JP6528035B2 - 電子顕微鏡 - Google Patents
電子顕微鏡 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6528035B2 JP6528035B2 JP2015146985A JP2015146985A JP6528035B2 JP 6528035 B2 JP6528035 B2 JP 6528035B2 JP 2015146985 A JP2015146985 A JP 2015146985A JP 2015146985 A JP2015146985 A JP 2015146985A JP 6528035 B2 JP6528035 B2 JP 6528035B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron microscope
- image
- area
- regions
- microscope image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 claims description 84
- 238000013507 mapping Methods 0.000 claims description 61
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 52
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 43
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 description 32
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 16
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 14
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 9
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- 238000000724 energy-dispersive X-ray spectrum Methods 0.000 description 6
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 4
- 238000005314 correlation function Methods 0.000 description 4
- 238000005430 electron energy loss spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000000619 electron energy-loss spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
図1は、本実施形態に係る電子顕微鏡の構成の一例を示す図である。ここでは、電子顕微鏡が、走査透過型電子顕微鏡(STEM)の構成を有する場合について説明するが、本発明に係る電子顕微鏡は、走査型電子顕微鏡(SEM)の構成を有していてもよい。なお本実施形態の電子顕微鏡は図1の構成要素(各部)の一部を省略した構成としてもよい。
)に配置されている。集束レンズ12は、電子線源11で発生した電子線EBを集束して試料Sに照射するためのレンズである。集束レンズ12は、複数のレンズを含んで構成されていてもよい。
次に本実施形態の手法について図面を用いて説明する。
第1の手法では、電子顕微鏡画像を複数の領域に分割し、分割した複数の領域の位置ずれを補正し、位置ずれ補正後の複数の領域それぞれの各ピクセルのスペクトル同士を加算することで、元素マッピング画像を生成する。
xnew=xold+Δxn
ynew=yold+Δyn
第2の手法では、電子顕微鏡画像から、同一のパターンを有し同一サイズの互いに重複しない複数の領域を抽出し、抽出した複数の領域それぞれの各ピクセルのスペクトル同士を加算することで、元素マッピング画像を生成する。
第3の手法では、電子顕微鏡画像におけるパターン(構造)の周期を判定し、判定結果に基づいて電子顕微鏡画像を複数の領域に分割し、分割した複数の領域それぞれの各ピクセルのスペクトル同士を加算することで、元素マッピング画像を生成する。
W=width×mx/fx
H=hight×my/fy
ここで、widthは、電子顕微鏡画像の横方向のサイズであり、hightは、電子顕微鏡画像の縦方向のサイズである。
Pn=W×n+offset_x
Pm=H×m+offset_y
ここで、offset_xは、横方向のオフセット値であり、offset_yは、縦方向のオフセット値である(図11参照)。図11に示す例では、電子顕微鏡画像EIの周期を判定した結果、電子顕微鏡画像EIを、横方向に5個、縦方向に5個の計25個の領域A(0,0)〜A(4,4)に分割している。
なお、本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
域の画像同士を加算する処理を行ってもよい。より詳細には、上述した第2の手法と同様に、基準領域A1の画像をテンプレート画像として、電子顕微鏡画像全体との正規化相互相関関数を計算し、計算結果の画像において、正規化相互相関関数の極大値(類似度の高い位置)を、基準領域A1に近い方から探索し、探索した極大値の位置に、基準領域A1と同一サイズの領域を設定する。設定した領域が、抽出領域として既に設定された他の領域と重複しない場合に、設定した領域を抽出領域(領域An)として極大値の探索を続行し、極大値の探索を終了するまで、抽出領域の設定を繰り返す。そして、基準領域A1の画像と、抽出した各領域Anの画像とを加算(積算)する。また、画像を加算して平均化してもよい。
走査偏向器、14 対物レンズ、15 試料ステージ、16 中間レンズ、17 投影レンズ、18 透過電子検出器、20 EDS検出器、30 偏向器制御装置、32 多重波高分析器、100 処理部、102 取得部、104 元素マップ生成部、106 画像生成部、110 操作部、120 表示部、130 記憶部、EB 電子線、S 試料
Claims (2)
- 複数の同一パターンを有する試料の電子顕微鏡画像と、前記電子顕微鏡画像の各ピクセルのスペクトルとを取得する取得部と、
前記電子顕微鏡画像に含まれる同一の大きさの複数の領域それぞれの各ピクセルのスペクトル同士を加算することで、前記試料の元素マッピング画像を生成する元素マップ生成部とを含み、
前記元素マップ生成部は、
前記電子顕微鏡画像を同一の大きさの複数の領域に分割し、分割した各領域に含まれる画像同士の相関をとることで各領域の位置ずれを補正し、位置ずれが補正された複数の領域それぞれの各ピクセルのスペクトル同士を加算することで、前記元素マッピング画像を生成する、電子顕微鏡。 - 複数の同一パターンを有する試料の電子顕微鏡画像と、前記電子顕微鏡画像の各ピクセルのスペクトルとを取得する取得部と、
前記電子顕微鏡画像に含まれる同一の大きさの複数の領域それぞれの各ピクセルのスペクトル同士を加算することで、前記試料の元素マッピング画像を生成する元素マップ生成部とを含み、
前記元素マップ生成部は、
前記電子顕微鏡画像における前記パターンの周期を判定し、判定結果に基づいて前記電子顕微鏡画像を同一の大きさの複数の領域に分割し、分割した複数の領域それぞれの各ピクセルのスペクトル同士を加算することで、前記元素マッピング画像を生成する、電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/882,817 US9627175B2 (en) | 2014-10-17 | 2015-10-14 | Electron microscope and elemental mapping image generation method |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014212842 | 2014-10-17 | ||
JP2014212842 | 2014-10-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016081907A JP2016081907A (ja) | 2016-05-16 |
JP6528035B2 true JP6528035B2 (ja) | 2019-06-12 |
Family
ID=55956406
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015146985A Active JP6528035B2 (ja) | 2014-10-17 | 2015-07-24 | 電子顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6528035B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20240035886A (ko) * | 2021-08-27 | 2024-03-18 | 주식회사 히타치하이테크 | 컴퓨터 시스템 및 해석 방법 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120138796A1 (en) * | 2009-09-11 | 2012-06-07 | Hitachi High-Technologies Corporation | Signal Processing Method for Charged Particle Beam Device, and Signal Processing Device |
EP2605005A1 (en) * | 2011-12-14 | 2013-06-19 | FEI Company | Clustering of multi-modal data |
-
2015
- 2015-07-24 JP JP2015146985A patent/JP6528035B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016081907A (ja) | 2016-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10620421B2 (en) | Image-forming device, and dimension measurement device | |
JP5080657B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
US10553391B2 (en) | SEM image acquisition device and SEM image acquisition method | |
KR102137454B1 (ko) | 오버레이 오차 계측 장치, 및 컴퓨터 프로그램 | |
US9773315B2 (en) | Device and method for computing amount of drift and charged particle beam system | |
KR102194151B1 (ko) | 하전 입자선 장치 | |
JP6528035B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP6336887B2 (ja) | 試料作製装置及び試料作製方法 | |
US9627175B2 (en) | Electron microscope and elemental mapping image generation method | |
JP6770482B2 (ja) | 荷電粒子線装置および走査像の歪み補正方法 | |
US9336987B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
JP2009135273A (ja) | パターン寸法計測方法及び走査電子顕微鏡 | |
JP5478427B2 (ja) | 画像形成装置 | |
US20160163501A1 (en) | Charged Particle Beam Device and Image Acquisition Method | |
JP6207893B2 (ja) | 試料観察装置用のテンプレート作成装置 | |
WO2020129164A1 (ja) | 撮像装置 | |
JP6565601B2 (ja) | 画像補正装置 | |
JP7144485B2 (ja) | 像取得方法および電子顕微鏡 | |
JP6078356B2 (ja) | テンプレートマッチング条件設定装置、及び荷電粒子線装置 | |
JP2022109925A (ja) | 電子ビーム観察装置、電子ビーム観察システム、電子ビーム観察装置における画像補正方法及び画像補正のための補正係数算出方法 | |
JP2023181757A (ja) | 荷電粒子線装置および画像取得方法 | |
JP2009043567A (ja) | 試料像回転方法、及び荷電粒子線装置 | |
JP2017199452A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2008112684A (ja) | 荷電粒子ビーム装置における非点補正・フォーカスの自動調整方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180911 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20180911 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20180911 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181212 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190220 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190308 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20190308 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6528035 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |