排気ガスに含まれる溶媒成分が排気配管41内で急激に冷却されて液化し、その液化した溶媒成分が再度気化して排気されるというプロセスが行われていることに起因していると本願発明者は分析した。すなわち、実施例では配管ヒータ51をON状態とすることで、従来例では液化されて排気配管41内に付着する分も実施例では気化状態が維持されているため、その分、排気すべき量も多くなったためと考察することができる。つまり、従来例より実施例の方が排気すべき排気ガスの量が多いため、圧力減少の初期においては排気速度が遅くなったと考えられる。このように圧力特性は排気配管41の温度と密接に関連している。   The first point is that the case where the pipe heater 51 is kept in the OFF state at the initial stage of the pressure decrease (substantially equivalent to the conventional apparatus, hereinafter referred to as “conventional example”) keeps the pipe heater 51 in the ON state. The pressure drop rate is higher than that of the case (corresponding to the present embodiment, hereinafter referred to as “Example”). This is due to the fact that the solvent component contained in the exhaust gas is rapidly cooled and liquefied in the exhaust pipe 41, and the liquefied solvent component is again vaporized and exhausted. The present inventor analyzed. That is, in the embodiment, the pipe heater 51 is turned on, and in the conventional example, the vaporized state is maintained in the embodiment because the liquefied portion adheres to the exhaust pipe 41. It can be considered that the number has increased. In other words, it is considered that the exhaust speed was slower in the early stage of the pressure reduction because the amount of exhaust gas to be exhausted was larger in the embodiment than in the conventional example. As described above, the pressure characteristic is closely related to the temperature of the exhaust pipe 41.

第2の注目点は、上記したように排気配管41の温度上昇に伴って排気速度は低下するものの、従来例では圧力減少の中期以降、減圧速度は低下し、減圧乾燥処理が完了するまでの時間は実施例よりも長くなっている点である。ここで、従来例における減圧速度の低下要因について、本願発明者は次のように分析した。すなわち、図3の上段波形を見ると、チャンバ10内の圧力が特定の圧力Pvに達する直前で大きく低下し、一定時間だけ当該圧力Pvで減圧速度がほぼゼロとなった後、再び圧力が低下する。これは、上述と同様に排気ガスに含まれる溶媒成分が排気配管41内で急激に冷却されて液化し、その液化した溶媒成分が再度気化して排気されるというプロセスが行われていることに起因していると本願発明者は分析した。また、排気配管41を加熱することで排気配管41への溶媒成分の液化を抑え、減圧速度の低下を防止することができると分析することができ、その分析結果は実験結果と合致している。すなわち、排気配管41を加熱することで排気ガス中の溶媒成分が排気配管41に液化するのを防止して減圧乾燥処理に要する時間、いわゆるタクトタイムを短縮することができる。   The second point of interest is that, as described above, the exhaust speed decreases as the temperature of the exhaust pipe 41 increases. However, in the conventional example, after the middle stage of the pressure decrease, the decompression speed decreases and the decompression drying process is completed. The time is longer than that of the example. Here, the inventor of the present application analyzed the cause of the decrease in the decompression speed in the conventional example as follows. That is, when viewing the upper waveform of FIG. 3, the pressure in the chamber 10 greatly decreases immediately before reaching the specific pressure Pv, and after the pressure reduction rate becomes substantially zero at the pressure Pv for a certain time, the pressure decreases again. To do. This is because the solvent component contained in the exhaust gas is rapidly cooled and liquefied in the exhaust pipe 41 as described above, and the liquefied solvent component is again vaporized and exhausted. The inventor of this application analyzed that it was caused. Further, it can be analyzed that heating of the exhaust pipe 41 can suppress the liquefaction of the solvent component to the exhaust pipe 41 and prevent the pressure reduction rate from decreasing, and the analysis result is consistent with the experimental result. . That is, by heating the exhaust pipe 41, it is possible to prevent the solvent component in the exhaust gas from being liquefied in the exhaust pipe 41 and to shorten the time required for the reduced pressure drying process, the so-called tact time.

さらに、第3の注目点は減圧乾燥処理の安定性である。同図に示すように、従来例では減圧乾燥処理毎に減圧乾燥の終了タイミングToffが異なる。つまり、タクトタイムが変動している。その理由については、次のように分析することができる。上述のように排気配管41内では一度液化した溶媒が再気化するため、その再気化した分も全て排気されるのであれば、1枚目、2枚目、3枚目で終了タイミングToffに差が生じないと考えられる。しかしながら、配管ヒータ51をOFF状態に維持する場合、圧力が圧力Pvとなっている時点では大量に気化した溶媒が再液化して排気配管41に付着することがあり、これによって減圧速度が緩慢になる。また、圧力が圧力Pvよりも下がるということは、再液化したものが完全に気化されるようにも思えるが、圧力が圧力Pvよりも低下している間においても乾燥処理は継続して行われており、再液化付着も継続して発生する。この結果、枚数が増えるごとに付着量が増し、それに応じて終了タイミングToffがずれていくと考えられる。これに対し、実施例では終了タイミングTonはほぼ同一である、つまりタクトタイムはほぼ一定している。これは、配管ヒータ51がON状態となっており、加熱された排気配管41内では液化が発生しないことに起因していると考えることができる。事実、実施例では図3の下段波形を見る限り、溶媒成分の液化は認められず、タクトタイムは安定している。このように、排気配管41の加熱は減圧乾燥処理の安定化にも大きく寄与する。   Furthermore, the third point of interest is the stability of the vacuum drying process. As shown in the figure, in the conventional example, the vacuum drying end timing Toff differs for each vacuum drying process. That is, the tact time fluctuates. The reason can be analyzed as follows. As described above, the solvent once liquefied in the exhaust pipe 41 is re-vaporized. Therefore, if all the re-vaporized gas is exhausted, the first, second, and third sheets differ in the end timing Toff. Is not expected to occur. However, when the pipe heater 51 is maintained in the OFF state, a large amount of vaporized solvent may be reliquefied and adhere to the exhaust pipe 41 at the time when the pressure is the pressure Pv. Become. In addition, the fact that the pressure falls below the pressure Pv seems to completely vaporize the re-liquefied one, but the drying process is continued even while the pressure drops below the pressure Pv. Re-liquefaction adhesion continues to occur. As a result, it is considered that the adhesion amount increases as the number of sheets increases, and the end timing Toff shifts accordingly. On the other hand, in the embodiment, the end timing Ton is substantially the same, that is, the tact time is substantially constant. This can be attributed to the fact that the pipe heater 51 is in the ON state and liquefaction does not occur in the heated exhaust pipe 41. In fact, as long as the lower waveform of FIG. 3 is seen in the example, liquefaction of the solvent component is not recognized and the tact time is stable. Thus, the heating of the exhaust pipe 41 greatly contributes to the stabilization of the reduced pressure drying process.

上記した3つの注目点および分析結果から、本願発明者は、減圧乾燥処理中に排気配管41を加熱することがタクトタイムの短縮および減圧乾燥処理の安定化を図る上で重要な役割を果たすという結論を得た。なお、排気配管41への溶媒成分の液化を防止する観点から、排気配管41を排気ガスの露点温度より高い温度に調整するのが望ましい。ここで、「露点温度(あるいは単に「露点」ということもある)」とは、排気ガスの温度をその露点温度以下にすると溶媒成分が容易に液化してしまうことを意味しており、配管温度を露点温度以上に維持することで排気ガスに含まれる溶媒成分の液化を防止することができる。また、排気配管41の加熱温度が高すぎると、配下配管41内で排気ガスが膨張して排気速度の低下を招くため、排気配管41の温度はチャンバ10の内部空間SPよりも低く設定するのが望ましい。   From the above three points of interest and analysis results, the inventor of the present application says that heating the exhaust pipe 41 during the reduced pressure drying process plays an important role in reducing the tact time and stabilizing the reduced pressure drying process. I got a conclusion. From the viewpoint of preventing the liquefaction of the solvent component in the exhaust pipe 41, it is desirable to adjust the exhaust pipe 41 to a temperature higher than the dew point temperature of the exhaust gas. Here, “dew point temperature (or sometimes simply referred to as“ dew point ”)” means that the solvent component is easily liquefied when the exhaust gas temperature is lower than the dew point temperature. Can be prevented from liquefying the solvent component contained in the exhaust gas. Further, if the heating temperature of the exhaust pipe 41 is too high, the exhaust gas expands in the subordinate pipe 41 and causes a reduction in the exhaust speed. Therefore, the temperature of the exhaust pipe 41 is set lower than the internal space SP of the chamber 10. Is desirable.

ここで、図1に示す減圧乾燥装置1において露点温度を直接的に検出することは難しいので、本実施形態では上記圧力Pv(液化が発生していると考えられるときのチャンバ10内の圧力)および図4に示す溶媒の蒸気圧曲線に基づいて排気配管41の温度を設定している。すなわち、蒸気圧曲線に基づき上記圧力Pvに対応する温度TPvを求め、制御部60は配管ヒータ51を駆動して当該温度TPvの±20[℃]の範囲に排気配管41を加熱する。具体的には、減圧乾燥処理中の排気配管41の温度が目標配管温度として予め制御部60に記憶されており、制御部60は減圧乾燥処理用のプログラムにしたがって減圧乾燥装置1の各部を制御することで以下の動作を実行する。   Here, since it is difficult to directly detect the dew point temperature in the vacuum drying apparatus 1 shown in FIG. 1, in the present embodiment, the pressure Pv (pressure in the chamber 10 when liquefaction is considered to occur) And the temperature of the exhaust pipe 41 is set based on the vapor pressure curve of the solvent shown in FIG. That is, the temperature TPv corresponding to the pressure Pv is obtained based on the vapor pressure curve, and the control unit 60 drives the pipe heater 51 to heat the exhaust pipe 41 within a range of ± 20 [° C.] of the temperature TPv. Specifically, the temperature of the exhaust pipe 41 during the vacuum drying process is stored in advance in the control unit 60 as the target pipe temperature, and the control unit 60 controls each part of the vacuum drying apparatus 1 according to the program for the vacuum drying process. By doing so, the following operations are executed.

図5は図1に示す減圧乾燥装置の動作を示すフローチャートである。この減圧乾燥装置1により基板9を処理するときには、予め、基板加熱部30は制御部60からの加熱指令を受けて棒状ヒータを作動させて内部空間SP内の雰囲気温度を上昇させておく(ステップS1:加熱準備工程)。また、排気配管41に対する加熱処理も予め開始しておく(ステップS2:配管加熱工程)すなわち、配管加熱部50は制御部60からの加熱指令を受けて配管ヒータ51を作動させて排気配管41の外周面側から加熱し、排気配管41の温度を上昇させておく。ここで、制御部60は配管温度センサ41aにより検出される排気配管41の温度をモニターし、当該温度に基づいて排気配管41が目標配管温度となるようにフィードバック制御する。これによって、減圧乾燥処理中の排気配管41の温度が目標配管温度に維持される。
上述のようにステップS1,S2が実行された後、上面91に塗布膜92が塗布された基板9がチャンバ10内に搬入され、内部空間SPに収納される(ステップS3:搬入工程)。具体的には、チャンバ昇降機構12aによりチャンバ10の蓋部12が上昇する。そして、図示を省略する搬送ロボットにより基板9がチャンバ10の内部に搬入され、複数の基板保持ピン21上に載置される。基板9の搬入が完了すると、搬送ロボットはチャンバ10の外部へ退避し、チャンバ昇降機構12aによりチャンバ10の蓋部12が下降する。これによって内部空間SPが密閉空間となる。
FIG. 5 is a flowchart showing the operation of the vacuum drying apparatus shown in FIG. When the substrate 9 is processed by the vacuum drying apparatus 1, the substrate heating unit 30 receives a heating command from the control unit 60 and operates the rod heater to raise the ambient temperature in the internal space SP in advance (step). S1: Heat preparation step). The heat treatment for the exhaust pipe 41 is also started in advance (step S2: pipe heating process). That is, the pipe heating unit 50 receives a heating command from the control unit 60 and operates the pipe heater 51 to It heats from the outer peripheral surface side and raises the temperature of the exhaust pipe 41. Here, the control unit 60 monitors the temperature of the exhaust pipe 41 detected by the pipe temperature sensor 41a, and performs feedback control based on the temperature so that the exhaust pipe 41 becomes the target pipe temperature. As a result, the temperature of the exhaust pipe 41 during the vacuum drying process is maintained at the target pipe temperature.
After steps S1 and S2 are performed as described above, the substrate 9 having the upper surface 91 coated with the coating film 92 is loaded into the chamber 10 and stored in the internal space SP (step S3: loading step). Specifically, the lid portion 12 of the chamber 10 is raised by the chamber lifting mechanism 12a. Then, the substrate 9 is carried into the chamber 10 by a transfer robot (not shown) and placed on the plurality of substrate holding pins 21. When the loading of the substrate 9 is completed, the transfer robot retracts to the outside of the chamber 10, and the lid 12 of the chamber 10 is lowered by the chamber lifting mechanism 12a. As a result, the internal space SP becomes a sealed space.

次のステップS4では、開閉弁44が開くとともにバタフライバルブ42、43が所定の開度まで開く。また、排気ポンプ45が動作して、チャンバ10の内部のガスが排気口111、112を介して強制排気される。これにより、内部空間SP内の雰囲気が排気口111、112、バタフライバルブ42、43、排気配管41および開閉弁44を介して排気ラインに排出され、チャンバ10の内部空間SPを減圧する。この内部空間SPの減圧に応じて基板9の表面に塗布された塗布膜92に含まれる溶媒成分が気化する。これにより、基板9上の塗布膜92に対する減圧処理が開始される。   In the next step S4, the on-off valve 44 is opened and the butterfly valves 42, 43 are opened to a predetermined opening degree. Further, the exhaust pump 45 is operated, and the gas inside the chamber 10 is forcibly exhausted through the exhaust ports 111 and 112. As a result, the atmosphere in the internal space SP is discharged to the exhaust line via the exhaust ports 111 and 112, the butterfly valves 42 and 43, the exhaust pipe 41 and the on-off valve 44, and the internal space SP of the chamber 10 is decompressed. The solvent component contained in the coating film 92 applied to the surface of the substrate 9 is vaporized in accordance with the decompression of the internal space SP. Thereby, the pressure reduction process with respect to the coating film 92 on the board | substrate 9 is started.

この減圧処理の際には、ステップS1により既に棒状ヒータは作動しているので、基板9に対する加熱処理も開始されることとなる(ステップS4)。すなわち、雰囲気温度が上昇した内部空間SP内で棒状ヒータにより基板9がその下面側から加熱される。この加熱処理によって、基板9上の塗布膜92に含まれる溶媒成分を昇温させ、溶媒成分の気化を更に促進させる。このように、減圧乾燥装置1は、内部空間SPの減圧および加熱を併用した減圧乾燥処理を実行することで、塗布膜92の乾燥効率を向上させる(乾燥工程)。   In the decompression process, since the rod heater has already been operated in step S1, the heating process for the substrate 9 is also started (step S4). That is, the substrate 9 is heated from the lower surface side by the rod heater in the internal space SP where the ambient temperature has increased. By this heat treatment, the temperature of the solvent component contained in the coating film 92 on the substrate 9 is raised to further promote the vaporization of the solvent component. Thus, the reduced pressure drying apparatus 1 improves the drying efficiency of the coating film 92 by performing the reduced pressure drying process using both the reduced pressure and heating of the internal space SP (drying process).

このように排気配管41を目標配管温度に加熱しながら減圧処理と乾燥処理とを並行して行い、塗布膜92の乾燥が完了すると、排気ポンプ45が停止されるとともに、図示しない開放弁を開成することにより、チャンバ10の内部空間SPを大気圧まで復圧する。その後、チャンバ昇降機構12aがチャンバ10の蓋部12を上昇させ、チャンバ10の内部に搬送ロボットのハンドが進入して基板保持ピン21上の基板9を受け取りチャンバ10の外部へ搬出する(ステップS5:搬出工程)。以上をもって、1枚の基板9に対する減圧乾燥処理が終了する。なお、基板加熱部30による内部空間SPの加熱および配管加熱部50による排気配管41の加熱は継続して実行される。   In this way, the pressure reduction process and the drying process are performed in parallel while heating the exhaust pipe 41 to the target pipe temperature, and when the drying of the coating film 92 is completed, the exhaust pump 45 is stopped and an unshown open valve is opened. As a result, the internal space SP of the chamber 10 is restored to atmospheric pressure. Thereafter, the chamber elevating mechanism 12a raises the lid 12 of the chamber 10, and the hand of the transfer robot enters the chamber 10 to receive the substrate 9 on the substrate holding pin 21 and carry it out of the chamber 10 (step S5). : Unloading process). Thus, the reduced-pressure drying process for one substrate 9 is completed. The heating of the internal space SP by the substrate heating unit 30 and the heating of the exhaust pipe 41 by the pipe heating unit 50 are continuously performed.

以上のように、この減圧乾燥装置1では、排気配管41を加熱しながら減圧乾燥処理を行っているので、減圧乾燥処理中に排気ガスに含まれる溶媒成分が排気配管41に液化して付着するのを防止することができる。その結果、減圧乾燥装置1による減圧乾燥処理を短時間で行うことができる。また、減圧乾燥処理を行う毎に排気配管41に残留する溶媒成分を抑えて減圧乾燥処を安定して行うことができる。特に、複数の基板9を連続して処理する場合であっても、各基板9を一定のタクトタイムで減圧乾燥させることができる。   As described above, in the vacuum drying apparatus 1, the vacuum drying process is performed while heating the exhaust pipe 41. Therefore, the solvent component contained in the exhaust gas is liquefied and adheres to the exhaust pipe 41 during the vacuum drying process. Can be prevented. As a result, the vacuum drying process by the vacuum drying apparatus 1 can be performed in a short time. Further, each time the vacuum drying process is performed, the solvent component remaining in the exhaust pipe 41 can be suppressed, and the vacuum drying process can be performed stably. In particular, even when a plurality of substrates 9 are processed successively, each substrate 9 can be dried under reduced pressure with a fixed tact time.

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、減圧乾燥処理中に排気配管41全体を均一に加熱して目標配管温度に調整しているが、配管温度を相違させるように構成してもよい。というのも、排気配管41が長くなると、排気配管41のうちチャンバ10に近い領域と離れた領域とで各領域を通過する排気ガスの温度は相違するからである。つまり、チャンバ10から離れるにしたがって排気配管41内での排気ガスの温度は低くなり、液化現象が発生し易くなる。そこで、チャンバ10から離れるにしたがって排気配管41の温度が高くなるように加熱するのが好適である。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above embodiment, the entire exhaust pipe 41 is uniformly heated and adjusted to the target pipe temperature during the reduced-pressure drying process. However, the pipe temperature may be varied. This is because when the exhaust pipe 41 becomes longer, the temperature of the exhaust gas passing through each region differs between the region near the chamber 10 and the region away from the exhaust pipe 41. That is, as the distance from the chamber 10 increases, the temperature of the exhaust gas in the exhaust pipe 41 decreases, and a liquefaction phenomenon is likely to occur. Therefore, it is preferable to heat the exhaust pipe 41 so that the temperature of the exhaust pipe 41 increases as the distance from the chamber 10 increases.

また、上記実施形態では、基板9の上面91にポリアミド酸溶液を塗布して形成された塗布膜92を減圧乾燥させる減圧乾燥装置1に対して本発明を適用しているが、本発明の適用範囲はこれに限定されるものではなく、レジスト液、層間絶縁材料、低誘電体材料、強誘電体材料、配線材料、有機金属材料、金属ペースト等で形成された塗布膜を減圧乾燥させる装置にも適用可能である。また、基板9の下面、あるいは基板9の両面に形成された塗布膜を減圧乾燥させる減圧乾燥装置に対しても本発明を適用することができる。   In the above embodiment, the present invention is applied to the vacuum drying apparatus 1 that vacuum-drys the coating film 92 formed by applying the polyamic acid solution to the upper surface 91 of the substrate 9. The range is not limited to this, and it is an apparatus for drying a coating film formed of a resist solution, an interlayer insulating material, a low dielectric material, a ferroelectric material, a wiring material, an organic metal material, a metal paste, etc. under reduced pressure. Is also applicable. The present invention can also be applied to a vacuum drying apparatus that vacuum-drys a coating film formed on the lower surface of the substrate 9 or on both surfaces of the substrate 9.

以上、具体的な実施形態を例示して説明してきたように、本発明は、例えば配管温度制御部によって、排気配管の温度を、排気配管を介して排気される溶媒成分を含む排気ガスの露点温度より高い温度に調整するように構成してもよい。つまり、排気配管への溶媒成分の液化を抑制するためには、このような構成を採用するのが好適である。   As described above, the present invention has been described by exemplifying a specific embodiment. For example, the present invention provides a dew point of an exhaust gas containing a solvent component exhausted through the exhaust pipe by adjusting the temperature of the exhaust pipe, for example, by a pipe temperature control unit. You may comprise so that it may adjust to temperature higher than temperature. That is, in order to suppress the liquefaction of the solvent component to the exhaust pipe, it is preferable to employ such a configuration.

また、配管温度制御部により排気配管の温度を内部空間よりも低い温度に調整するようにすれば、排気速度が低下するのを防止することができ、好適である。   Moreover, if the temperature of the exhaust pipe is adjusted to a temperature lower than that of the internal space by the pipe temperature control unit, it is possible to prevent the exhaust speed from being lowered, which is preferable.

さらに、配管加熱部は、チャンバから離れるにしたがって排気配管の温度が高くなるように加熱するように構成するのが望ましく、これによって排気配管が長くなる場合であっても、溶媒成分の液化を効果的に防止することでき、好適である。   Furthermore, it is desirable that the pipe heating unit is configured to heat the exhaust pipe so that the temperature of the exhaust pipe becomes higher as the distance from the chamber increases, so that the liquefaction of the solvent component is effective even when the exhaust pipe becomes longer. Therefore, it can be prevented.

この発明は、減圧処理および加熱処理の併用によって基板上に形成される塗布膜を乾燥させる減圧乾燥技術全般に適用することができる。   The present invention can be applied to general vacuum drying techniques for drying a coating film formed on a substrate by the combined use of vacuum processing and heat treatment.

1…減圧乾燥装置
9…基板
10…チャンバ
41…排気配管
50…配管加熱部
51…配管ヒータ
60…制御部(配管温度制御部)
91…(基板の)上面
92…塗布膜
SP…(チャンバの)内部空間
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Low pressure drying apparatus 9 ... Board | substrate 10 ... Chamber 41 ... Exhaust piping 50 ... Pipe heating part 51 ... Pipe heater 60 ... Control part (pipe temperature control part)
91 ... Upper surface of substrate 92 ... Coating film SP ... Internal space of (chamber)

Claims (5)

チャンバの内部空間に基板を収納しながら前記チャンバに接続される排気配管を介して前記内部空間の雰囲気を排気することで前記内部空間を減圧するとともに前記内部空間を加熱することで、前記基板上の塗布膜に含まれる溶媒成分を気化させて前記塗布膜を乾燥させる減圧乾燥装置であって、
前記排気配管の外周面側から前記排気配管を加熱する配管加熱部を備え、
前記配管加熱部は、前記チャンバから離れるにしたがって前記排気配管の温度が高くなるように加熱する
ことを特徴とする減圧乾燥装置。
The substrate is housed in the internal space of the chamber, and the internal space is decompressed and the internal space is heated by exhausting the atmosphere of the internal space through an exhaust pipe connected to the chamber. A vacuum drying apparatus for evaporating the solvent component contained in the coating film and drying the coating film,
A pipe heating unit for heating the exhaust pipe from the outer peripheral surface side of the exhaust pipe;
The reduced pressure drying apparatus , wherein the pipe heating unit heats the exhaust pipe so that the temperature of the exhaust pipe increases as the distance from the chamber increases .
請求項1に記載の減圧乾燥装置であって、
前記配管加熱部を制御することで前記排気配管の温度を調整する配管温度制御部をさらに備える減圧乾燥装置。
The vacuum drying apparatus according to claim 1,
A vacuum drying apparatus further comprising a pipe temperature control unit that adjusts the temperature of the exhaust pipe by controlling the pipe heating unit.
請求項2に記載の減圧乾燥装置であって、
前記配管温度制御部は、前記排気配管の温度を、前記排気配管を介して排気される前記溶媒成分を含む排気ガスの露点温度より高い温度に調整する減圧乾燥装置。
The vacuum drying apparatus according to claim 2,
The said piping temperature control part is a reduced pressure drying apparatus which adjusts the temperature of the said exhaust piping to temperature higher than the dew point temperature of the exhaust gas containing the said solvent component exhausted via the said exhaust piping.
請求項2または3に記載の減圧乾燥装置であって、
前記配管温度制御部は前記排気配管の温度を前記内部空間よりも低い温度に調整する減圧乾燥装置。
The reduced-pressure drying apparatus according to claim 2 or 3,
The said piping temperature control part is a reduced pressure drying apparatus which adjusts the temperature of the said exhaust piping to the temperature lower than the said internal space.
塗布膜が形成された基板をチャンバの内部空間に収納する収納工程と、
前記チャンバに接続される排気配管を介して前記内部空間の雰囲気を排気して前記内部空間を減圧するとともに前記内部空間を加熱することで、前記基板上の塗布膜に含まれる溶媒成分を気化させて前記塗布膜を乾燥させる乾燥工程と、
前記乾燥工程と並行して前記チャンバから離れるにしたがって前記排気配管の温度が高くなるように前記排気配管の外周面側から前記排気配管を加熱する配管加熱工程と
を備えることを特徴とする減圧乾燥方法。
A storage step of storing the substrate on which the coating film is formed in the internal space of the chamber;
The solvent component contained in the coating film on the substrate is vaporized by exhausting the atmosphere of the internal space through an exhaust pipe connected to the chamber to depressurize the internal space and heating the internal space. Drying step of drying the coating film,
In parallel with the drying step, the method includes a pipe heating step for heating the exhaust pipe from the outer peripheral surface side of the exhaust pipe so that the temperature of the exhaust pipe increases as the distance from the chamber increases. Method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7018713B2 (en) * 2017-03-29 2022-02-14 東京応化工業株式会社 Substrate heating device, substrate processing system and substrate heating method
CN110323161B (en) * 2018-03-30 2023-06-06 芝浦机械电子株式会社 Organic film forming apparatus and organic film manufacturing method
JP7381526B2 (en) * 2021-08-20 2023-11-15 株式会社Screenホールディングス Vacuum drying equipment, vacuum drying method and program

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08298234A (en) * 1995-04-25 1996-11-12 Tokyo Electron Ltd Vacuum treatment device and its operating method
JPH09152154A (en) * 1995-11-30 1997-06-10 Hitachi Ltd Exhaust method and device and semiconductor device formed based on the device
JP2001225326A (en) * 2000-02-17 2001-08-21 Kawata Mfg Co Ltd Drying device and drying method
US7255899B2 (en) * 2001-11-12 2007-08-14 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Heat treatment apparatus and heat treatment method of substrate
JP3990927B2 (en) * 2002-03-11 2007-10-17 東京エレクトロン株式会社 Vacuum drying apparatus and method
JP2007245125A (en) * 2006-03-20 2007-09-27 Seiko Epson Corp Functional droplet applying apparatus, functional film forming method and display device, and electronic equipment
JP5089288B2 (en) * 2007-01-26 2012-12-05 大日本スクリーン製造株式会社 Vacuum dryer
JP5144299B2 (en) * 2008-02-12 2013-02-13 光洋サーモシステム株式会社 Vacuum dryer
JP5371605B2 (en) * 2008-09-25 2013-12-18 東京エレクトロン株式会社 Vacuum drying apparatus and vacuum drying method
JP5337099B2 (en) * 2010-05-17 2013-11-06 アクトファイブ株式会社 Vacuum drying equipment
CN103578928A (en) * 2013-10-21 2014-02-12 上海和辉光电有限公司 Substrate drying method, substrate manufacturing method, and low-temperature heating drying device thereof
CN204620350U (en) * 2015-03-03 2015-09-09 昆山龙腾光电有限公司 Dry drying device is carried out to substrate

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