JP6555464B2 - 調理器用トッププレート及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、第1の実施形態に係る調理器用トッププレートの模式的断面図である。
図2は、第2の実施形態に係る調理器用トッププレートの一部分の模式的断面図である。
図3は、第3の実施形態に係る調理器用トッププレートの一部分の模式的断面図である。
カルーセル型のスパッタリング装置により、チャンバ内を回転する結晶化ガラス基板(日本電気硝子株式会社社製OA−10G)の上に、ジルコニウムの金属ターゲットを用いて、ジルコニウム膜を形成するスパッタ領域と、そのジルコニウム膜を酸素ラジカルにより酸化する酸化領域とを交互に通過させる、いわゆるRAS法により、厚さが500nmである保護膜を下記の成膜条件で形成した。
チャンバ内の圧力:0.12Pa
供給ガス:アルゴンガス(流量:100cc/分)
成膜時の電力:5.5kW
(ジルコニウム膜の酸化条件)
供給ガス:酸素ガス(流量:40cc/分)
酸化時の電力:4.5kW
図4に、実施例1において形成した保護膜のX線回折チャートを示す。図4に示されるX線回折チャートから、実施例1において形成した保護膜は、単斜晶系酸化ジルコニウム結晶を主として含有していることが分かる。また、実施例1において形成した保護膜においては、単斜晶系酸化ジルコニウム結晶の(1 1 −1)結晶面による回折ピークが主ピークとして観察されることが分かる。
ジルコニウム膜の形成条件を以下の条件としたこと以外は、実施例1と同様にして膜付部材を作製した。
チャンバ内の圧力:0.3Pa
供給ガス:アルゴンガス(流量:300cc/分)
成膜時の電力:5.5kW
(ジルコニウム膜の酸化条件)
供給ガス:酸素ガス(流量:120cc/分)
酸化時の電力:4.5kW
図5に、比較例1において形成した保護膜のX線回折チャートを示す。なお、実施例1及び比較例1におけるX線回折測定は、X線回折装置((株)リガク製 SmartLab)を用いて行なった。光源としては、回転対陰極式X線源(Cu−Kα線,出力45kV−200mA)を用いた。光学系は人工格子放物面多層膜ミラーと平行スリットアナライザーを使用した平行ビーム光学系とした。走査範囲2θ=10〜80°、走査ステップ0.01°とし、2θ−ωスキャンモードにより測定した。
上記X線回折測定と同様の条件で、鏡面反射X線強度を測定し、鏡面反射X線強度と入射X強度の比からX線反射率を求めてX線反射率曲線を得た。得られたX線反射率曲線を薄膜総合解析ソフトウェア ((株)リガク製 GlobalFit)で解析し、保護膜の膜密度を求めた。その結果、実施例1において形成した保護膜の膜密度は6.05g/cm3、比較例1において形成した保護膜の膜密度は5.95g/cm3となった。
実施例1及び比較例1のそれぞれにおいて作製した保護膜を、2000gの加重を付与して、10mm□のボンスター スチールウール(#0000)を以下の条件で往復させた。100回往復させる毎に表面状態を光学顕微鏡で100倍に拡大して観察し、保護膜の表面に、擦傷痕が確認されたときの往復回数を求めた。その結果、実施例1において形成した保護膜は、5000回往復させた時に擦傷痕が確認され、比較例1において形成した保護膜は、100回往復させた時に擦傷痕が確認された。
速度:40mm/分
ストローク:40mm
実施例1で作製した保護膜の上を洗浄機で洗浄し、大気圧プラズマ装置で処理を行い、その後、スプレー装置を使用してフッ素含有有機ケイ素化合物溶液(ダイキン工業社製 オプツールDSX):0.1質量%、3M社製Novec7200:99.9質量%)を塗布した。塗布条件は、結晶化ガラス基板の搬送速度3mm/秒、塗布量10ml/分、エアー流量40l/分、スプレーノズル往復速度800ml/秒、スプレーノズル−結晶化ガラス基板間距離20mmの条件である。フッ素含有有機ケイ素化合物溶液を塗布した後、クリーンオーブンを使用して150℃で60分間加熱し、塗布面をアルコールに浸したワイパーで拭き取ることで、フッ素系撥水撥油剤からなる第二の膜を形成した。
10:基材
11:保護膜
12:第一の膜
12H:高屈折率膜
12L:低屈折率膜
13:第二の膜
Claims (8)
- 基材と、
前記基材の調理面に設けられ、単斜晶系酸化ジルコニウム結晶を含む保護膜と、
を備え、
前記保護膜は、X線回折測定において、前記単斜晶系酸化ジルコニウム結晶の(1 1 −1)結晶面による回折ピークが主ピークとして観察され、前記保護膜の膜密度が、5.96g/cm 3 以上であることを特徴とする調理器用トッププレート。 - 前記保護膜において、総金属原子の数に対する、ジルコニウム原子の数の比((ジルコニウム原子の数)/(総金属原子の数))が、99%以上である請求項1に記載の調理器用トッププレート。
- 前記基材の調理面と前記保護膜との間に設けられた第一の膜をさらに備える請求項1または2に記載の調理器用トッププレート。
- 前記第一の膜は、相対的に屈折率が高い高屈折率膜と、相対的に屈折率が低い低屈折率膜とが交互に積層された多層膜により構成される請求項3に記載の調理器用トッププレート。
- 前記高屈折率膜は、酸化ジルコニウム膜により構成される請求項4に記載の調理器用トッププレート。
- 前記保護膜の上に設けられた第二の膜をさらに備える請求項1〜5のいずれか一項に記載の調理器用トッププレート。
- 前記第二の膜は、前記調理器用トッププレートの動摩擦抵抗を低減する膜である請求項6に記載の調理器用トッププレート。
- 前記基材は、低膨張透明結晶化ガラスである請求項1〜7のいずれか一項に記載の調理器用トッププレート。
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JP2015022802A JP6555464B2 (ja) | 2015-02-09 | 2015-02-09 | 調理器用トッププレート及びその製造方法 |
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JP2016145677A JP2016145677A (ja) | 2016-08-12 |
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DE102010050771B4 (de) * | 2010-11-10 | 2014-05-08 | Schott Ag | Erzeugnis aus Glas oder Glaskeramik mit hochtemperaturstabiler Niedrigenergie-Schicht, Verfahren zur Herstellung derselben und Verwendung des Erzeugnisses |
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- 2015-02-09 JP JP2015022802A patent/JP6555464B2/ja active Active
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