JP6519814B2 - 二軸同期延伸方式による位相差膜の製造方法及びその位相差膜 - Google Patents
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Description
所定の予熱温度下で、前記鋳造材薄膜に対して予熱を行う予熱工程としての第2の工程と、
所定の延伸温度下で、前記鋳造材薄膜が引き延ばされる縦方向の延伸倍率及び横方向の延伸倍率が、何れも1.0倍より大きく且つ5.0倍より小さい、該鋳造材薄膜に対して二軸同期延伸の引き延ばし工程を行う延伸工程としての第3の工程と、
所定のアニーリング温度下で、前記鋳造材薄膜に対してアニーリングを行い、該鋳造材薄膜をその縦方向及び横方向の両者において同期収縮させるアニーリング工程としての第4の工程と、
所定の冷却温度下で、前記鋳造材薄膜に対して冷却を行い、出力位相差膜を出力する冷却工程としての第5の工程と、
を備え、
前記所定の予熱温度は、100℃〜200℃であり、且つその予熱時に加熱する予熱風速は、5m/s〜22m/sであり、前記所定の延伸温度は、120℃〜200℃であり、且つその延伸時に加熱する延伸風速は、5m/s〜16m/sであり、前記鋳造材薄膜の前記延伸工程時の膜温を120〜170℃の間に制御でき、前記所定のアニーリング温度は、80℃〜200℃であり、且つそのアニーリング時に提供されるアニーリング風速は、5m/s〜22m/sであり、前記所定の冷却温度は、25℃〜120℃であり、且つその冷却時に提供される冷却風速は、5m/s〜16m/sであり、前記アニーリングにおける前記鋳造材薄膜の縦方向及び横方向の収縮割合は、0%より大きく且つ18%より小さく、前記出力位相差膜の面内の位相差値は、0〜3nmであり、前記出力位相差膜の厚さ方向の位相差値は、0〜−40nmである。また、本発明の位相差膜は上記製造方法により製造される。
ΔTeは、該延伸工程中の温度差値であり、且つΔTe=Text-Tgであり、
ΔXeは、該延伸工程中の引き延ばし倍率差値であり、且つΔXe=MD-TDであり、
ΔTsは、該アニーリング工程中の温度差値であり、且つΔTs=Tshrink-Tgであり、
ΔXsは、該アニーリング工程中の該鋳造材薄膜の収縮割合値であり、且つ
ΔXs=[(1-MDshrink)*(1-TDshrink)-1]であり、そのうち、該MDshrinkは、該鋳造材薄膜の該アニーリング工程中の該縱向上の収縮割合であり、且つTDshrinkは、該鋳造材薄膜の該アニーリング工程中の該横方向上の収縮割合であり、
α、β、γ、δ及びC1は、何れも機械パラメータであり、Tgは、材料パラメータであり、異なる加工機械又は異なる原材料に基づき、異なるパラメータ値を有する。本実施例において、α=-0.0879であり、β=-6.24であり、γ=0.011であり、δ= -12.8であり、Tg=118であり、C1=2.19である。
ΔTeは、該延伸工程中の温度差値であり、且つΔTe=Text-Tgであり、
ΔXeは、該延伸工程中の引き延ばし倍率差値であり、且つΔXe=MD-TDであり
ΔTsは、該アニーリング工程中の温度差値であり、且つΔTs=Tshrink-Tgであり、
ΔXsは、該アニーリング工程中の該鋳造材薄膜の収縮割合値であり、且つ
ΔXs=[(1-MDshrink)*(1-TDshrink)-1]であり、そのうち、該MDshrinkは、該鋳造材薄膜の該アニーリング工程中の該縦方向上の収縮割合であり、且つTDshrinkは、該鋳造材薄膜の該アニーリング工程中の該横方向上の収縮割合であり、
a、b、c、d及びC2は、何れも機械パラメータであり、Tgは、材料パラメータであり、異なる加工機械又は異なる原材料に基づき、異なるパラメータ値を有する。本実施例において、a=0.958,b=2.5,c=0.321,d=12.1,Tg=118,C2=-39.4である。
Rth= a*ΔTe + b*ΔXe + c*ΔTs + d*ΔXs + C2 。
11 T型モデル
12 冷却ローラ
13 鋳造材薄膜
14 電界システム
15 クランプホイール
16 熱プレス機
17 吐出口
2a 延伸機レール
2b 予熱部
2c 延伸部
2d アニーリング部
2e 冷却部
Claims (5)
- 鋳造材薄膜を提供する第1の工程と、
所定の予熱温度下で、前記鋳造材薄膜に対して予熱を行う予熱工程としての第2の工程と、
所定の延伸温度下で、前記鋳造材薄膜が引き延ばされる縦方向の延伸倍率及び横方向の延伸倍率が、何れも1.0倍より大きく且つ5.0倍より小さい、該鋳造材薄膜に対して二軸同期延伸の引き延ばし工程を行う延伸工程としての第3の工程と、
所定のアニーリング温度下で、前記鋳造材薄膜に対してアニーリングを行い、該鋳造材薄膜をその縦方向及び横方向の両者において同期収縮させるアニーリング工程としての第4の工程と、
所定の冷却温度下で、前記鋳造材薄膜に対して冷却を行い、出力位相差膜を出力する冷却工程としての第5の工程と、
を備え、
前記所定の予熱温度は、100℃〜200℃であり、且つその予熱時に加熱する予熱風速は、5m/s〜22m/sであり、前記所定の延伸温度は、120℃〜200℃であり、且つその延伸時に加熱する延伸風速は、5m/s〜16m/sであり、前記鋳造材薄膜の前記延伸工程時の膜温を120〜170℃の間に制御でき、前記所定のアニーリング温度は、80℃〜200℃であり、且つそのアニーリング時に提供されるアニーリング風速は、5m/s〜22m/sであり、前記所定の冷却温度は、25℃〜120℃であり、且つその冷却時に提供される冷却風速は、5m/s〜16m/sであり、前記アニーリングにおける前記鋳造材薄膜の縦方向及び横方向の収縮割合は、0%より大きく且つ18%より小さく、前記出力位相差膜の面内の位相差値は、0〜3nmであり、前記出力位相差膜の厚さ方向の位相差値は、0〜−40nmである
ことを特徴とする二軸同期延伸方式による位相差膜の製造方法。 - 前記所定の予熱温度範囲は、145℃〜155℃であり、
前記所定の延伸温度範囲は、130℃〜150℃であり、
前記所定のアニーリング温度範囲は、120℃〜150℃であり、
前記所定の冷却温度範囲は、25℃〜100℃であることを特徴とする請求項1に記載の二軸同期延伸方式による位相差膜の製造方法。 - 前記鋳造材薄膜の材質は、ポリメチルメタクリレート(PMMA)であり、その厚さの範囲は、250〜1200μmであり、幅の範囲は、500〜980μmであることを特徴とする請求項1に記載の二軸同期延伸方式による位相差膜の製造方法。
- 前記鋳造材薄膜の面内進相軸方向の屈折率値Nyは、1.499900〜1.499955であり、該鋳造材薄膜の厚さ方向の屈折率値Nzは、1.500001〜1.500045であり、且つ該出力位相差膜の厚さの範囲は、38〜250μmであることを特徴とする請求項1に記載の二軸同期延伸方式による位相差膜の製造方法。
- 前記出力位相差膜の厚さの範囲は38〜250μmであり、前記鋳造材薄膜の厚さ範囲は250〜1200μmであり、幅範囲は500〜980μmであり、該鋳造材薄膜の面内進相軸方向の屈折率値Nyは、1.499900〜1.499955であり、該鋳造材薄膜の厚さ方向の屈折率値Nzは、1.500001〜1.500045であることを特徴とする請求項1に記載の二軸同期延伸方式による位相差膜の製造方法。
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