JP6541438B2 - 金属膜のストレス低減方法および金属膜の成膜方法 - Google Patents
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Description
最初に、ストレス低減の原理について説明する。
図1は、本発明における金属膜のストレス低減の原理を説明するための模式図である。
WCl6(ad)+3H2(g)→W(s)+6HCl ・・・(1)
この反応により生成されたHClは、強いエッチング性を有するため、以下の(2)の反応により高ストレスタングステン膜202をエッチングする。
W(s)+5WCl6(g)→6WClx ・・・(2)
そして、そのエッチング作用により、高ストレスタングステン膜202の結晶粒203の粒界がエッチングされるため、結晶粒間の歪が緩和される。
上述したようなストレス低減処理は、塩化タングステンガスと還元ガスを用いて、これらをシーケンシャルに供給するALD法、あるいは同時に供給するCVD法により成膜するものである。これらの中では、一層ずつ成膜するALD法のほうが好ましい。ALD成膜は、表面/膜エネルギーを緩和する効果が得られ、ストレス低減する効果が大きい。CVD法は、処理膜の膜厚が薄い場合に用いることができる。
図2はストレス低減処理に用いる処理装置の一例を示す断面図である。この処理装置は、ALD成膜とCVD成膜の両方の成膜モードが可能な成膜装置として構成されている。
以下に、ストレス低減処理の好ましい条件について示す。
圧力:5〜50Torr(666.5〜6665Pa)
温度:300℃以上(好ましくは450〜600℃)
WCl6ガス流量:3〜60sccm(mL/min)
(キャリアガス流量:100〜2000sccm(mL/min))
WCl6ガス分圧:0.5〜10Torr(66.7〜1333Pa)
メインH2ガス流量:2000〜8000sccm(mL/min)
添加H2ガス流量:100〜500sccm(mL/min)
連続供給N2ガス流量:100〜500sccm(mL/min)
(第1および第2連続N2ガス供給ライン66,68)
フラッシュパージN2ガス流量:500〜3000sccm(mL/min)
(第1および第2フラッシュパージライン67,69)
ステップS1の時間(1回あたり):0.01〜5sec
ステップS3の時間(1回あたり):0.1〜5sec
ステップS2、S4の時間(パージ)(1回あたり):0.1〜5sec
ステップS1の添加H2ガス供給時間(1回あたり):0.01〜0.3sec
成膜原料タンクの加温温度:130〜190℃
ii)CVD
圧力:5〜50Torr(666.5〜6665Pa)
温度:300℃以上(好ましくは450〜600℃)
WCl6ガス流量:3〜60sccm(mL/min)
(キャリアガス流量:100〜2000sccm(mL/min))
WCl6ガス分圧:0.5〜10Torr(66.7〜1333Pa)
メインH2ガス流量:2000〜8000sccm(mL/min)
N2ガス流量:100〜500sccm(mL/min)
次に、タングステン膜の成膜方法の第1の例について説明する。
本例では、WCl6ガスとH2ガスを用いてタングステン膜を成膜し、その後ストレス低減処理を行う例を示す。
TiN(s)+WCl6(g)→TiCl4(g)+WClx(g)・・・(3)
下地膜302として他のチタン系材料膜およびタングステン化合物膜を用いた場合も同様に塩化タングステンガスであるWCl6ガスによりエッチングされる。
圧力:20〜100Torr(2666〜13330Pa)
温度:300℃以上(より好ましくは450〜600℃)
WCl6ガス流量:0.1〜10sccm(mL/min)
(キャリアガス流量:1〜1000sccm(mL/min))
WCl6ガス分圧(既述):1Torr(133.3Pa)以下(より好ましくは0.1Torr(13.33Pa)以下)
メインH2ガス流量:10〜5000sccm(mL/min)
連続供給N2ガス流量:10〜10000sccm(mL/min)
(第1および第2連続N2ガス供給ライン66,68)
フラッシュパージN2ガス流量:100〜100000sccm(mL/min)
(第1および第2フラッシュパージライン67,69)
ステップS1の時間(1回あたり):0.01〜5sec
ステップS3の時間(1回あたり):0.1〜5sec
ステップS2、S4の時間(パージ)(1回あたり):0.1〜5sec
ステップS1の添加H2ガス供給時間(1回あたり):0.01〜0.3sec
成膜原料タンクの加温温度:130〜190℃
次に、成膜方法の第2の例について説明する。
本例では、WF6ガスとH2ガスを用いてタングステン膜を成膜し、その後ストレス低減処理としてWCl6ガスとH2ガスを用いた膜形成を行う例を示す。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されることなく種々変形可能である。例えば、上記実施形態では、タングステン膜のストレス低減処理に塩化タングステンガスおよび還元ガスを用いた場合を示したが、これに限らず他の金属膜のストレス低減処理にその金属の塩化物および還元ガスを用いてもよく、例えば塩化モリブデンガスと還元ガスを用いてモリブデン膜のストレス低減処理を行う場合や、塩化タンタルガスと還元ガスを用いてタンタル膜のストレス低減処理を行う場合にも適用可能である。
2;サセプタ
3;シャワーヘッド
4;排気部
5;ガス供給機構
6;制御部
51;WCl6ガス供給機構
52;第1H2ガス供給源
53;第2H2ガス供給源
54;第1N2ガス供給源
55;第2N2ガス供給源
61;WCl6ガス供給ライン
62;第1H2ガス供給ライン
63;第2H2ガス供給ライン
66;第1連続N2ガス供給ライン
67;第1フラッシュパージライン
68;第2連続N2ガス供給ライン
69;第2フラッシュパージライン
73,74,75,76,77,78,79,102,103;開閉バルブ
91;成膜原料タンク
100;処理装置
201;下地膜
202;タングステン膜
203;タングステン結晶粒
204;処理膜
205;ストレスが低減されたタングステン膜
301,401;絶縁膜
302,402;下地膜
303,403;第1のタングステン膜
304,404;第2のタングステン膜
305,405;タングステン膜
W;半導体ウエハ
Claims (25)
- タングステン膜、モリブデン膜、およびタンタル膜のいずれかからなり、膜のストレスが1000MPa以上の金属膜に対し、その金属を含む金属塩化物ガス、および前記金属塩化物ガスを還元する還元ガスを供給して前記金属膜を処理し、前記金属膜の上に処理膜を形成することにより前記金属膜のストレスを低減することを特徴とする金属膜のストレス低減方法。
- 前記金属膜の前記処理は、減圧雰囲気下に保持されたチャンバー内に前記金属膜が形成された被処理基板を配置し、前記チャンバー内に前記金属塩化物ガスと前記還元ガスとをシーケンシャルにまたは同時に供給して、前記金属膜の上に処理膜を形成することにより行われることを特徴とする請求項1に記載の金属膜のストレス低減方法。
- 前記金属膜の前記処理は、前記金属塩化物ガスと前記還元ガスとの反応で生成されたHClにより前記金属膜をエッチングすることによりストレスを低減することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の金属膜のストレス低減方法。
- 前記金属膜の前記処理の際の処理条件または処理膜の厚さを調整することにより前記金属膜のストレスを調整することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の金属膜のストレス低減方法。
- 前記金属膜はタングステン膜であり、前記金属膜の前記処理に用いる前記金属塩化物は塩化タングステンであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の金属膜のストレス低減方法。
- 前記金属膜の前記処理は、前記塩化タングステンガスの分圧が0.5〜10Torrの範囲になるようにして行われることを特徴とする請求項5に記載の金属膜のストレス低減方法。
- 前記金属膜であるタングステン膜は、減圧雰囲気下に保持されたチャンバー内に被処理基板を配置し、前記チャンバー内に塩化タングステンガスと還元ガスとをシーケンシャルに供給して成膜されたものであり、前記金属膜の成膜の際の前記塩化タングステンガスの供給量が、前記処理の際の前記塩化タングステンガスの供給量よりも少ないことを特徴とする請求項5または請求項6に記載の金属膜のストレス低減方法。
- 前記金属膜であるタングステン膜を成膜する際に前記塩化タングステンガスの分圧を1Torr以下とすることを特徴とする請求項7に記載の金属膜のストレス低減方法。
- 前記金属膜であるタングステン膜は、減圧雰囲気下に保持されたチャンバー内に被処理基板を配置し、前記チャンバー内にWF6ガスと還元ガスとを供給して成膜されたものである請求項5または請求項6に記載の金属膜のストレス低減方法。
- 前記塩化タングステンは、WCl6、WCl5、WCl4のいずれかあることを特徴とする請求項5から請求項9のいずれか1項に記載の金属膜のストレス低減方法。
- 前記還元ガスは、H2ガス、SiH4ガス、B2H6ガス、NH3ガスの少なくとも1種であることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の金属膜のストレス低減方法。
- 被処理基板に対しタングステン膜、モリブデン膜、およびタンタル膜のいずれかからなり、膜のストレスが1000MPa以上の金属膜を形成する工程と、
その金属を含む金属塩化物ガス、および前記金属塩化物ガスを還元する還元ガスを供給して前記金属膜を処理し、前記金属膜の上に前記金属膜のストレスを低減する処理膜を形成する工程と
を有することを特徴とする金属膜の成膜方法。 - 前記処理膜は、減圧雰囲気下に保持されたチャンバー内に前記金属膜が形成された被処理基板を配置し、前記チャンバー内に前記金属塩化物ガスと前記還元ガスとをシーケンシャルにまたは同時に供給することにより形成されることを特徴とする請求項12に記載の金属膜の成膜方法。
- 前記処理膜を成膜する際に、前記金属塩化物ガスと前記還元ガスとの反応で生成されたHClにより前記金属膜をエッチングすることによりストレスを低減することを特徴とする請求項12または請求項13に記載の金属膜の成膜方法。
- 前記処理膜を形成する際の処理条件または処理膜の厚さを調整することにより前記金属膜のストレスを調整することを特徴とする請求項12から請求項14のいずれか1項に記載の金属膜の成膜方法。
- 被処理基板に対して、塩化タングステンガスおよび塩化タングステンを還元する還元ガスをシーケンシャルに供給して金属膜として膜のストレスが1000MPa以上の第1のタングステン膜を成膜する工程と、
前記第1のタングステン膜が形成された被処理基板に対して、塩化タングステンガスおよび塩化タングステンを還元する還元ガスをシーケンシャルにまたは同時に供給して前記第1のタングステン膜のストレスを低減する処理を行い、前記第1のタングステン膜の上に処理膜として第2のタングステン膜を成膜する工程と
を有し、
前記第1のタングステン膜を成膜する際の前記塩化タングステンガスの供給量を、前記第2のタングステン膜を成膜する際の前記塩化タングステンガスの供給量よりも少なくすることを特徴とする金属膜の成膜方法。 - 前記第1のタングステン膜を成膜する際の前記塩化タングステンガスの分圧は1Torr以下であり、前記第2のタングステン膜を成膜する際の塩化タングステンガスの分圧は0.5〜10Torrであることを特徴とする請求項16に記載の金属膜の成膜方法。
- 前記第1のタングステン膜および前記第2のタングステン膜の成膜処理の際に、前記被処理基板の温度が300℃以上、圧力が5Torr以上であることを特徴とする請求項16または請求項17に記載の金属膜の成膜方法。
- 被処理基板に対して、WF6ガスおよびWF6ガスを還元する還元ガスを供給して金属膜として膜のストレスが1000MPa以上の第1のタングステン膜を成膜する工程と、
前記第1のタングステン膜が形成された被処理基板に対して、塩化タングステンガスおよび塩化タングステンを還元する還元ガスをシーケンシャルにまたは同時に供給して第2のタングステン膜を成膜する工程と
を有することを特徴とする金属膜の成膜方法。 - 前記第2のタングステン膜を成膜することにより、前記第1のタングステン膜のストレスを低減することを特徴とする請求項19に記載の金属膜の成膜方法。
- 前記第2のタングステン膜の成膜処理の際に、前記被処理基板の温度が300℃以上、圧力が5Torr以上であることを特徴とする請求項19または請求項20に記載の金属膜の成膜方法。
- 前記第1のタングステン膜と前記第2のタングステン膜とは、in−situで成膜することを特徴とする請求項16から請求項21のいずれか1項に記載の金属膜の成膜方法。
- 前記塩化タングステンは、WCl6、WCl5、WCl4のいずれかあることを特徴とする請求項16から請求項22のいずれか1項に記載の金属膜の成膜方法。
- 前記還元ガスは、H2ガス、SiH4ガス、B2H6ガス、NH3ガスの少なくとも1種であることを特徴とする請求項16から請求項23のいずれか1項に記載の金属膜の成膜方法。
- コンピュータ上で動作し、成膜装置を制御するためのプログラムが記憶された記憶媒体であって、前記プログラムは、実行時に、請求項16から請求項24のいずれかの金属膜の成膜方法が行われるように、コンピュータに前記成膜装置を制御させることを特徴とする記憶媒体。
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