JP6543631B2 - 勾配フォトクロミズムを有する光学物品 - Google Patents

Description

本発明は、（ａ）少なくとも１つのフォトクロミック染料を有するフォトクロミック基材と、（ｂ）勾配反射率を提供する特定の勾配厚さを有する干渉被覆とを有する光学物品に関する。又、本発明は、このような光学物品を製造するプロセスにも関する。

眼鏡レンズなどのフォトクロミック光学物品が久しく知られている。これらは、ＵＶ光に曝露された際に、黒くなり、且つ、従って、強力な光から目を保護することができるフォトクロミック染料を含む。これらのフォトクロミック染料が活性化される波長は、通常、３１５〜４２０ｎｍの範囲をとる。従来の永久的に染色されたレンズと比べて、これらのフォトクロミックレンズは、明瞭な視界にとって不利である、暗い環境において低レベルの光透過しか提供しないという欠点を有しておらず、従って、フォトクロミックレンズは、例えば、運転に相対的に適している。これらのフォトクロミックレンズのうち、いくつかのものは、勾配プロファイルを有する。従って、これらのフォトクロミックレンズは、レンズの下部において相対的に明るい色調を有する一方で、上部においては、相対的に黒くなっており、これは、読書などの近接した視野を伴う活動の場合に、下部における相対的に多量の光の透過を許容することから、有利である。又、これらの勾配フォトクロミックレンズは、ファッションの観点において魅力的であると多くの人々によって見なされている。

このような勾配レンズを得るべく、当技術分野において、いくつかの方法が提案されている。例えば、米国特許出願公開第２００８／０１８７７６０号明細書に開示されている方法は、勾配濃度を有するフォトクロミック染料を含む架橋有機ポリマーマトリックスの層をレンズに対して適用するステップを有する。

例えば、英国特許第１，５２０，０９９号明細書及び米国特許第４，２８９，４９７号明細書に開示されている別の方法は、可変厚さを有するか又は吸収体の可変濃度を含むＵＶ吸収体の不均一な層によって被覆されたフォトクロミック染料の均一な層を使用している。ＵＶ吸収体は、フォトクロミック効果を妨げることから、フォトクロミック効果が局所的に変化させられ、この結果、染色勾配がもたらされている。吸収層の厚さの変動は、吸収体を含む槽中におけるレンズの漸進的な浸漬により、或いは槽からのレンズの引き出し速度を調節することにより、得てもよい。

空間的に不均一なフォトクロミック特性を有する眼科レンズを製造する別の方式が、米国特許出願公開第２０１２／０２１８５１２号明細書に開示されている。この方法は、プラスチック薄膜上において吸収層を堆積させるステップであって、この層は、加熱された際に、その内部に印刷されている吸収体を薄膜に移送することが可能である、ステップと、次いで、溶剤による洗浄によって吸収層を除去することにより、予め印刷されているパターンに対応した、その内部において不均一な方式で分散したＵＶ吸収体を含む薄膜を得るステップとを有する。次いで、薄膜は、フォトクロミック光学基材に付加されてもよい。

これらのプロセスは、完全に満足できるものではない。

更には、勾配フォトクロミック層と反射防止層との両方を有する光学系を提供することが有用であろう。その理由は、反射防止被覆は、改善されたコントラストと、グレアの影響下における拡大された視野とをユーザーに提供するのに有用であることが証明されているからである。これらの反射防止被覆は、通常、真空状態において堆積された誘電体の積層体から構成されている。但し、反射防止被覆は、通常、フォトクロミック被覆とは適合性を有していないと見なされており、その理由は、従来の反射防止被覆が、ＵＶ光のかなりの部分を拒絶し、これにより、フォトクロミック効果を妨げるからである。反射防止レンズに対して、低ＵＶ状態において高透明性を提供すると共に、同時に、高ＵＶ状態においてフォトクロミズムを提供するように妥協が図られている（例えば、米国特許第７，６３３，６８１号明細書及び米国特許第６，１７５，４５０号明細書を参照されたい）。但し、これらの妥協は、均一な方式で染色されたレンズをもたらし、従って、これは、フォトクロミック効果のなんらの勾配をも提供せず、且つ、しばしば、ＵＶ光が存在しない状態において完全に透明でもない。

米国特許第６，６７４，５８７号明細書は、蒸発供給源上においてマスクを使用することにより、真空において、勾配を有する吸収薄膜をプラスチック基材上において堆積させる方法を教示している。吸収材料は、ＵＶ及びＩＲスペクトル領域内において放射を吸収する。次いで、吸収薄膜は、防眩光学物品を得るべく、反射防止被覆によって被覆される。この特許文献に開示されている方法は、眼科レンズなどの光学物品に対して適用可能ではなく、その理由は、この方法が、産業用途に使用されるには、過剰に多くのステップを必要とするからである。更には、このようにして得られた光学物品は、剥離のリスクに晒されることになり、これは、受け入れ可能ではない。

米国特許出願公開第２００８／０１８７７６０号明細書 英国特許第１，５２０，０９９号明細書 米国特許第４，２８９，４９７号明細書 米国特許出願公開第２０１２／０２１８５１２号明細書 米国特許第７，６３３，６８１号明細書 米国特許第６，１７５，４５０号明細書 米国特許第６，６７４，５８７号明細書

本発明者らは、ＵＶ吸収体を使用することなしに勾配フォトクロミック色調を提供するようにＵＶ範囲の波長を反射する特定の干渉被覆設計を使用したプロセスにより、従来の真空技術によりいくつかのステップにおいて、産業的な規模で、反射防止特性を有しつつ、勾配フォトクロミック効果と、恐らくは、可視範囲における高透明性とを有する光学物品を得ることができることをいまや見出した。このプロセスは、従来の大量生産設備によって実施されてもよい。

本発明は、光学物品に関し、この光学物品は、
（ａ）２つの反対側の面を有すると共に少なくとも１つのフォトクロミック染料を有するフォトクロミック基材であって、前記フォトクロミック基材の同一面の反対側の端部上に配置された第１表面部分及び第２表面部分を有するフォトクロミック基材と、
（ｂ）干渉被覆であって、その厚さが、前記第１表面部分上に配置されている最高厚さ領域から前記第２表面部分上に配置されている最低厚さ領域まで減少するように、勾配厚さを有し、最高厚さ部分の平均反射率係数と最低厚さ部分の平均反射率係数との間の差は、３３０〜３８０ｎｍの波長範囲において、１５〜８０％の範囲をとり、且つ、好ましくは２０％〜６０％の範囲をとる、干渉被覆と
を有する。

好ましくは、最低厚さは、最高厚さの８０％〜９０％の範囲をとる。更に好ましくは、最低厚さは、最高厚さの８５％〜９０％の範囲をとる。

又、好ましくは、干渉被覆は、その表面の全体において、４００〜７００ｎｍの波長範囲において、３％未満であり、且つ、好ましくは２％未満である平均反射率係数を有する。

又、本発明は、光学物品を製造するプロセスにも関し、このプロセスは、以下の連続ステップ：
− 少なくとも１つのフォトクロミック染料を有するフォトクロミック基材を提供するステップと、
− ソース材料が供給される蒸発装置を装備した真空堆積チャンバ内において前記基材を配置するステップであって、前記蒸発装置は、前記ソース材料から蒸気を生成し、且つ、蒸気が凝縮する基材に向かって蒸気を向かわせる、ステップと、
− 前記蒸気の移動の際に、前記蒸発装置と前記基材との間にマスクを介在させるステップであって、マスクは、蒸気の一部分を不均一にインターセプトすることにより、前記基材上において凝縮される蒸気の勾配厚さを生成する、ステップと、
− 必要な勾配厚さに到達するまで、前記真空堆積チャンバを動作させるステップと
を有する。

本発明のプロセスを実装するべく使用されうるマスクを示す。

本発明の特定の干渉被覆は、可視スペクトル範囲において反射防止特性を提供しつつ、勾配を有する方式でフォトクロミズムを妨げることを許容することが実証されている。

更には、上述のプロセスは、マスクを有する従来の真空技術を使用しており、従って、産業的な適用が可能であり、且つ、事業上の採算を確保することができる。

定義
この説明において、「勾配厚さ」という用語は、厚さが勾配方式によってその間において変化する状態における、干渉被覆の１つの選択された端部部分における干渉被覆の反対側の端部部分よりも大きな厚さを意味している。一般に、光学物品が眼科レンズである際には、厚さは、レンズの面に向かって、即ち、垂直方向軸に沿って観察された場合に、レンズの下部からその上部に変化している。干渉被覆のすべての層の厚さは、同一比率で、即ち、相似した方式により、変化してもよい。更には、最高厚さ領域から最低厚さ領域までの厚さの減少は、線形であってもよく又はそうではなくでもよく、且つ、連続的であってもよく又はそうでなくてもよい。

「平均反射率係数」又はＲｍは、ＩＳＯ規格１３６６６：１９９８に定義されているとおりであり、且つ、ＩＳＯ規格８９８０−４に従って（０°〜１７°であると共に、通常は、１５°である入射角において）計測されてもよい。これは、本発明においては、３３０〜３８０ｎｍの波長範囲にわたるスペクトル反射率の平均に対応しており、百分率として表現される。従って、「平均反射率係数の差」も、絶対値において百分率として表現される。

本明細書において使用されている「（コ）ポリマー」は、コポリマー又はポリマーを意味するように意図されている。更には、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリレートは、それぞれ、アクリル酸又はメタクリル酸並びにアクリレート又はメタクリレートを意味するように意図されている。

本発明の光学物品は、好ましくは、眼科レンズであり、これは、矯正又は非矯正レンズであってよく、且つ、例えば、半完成レンズ、完成レンズ、累進多焦点レンズ、無限焦点レンズ、平面レンズ、単焦点レンズ、及び多焦点レンズから選択されうるであろう。

これは、フォトクロミック基材を含む。「フォトクロミック基材」という表現は、フォトクロミック層によってその表面のうちの少なくとも１つの表面上に被覆された透明な光学基材と、フォトクロミック染料を含む透明な光学基材との両方を含んでいる。「フォトクロミック染料」は、３１５〜４２０ｎｍの任意の波長におけるＵＶ−Ａ光によって活性化された際に、可視光透過係数が少なくとも１５％だけ減少する程度まで黒くなることができる化合物を意味するように意図されている。本発明に従って使用されるフォトクロミック染料は、有機化合物であってもよい。フォトクロミック染料の例は、クロメン、スピロキサジンなどのオキサジン派生物、ナフトピラン、スピロピラン、フルギド、フルギミド、ジチゾネートの有機金属派生物、及びこれらの混合物からなる群から選択されてもよい。クロメンの例は、米国特許第３，
５６７，６０５号明細書、米国特許第５，０６６，８１８号明細書、国際公開第９３／１７０７１号パンフレット、国際公開第９４／２０８６９号パンフレット、仏国特許第２６８８７８２号明細書、仏国特許第２７１８４４７号明細書、欧州特許第０４０１９５８号明細書、及び欧州特許第０５６２９１５号明細書に開示されている。スピロキサジンの例は、米国特許第５，１１４，６２１号明細書、欧州特許第０２４５０２０号明細書、特開平第０３−２５１５８７号公報、国際公開第９６／０４５９０パンフレット、及び仏国特許第２７６３０７０号明細書に記述されている。ナフトピランの例は、米国特許第５，０６６，８１８号明細書、国際公開第９３／１７０７１号パンフレット、及び仏国特許第２６８８７８２号明細書に記述されている。異なる活性化波長を有するいくつかのフォトクロミック染料の混合物が使用されてもよい。

又、フォトクロミック基材は、従来の染料及び／又は顔料を含んでもよい。

フォトクロミック基材は、異なる方法に従って得られてもよい。第１の方法は、染料を基材内に移送するように、フォトクロミック染料を含む薄膜によって被覆された光学基材を加熱するステップを伴っている（例えば、米国特許第４，２８６，９５７号明細書及び米国特許第４，８８０，６６７号明細書を参照されたい）。第２の方法は、「キャストインプレース」プロセスであり、この場合には、フォトクロミック染料は、成形型内において鋳造されると共にその内部において重合される前に、光学基材を形成するためのモノマーと混合される。第３の方法は、基材上においてフォトクロミック染料を含む薄膜を形成するようにスピンコーティングにより、或いは、前記染料を基材に含浸させるように前記染料を有する槽内に基材を浸漬することにより、フォトクロミック染料を光学基材に適用するステップを有する。好適なフォトクロミック基材は、Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎｓ ＯｐｔｉｃａｌのＴｒａｎｓｉｔｉｏｎｓ（登録商標）レンズ、特に、Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎｓ（登録商標）Ｓｉｇｎａｔｕｒｅ（商標）ＶＩ又はＴｒａｎｓｉｔｉｏｎｓ（登録商標）Ｓｉｇｎａｔｕｒｅ（商標）ＶＩＩである。

光学基材は、任意の透明ガラス又は有機材料であってもよい。有機基材は、熱硬化性又は熱可塑性材料を有してもよい。基材に適した材料を列挙すれば、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリ（エチレンテレフタレート）及びポリカーボネートのコポリマー、ポリオレフィン、特に、ポリノルボルネン、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）のホモポリマー及びコポリマー、ビスフェノールＡ又はフタル酸及びスチレンなどのアリル芳香族から導出されうるアリルエステルのホモポリマー及びコポリマー、（メタ）アクリル酸ポリマー及びコポリマー、特に、ビスフェノール−Ａを有する（メタ）アクリル酸派生物のポリマー及びコポリマー、チオ（メタ）アクリル酸ポリマー及びコポリマー、ポリウレタン及びポリチオウレタンホモポリマー及びコポリマー、エポキシポリマー及びコポリマー、並びに、エピスルフィドポリマー及びコポリマーである。本発明による好適な基材は、ＰＰＧ ＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓによってＣＲ−３９（登録商標）という商品名で販売されているものなどのポリカーボネート又はジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）の（コ）ポリマー（ＥＳＳＩＬＯＲのＯＲＭＡ（登録商標）レンズ）又は１，５４〜１，５８の屈折率を有する（メタ）アクリル酸コポリマーに基づいたものを有する。

本発明によれば、フォトクロミック基材上に適用される干渉被覆は、基材の第１表面部分上に配置された最高厚さ領域及び基材の第２表面部分上に配置された最低厚さ領域を有する勾配厚さを有し、この場合に、最高厚さ部分の平均反射率係数と最低厚さ部分の平均反射率係数との間の差は、３３０〜３８０ｎｍの波長範囲において、１５〜８０％の範囲をとる。

干渉被覆は、通常、２〜１２個の層を有し、好ましくは、４〜８個の層を有する。これらの層は、一般に、低屈折率を有する少なくとも１つの層、好ましくは、少なくとも２つの層（即ち、ＬＩ層）を有し、且つ、高屈折率を有する少なくとも１つの層、好ましくは、少なくとも２つの層（即ち、ＨＩ層）を有する。ＨＩ層は、５５０ｎｍの波長において２５℃において計測された際に、例えば、１．６５超、又は、場合によっては、１．７超、又は１．８超などの１．６超の屈折率を有し、ＬＩ層は、例えば、１．５未満、又は、場合によっては、１．４８未満などの最大で１．６の屈折率を有する。ＨＩ及びＬＩ層は、必ずしも、交互に変化するように構成されるものではないが、これらは、本発明の好適な実施形態においては、そのように構成されてもよい。干渉被覆の合計厚さは、１５０〜６００ｎｍの、好ましくは、２５０〜６００ｎｍの範囲をとってもよい。

ＬＩ層の例は、任意選択により、Ａｌ_２Ｏ_３の最大で２０％において、好ましくは、最大で１０％において、且つ、更に好ましくは、最大で５％において、混合されたＳｉＯ_２から選択された少なくとも１つ酸化物を有し、且つ、好ましくは、これらから構成されるものである。これらは、１０〜１００ｎｍの、好ましくは、２０〜８０ｎｍの、且つ、更に好ましくは、３０〜７５ｎｍの、個別の厚さを有してもよい。ＨＩ層の例は、任意選択により、ＳｉＯ_２と混合された状態において、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｄ_２Ｏ_５、Ｐｒ_２Ｏ_３、ＰｒＴｉＯ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｙ_２Ｏ_３、及びこれらの混合物から選択された少なくとも１つの酸化物を有し、且つ、好ましくは、これらから構成されるものである。好適な材料は、ＴｉＯ_２、ＰｒＴｉＯ_３、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、及びこれらの混合物である。これらは、１０〜１００ｎｍの、好ましくは、１５〜８０ｎｍの、且つ、更に好ましくは、２０〜７０ｎｍの、範囲の個別の厚さを有してもよい。

又、干渉被覆は、一般に２つのＨＩ及び／又はＬＩ層の間に介在しており、且つ、酸化すず、酸化インジウム、インジウムドーピングされた酸化すず（ＩＴＯ）、及びこれらの混合物から選択された導電性金属酸化物を有する又はこれから構成される少なくとも１つの静電防止層を含んでもよい。この層は、５〜１５ｎｍの厚さを有してもよい。

或いは、静電防止層の代わりに又はこれ加えて、干渉被覆は、基材に最も近接したこの被覆の層でありうる接着層を有してもよい。この接着層は、好ましくは、少なくとも８０％のシリカを有するか、又は、場合によっては、これから構成されており、これは、一般に、１００〜１５０ｎｍの範囲の厚さを有する。

本発明においては、干渉被覆は、真空蒸発により、フォトクロミック基材に対して適用されている。この方法によれば、フォトクロミック基材は、ソース材料が供給される蒸発装置を装備した真空堆積チャンバ内において配置される。蒸発装置は、前記ソース材料から蒸気を生成すべく適合されており、且つ、蒸気が、蒸発装置から、その上部において蒸気が凝縮する基材上に放出されるように、位置決めされている。好ましくは、干渉被覆の材料は、１０００〜２２００℃の温度において、通常は、電気加熱要素により（即ち、ジュール効果により）、或いは、さもなければ、例えば、タングステンスパイラルフィラメントによるなど、電子ビームにより、或いは、当業者には周知の任意のその他の装置により、加熱される。通常、基材の表面は、干渉被覆の連続的な層の堆積の前に、例えば、溶剤中における超音波処理により、洗浄され、これには、真空堆積チャンバ内における仕上げステップが後続してもよい。この仕上げステップは、イオン事前洗浄により、又はイオン破砕により、実施されてもよい。

干渉被覆の勾配厚さを得るべく、マスクが、ソース材料、即ち、干渉被覆を形成するべく使用される金属酸化物から放出された蒸気の移動の際に、真空チャンバの蒸発装置とフォトクロミック基材との間に介在している。このプロセスを実装するべく、２種類のマスクが使用されてもよい。第１の種類のマスクは、真空チャンバ内において配置されたレンズに対して直接的に装着されたマスク薄膜を有する。「輪郭付与回転マスク（ｃｏｎｔｏｕｒｅｄ ｒｏｔａｔｉｎｇ ｍａｓｋ）」と呼称される別の種類のマスクは、真空チャンバ内において、その半径方向軸に沿って、不均一な方式により、蒸気をインターセプトするように設計されている。マスクは、回転カルーセル上において配設されたレンズの前面に配置される。マスクの回転円の長さに対するマスクの長さの比率は、掩蔽係数を定義する。掩蔽係数が大きいほど、更に多くの蒸気がインターセプトされ、堆積が相対的に薄くなる。このようなマスクは、特定の設計を有する孔が設けられたカルーセルの形態であってもよく、或いは、基材上への蒸気の堆積を遮蔽するように設計された形状を有するアンカー又は別のその他のブレードの形態であってもよい。これらのマスクは、チャンバ内において固定されるように、或いは、カルーセルの回転速度とは異なる速度においてチャンバ内において回転するべく、適合されている。マスクの相対的な回転速度及び設計は、必要とされる勾配厚さをカルーセルの半径に沿って得るべく、当業者が容易に調節することができる。このようにして堆積された層の厚さは、当業者には周知のように、微量天秤によって監視することができる。

従って、反射防止被覆の厚さは、最高厚さ領域から最低厚さ領域まで、任意の方式により、変化してもよい。厚さ変動は、単調なものであってもよい。

好ましくは、反射防止被覆の厚さは、観察者が直立した位置にある際に、光学物品の正常な使用状態において、即ち、眼科レンズのケースにおいて、垂直である軸に沿って変化している。

フォトクロミック基材及び干渉被覆に加えて、本発明の光学物品は、例えば、下塗り又は耐衝撃被覆、耐摩耗又は耐引っ掻き被覆、曇り防止トップコート、及び防汚トップコートから選択された少なくとも１つの被覆を含んでもよい。下塗りは、通常、フォトクロミック基材との直接的な接触状態にある。更には、耐摩耗被覆は、フォトクロミック基材と干渉被覆の間に又は下塗りと干渉被覆の間に介在してもよい。或いは、この代わりに、耐摩耗被覆は、光学基材上に直接的に被覆されてもよく、且つ、フォトクロミック層を構成してもよい。トップコートは、本発明の干渉被覆上に適用されてもよい。

耐衝撃被覆は、通常は、完成した光学物品の耐衝撃性を改善するべく使用される任意の被覆であってもよい。又、この被覆は、一般に、完成した光学物品の基材上における耐引っ掻き被覆の接着性を改善する。代表的な耐衝撃被覆は、（メタ）アクリル酸に基づいた被覆及びポリウレタンに基づいた被覆である。（メタ）アクリル酸に基づいた耐衝撃被覆は、例えば、米国特許第５，０１５、５２３号明細書及び米国特許第６，５０３，６３１号明細書に開示されている。耐衝撃被覆組成は、スピン、ディップ、又はフローコーティングなどの任意の従来の方法を使用することにより、光学基材上に適用することができる。耐衝撃組成を基材上に適用する方法は、例えば、米国特許第５，３１６，７９１号明細書の例１において付与されている。耐衝撃被覆の厚さは、硬化の後に、通常は、０．０５〜３０μｍ、好ましくは、０．５〜２０μｍ、且つ、更に好ましくは、０．６〜１５μｍ、且つ、更に良好には、０．６〜５μｍの範囲をとる。

耐摩耗及び／又は引っ掻き被覆組成は、ＵＶ及び／又は熱硬化性組成であってもよい。

代表的な耐摩耗被覆は、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、又はγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランなどの少なくとも１つのアルコキシアルキルエポキシランからのゾル−ゲルプロセスによって調製された溶液を硬化させることによって得られるものであり、この中では、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＬＹＭＯ）及び／又はγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン（Ｍｅｔｈｙｌ ＧＬＹＭＯ）が好ましい。アルコキシアルキルエポキシシランは、なんらの反応性官能基を含んでいないが、ジメチルジメトリキシシラン、ジメチルジエトキシシラン（ＤＭＤＥＳ）、メチルフェニルジメトキシシラン、又はテトラエチルオルソシリケート（ＴＥＯＳ）などの少なくとも１つの非加水分解可能な有機基を任意選択によって含む少なくとも１つのアルコキシシランと組み合わせられてもよい。エポキシシラン及び上述のアルコキシシランは、存在する場合に、通常、既知のゾル−ゲルプロセスを使用することにより、耐摩耗被覆を生成するように、加水分解される。米国特許第４，２１１，８２３号明細書に記述されている技法を利用することができる。又、アルコキシアルキルエポキシシランは、コロイド状無機バインダと組み合わせられてもよく、これは、好ましくは、アルコールタイプの溶剤、或いは、この代わりに、水などの溶剤中における分散状態における、金属酸化物、又は、好ましくは、コロイド状シリカ、即ち、例えば、５〜４０ｎｍなどの、好ましくは、５０ｎｍ未満の直径を有するシリカの微細な粒子から選択されてもよい。このようなコロイド状シリカの一例は、メタノール中の懸濁状態における固体ＳｉＯ_２の３０％を含むＮｉｓｓａｎ Ｓｕｎ Ｃｏｌｌｏｉｄ Ｍａｓｔ（登録商標）又はＥｋａ ＣｈｅｍｉｃａｌｓのＮｙａｃｏｌ（登録商標）２０３４ＤＩである。

更には、耐摩耗被覆を調製するべく使用される混合物は、好ましくは、組成の粘度を調節するべく機能する、メタノールなどのアルコールタイプの溶剤である、アルミニウムキレート及び／又はその他の有機溶剤などの触媒を有することができる。光重合開始剤がＵＶ硬化可能組成中に含まれてもよい。更には、この混合物は、被覆対象の表面上における組成の広がりを改善するべく、界面活性剤又は湿潤剤、染料剤、及び／又は顔料などの様々な添加剤を含むこともできる。耐摩耗被覆を調製するべく使用される混合物の特定の例は、米国特許出願公開第２００５／０１２３７７１号明細書において見出されうる。

耐摩耗性被覆は、例えば、ディップコーティング、バーコーティング、スプレーコーティング、又はスピンコーティングなどの当業者には既知の任意の手段により、基礎をなす被覆に対して適用されてもよい。その厚さは、一般に、例えば、３〜５μｍなどの１〜１０μｍの範囲をとる。

本発明において使用されている防汚トップコートは、光学物品の表面エネルギーを好ましくは１４ｍＪ／ｍ^２未満に低減するものである。本発明は、１３ｍＪ／ｍ^２未満の、且つ、更に良好には、１２ｍＪ／ｍ^２未満の、表面エネルギーを有する防汚トップコートを使用した際に、特定の利点を有する。これらの表面エネルギー値は、Ｏｗｅｎｓ，Ｄ．Ｋ．；Ｗｅｎｄｔ，Ｒ．Ｇ．“Ｅｓｔｉｍａｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｓｕｒｆａｃｅ ｆｏｒｃｅ ｅｎｅｒｇｙ ｏｆ ｐｏｌｙｍｅｒｓ”，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．１９６９，５１，１７４１−１７４７という文献に記述されているＯｗｅｎｓ Ｗｅｎｄｔ法に従って算出される。

本発明による防汚トップコートは、好ましくは、例えば、米国特許第４４１０５６３号明細書、欧州特許第０２０３７３０号明細書、欧州特許第０７４９０２１号明細書、欧州特許第０８４４２６５号明細書、欧州特許第０９３３３７７号明細書、及び米国特許第６，２７７，４８５号明細書などの従来技術において広く開示されている化合物などの有機特性を有するものである。防汚トップコートを製造するための市販の組成は、Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ Ｃｈｅｍｉｃａｌによって市販されている組成ＫＹＩ３０及びＫＰ８０１Ｍと、Ｄａｉｋｉｎ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓによって市販されている組成ＯＰＴＯＯＬ ＤＳＸ（ペルフルオロプロピレンの半量を有するフッ素に基づいた樹脂）である。ＯＰＴＯＯＬ ＤＳＸは、防汚トップコート用の最も好ましい好適な被覆材料である。

曇り防止トップコートは、通常、親水性被覆を有し、これは、好ましくは、５０°未満の、更に好ましくは、２５°未満の、水との間における低静電接触角を提供する。このような被覆は、例えば、欧州特許第１３２４０７８号明細書、米国特許第６，２５１，５２３号明細書、米国特許第６，３７９，７７６号明細書、欧州特許第１２７５６２４号明細書、及び国際公開第２０１１／０８０４７２号パンフレットに記述されている。

本発明は、例示を目的として付与されるものに過ぎないと共に添付の請求項の範囲を決して限定するものと解釈されてはならない以下の例に鑑み、より良く理解されるであろう。

例１：眼科レンズの製造
真空蒸発により、欧州特許第０６１４９５７号明細書の例３に記述されている耐摩耗被覆によって被覆されたＯＲＭＡ（登録商標）Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎｓ ＶＩ ｇｒｅｙとして販売されているフォトクロミック基材上に、以下の層からなる干渉被覆が堆積される。以下の表中の第１ＺｒＯ２層が、耐摩耗被覆上に直接的に堆積される。蒸発装置及び層の堆積の状態は、以下の表において示されている勾配厚さを得るようにマスクが使用されている点を除いて、国際公開第２００８／１０７３２５号パンフレットに記述されているとおりである。

使用されるマスクは、添付図面に示されている「輪郭付与回転マスク」である。

このマスクは、被覆対象の光学基材が配置されるカルーセルのような外観を有する。アパーチャの形状が掩蔽係数を定義している。以下の表中において言及されている厚さ変動を得るべく、最大幅Ｗ０のアパーチャが定義される。この最大アパーチャは、被覆対象の光学基材の上部部分の前面に位置する円の上部に配置される。光学基材の下部部分の前面においては、アパーチャ幅は、相対的に小さく、Ｗ１である。半径に沿ったＷ０からＷ１への幅の変動は、線形であるが、任意の形状を有することができよう。実現の際の利便を目的として、それぞれの光学基材ごとに１つのアパーチャが存在している。

例１において、Ｗ０とＷ１との間の比率は、最高厚さが公称厚さの９０％を表し、且つ、最低厚さが公称厚さの８０％となるように、Ｗ１／Ｗ０＝８０／９０である。例２〜例４において、Ｗ０とＷ１との間の比率は、ターゲット厚さに従って調節される。

Claims (12)

1. 光学物品であって、
   （ａ）２つの対向する面を有すると共に少なくとも１つのフォトクロミック染料を有するフォトクロミック基材であって、前記フォトクロミック基材の同一面の反対側の端部上に配置された第１表面部分及び第２表面部分を有するフォトクロミック基材と、
   （ｂ）干渉被覆であって、その厚さが、前記第１表面部分上に配置されている最高厚さ領域から前記第２表面部分上に配置されている最低厚さ領域まで減少するように、勾配厚さを有し、前記最高厚さ部分の平均反射率係数と前記最低厚さ部分の平均反射率係数との間の差は、３３０〜３８０ｎｍの波長範囲において、１５〜８０％の範囲をとる、干渉被覆と
   を有する光学物品。
2. 前記最低厚さは、前記最高厚さの８０％〜９０％の範囲をとることを特徴とする請求項１に記載の光学物品。
3. 眼科レンズである請求項１又は２に記載の光学物品。
4. 前記フォトクロミック基材は、ポリカーボネートに基づいているか、又はジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）の（コ）ポリマーに基づいているか、又は１，５４〜１，５８の屈折率を有する（メタ）アクリル酸コポリマーに基づいていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学物品。
5. 前記干渉被覆は、交互に変化するように構成された低屈折率を有する少なくとも２つの層及び高屈折率を有する少なくとも２つの層を有する４〜８個の層を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学物品。
6. 下塗り、耐摩耗被覆、静電防止層、曇り防止トップコート、及び防汚トップコートから選択される少なくとも１つの被覆を更に含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学物品。
7. 前記干渉被覆は、その表面の全体にわたって、４００〜７００ｎｍの波長範囲において、３％未満である平均反射率係数を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学物品。
8. 前記干渉被覆は、その表面の全体にわたって、４００〜７００ｎｍの波長範囲において、２％未満である平均反射率係数を有することを特徴とする請求項７に記載の光学物品。
9. 干渉被覆の厚さは、前記最高厚さ領域から前記最低厚さ領域まで、前記光学物品の使用の正常な状態において垂直である軸に沿って、変化することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学物品。
10. 干渉被覆の厚さは、前記最高厚さ領域から前記最低厚さ領域まで、前記光学物品の使用の正常な状態において垂直である軸に沿って、単調に変化することを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学物品。
11. 光学物品を製造するプロセスであって、以下の連続ステップ：
    − 少なくとも１つのフォトクロミック染料を有するフォトクロミック基材を提供するステップと、
    − ソース材料が供給される蒸発装置を装備した真空堆積チャンバ内において前記基材を配置するステップであって、前記蒸発装置は、前記ソース材料から蒸気を生成し、且つ、蒸気が凝縮する前記基材に向かって蒸気を向かわせる、ステップと、
    − 前記蒸気の移動の際に、前記蒸発装置と前記基材との間にマスクを介在させるステップであって、前記マスクは、蒸気の一部分を不均一にインターセプトすることにより、前記基材上において凝縮される前記蒸気の勾配厚さを生成する、ステップと、
    − 必要な勾配厚さに到達するまで、前記真空堆積チャンバを動作させるステップと
    を有するプロセス。
12. 請求項３〜１０のいずれか一項に記載の眼科レンズを有する眼鏡。

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