JP6539520B2 - ニッケル微粒子含有組成物及びその製造方法 - Google Patents
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Description
A)銅元素を含有し、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が40〜200nmの範囲内である第1のニッケル微粒子、
B)銅元素を含有し、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が5〜40nmの範囲内である第2のニッケル微粒子、
を含有するとともに、
前記A成分と前記B成分の合計量に対する前記A成分の含有量が75〜99質量%の範囲内、前記B成分の含有量が1〜25質量%の範囲内であり、かつ、前記A成分及び前記B成分に含まれる銅元素の合計量が、前記A成分及び前記B成分の合計量に対し0.5〜10質量%の範囲内である。
a)湿式加熱還元によって、銅元素を含有し、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が40〜200nmの範囲内である第1のニッケル微粒子のスラリーを得る工程、
b)湿式加熱還元によって、銅元素を含有し、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が5〜40nmの範囲内である第2のニッケル微粒子のスラリーを得る工程、
並びに、
c)前記第1のニッケル微粒子と前記第2のニッケル微粒子の合計量に対する前記第1のニッケル微粒子の含有量が75〜99質量%の範囲内であり、前記第2のニッケル微粒子の含有量が1〜25質量%の範囲内であり、かつ、前記第1のニッケル微粒子及び前記第2のニッケル微粒子に含まれる銅元素の合計量が、前記第1のニッケル微粒子及び前記第2のニッケル微粒子の合計量に対し0.5〜10質量%の範囲内となるように、前記スラリーどうしを混合してニッケル微粒子含有組成物を得る工程、
を含んでいる。
以下、適宜図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明の一実施の形態に係るニッケル微粒子含有組成物の構成を示す模式図である。本実施の形態のニッケル微粒子含有組成物100は、次の成分A及びB;
A)銅元素を含有し、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が40〜200nmの範囲内である第1のニッケル微粒子、
B)銅元素を含有し、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が5〜40nmの範囲内である第2のニッケル微粒子、
を含有する。
なお、第1のニッケル微粒子10と第2のニッケル微粒子20の平均粒子径(メディアン径)D50は、いずれもSEM(走査型電子顕微鏡)により試料の写真を撮影して、その中から無作為に200個を抽出してそれぞれの粒子について面積を求め、真球に換算したときの粒子径から、個数基準にて求めることができる。
本実施の形態のニッケル微粒子含有組成物100において、第1のニッケル微粒子10は、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が40〜200nmの範囲内であり、45〜150nmの範囲内が好ましい。
第1のニッケル微粒子10の平均粒子径D50が40nmを下回ると、それ自体の収縮温度が低くなり、誘電体層とのデラミネーションが激しくなることから、例えばMLCCの内部電極材料としての実用性を欠く。また、第1のニッケル微粒子10の平均粒子径D50が40nmを下回ると、脱バインダー時の加熱でニッケル微粒子含有組成物100同士が凝集又溶融しやすくなり、さらに酸素を取り込みやすくなるため、ニッケル微粒子含有組成物100の体積膨張や収縮変化が大きくなる。さらに、第1のニッケル微粒子10の平均粒子径D50が40nmを下回ると、第1のニッケル微粒子10どうしの隙間が小さくなって第2のニッケル微粒子20が隙間に入り込むことが困難になり、密度が低下する。そのため、例えばニッケル微粒子含有組成物100を用いてMLCCの内部電極を形成する場合に、熱収縮が大きくなる場合がある。
一方、第1のニッケル微粒子10の平均粒子径D50が200nmを上回ると、ペースト塗布後の平滑性が低下するとともに、最小径の粒子及び最大径の粒子の分布幅が大きくなり、薄膜化したMLCCの内部電極材料に利用した場合に、巨大粒子の存在によりショート不良を起こしやすい。
また、本実施の形態のニッケル微粒子含有組成物100において、第2のニッケル微粒子20は、走査型電子顕微鏡観察による一次粒子の平均粒子径D50が5〜40nmの範囲内であり、10〜30nmの範囲内が好ましい。第2のニッケル微粒子20の一次粒子の平均粒子径D50が5nmを下回ると、比表面積が増大し、焼結開始温度が低温化したり、表面自由エネルギーの増大により分散が困難になって第2のニッケル微粒子20どうしの凝集粒子が増加したりする。また、平均粒子径D50が5nm未満のニッケル微粒子は、表面の酸化物量が金属ニッケル量に対して大きくなり、還元時の収縮が大きくなってしまうほか、有機物の付着量も大きくなり、その消滅によるガス発生や熱収縮も大きくなるため、好ましくない。
一方、第2のニッケル微粒子20の一次粒子の平均粒子径D50が40nmを上回ると、第1のニッケル微粒子10どうしの隙間に入り込むことが困難になり、密度が低下するため、例えばニッケル微粒子含有組成物100を用いてMLCCの内部電極を形成する場合に、熱収縮が大きくなる場合がある。
また、第1のニッケル微粒子10及び第2のニッケル微粒子20を、ともに、金属塩及び有機アミンを含む錯化反応液から加熱還元して製造することによって、これら2種類のニッケル微粒子の表面状態(例えば、有機アミンなどの付着物、酸化皮膜など)が、ほぼ同様になるため、溶媒中での分散性も同程度となり、ハンドリングが容易になる。
次に、本実施の形態のニッケル微粒子含有組成物100の製造方法について説明する。ニッケル微粒子含有組成物100は、例えば、第1のニッケル微粒子10と第2のニッケル微粒子20を別々に調製した後、混合することによって製造することができる。第1のニッケル微粒子10及び第2のニッケル微粒子20は、それぞれ、例えば気相法や液相法などの方法により製造可能であり、その製造方法については特に限定されない。気相法は液相法に比べて製造コストが高価になりがちであるので、液相法を適用することが有利である。液相法のなかでも、粒子径分布が狭いニッケル微粒子を短時間で容易に製造できる方法として、湿式還元工程を有する方法が好ましい。第1のニッケル微粒子10と第2のニッケル微粒子20を共に後述する湿式還元法によって製造することによって、第1のニッケル微粒子10と第2のニッケル微粒子20の表面状態がほぼ同様の性質を持つようになる。そのため、第1のニッケル微粒子10と第2のニッケル微粒子20は、近似した分散挙動を示すようになり、両者を混合した後も、均一な分散状態を得ることができる。
a)湿式還元によって、A成分である第1のニッケル微粒子10のスラリーを得る工程、
b)湿式還元によって、B成分である第2のニッケル微粒子20のスラリーを得る工程、
並びに、
c)第1のニッケル微粒子10と第2のニッケル微粒子20の合計量に対する第1のニッケル微粒子10の含有量が75〜99質量%の範囲内であり、第2のニッケル微粒子20の含有量が1〜25質量%の範囲内となるように、前記第1のニッケル微粒子10のスラリーと前記第2のニッケル微粒子20のスラリーを混合してニッケル微粒子含有組成物100を得る工程。
工程aでは、ニッケル塩と、脂肪族1級モノアミンと、を混合し、加熱することによってニッケル塩を有機アミンに溶解させたニッケル錯体溶液を準備し、このニッケル錯体溶液を湿式加熱還元することによって、第1のニッケル微粒子10を製造することができる。第1のニッケル微粒子10は、粒子内部に銅元素が拡散している。粒子内部に銅元素が拡散していることによって、第1のニッケル微粒子10は、ニッケルの磁性が緩和され、磁性による凝集が抑制されるため、分散性が向上する。
工程aにおいて、ニッケル塩の種類は特に限定されず、例えば水酸化ニッケル、塩化ニッケル、硝酸ニッケル、硫酸ニッケル、炭酸ニッケル、カルボン酸ニッケル、Ni(acac)2(β−ジケトナト錯体)、ステアリン酸ニッケル等が挙げられるが、この中でも、塩化ニッケル又はカルボン酸ニッケルが好ましく、還元過程での解離温度(分解温度)が比較的低いカルボン酸ニッケルを用いることが有利である。カルボン酸ニッケルとしては、例えば、還元過程での解離温度(分解温度)が比較的低いギ酸ニッケル、酢酸ニッケルなどを用いることが好ましい。カルボン酸ニッケルは、無水物であってもよく、また水和物であってもよい。なお、カルボン酸ニッケルに代えて、塩化ニッケル、硝酸ニッケル、硫酸ニッケル、炭酸ニッケル、水酸化ニッケル等の無機塩を用いることも考えられるが、無機塩の場合、解離(分解)が高温であるため、還元過程で高温での加熱が必要であり好ましくない。また、Ni(acac)2(β−ジケトナト錯体)、ステアリン酸イオン等の有機配位子により構成されるニッケル塩を用いることも考えられるが、これらのニッケル塩を用いると、原料コストが高くなり好ましくない。カルボン酸ニッケルは単独で用いてもよいし、他のニッケル塩と併用することもできる。
有機アミンは、ニッケルイオンとの錯体を形成できるものであれば、特に限定されず、常温で固体又は液体のものが使用できる。ここで、常温とは、20℃±15℃をいう。常温で液体の有機アミンは、ニッケル錯体を形成する際の有機溶媒としても機能する。なお、常温で固体の有機アミンであっても、加熱によって液体であるか、又は有機溶媒を用いて溶解するものであれば、特に問題はない。
脂肪族1級モノアミンは、有機溶媒として反応を進行させることができるが、均一溶液での反応をより効率的に進行させるために、第1のニッケル微粒子10の調製において、脂肪族1級モノアミンとは別の有機溶媒を新たに添加してもよい。使用できる有機溶媒としては、脂肪族1級モノアミンと、ニッケルイオン、銅イオンなどの金属イオンとの錯形成を阻害しないものであれば、特に限定するものではなく、例えば炭素数4〜30のエーテル系有機溶媒、炭素数7〜30の飽和又は不飽和の炭化水素系有機溶媒、炭素数8〜18のアルコール系有機溶媒等を使用することができる。また、マイクロ波照射による加熱条件下でも使用を可能とする観点から、使用する有機溶媒は、沸点が170℃以上のものを選択することが好ましく、より好ましくは200〜300℃の範囲内にあるものを選択することがよい。このような有機溶媒の具体例としては、例えばテトラエチレングリコール、n−オクチルエーテル、炭素数が20〜40の範囲内にあるポリアルファオレフィン等が挙げられる。
ニッケル錯体溶液中のニッケル錯体濃度は、例えば2〜11質量%の範囲内とすることが好ましく、4〜8質量%の範囲内とすることがより好ましい。一段階の合成法では、ニッケル錯体濃度が11質量%を超えると、反応性が低下するとともに、粒子径の制御が難しくなる。
錯形成反応は室温においても進行させることができるが、反応を確実かつより効率的に行うために、100℃以上の温度で加熱を行うことが好ましい。この加熱は、カルボン酸ニッケルとして、例えば酢酸ニッケル4水和物のようなカルボン酸ニッケルの水和物を用いた場合に特に有利である。加熱温度は、好ましくは100℃を超える温度とし、より好ましくは105℃以上の温度とすることで、カルボン酸ニッケルに配位した配位水と脂肪族1級モノアミンとの配位子置換反応が効率よく行われ、この錯体配位子としての水分子を解離させることができ、更にその水を系外に出すことができるので効率よく錯体を形成させることができる。例えば、酢酸ニッケル4水和物は、室温では2個の配位水と2座配位子である2個の酢酸イオン、外圏に2つの水分子が存在した錯体構造をとっているため、この2つの配位水と脂肪族1級モノアミンの配位子置換により効率よく錯形成させるには、100℃より高い温度で加熱することでこの錯体配位子としての水分子を解離させることが好ましい。また、加熱温度は、後に続く還元の過程と確実に分離し、錯形成反応を完結させるという観点から、175℃以下が好ましい。錯形成反応での加熱温度が高すぎると、ニッケル錯体の生成とニッケル(0価)への還元反応が同時に進行し、新たにニッケルの核が発生してしまうことで、粒子径の分布が狭い第1のニッケル微粒子10の生成が困難となるおそれがある。従って、錯形成反応のための加熱温度は、例えば105℃〜175℃の範囲内が好ましく、より好ましくは、125〜160℃の範囲内である。
次に、得られたニッケル錯体溶液中、又は混合液中のニッケルイオンを加熱還元し、第1のニッケル微粒子10に成長させる。この場合、種粒子を使用することが好ましく、後述する工程bで得られる第2のニッケル微粒子20を、工程aにおける種粒子として用いることがより好ましい。種粒子を用いることによって、一段階の合成法に比べ、均一な粒子径を有する第1のニッケル微粒子10を製造できる。また、工程bで得られる種粒子を所定量使用することによって、第1のニッケル微粒子10中に所望の量の銅元素を含有させることができる。
本工程は、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が5nm以上40nm以下の範囲内である第2のニッケル微粒子20を準備する工程である。なお、第2のニッケル微粒子20は、工程aにおいて、第1のニッケル粒子10の成長の核(種粒子)としても利用できるものである。
銅塩としては、例えばカルボン酸銅を用いることが好ましい。また、カルボン酸銅としては、例えば、還元過程での解離温度(分解温度)が比較的低いギ酸銅、酢酸銅などを用いることが好ましい。また、カルボン酸銅は、無水物であってもよく、水和物であってもよい。銅塩を配合することによって、第2のニッケル微粒子20の形成を促進できるとともに、第2のニッケル微粒子20の粒子径の制御が容易になる。
ニッケル塩としては、例えばカルボン酸ニッケルを用いることが好ましい。また、カルボン酸ニッケルとしては、例えば、還元過程での解離温度(分解温度)が比較的低いギ酸ニッケル、酢酸ニッケルなどを用いることが好ましい。カルボン酸ニッケルは、無水物であってもよく、また水和物であってもよい。なお、カルボン酸ニッケルに代えて、塩化ニッケル、硝酸ニッケル、硫酸ニッケル、炭酸ニッケル、水酸化ニッケル等の無機塩を用いることも考えられるが、無機塩の場合、解離(分解)が高温であるため、還元過程で高温での加熱が必要であり好ましくない。また、Ni(acac)2(β−ジケトナト錯体)、ステアリン酸イオン等の有機配位子により構成されるニッケル塩を用いることも考えられるが、これらのニッケル塩を用いると、原料コストが高くなり好ましくない。
有機アミンは、ニッケルイオンとの錯体を形成できるものであれば、特に限定されず、常温で固体又は液体のものが使用できる。ここで、常温とは、20℃±15℃をいう。常温で液体の有機アミンは、ニッケル錯体を形成する際の有機溶媒としても機能する。なお、常温で固体の有機アミンであっても、加熱によって液体であるか、又は有機溶媒を用いて溶解するものであれば、特に問題はない。
脂肪族1級モノアミンは、有機溶媒として反応を進行させることができるが、均一溶液での反応をより効率的に進行させるために、第2のニッケル微粒子20の調製において、脂肪族1級モノアミンとは別の有機溶媒を新たに添加してもよい。使用できる有機溶媒としては、脂肪族1級モノアミンと、ニッケルイオン、銅イオンなどの金属イオンとの錯形成を阻害しないものであれば、特に限定するものではなく、例えば炭素数4〜30のエーテル系有機溶媒、炭素数7〜30の飽和又は不飽和の炭化水素系有機溶媒、炭素数8〜18のアルコール系有機溶媒等を使用することができる。また、マイクロ波照射による加熱条件下でも使用を可能とする観点から、使用する有機溶媒は、沸点が170℃以上のものを選択することが好ましく、より好ましくは200〜300℃の範囲内にあるものを選択することがよい。このような有機溶媒の具体例としては、例えばテトラエチレングリコール、n−オクチルエーテル、炭素数が20〜40の範囲内にあるポリアルファオレフィン等が挙げられる。
第2のニッケル微粒子20を形成するための加熱還元方法は、特に制限されず、例えばオイルバスなどの熱媒体による加熱であっても、マイクロ波照射による加熱であってもよいが、均一、かつ急速な加熱が可能なマイクロ波照射による加熱が好ましい。マイクロ波の使用波長は、特に限定するものではなく、例えば2.45GHzである。
工程cは、工程aで得られた第1のニッケル微粒子10のスラリーと、工程bで得られた第2のニッケル微粒子20のスラリーとを混合する。混合比率は、ニッケル微粒子含有組成物100中の第1のニッケル微粒子10と第2のニッケル微粒子20の合計量に対し、第1のニッケル微粒子10の含有量が75〜99質量%の範囲内、好ましくは80〜95質量%の範囲内であり、第2のニッケル微粒子20の含有量が1〜25質量%の範囲内、好ましくは5〜20質量%の範囲内であり、かつ、第1のニッケル微粒子10及び第2のニッケル微粒子20に含まれる銅元素の合計量が、第1のニッケル微粒子10及び第2のニッケル微粒子20の合計量に対し0.5〜10質量%の範囲内となるようにする。
本工程では、工程cで得られたスラリー状態のニッケル微粒子含有組成物100を、例えば、静置分離し、上澄み液を取り除いた後、適当な溶媒を用いて洗浄し、乾燥することで、乾燥状態のニッケル微粒子含有組成物100が得られる。本工程で得られる乾燥後のニッケル微粒子含有組成物100は粉末状をなしていてもよい。この場合、第1のニッケル微粒子10と第2のニッケル微粒子20が凝集して2次粒子を形成していてもよいが、上記のとおり、個々の2次粒子における第1のニッケル微粒子10の含有比率が75〜99質量%であり、かつ第2のニッケル微粒子20の含有比率が1〜25質量%の範囲内であることが好ましい。
SEM(走査型電子顕微鏡)により試料の写真を撮影して、その中から無作為に200個を抽出してそれぞれの面積を求め、真球に換算したときの粒子径を個数基準として一次粒子の平均粒子径D50を算出した。また、CV値(変動係数)は、(標準偏差)÷(平均粒子径)によって算出した。なお、CV値が小さいほど、粒子径がより均一であることを示す。
試料を5Φ×2mmの円柱状成型器に入れ、プレス成型して得られる成型体を作製し、窒素ガス(水素ガス3%含有)の雰囲気下で、熱機械分析(TMA)および熱重量分析(TGA)を行った。また、熱機械分析装置(TMA)により測定される5%熱収縮の温度を5%熱収縮温度とした。また、この測定を行うための成型時の密度を測定した。
<錯化反応液の調製>
6.0kgのオレイルアミンに50gのギ酸銅四水和物と350gのギ酸ニッケル二水和物を加え、窒素フロー下で120℃、60分間加熱することでギ酸銅とギ酸ニッケルをオレイルアミンに溶解した。
<錯化反応液の調製>
6.0kgのオレイルアミンに133gのギ酸銅四水和物と350gのギ酸ニッケル二水和物を加え、窒素フロー下で120℃、60分間加熱することでギ酸銅とギ酸ニッケルをオレイルアミンに溶解した。
<錯化反応液の調製>
6.0kgのオレイルアミンに5gのギ酸銅四水和物と350gのギ酸ニッケル二水和物を加え、窒素フロー下で120℃、60分間加熱することでギ酸銅とギ酸ニッケルをオレイルアミンに溶解した。
<ニッケル錯体溶液の調製>
50.0kgのオレイルアミンに20.6kgの酢酸ニッケル四水和物を加え、窒素フロー下で140℃、4時間加熱することでニッケル錯体溶液を調製した。
上記ニッケル錯体溶液の11.28kgを分取し、そこに、合成例1で得た200gのニッケル粒子スラリー(1−A)を加え、撹拌後、マイクロ波を照射して225℃、10分間加熱して、オレイルアミンで希釈した200gの10%ドデカンチオール溶液を15分間で滴下して、さらにその温度を20分間維持したのち放冷して、ニッケル微粒子スラリー(4−A)を調製した。得られたニッケル微粒子スラリー(4−A)を静置分離し、上澄み液を取り除いた後、トルエンとメタノールを用いてそれぞれ2回洗浄した後、60℃に維持される真空乾燥機で6時間乾燥してニッケル微粒子Dを調製した。
<ニッケル錯体溶液の調製>
合成例4と同様にして、ニッケル錯体溶液を調製した。
上記ニッケル錯体溶液の9.50kgを分取し、そこに、合成例2で得た100gのニッケル粒子スラリー(2−A)を加え、撹拌後、マイクロ波を照射して225℃、10分間加熱して、オレイルアミンで希釈した180gの10%ドデカンチオール溶液を15分間で滴下して、さらにその温度を20分間維持したのち放冷して、ニッケル微粒子スラリー(5−A)を調製した。得られたニッケル微粒子スラリー(5−A)を静置分離し、上澄み液を取り除いた後、トルエンとメタノールを用いてそれぞれ2回洗浄した後、60℃に維持される真空乾燥機で6時間乾燥してニッケル微粒子Eを調製した。
<ニッケル錯体溶液の調製>
合成例4と同様にして、ニッケル錯体溶液を調製した。
上記ニッケル錯体溶液の9.50kgを分取し、そこに、合成例2で得た20gのニッケル微粒子スラリー(2−A)を加え、撹拌後、マイクロ波を照射して225℃、10分間加熱することによってニッケル微粒子スラリー(6−A)を調製した。得られたニッケル微粒子スラリー(6−A)を静置分離し、上澄み液を取り除いた後、トルエンとメタノールを用いてそれぞれ2回洗浄した後、60℃に維持される真空乾燥機で6時間乾燥してニッケル微粒子Fを調製した。
<ニッケル錯体溶液の調製>
合成例4と同様にして、ニッケル錯体溶液を調製した。
上記ニッケル錯体溶液の10.50kgを分取し、そこに、合成例2で得た13gのニッケル微粒子スラリー(2−A)を加え、撹拌後、マイクロ波を照射して225℃、10分間加熱することによってニッケル微粒子スラリー(7−A)を調製した。得られたニッケル微粒子スラリー(7−A)を静置分離し、上澄み液を取り除いた後、トルエンとメタノールを用いてそれぞれ2回洗浄した後、60℃に維持される真空乾燥機で6時間乾燥してニッケル微粒子Gを調製した。
上記合成例で得られたニッケル微粒子のスラリーを、表2に記載した比率となるように混合することによって、ニッケル微粒子含有組成物を調製した。得られたニッケル微粒子含有組成物の5%熱収縮温度、700℃収縮率、収縮率測定時の成型密度を表2に示した。
上記合成例で得られたニッケル微粒子のスラリーを、表2に記載した比率となるように混合することによって、ニッケル微粒子含有組成物を調製した。得られたニッケル微粒子含有組成物の5%熱収縮温度、700℃収縮率、収縮率測定時の成型密度を表2に示した。
Claims (10)
- 次の成分A及びB;
A)銅元素を含有し、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が40〜200nmの範囲内である第1のニッケル微粒子、
B)銅元素を含有し、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が10〜30nmの範囲内である第2のニッケル微粒子、
を含有するとともに、
前記A成分と前記B成分の合計量に対する前記A成分の含有量が75〜99質量%の範囲内、前記B成分の含有量が1〜25質量%の範囲内であり、かつ、前記A成分及び前記B成分に含まれる銅元素の合計量が、前記A成分及び前記B成分の合計量に対し0.5〜10質量%の範囲内であり、前記A成分に含まれる銅元素の量が0.01〜2質量%の範囲内であるニッケル微粒子含有組成物。 - 前記B成分に含まれる銅元素の合計量が3〜40質量%の範囲内である請求項1に記載のニッケル微粒子含有組成物。
- 前記第1のニッケル微粒子と前記第2のニッケル微粒子は、ともに粒子径の変動係数が0.25以下であるとともに、平均粒子径の比(第1のニッケル微粒子の平均粒子径D50/第2のニッケル微粒子の平均粒子径D50)が4を超える請求項1又は2に記載のニッケル微粒子含有組成物。
- さらに、溶媒を含有するスラリーの形態である請求項1から3のいずれか1項に記載のニッケル微粒子含有組成物。
- 粉末状の形態をなし、前記第1のニッケル微粒子の表面に前記第2のニッケル微粒子が付着している請求項1から3のいずれか1項に記載のニッケル微粒子含有組成物。
- 下記の工程a〜c;
a)湿式加熱還元によって、銅元素を含有し、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が40〜200nmの範囲内である第1のニッケル微粒子のスラリーを得る工程、
b)湿式加熱還元によって、銅元素を含有し、走査型電子顕微鏡観察による平均粒子径D50が5〜40nmの範囲内である第2のニッケル微粒子のスラリーを得る工程、
並びに、
c)前記第1のニッケル微粒子と前記第2のニッケル微粒子の合計量に対する前記第1のニッケル微粒子の含有量が75〜99質量%の範囲内であり、前記第2のニッケル微粒子の含有量が1〜25質量%の範囲内であり、かつ、前記第1のニッケル微粒子及び前記第2のニッケル微粒子に含まれる銅元素の合計量が、前記第1のニッケル微粒子及び前記第2のニッケル微粒子の合計量に対し0.5〜10質量%の範囲内となるように、前記スラリーどうしを混合してニッケル微粒子含有組成物を得る工程、
を含むニッケル微粒子含有組成物の製造方法。 - 前記工程a及び工程bにおける湿式加熱還元が、マイクロ波照射によるものである請求項6に記載のニッケル微粒子含有組成物の製造方法。
- 前記工程aにおいて、前記工程bで得られる第2のニッケル微粒子を種粒子として用いる請求項6又は7に記載のニッケル微粒子含有組成物の製造方法。
- 前記第1のニッケル微粒子に含まれる銅元素の量が0.01〜2質量%の範囲内である請求項6から8のいずれか1項に記載のニッケル微粒子含有組成物の製造方法。
- 前記第2のニッケル微粒子に含まれる銅元素の合計量が3〜40質量%の範囲内である請求項6から9のいずれか1項に記載のニッケル微粒子含有組成物の製造方法。
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