JP6523053B2 - 環状ワークの加熱装置 - Google Patents
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Description
そのため、所定温度範囲に加熱することは容易でなく装置構成が複雑であった。しかも、加熱コイルと被加熱領域との間の微小なギャップや位置等を精度よく保つために、加熱可能な環状ワークの形状や大きさに制限があり、汎用性が不足していた。
しかも十分な調整空間が設けられることで、互いに異なるサイズや形状を有する複数種類の環状ワークであっても共通の加熱コイルで加熱可能であり、装置の汎用性を向上することができる。
その結果、高周波誘導加熱により形成された環状ワークの表面焼入層全体を焼戻温度範囲に加熱することが容易に行え、汎用性の高い加熱装置を提供することができる。
本実施形態は大型の環状ワークを焼入処理するための旋回型の熱処理装置の例である。環状ワークは、特に限定されるものではないが、例えば直径が1m程度以上の円環形状を有する大型の旋回輪、大型の軸受の内輪や外輪などであってもよい。
また、本実施形態の装置により熱処理される環状ワークWは、図1及び図2に示すように、予め帯状の被加熱領域を高周波誘導加熱して急冷することで周方向に連続する帯状の表面焼入層Whが形成されたものである。
図1及び図2に示す熱処理装置10は、以下のような加熱装置を有している。
この加熱装置は、環状ワークWを支持して環形状に沿って回転させるワーク支持部30と、環状ワークWの周方向の一部に対向配置される加熱コイル51と、を備えている。
ワーク支持部30は、放射方向に延びる着脱可能な複数の放射架台31と、転動軸を放射方向に向けて周方向に配列した複数の転動ローラ32と、複数の転動ローラ32を転動させて環状ワークWを回転させるワーク駆動部40と、を備えている。
加熱コイル51は、図1乃至図3に示すように、コイル支持部53に装着されて複数配設されている。各加熱コイルは、図3に示すように、ワーク支持部30の中心軸Cに沿う方向に延びる第1部位51aと、この第1部位51aの上下両端側に突設されて互いに対向する一対の第2部位51bと、を有し、断面コ字状の硬質支持体51cに支持されている。
各加熱コイル51を支持するコイル支持部53は、図1及び図2に示すように、ワーク支持部30の中心部に相対回動可能に連結され円弧状レール53aに沿って周方向に変位可能なベース部53bと、ベース部53bの放射状レール53cに支持されて放射方向に進退駆動可能な支柱部53dと、支柱部53dの昇降レール53eに支持されて昇降駆動可能な支持プレート53fと、を備えている。支持プレート53fには硬質支持体51cが固定されており、この硬質支持体51cに加熱コイル51が支持されている。
次に、このような加熱装置が組み込まれた熱処理装置10を用いて、焼戻処理を行う方法について説明する。
まず、処理対象の環状ワークWの被加熱領域に、高周波誘導加熱により表面焼入層Whを形成し、焼き割れなどが生じる前に以下のような焼戻処理を施す。環状ワークWが例えば直径が4〜5m程度の大型の環状ワークWであり、ワーク支持部30は予め環状ワークWを支持可能な状態にしており、放射架台31を多数配置している。
これにより、予め形成されている環状ワークWの複数の表面焼入層Whを回転させつつ誘導加熱し、表面焼入層Whの全体が焼戻温度範囲となるまで加熱する。焼戻温度範囲は予め設定された温度範囲であり、表面焼入層Whが所望の靭性等を確保できる温度範囲であればよい。
まず図4に示すように、ワーク支持部30が予め小径の環状ワークWを支持可能な状態にする。ここでは放射架台31の数を少なくしている。
そしてワーク支持部30へ環状ワークWを搬入する前又は後で、各コイル支持部53により小径の環状ワークWに応じて加熱コイル51の数を調整するとともに、各加熱コイル51の位置及び向きを調整する。
そして環状ワークWを回転させつつ、加熱コイル51に商用周波数の加熱電力を給電することで、表面焼入層Whを焼戻温度範囲に加熱して徐冷し、焼戻処理を行うこうことができる。
その結果、環状ワークWの周方向の一部に加熱コイル51を対向配置させて、環状ワークWを回転させつつ加熱する加熱装置で、環状ワークWのサイズや形状に合わせて加熱コイル51の数を調整しても、環状ワークWの表面焼入層Whの全周を効率よく焼戻温度範囲に加熱することができる。
例えば、上記では環状ワークWを冷却するための冷却装置を別に設けた熱処理装置の例について説明したが、冷却部を組み込んだ熱処理装置であっても何ら異なることなく本発明を適用可能である。
環状ワークWを冷却するための冷却部を加熱装置とともに組み込む場合、冷却部は特に限定されるものではなく、例えば冷却ジャケットから冷却液が環状ワークWに向けて吐出される構成を採用してもよい。
その場合、加熱コイルより下方の位置に冷却ジャケットを設け、ワーク支持部を昇降可能に構成し、加熱後に加熱コイル51を環状ワークWよりも径方向外周側に後退させた後でワーク支持部を下降させることで、冷却ジャケットから冷却液が供給されるようにしてもよい。また、各加熱コイル51と一体的に冷却ジャケットを設けたり、各加熱コイル51に隣接して設け、加熱終了後に環状ワークWを同じ位置で回転させつつ冷却ジャケットから冷却液を供給するように構成することもできる。
上記では、ワーク支持部30として、環状ワークWの大きさに応じて放射架台31を調整する例について説明したが、環状ワークWの大きさにかかわらず、同じワーク支持部30を使用することも当然に可能である。さらに放射架台31や転動ローラ32等を用いずに、非磁性体材料からなる円板形状の架台に載置するなど、ワーク支持部30も適宜変更できる。
Wh 表面焼入層
C 中心軸
S 調整空間
10 熱処理装置
30 ワーク支持部
31 放射架台
32 転動ローラ
40 ワーク駆動部
51 加熱コイル
51a 第1部位
51b 第2部位
51c 硬質支持体
51d リード部
51x 不使用加熱コイル
53 コイル支持部
53a 円弧状レール
53b ベース部
53c 放射状レール
53d 支柱部
53e 昇降レール
53f 支持プレート
55 内側領域
Claims (2)
- 高周波誘導加熱により表面焼入層が形成された環状ワークを支持して環形状に沿って回転させるワーク支持部と、前記環状ワークの周方向の一部に対向配置され、回転する前記表面焼入層を焼戻温度範囲に加熱する加熱コイルと、を備えた加熱装置であって、
前記加熱コイルは、第1部位と、該第1部位の両端側に互いに対向するように設けられた一対の第2部位と、を有し、
前記第1部位及び一対の第2部位により囲まれる内側領域内に、前記表面焼入層の径方向断面の形状全体を収容した状態で、前記第1部位との間及び前記各第2部位との間にそれぞれ調整空間を設けて前記環状ワークを配置可能であり、
前記第1部位及び一対の第2部位に商用周波数の加熱電力を給電することで前記表面焼入層を加熱する、加熱装置。 - 前記加熱コイルが複数分散配置され、該複数の加熱コイルの少なくとも一つは前記周方向に変位可能に配設されている、請求項1に記載の加熱装置。
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