JP6526389B2 - 成膜装置 - Google Patents
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- 真空チャンバー内で成膜材料の粒子を成膜対象物に付着させる成膜装置であって、
前記真空チャンバー内にプラズマビームを生成するプラズマ源と、
前記成膜材料が充填されると共に、前記プラズマビームを前記成膜材料へ導いて前記成膜材料を昇華させる昇華手段と、
前記真空チャンバー内に対して雰囲気ガスを供給するガス供給手段と、
前記真空チャンバー内のプラズマ中の、前記昇華手段により昇華された成膜材料粒子のイオン化率を測定するイオン化率測定手段と、
前記イオン化率測定手段において測定された前記イオン化率に基づいて前記ガス供給手段から供給する雰囲気ガスの圧力を制御するガス制御手段と、
を備え、
前記ガス供給手段は、前記成膜対象物の幅方向に沿って複数設けられる成膜装置。 - 前記イオン化率測定手段は、前記真空チャンバー内の前記プラズマからの光の強度を測定する光測定部と、
前記光測定部により測定された光の強度からイオン化率を算出するイオン化率算出部と、を備え、
前記光測定部は、互いに異なる2つの波長の光強度を測定する請求項1記載の成膜装置。 - 前記イオン化率測定手段は、
前記イオン化率と前記粒子の光の強度との対応関係を示すイオン化率情報を格納する記憶部を更に備え、
前記イオン化率算出部は、前記イオン化率測定手段の前記光測定部によって測定された光強度と、前記記憶部に格納された前記イオン化率情報とに基づいて、前記イオン化率を算出する請求項2記載の成膜装置。 - 前記イオン化率測定手段は、前記成膜対象物の幅方向に沿って複数設けられる請求項1〜3のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記ガス供給手段の設置数は、前記イオン化率測定手段の設置数以上である請求項1〜4のいずれか一項に記載の成膜装置。
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