JP6518449B2 - ウェハ研削装置及びウェハ研削方法 - Google Patents
ウェハ研削装置及びウェハ研削方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6518449B2 JP6518449B2 JP2015016601A JP2015016601A JP6518449B2 JP 6518449 B2 JP6518449 B2 JP 6518449B2 JP 2015016601 A JP2015016601 A JP 2015016601A JP 2015016601 A JP2015016601 A JP 2015016601A JP 6518449 B2 JP6518449 B2 JP 6518449B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- grinding
- contact sensor
- wafer chuck
- wheel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 35
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 10
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
Description
2 ・・・ INDEXテーブル
2a・・・ 仕切壁
3 ・・・ ウェハチャック
4 ・・・ 砥石
4a・・・ 砥石送り装置
5 ・・・ 研磨布(ポリッシュパッド)
6 ・・・ 第1のラック
7 ・・・ 第2のラック
8 ・・・ 第1のアーム
9 ・・・ 第2のアーム
10・・・ 測定機構
11・・・ アーム
11a・・・(アームの)基端部
12・・・ 昇降手段
12a・・・エアーピストン
13・・・ 上方接触センサ
14・・・ 下方接触センサ
15・・・ 制御手段
W ・・・ ウェハ
H ・・・ 水平方向
V ・・・ 垂直方向
Claims (10)
- ウェハチャックに載置されたウェハの表面に砥石を押圧してウェハを研削するウェハ研削装置において、
前記ウェハチャックと前記砥石との間で水平方向に延伸されたアームと、
該アームを垂直方向に昇降させる昇降手段と、
前記アームの上面に配置されて、前記砥石の接触を検出して前記砥石の複数の接触点の高さを測定する上方接触センサと、
前記上方接触センサが測定した前記複数の接触点の高さから前記砥石の回転軸に対する真直性を測定して前記砥石が水平に取り付けられているか否かを判定し、前記砥石が水平に取り付けられていないと判定された場合には、砥石取付手段に前記砥石を水平に再取り付けさせ、前記砥石が水平に取り付けられていると判定された場合には、前記上方接触センサが前記砥石に接触している状態を前記砥石の研削開始位置と判断する制御手段とを備えていることを特徴とするウェハ研削装置。 - 前記上方接触センサの接触点は、前記砥石上に同心円状で配置されていることを特徴とする請求項1記載のウェハ研削装置。
- 前記アームの下面に配置されて、前記ウェハチャックの接触を検出する下方接触センサを備え、
前記制御手段は、前記上方接触センサが前記砥石に接触していると共に前記下方接触センサが前記ウェハチャックに接触している状態を前記砥石の研削開始位置と判断することを特徴とする請求項1又は2記載のウェハ研削装置。 - 前記下方接触センサは、前記ウェハチャックの複数の接触点の高さを測定し、
前記制御手段は、前記下方接触センサが測定した前記複数の接触点の高さから前記ウェハチャックの回転軸に対する真直性を測定することを特徴とする請求項3記載のウェハ研削装置。 - 前記下方接触センサの接触点は、前記ウェハチャック上に同心円状で配置されていることを特徴とする請求項3又は4記載のウェハ研削装置。
- ウェハチャックに載置されたウェハの表面に砥石を押圧してウェハを研削するウェハ研削方法において、
前記ウェハチャックと前記砥石との間に水平方向に延伸されたアームを配置する工程と、
前記アームの上面に配置された上方接触センサが前記砥石に接触するまで前記砥石を下降させて前記砥石の複数の接触点の高さを測定する工程と、
前記上方接触センサが測定した前記複数の接触点の高さから前記砥石の回転軸に対する真直性を測定して前記砥石が水平に取り付けられているか否かを判定し、前記砥石が水平に取り付けられていないと判定された場合には、前記砥石を水平に再取り付けし、前記砥石が水平に取り付けられていると判定された場合には、前記上方接触センサが前記砥石に接触状態を研削開始位置とする工程と、
を含むことを特徴とするウェハ研削方法。 - 前記複数の接触点の高さを測定する工程において、前記砥石を自転させて、前記上方接触センサが前記砥石の周方向に異なる接触点の高さを測定することを特徴とする請求項6記載のウェハ研削方法。
- 前記アームの下面に配置された下方接触センサが前記ウェハチャックに接触するまで前記アームを下降させる工程を含み、
前記研削開始位置をする工程において、前記上方接触センサが前記砥石に接触すると共に前記下方接触センサが前記ウェハチャックに接触した状態を研削開始位置とすることを特徴とする請求項6又は7記載のウェハ研削装置。 - 前記ウェハチャックの上方にアームを配置する工程と、
前記下方接触センサを前記ウェハチャックの複数の接触点の高さを検出する工程と、
前記複数の接触点から前記ウェハチャックの回転軸に対する真直性を測定する工程と、
を含むことを特徴とする請求項8記載のウェハ研削方法。 - 前記複数の接触点の高さを測定する工程において、前記ウェハチャックを自転させて、前記下方接触センサが前記ウェハチャックの周方向に異なる接触点の高さを測定することを特徴とする請求項8又は9記載のウェハ研削方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015016601A JP6518449B2 (ja) | 2015-01-30 | 2015-01-30 | ウェハ研削装置及びウェハ研削方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015016601A JP6518449B2 (ja) | 2015-01-30 | 2015-01-30 | ウェハ研削装置及びウェハ研削方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019038067A Division JP6793767B2 (ja) | 2019-03-01 | 2019-03-01 | ウェハ研削装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016140922A JP2016140922A (ja) | 2016-08-08 |
JP6518449B2 true JP6518449B2 (ja) | 2019-05-22 |
Family
ID=56568165
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015016601A Active JP6518449B2 (ja) | 2015-01-30 | 2015-01-30 | ウェハ研削装置及びウェハ研削方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6518449B2 (ja) |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59192457A (ja) * | 1983-04-16 | 1984-10-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 位置決め装置 |
JPS62107935A (ja) * | 1985-11-05 | 1987-05-19 | Hitachi Seiko Ltd | 平面研削盤の自動補正機構 |
JPS6338967U (ja) * | 1986-08-28 | 1988-03-12 | ||
JP2928206B2 (ja) * | 1997-10-21 | 1999-08-03 | 山形日本電気株式会社 | 半導体装置の製造装置および製造方法 |
JP3401705B2 (ja) * | 1998-01-06 | 2003-04-28 | 株式会社東京精密 | 平面研削装置 |
JP2012135853A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-19 | Disco Corp | 研削装置 |
JP5815422B2 (ja) * | 2012-01-13 | 2015-11-17 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
-
2015
- 2015-01-30 JP JP2015016601A patent/JP6518449B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016140922A (ja) | 2016-08-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102221749B1 (ko) | 연삭 지석의 드레싱 방법 | |
TWI741159B (zh) | 平面研削方法以及平面研削裝置 | |
JP6523991B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR20150042708A (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
TWI712082B (zh) | 晶圓研削方法 | |
TW202007479A (zh) | 研削裝置的原點位置設定機構以及原點位置設定方法 | |
TW202330186A (zh) | 磨削裝置 | |
JP6109010B2 (ja) | 研削装置 | |
JP2019115975A (ja) | ウェハ研削装置 | |
KR20160033041A (ko) | 피가공물의 연삭 방법 | |
JP6424081B2 (ja) | 研削方法 | |
JP6518449B2 (ja) | ウェハ研削装置及びウェハ研削方法 | |
JP7128070B2 (ja) | 研削装置 | |
JP6075995B2 (ja) | 研削砥石消耗量検出方法 | |
KR101943213B1 (ko) | 웨이퍼 마운팅 장치 | |
JP7252837B2 (ja) | 研削装置 | |
KR20210073452A (ko) | 연삭 장치 | |
JP4326974B2 (ja) | ウェーハの研削装置及び研削方法 | |
JP5939935B2 (ja) | 研削装置 | |
JP2020049593A (ja) | 研削方法 | |
JP6487790B2 (ja) | 加工装置 | |
KR101906719B1 (ko) | 디스크 랩핑장치 | |
CN112775834B (zh) | 缓进给磨削方法和磨削装置 | |
JP6057853B2 (ja) | 切削装置 | |
JP6788416B2 (ja) | 研削装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170704 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180725 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180828 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181026 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20181204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190301 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20190311 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190402 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190422 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6518449 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |