JP6507727B2 - 機能性インク、吐出検査方法および成膜方法 - Google Patents

Description

本発明は、機能性インク、吐出検査方法および成膜方法に関する。

成膜材料を溶媒に溶解してなる機能性インクを液滴吐出法を用いて基材上に供給（塗布）し、その基材上の機能性インクから溶媒を除去（乾燥）することにより成膜を行う方法が実用に供されている。

このような方法に用いる液滴吐出ヘッドは、一般に、ノズル開口を複数備えており、個々のノズル開口から機能性インクを液滴として吐出する。このため、機能性インクはノズル開口で大気に晒されており、メニスカス（ノズル開口で露出している液体の自由表面）を通じて機能性インクの溶媒成分が蒸発する。この溶媒成分の蒸発は、機能性インクの他の成分の濃度上昇を招き、液滴の飛行曲がり等を引き起こしたり、ノズル開口の目詰まりを生じさせたりする。また、ノズル開口が目詰まり状態になってしまうと、そのノズル開口からは液滴が吐出されないので、成膜に際し、所望の特性が得られないおそれがある。

そこで、所望の性能を得るためにドット抜けの有無を検出することが行われている。例えば、特許文献１に開示されているように、受容層を備える透明な基板の受容層側に液滴を塗布し、基板に対して一方の面側から光を照射し、他方の面側から光分光を測定することにより塗布領域（受容層に液滴が浸透・定着した定着領域）を観察して、液滴の着弾径や着弾位置を検出することで、機能性インクの吐出状態・インク量等を求めることが行われている。

しかしながら、例えば、この検査に用いる機能性インクを、有機エレクトロルミネッセンス素子の形成に用いられる正孔注入層を成膜するための正孔注入層用機能性インクに適用すると、この正孔注入層用機能性インクが特に濡れ広がりに優れたものであるため、受容層の塗布領域に液滴（機能性インク）が着弾すると、この領域で受容層に液滴が浸透するとともに、受容層の上面を液滴が濡れ広がってしまう。このように、液滴の濡れ広がりを伴って液滴が受容層に浸透するため、液滴が着弾した塗布領域と、受容層に液滴が浸透・定着した定着領域とが等しくならず、定着領域の方が、塗布領域よりも大きくなるという現象が生じ、その結果、液滴の着弾径や着弾位置を正確に検出することができないという問題があった。特に、近年、ディスプレイの高精細化が進むにつれ、かかる液相プロセスに用いる液滴吐出ヘッドのノズルも高精細化されるため、１回で吐出される液滴の吐出量が極めて少ないため、より優れた測定精度が求められる。

特開２０１２−１８７４９７号公報

本発明の目的は、機能性インクが高濃度に着色されておらず吐出対象物に対する濡れ拡がり性が高いものであったとしても、液滴吐出ヘッドの検査（吐出検査）を高精度に行うことができる機能性インク、吐出検査方法を提供すること、また、かかる機能性インクを用いた成膜方法を提供することにある。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］
本発明の機能性インクは、高分子材料を含む成膜材料と、
前記成膜材料が溶解または分散される液性媒体とを有し、
前記高分子材料は、その平均分子量が６００００以上７００００以下であり、
前記液性媒体は、貧溶媒と良溶媒とを含み、前記液性媒体における前記貧溶媒の容積比が２０ｖｏｌ％以上３０ｖｏｌ％以下であることを特徴する。

かかる構成の成膜インクとすることで、機能性インクは、吐出対象物に対する濡れ拡がり性が高いものとなるが、たとえ機能性インクが高濃度に着色されていないものであったとしても、液滴吐出ヘッドの検査（吐出検査）を高精度に行うことができる。

［適用例２］
本発明の機能性インクでは、前記貧溶媒と前記良溶媒とは、その沸点の差が３０℃以下であることが好ましい。

これにより、吐出対象物に形成された液状被膜を、乾燥させる際に、貧溶媒と良溶媒とを共沸させることができ、何れか一方が優先的に揮発するのを防止しつつ、膜を形成することができるため、均一な膜厚の膜を形成することができる。

［適用例３］
本発明の機能性インクでは、前記貧溶媒は、その沸点が１５０℃以上３００℃以下であることが好ましい。

これにより、大気圧（常圧）下において、不本意に機能性インクが乾燥するのを的確に抑制することができるため、成膜方法において、機能性インクからなる液滴の着弾後における機能性インクの吐出対象物上での濡れ広がりが円滑に行われるとともに、機能性インクの保存安定性の向上が図られる。

［適用例４］
本発明の機能性インクでは、前記良溶媒は、その沸点が２５０℃以上３００℃以下であることが好ましい。

これにより、大気圧（常圧）下において、不本意に機能性インクが乾燥するのを的確に抑制することができるため、成膜方法において、機能性インクからなる液滴の着弾後における機能性インクの吐出対象物上での濡れ広がりが円滑に行われるとともに、機能性インクの保存安定性の向上が図られる。

［適用例５］
本発明の機能性インクでは、前記高分子材料を含む成膜材料は、有機エレクトロルミネッセンス素子に含まれる正孔注入層を構成する材料であり、
当該機能性インクは、前記正孔注入層を成膜するために用いられることが好ましい。

このような機能性インクを、本発明の成膜方法に適用することで、正孔注入層を均質で均一な膜厚を有する膜として形成すること、すなわち、正孔注入層を高精度に形成することができる。

［適用例６］
本発明の吐出検査方法は、本発明の機能性インクを液滴吐出ヘッドを用いて液滴として吐出して記録媒体上に塗布して定着させる工程と、
前記記録媒体に光を照射し、前記記録媒体に前記機能性インクが定着した定着領域と、前記機能性インクが定着していない非定着領域とにおける前記光の反射率および透過率のうちの少なくとも一方の差を測定する工程と、を有し、
前記測定の結果に基づいて、前記液滴吐出ヘッドの検査を行うことを特徴とする。
これにより、液滴吐出ヘッドの検査（吐出検査）を高精度に行うことができる。

［適用例７］
本発明の成膜方法は、本発明の機能性インクを基材上に塗布して、液状被膜を形成する工程と、
前記液状被膜を加熱して乾燥させることで、膜を成膜する工程と、を有することを特徴とする。

かかる構成の成膜方法によれば、基材上に、均一な膜厚で成膜された膜を優れた成膜精度で形成することができる。

（ａ）は、本発明の実施形態に係る吐出検査装置を備える液滴吐出装置の概略構成を示す斜視図、（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの配置を示す模式的な平面図、（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの要部の概略構成を示す断面図である。 図１に示す液滴吐出装置が備える吐出検査装置の概略構成を模式的に示す図である。 図１に示す液滴吐出装置の制御系を示すブロック図である。 図２に示す吐出検査装置を用いた吐出検査方法（本発明の吐出検査方法の一例）を説明する図である。 図４に示す吐出検査方法におけるテストパターンの一例を示す平面図である。 図１に示す液滴吐出装置を用いた成膜方法を説明する図である。 発光装置の一例である表示装置を示す断面図である。 図７に示す表示装置が備える発光素子の断面図である。 電子機器の一例であるモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。 電子機器の一例である携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。 電子機器の一例であるディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。 正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の平均分子量と、定着領域２９Ａの平均面積との関係を示すグラフである。 正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の平均分子量と、定着領域２９Ａのエッジ未検出率との関係を示すグラフである。 正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の平均分子量と、定着領域２９Ａの面積ばらつき率との関係を示すグラフである。 貧溶媒の容積比と、定着領域２９Ａの平均面積との関係を示すグラフである。 貧溶媒の容積比と、定着領域２９Ａのエッジ未検出率との関係を示すグラフである。 貧溶媒の容積比と、定着領域２９Ａの面積ばらつき率との関係を示すグラフである。 機能性インクの蒸気圧と、定着領域２９Ａの面積ばらつき率との関係を示すグラフである。 機能性インクの蒸気圧と、定着領域２９Ａのエッジ未検出率との関係を示すグラフである。 機能性インクの蒸気圧と、定着領域２９Ａの平均面積との関係を示すグラフである。 機能性インクの蒸気圧と、定着領域２９Ａの平均半径との関係を示すグラフである。

以下、本発明の機能性インク、吐出検査方法および成膜方法について、図面に示す好適な実施形態に基づいて説明する。なお、各図では、説明の便宜上、各部の縮尺が適宜変更されており、図示の構成は実際の縮尺と必ずしも一致するわけではない。

まず、以下では、本発明の機能性インクおよび吐出検査方法の説明を行うのに先立って、吐出検査装置を備える液滴吐出装置の一例の全体構成について説明する。

（液滴吐出装置）
図１（ａ）は、本発明の実施形態に係る吐出検査装置を備える液滴吐出装置の概略構成を示す斜視図、図１（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの配置を示す模式的な平面図、図１（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの要部の概略構成を示す断面図である。なお、図１には、説明の便宜上、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸が図示されている。また、Ｘ軸に平行な方向を「Ｘ軸方向」、Ｙ軸に平行な方向を「Ｙ軸方向」、Ｚ軸に平行な方向を「Ｚ軸方向」という。また、図１では、Ｚ軸が鉛直方向に沿っており、＋Ｚ軸方向側（Ｚ軸を示す矢印の先端側）を「上」、−Ｚ軸方向側（Ｚ軸を示す矢印の基端側）を「下」という。

図１に示す液滴吐出装置６は、インクジェット装置である。この液滴吐出装置６は、基台７と、１対の案内レール８と、ステージ９と、主走査位置検出装置１０と、支持台１２と、案内部材１３と、収納タンク１４と、案内レール１５と、キャリッジ１６と、副走査位置検出装置１７と、ヘッドユニット１８と、吐出検査装置１９と、を備えている。

基台７は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に沿った上面７ａを有する直方体形状をなしている。そして、基台７の上面７ａには、Ｙ軸方向に沿って延びている１対の案内レール８が設置されている。

この１対の案内レール８には、図示しない直動機構を介して、ステージ９が取り付けられている。これにより、ステージ９を１対の案内レール８に沿って移動させることで、後述する液滴吐出ヘッド２２をステージ９に対して主走査方向（本実施形態ではＹ軸方向）に相対的に移動させることができる。本実施形態では、かかる直動機構として、例えば、リニアモーターが用いられており、ステージ９がＹ軸方向に沿って所定の速度で往動と復動とを繰り返すようになっている。なお、かかる直動機構は、リニアモーターに限定されず、例えば、ネジ式直動機構等であってもよい。

また、基台７の上面７ａには、主走査位置検出装置１０が設けられている。この主走査位置検出装置１０により、基台７に対するステージ９のＹ軸方向での位置（すなわち主走査方向での位置）が検出される。

ステージ９の上面には、記録媒体２が載置される載置面１１が形成されている。この載置面１１には、図示しない吸引式のチャック機構が設けられている。このチャック機構により、載置面１１上の記録媒体２が載置面１１に対して吸着・固定される。

また、Ｘ軸方向における基台７の両端部には、上側に延びている１対の支持台１２が設けられている。この１対の支持台１２には、Ｘ軸方向に沿って延びている案内部材１３が架設されている。この案内部材１３の上側には、機能性インク（成膜用インク）２６が収納されている収納タンク１４が設置されている。

一方、案内部材１３の下側には、Ｘ軸方向に沿って延びている案内レール１５が設置されている。この案内レール１５には、図示しない直動機構を介して、キャリッジ１６が取り付けられている。これにより、キャリッジ１６を案内レール１５に沿って移動させることで、後述する液滴吐出ヘッド２２をステージ９に対して副走査方向（本実施形態ではＸ軸方向）に相対的に移動させることができる。本実施形態では、かかる直動機構として、例えば、リニアモーターが用いられており、任意のタイミング（例えば、前述した主走査の往動と復動との切り換え時）にキャリッジ１６がＸ軸方向に沿って移動するようになっている。なお、かかる直動機構は、リニアモーターに限定されず、例えば、ネジ式直動機構等であってもよい。

また、案内部材１３のキャリッジ１６側には、副走査位置検出装置１７が設けられている。この副走査位置検出装置１７により、案内部材１３に対するキャリッジ１６のＸ軸方向での位置（すなわち副走査方向での位置）が検出される。

キャリッジ１６には、ヘッドユニット１８が設置されている。ヘッドユニット１８には、図１（ｂ）に示すように、複数（本実施形態では６つ）の液滴吐出ヘッド２２が設けられている。各液滴吐出ヘッド２２は、ノズルプレート２３を備え、このノズルプレート２３には、複数の吐出ノズル２４が形成されている。なお、液滴吐出ヘッド２２および吐出ノズル２４の数および配置等は、図示のものに限定されない。

より具体的に説明すると、各液滴吐出ヘッド２２は、ノズルプレート２３と、キャビティ２５と、振動板２７と、圧電素子２８と、を有している。

ノズルプレート２３には、Ｘ軸方向に並んでいる複数の吐出ノズル２４が形成されている。このノズルプレート２３に対して上側には、各吐出ノズル２４に対応して、吐出ノズル２４に連通しているキャビティ２５（圧力室）が設けられている。このキャビティ２５は、図示しない流路を介して、前述した収納タンク１４に連通されており、収納タンク１４からの機能性インク２６が供給される。

また、キャビティ２５の上側には、振動板２７が配置されている。この振動板２７は、キャビティ２５の内壁面の一部を構成している。この振動板２７のキャビティ２５とは反対側の面には、圧電素子２８が配置されている。この圧電素子２８は、素子駆動信号を受けると、上下方向（Ｚ軸方向）に伸張または収縮して振動板２７を上下方向（Ｚ軸方向）に振動させる。これにより、キャビティ２５内の容積の縮小を伴ってキャビティ２５内が加圧される。その結果、そのキャビティ２５内の容積の縮小分に対応した量の機能性インク２６が吐出ノズル２４から液滴２９として吐出される。吐出された液滴２９は、記録媒体２上に着弾する。

吐出検査装置１９は、記録媒体２上の液滴２９の着弾位置や着弾面積等の物理量を着弾情報として測定し、その測定結果に基づいて、液滴吐出ヘッド２２の検査を行う。

［吐出検査装置］
以下、吐出検査装置１９の構成について説明する。

図２は、図１に示す液滴吐出装置が備える吐出検査装置の概略構成を模式的に示す図である。

図２に示す吐出検査装置１９は、機能性インク２６を記録媒体２上に液滴２９として吐出する液滴吐出ヘッド２２の検査を行う。図２に示すように、この吐出検査装置１９は、記録媒体２に照射される光を出射する光出射部１９１（光源）と、記録媒体２からの光を測定する測定部１９２、１９３（撮像部）と、光出射部１９１および測定部１９２と記録媒体２との間に配置された光学系１９５と、を有している。

本実施形態では、光出射部１９１および測定部１９２は、前述したキャリッジ１６に取り付けられ、一方、測定部１９３は、前述したステージ９に埋設されている（図１（ａ）参照）。また、図示しないが、光学系１９５もキャリッジ１６に取り付けられている。なお、光出射部１９１、測定部１９２、１９３および光学系１９５は、液滴吐出装置６に組み込まれていなくてもよく、例えば、光出射部１９１、測定部１９２、１９３および光学系１９５を液滴吐出装置６とは別体としてユニット化してもよい。

光出射部１９１は、記録媒体２に対して光を出射（照射）する。光出射部１９１から出射される光は、単一波長または複合波長であってもよいし、さらに所定の波長域で幅を有しているブロードなものであってもよい。

また、光出射部１９１としては、特に限定されないが、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）光源、レーザー光源、ハロゲン光源等を用いることができる。

本実施形態では、光出射部１９１は、リング型をなしている。そして、光学系１９５は、光出射部１９１からの光を記録媒体２の所定領域（後述するテストパターンが形成される領域）に集光する機能を有する集光レンズである。また、光学系１９５は、記録媒体２からの光を透過する機能を有する。なお、光出射部１９１の形状は、これに限定されず、任意であり、また、光学系１９５は、光出射部１９１や測定部１９２の構成等に応じて適宜設計されるものであり、光出射部１９１および測定部１９２の構成等によっては、省略してもよいし、集光レンズ以外の各種光学素子、例えば、光学フィルターを有していてもよい。

測定部１９２、１９３は、それぞれ、光出射部１９１から記録媒体２に出射された光の記録媒体２からの反射光および透過光を測定する。より具体的には、測定部１９２は、記録媒体２に対して光出射部１９１と同じ側に配置されている。そして、測定部１９２は、リング状の光出射部１９１の内側を通じて、光出射部１９１から記録媒体２に出射された光の記録媒体２からの反射光を測定する（図２（ａ）参照。）。また、測定部１９２は、光出射部１９１に対して記録媒体２とは反対側に配置されている。そして、測定部１９３は、記録媒体２に対して光出射部１９１とは反対側に配置されている。そして、測定部１９３は、光出射部１９１から記録媒体２に出射された光の記録媒体２からの透過光を測定する（図２（ｂ）参照。）。

また、測定部１９２、１９３としては、それぞれ、指標材料の発光を測定することができれば、特に限定されないが、例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）、ＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）等の撮像素子を用いることができる。このような撮像素子を測定部１９２、１９３として用いることにより、記録媒体２上で指標材料の発光が起きている領域とそうでない領域とを認識し、その結果、記録媒体２上の機能性インクの塗布領域を認識することができる。

記録媒体２からの反射光または透過光を測定する際には、機能性インク２６や記録媒体２の種類等に応じて、測定部１９２、１９３のうちのいずれか一方を適宜選択して測定すればよい。すなわち、測定部１９２、１９３のうちの少なくとも一方を用いるようにすればよい。したがって、本実施形態では、吐出検査装置１９が２つの測定部１９２、１９３を備える場合を例に説明したが、機能性インク２６や記録媒体２の種類等によっては、測定部１９２、１９３のうちのいずれか一方を省略してもよい。

ここで、機能性インク２６が記録媒体２に着弾して浸透することで定着した記録媒体２の定着領域と、この定着領域を除く非定着領域とでは、機能性インクの存在の有無に起因して、反射光および透過光の反射率および透過率がそれぞれ異なってくる。したがって、以上説明したような吐出検査装置１９によれば、光出射部１９１から記録媒体２に出射された光の記録媒体２からの反射光および透過光のうちの少なくとも一方を測定し、その測定結果に基づいて、定着領域と非定着領域との状態、すなわち、機能性インクの塗布状態を認識することができる。そのため、記録媒体２からの反射光および透過光に基づいて、液滴吐出ヘッド２２の検査（吐出検査）を実施することができる。

以上、吐出検査装置１９の構成を説明したが、吐出検査装置１９を用いた吐出検査方法については、後に詳述する。

［液滴吐出装置の制御系］
次に、吐出検査装置１９を含む液滴吐出装置６の制御系について説明する。

図３は、図１に示す液滴吐出装置の制御系を示すブロック図である。
図３に示すように、液滴吐出装置６は、液滴吐出装置６の各部の動作を制御する制御装置４１（制御部）を備えている。この制御装置４１は、各種の演算処理を行うＣＰＵ（中央演算処理装置）４２と、各種情報を記憶するメモリー４３（記憶部）と、を備えている。

ここで、ＣＰＵ４２には、入出力インターフェイス４６およびデータバス４７を介して、前述した主走査位置検出装置１０、副走査位置検出装置１７および吐出検査装置１９がそれぞれ接続されている。また、上記以外にも、ＣＰＵ４２には、入出力インターフェイス４６およびデータバス４７を介して、主走査駆動装置４４、副走査駆動装置４５、ヘッド駆動回路４８、入力装置４９および表示装置５０がそれぞれ接続されている。

主走査駆動装置４４は、前述したステージ９の主走査方向での移動を行うための駆動源であり、副走査駆動装置４５は、前述したキャリッジ１６の副走査方向での移動を行うための駆動源である。また、ヘッド駆動回路４８は、前述した液滴吐出ヘッド２２を駆動するものである。

入力装置４９は、液滴吐出装置６の各種動作条件が入力される装置であり、例えば、図示しない外部装置から、記録媒体２に液滴２９を吐出する座標情報が入力される。また、表示装置５０は、液滴吐出装置６の加工条件や作業状況等の各種情報を表示する装置である。操作者は、表示装置５０に表示される情報に基づいて、入力装置４９を用いて操作を行うことができる。

メモリー４３は、例えば、ＲＡＭ、ＲＯＭ等といった半導体メモリー、または、ハードディスク、ＤＶＤ−ＲＯＭといった外部記憶装置等を有して構成されている。このメモリー４３には、ＣＰＵ４２の動作に必要な各種情報が記憶されている。

具体的に説明すると、メモリー４３には、液滴吐出装置６における動作の制御手順が記述されたプログラムソフト５１を記憶する記憶領域が設定される。また、メモリー４３には、記録媒体２上に吐出する吐出位置の座標データである吐出位置データ５２を記憶するための記憶領域も設定される。

他にも、メモリー４３には、液滴吐出ヘッド２２を駆動するときの駆動波形と吐出量の関係を示すデータである駆動電圧データ５３や、液滴吐出ヘッド２２を駆動する駆動波形データ５４等の吐出条件を複数記憶するための記憶領域が設定される。また、メモリー４３には、吐出する各場所における駆動電圧のデータである吐出計画データ５５を記憶するための記憶領域が設定される。さらに、メモリー４３には、ＣＰＵ４２のためのワークエリアやテンポラリーファイル等として機能する記憶領域やその他各種類の記憶領域が設定される。

ＣＰＵ４２は、メモリー４３に記憶されたプログラムソフト５１に従って、液滴吐出装置６の各部の制御を行う。このＣＰＵ４２は、描画制御部５６と、吐出検査制御部１９０と、着弾特性補正制御部６０と、吐出条件設定部６１と、吐出計画設定部６２と、を有している。

描画制御部５６は、液滴吐出ヘッド２２から液滴２９を吐出して描画するための制御を行う。この描画制御部５６は、主走査駆動装置４４を駆動制御する主走査制御部５７と、副走査駆動装置４５を駆動制御する副走査制御部５８と、ヘッド駆動回路４８を駆動制御する吐出制御部５９と、を有している。主走査制御部５７は、ステージ９を主走査方向へ所定の速度で移動させるための制御を行う。副走査制御部５８は、液滴吐出ヘッド２２を副走査方向へ所定の副走査量で移動させるための制御を行う。吐出制御部５９は、液滴吐出ヘッド２２が有する複数のノズルのそれぞれの吐出量や吐出の有無の制御を行う。

吐出検査制御部１９０は、吐出検査装置１９による液滴吐出ヘッド２２の吐出検査を実行するための制御を行う。この吐出検査制御部１９０は、光出射部１９１の制御を行う光源制御部１９６と、測定部１９２、１９３の制御を行う受光制御部１９７と、を有している。

着弾特性補正制御部６０は、吐出検査装置１９の検査結果（テストパターンの着弾位置や着弾面積等の着弾情報）と、予め設定された適正な着弾情報とずれ量に基づいて、補正値を取得し、描画制御部５６にフィードバックして、液滴吐出ヘッド２２が吐出する液滴２９の記録媒体２への着弾位置を補正する。吐出条件設定部６１は、塗布領域に吐出する機能性インク２６の量と吐出特性とに基づいて、吐出ノズル２４から吐出する液滴２９の吐出量と吐出回数を設定する。吐出計画設定部６２は、液滴２９を吐出する各場所における圧電素子２８の駆動波形を設定する。

［吐出検査方法］
次に、前述した吐出検査装置１９を用いた吐出検査方法（本発明の吐出検査方法）について説明する。

ここで、機能性インクとして、成膜材料の濃度が極めて薄く、しかも、ほとんど着色されていないものを用いると、塗布された機能性インクを単に観察しても、その塗布状態（特に塗布領域と非塗布領域との境界部）を測定（認識）することが難しい。その上、近年、ディスプレイの高精細化が進むにつれ、かかる液相プロセスに用いる液滴吐出ヘッドのノズルも高精細化されるため、１回で吐出される液滴の吐出量が極めて少なく、塗布状態を測定することがますます難しくなる。

このような機能性インクを用いたとしても、吐出検査装置１９を用いた吐出検査方法によれば、その塗布状態（特に塗布領域と非塗布領域との境界部）を測定（認識）することが可能となる。

図４は、図２に示す吐出検査装置を用いた吐出検査方法（本発明の吐出検査方法の一例）を説明する図である。また、図５は、図４に示す吐出検査方法におけるテストパターンの一例を示す平面図である。

吐出検査装置１９を用いた吐出検査方法は、［Ａ］機能性インクを液滴吐出ヘッド２２を用いて液滴２９として吐出して記録媒体２上に塗布（供給）して定着させる工程と、［Ｂ］記録媒体２に光を照射し、記録媒体２に液滴２９が定着した定着領域２９Ａと、液滴が定着していない非定着領域２９Ｂとにおける光の反射率および透過率のうちの少なくとも一方の差を測定する工程と、を有し、工程［Ｂ］における測定の結果に基づいて、液滴吐出ヘッド２２の検査を行う。

以下、吐出検査方法の各工程を順次詳細に説明する。
［Ａ］
−Ａ１−
まず、図４（ａ）に示すように、記録媒体２を用意する。

記録媒体２は、吐出検査用の記録媒体である。この記録媒体２は、基材３２と、基材３２上に積層されたインク吸収層３３と、を有している。

基材３２（支持層）は、シート状をなしている、この基材３２の構成材料は、工程［Ｂ］の測定において、測定部１９２を用いるか、または、測定部１９３を用いるかによって、適宜選択することができる。なお、基材３２の構成材料に応じて、工程［Ｂ］において、測定部１９２を用いるか、または、測定部１９３を用いるかを選択して決定してもよい。

基材３２の具体的な構成材料としては、特に限定されないが、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂等の樹脂材料を用いることができる。

また、基材３２の厚さは、特に限定されないが、例えば、数μｍ〜数ｍｍ程度とされる。

インク吸収層３３（受容層）は、例えば、シリカ、アルミナ等の無機微粒子と、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）等の樹脂材料からなるバインダーとを含んで構成されている。このインク吸収層３３の厚さは、特に限定されないが、数μｍ〜数百μｍ程度とされる。

このようなインク吸収層３３が設けられていることにより、記録媒体２上に塗布された機能性インク（液滴２９）が、インク吸収層３３に浸透し、最終的には定着することとなり、その結果、インク吸収層３３（記録媒体２）に機能性インクが定着した定着領域２９Ａと、機能性インクが定着していない非定着領域２９Ｂとが形成される。

このような記録媒体２は、測定部１９２により記録媒体２からの反射光を測定する場合、光出射部１９１からの光に対して透過性を有していてもよいし、光出射部１９１からの光に対して透過性を有していなくてもよい。

−Ａ２−
次に、図４（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド２２から機能性インクの液滴２９を吐出し、記録媒体２のインク吸収層３３上に着弾させる。これにより、液滴（機能性インク）２９がインク吸収層３３に、浸透することで定着し、その結果、インク吸収層３３に、機能性インクからなる定着領域（ドット）２９Ａが形成されるとともに、機能性インクが定着しない非定着領域２９Ｂが形成される。

ここで、液滴２９は、液滴吐出ヘッド２２の各ノズルから吐出され、記録媒体２上には、行列状に配置された複数の定着領域（ドット）２９Ａからなるテストパターンが形成される（図５参照。）。

［Ｂ］
次に、図４（ｃ）に示すように、記録媒体２に対して、光出射部１９１から光を照射すると、この光が、記録媒体２により反射および透過されることで、記録媒体２からの反射光および透過光が発生する。この際、記録媒体２の定着領域２９Ａと非定着領域２９Ｂとでは、光出射部１９１における光の反射率および透過率が異なる。そのため、記録媒体２からの反射光および透過光の強度が、記録媒体２の定着領域２９Ａと非定着領域２９Ｂとで異なることとなる。より具体的には、図４（ｃ）に示すように、反射光は、記録媒体２の非定着領域２９Ｂよりも定着領域２９Ａにおいて、その強度が高くなり、透過光は、記録媒体２の定着領域２９Ａよりも非定着領域２９Ｂにおいて、その強度が高くなる。そして、この状態、すなわち、記録媒体２の定着領域２９Ａと非定着領域２９Ｂとにおける反射率（反射光の強度）および透過率（透過光の強度）のうちの少なくとも一方の差を測定する。なお、図４（ｃ）では、説明の便宜上、測定部１９３を用いて透過光を測定する場合を例に図示しているが、測定部１９２を用いて反射光を測定することもできる。

このような測定の結果に基づいて、液滴吐出ヘッド２２の検査（吐出検査）を行う。詳述すると、測定部１９２、１９３で測定された反射光および透過光のうちの少なくとも一方に関する情報（テストパターンの撮像データ）は、図示しない画像処理装置に送られる。この画像処理装置では、測定された発光状態に関する情報に基づいて、画像処理計算を行なうことにより、記録媒体２上の各定着領域２９Ａの径（着弾径）や位置（着弾位置）が算出され、その結果、液滴（機能性インク）２９の吐出状態・インク量等を求めることができる。このとき、反射光および透過光のうちの少なくとも一方の強度が所定の閾値以上であるか否かによって、定着領域２９Ａの外周縁（図５に示す定着領域２９Ａと非定着領域２９Ｂとの境界）が決定される。すなわち、前記強度が所定の閾値以上である領域を機能性インクが塗布された定着領域２９Ａ、一方、前記強度が閾値未満である領域を機能性インクが塗布されていない非定着領域２９Ｂと判断する。

なお、本実施形態では、撮像素子のような測定部１９２、１９３を用いて測定を行ったが、定着領域２９Ａの径や定着領域２９Ａ同士の間隔が比較的大きい場合には、肉眼によって定着領域２９Ａと非定着領域２９Ｂとの前記差を認識することができ、これによっても、液滴吐出ヘッド２２のノズル目詰まり等による定着領域抜けの有無の判定等の吐出検査を行うことができる。

また、吐出検査において、記録媒体２に着弾した機能性インク（定着領域２９Ａ）の着弾径（吐出量）や着弾位置等の着弾情報の算出値と、予め設定された所望の各適正値との比較を行い、これらの値の差（ずれ量）が許容範囲を超えた場合には、着弾特性補正制御部６０により、ずれ量に応じた補正値を取得し、その補正値を描画制御部５６にフィードバックして、液滴吐出ヘッド２２の吐出量や吐出位置等の吐出特性を補正することもできる。

以上説明したような吐出検査方法によれば、記録媒体２の定着領域２９Ａと非定着領域２９Ｂとにおける反射率および透過率のうちの少なくとも一方の差を測定し、その測定結果に基づいて、機能性インクの塗布状態を認識することができる。しかも、定着領域２９Ａの有無の検出（ノズル抜けの有無）にとどまらず、定着領域２９Ａの位置や面積（着弾位置や着弾面積）等の吐出情報を検出することができる。そのため、機能性インクが高濃度に着色されていなくても、液滴吐出ヘッド２２の検査（吐出検査）を行うことができる。

さて、以上のような吐出検査方法によれば、上述したような効果を得ることができるが、かかる吐出検査方法に用いる液滴２９（機能性インク２６）が、濡れ広がりに優れたものであると、インク吸収層３３の塗布（供給）領域に液滴２９が着弾すると、この領域でインク吸収層３３に液滴が浸透するとともに、インク吸収層３３の上面を液滴２９が濡れ広がってしまう。このように、液滴２９の濡れ広がりを伴って液滴２９がインク吸収層３３に浸透するため、液滴２９が着弾した塗布領域と、インク吸収層３３に液滴２９が浸透・定着した定着領域２９Ａとが等しい領域とはならず、定着領域２９Ａの方が、塗布領域よりも大きくなるという現象が生じ、その結果、液滴２９の着弾径や着弾位置の検出精度が低下するという問題があった。

これに対して、本発明の機能性インクは、高分子材料を含む成膜材料と、成膜材料が溶解または分散される液性媒体とを有するものであり、高分子材料は、その平均分子量が６００００以上７００００以下であり、液性媒体は、貧溶媒と良溶媒とを含み、液性媒体における貧溶媒の容積比が２０ｖｏｌ％以上３０ｖｏｌ％以下であることを特徴する。

このように、液性媒体を、貧溶媒と良溶媒とを含み、液性媒体における貧溶媒の容積比が２０ｖｏｌ％以上３０ｖｏｌ％以下であるものとすることで、機能性インクは、インク吸収層３３の上面に対する濡れ広がり率が高いものとなる。しかしながら、このような濡れ広がり率を有していたとしても、成膜材料に含まれる高分子材料の平均分子量が６００００以上７００００以下に設定されているため、機能性インクからなる液滴２９のインク吸収層３３への着弾後、速やかに、液滴２９をインク吸収層３３に浸透させることができるため、液滴２９がインク吸収層３３上を濡れ広がるのを的確に抑制または防止することができる。したがって、液滴２９がインク吸収層３３を浸透・定着して形成される定着領域２９Ａと液滴２９が着弾した塗布領域とをほぼ一致させることができるため、液滴２９の着弾径や着弾位置を優れた検出精度で検出することができる。

以下、かかる構成の機能性インク（本発明の機能性インク）について詳述するが、特に、濡れ広がり率が高い、有機エレクトロルミネッセンス素子の形成に用いられる正孔注入層を成膜するための正孔注入層用機能性インクに適用した場合を一例に説明する。

（機能性インク）
本実施形態の機能性インクは、有機エレクトロルミネッセンス素子に含まれる正孔注入層を形成するためのインク（正孔注入層用機能性インク）であり、正孔注入性を有する高分子材料を含む成膜材料と、成膜材料が溶解または分散される液性媒体とを有する。以下、これらの各成分を詳細に説明する。

（成膜材料）
機能性インク（正孔注入層用機能性インク）に含まれる成膜材料は、正孔注入性を有する高分子材料を含み、このような成膜材料を含むことで、この正孔注入層用機能性インクを用いて形成される正孔注入層に、有機エレクトロルミネッセンス素子が備える陽極からの正孔注入効率を向上させる機能を発揮させる。

この正孔注入性を有する高分子材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリ（２，７−（９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン）−（１，４−フェニレン−（（４−sec−ブチルフェニル）イミノ）−１，４−フェニレン（ＴＦＢ）等のポリアリールアミンのようなアリールアミン骨格を有するもの、フルオレン−ビチオフェン共重合体のようなフルオレン骨格を有するもの、フルオレン−アリールアミン共重合体のようなアリールアミン骨格およびフルオレン骨格の双方を有するもの、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体等が挙げられる。

このような正孔注入性を有する高分子材料は、本発明では、その平均分子量が６００００以上７００００以下に設定される。このように、高分子材料の平均分子量が７００００以下となっていることで、インク吸収層３３に着弾した液滴２９を、インク吸収層３３の上面で濡れ広がることなく、インク吸収層３３に円滑に浸透させることができる。そのため、液滴２９がインク吸収層３３を浸透・定着して形成される定着領域２９Ａと液滴２９が着弾した塗布領域とをほぼ一致させることができる。さらに、高分子材料の平均分子量が６００００以上となっていることで、機能性インクに含まれる高分子材料の含有量（含有数）が不必要に増大するのを防止することができるため、例えば、高分子材料の末端に不純物が連結することに起因する、高分子材料の正孔注入能および正孔輸送能の低下を的確に抑制または防止することができる。

なお、正孔注入層用機能性インクに含まれる成膜材料は、このような高分子材料の他に、4,4,N,N’− Dipheylcarbazole、N,N'− Bis（3− methylphenyl）− N,N’− bis（phenyl）benzidine等の低分子材料を含有するものであっても良い。

機能性インク中における成膜材料の含有率は、特に限定されないが、例えば、０．０１〜１０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜５ｗｔ％であるのがより好ましく、０．１〜３ｗｔ％であるのがさらに好ましい。これにより、成膜用の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）からの吐出性（吐出安定性）を特に優れたものとすることができる。また、塗布対象物に対する機能性インクの濡れ性を優れたものとし、その結果、機能性インクの成膜性を優れたものとすることができる。

（液性媒体）
機能性インクに含まれる液性媒体は、前述した成膜材料を溶解または分散させるもの、すなわち、溶媒または分散媒である。

この液性媒体は、後述する成膜方法において、塗布対象物に対して機能性インクに優れた濡れ性を付与するために含まれるものであり、塗布対象物に対する塗布（供給）の後、その大部分が除去されるものである。

このような液性媒体は、本発明では、貧溶媒と良溶媒とを含み、液性媒体における貧溶媒の容積比が２０ｖｏｌ％以上３０ｖｏｌ％以下となっている。貧溶媒の容積比が３０ｗｔ超となると、インク吸収層３３の内部より周囲への濡れ広がりの方が支配的となり、すなわち、機能性インクの濡れ広がり率が極端に優れたものとなり、面積の増加・透過率変化の減少が発生し、定着領域２９Ａが、液滴２９が着弾した塗布領域よりも大きくなる。さらに、貧溶媒の容積比が２０ｗｔ未満となると、塗布対象物に対する機能性インクの濡れ性が低下し、その結果、機能性インクから得られる正孔注入層の成膜性が低下するため、かかる正孔注入層を備える有機エレクトロルミネッセンス素子の。素子特性が低減する。

なお、良溶媒は、高分子材料の溶解度が０．１ｇ／Ｌ以上であることが好ましく、１０ｇ／Ｌ以上であることがより好ましく、２０ｇ／Ｌ以上であることがさらに好ましい。また、貧溶媒は、高分子材料の溶解度が０．１ｇ／Ｌ未満であることが好ましく、０．０５ｇ／Ｌ以下であることがより好ましく、０．０１ｇ／Ｌ以下であることがさらに好ましい。かかる高分子材料の溶解度を有する良溶媒および貧溶媒を用いることで、液性媒体における貧溶媒の容積比と２０ｖｏｌ％以上３０ｖｏｌ％以下することにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。

このような良溶媒としては、成膜材料の種類等に応じて最適なものを選択して用いられ、特に限定されないが、例えば、３− フェノキシトルエン（沸点２７２℃）、２− イソプロピルナフタレン（沸点２６８℃）、ジベンジルエーテル（沸点２９８℃）、イソプロピルビフェニル（沸点２９１℃）等が挙げられ、これらのうち少なくとも１種を単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。

貧溶媒としては、成膜材料の種類等に応じて最適なものを選択して用いられ、特に限定されないが、例えば、ノナン（沸点１５０℃）、デカン（沸点１７４℃）、ウンデカン（沸点１９５℃）、ドデカン（沸点２１６℃）のような直鎖アルカン系溶媒、ヘキサノール（沸点１５７℃）、ヘプタノール（沸点１７７℃）、オクタノール（沸点１９４℃）、ノニルアルコール（沸点２１４℃）、デシルアルコール（沸点２３３℃）のような脂肪族アルコール系溶媒、ジペンチルエーテル（沸点１８６℃）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（沸点１６２℃）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（沸点１７６℃）、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル（沸点１７９℃）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（沸点１８８℃）、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル（沸点２１２℃）、ジエチレングリコールジブチルエーテル（沸点２５６℃）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル（沸点１７１℃）、ジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル（沸点２０３℃）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（沸点２１６℃）、トリエチレングリコールエチルメチルエーテル（沸点２２５℃）、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル（沸点２６１℃）、トリプロピレングリコールジメチルエーテル（沸点２１５℃）、テトラエチレングリコールジメチルエーテル（沸点２７５℃）のような脂肪族エーテル系溶媒、１，３− ジイソプロピルベンゼン（沸点２０４℃）、１，４− ジイソプロピルベンゼン（沸点２１０℃）、トリイソプロピルンベンゼン（沸点２３５℃）、ペンチルベンゼン（沸点２０５℃）、ヘキシルベンゼン（沸点２２６℃）、ヘプチルベンゼン（沸点２３５℃）、オクチルベンゼン（沸点２６４℃）、ノニルベンゼン（沸点２８２℃）のような芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられ、これらのうち少なくとも１種を単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。

また、貧溶媒は、その沸点が１５０℃以上３００℃以下であることが好ましく、２００℃以上２８０℃以下であることがより好ましい。

さらに良溶媒は、その沸点が２５０℃以上３００℃以下であることが好ましく、２６０℃以上２９０℃以下であることがより好ましい。

貧溶媒および良溶媒の沸点を前記範囲内に設定することにより、大気圧（常圧）下において、不本意に機能性インクが乾燥するのを的確に抑制することができるため、後述する成膜方法において、液滴２９の着弾後における機能性インク（液滴２９）の基材２０上での濡れ広がりが円滑に行われるとともに、機能性インクの保存安定性の向上が図られる。

前記貧溶媒と前記良溶媒とは、その沸点の差が３０℃以下であることが好ましく、２５℃以下であることがより好ましい。このような沸点の差を有することで、後述する成膜方法において、基材（吐出対象物）２０上に形成された液状被膜２９Ｃを、減圧乾燥もしくは加熱乾燥させる際に、貧溶媒と良溶媒とを共沸させることができ、何れか一方が優先的に揮発するのを防止しつつ、正孔注入層２０２を形成することができるため、均一な膜厚の正孔注入層２０２を形成することができる。

また、良溶媒および貧溶媒を含む液性媒体は、機能性インクに含まれる成膜材料（高分子材料）やその他の成分に対する攻撃性ができるだけ少ないものを用いるのが好ましい。

また、液性媒体は、成膜後に膜中に残留する可能性がある場合には、正孔注入層の特性をできるだけ阻害しないものを用いるのが好ましい。換言すれば、正孔注入特性をも考慮して液性媒体の各成分を選定するのが好ましい。

以上説明したような機能性インク（正孔注入層用機能性インク）は、液滴吐出装置を用いた液相プロセスによる成膜（本発明の成膜方法）に用いられる。

（成膜方法）
次に、前述した機能性インク（正孔注入層用機能性インク）を用いた成膜方法、すなわち、正孔注入層の製造方法について説明する。

図６は、図１に示す液滴吐出装置を用いた成膜方法を説明する図である。
本発明の機能性インクを用いた成膜方法、すなわち本発明の成膜方法は、［１］前述した機能性インクを基材上に液滴として塗布して、液状被膜２９Ｃを形成する工程（インク付与工程）と、［２］液状被膜を加熱して、乾燥させることにより正孔注入層を形成する工程（乾燥工程）と、を有する。

このような成膜方法によれば、機能性インクが前述したような構成をなし、この機能性インクを用いて、前述した吐出検査方法を適用して、液滴吐出装置６を正孔注入層（膜）の形成に適した条件に設定することができる。そのため、正孔注入層を均質で均一な膜厚を有する膜として形成すること、すなわち、正孔注入層を高精度に形成することができる。その結果、得られる発光素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）の特性を優れたものとすることができる。

以下、各工程を順次詳細に説明する。
［１］インク付与工程
１−１
まず、図６（ａ）に示すように、基材２０を用意する。

この基材２０は、成膜の目的とする膜が形成される対象物であり、図６では、説明の便宜上、簡易的に図示しているが、より具体的には、正孔注入層を形成するものであるため、基材２０は、基板の一方の面側に陽極を形成したものである。

１−２
次いで、図６（ｂ）に示すように、基材２０上に、前述した機能性インクを液滴吐出ヘッド２２から液滴２９として吐出・供給する。これにより、基材２０上に機能性インクからなる液状被膜２９Ｃが形成される。図６では、説明の便宜上、簡易的に図示しているが、より具体的には、正孔注入層を形成するものであるため、液状被膜２９Ｃは、基材２０の一方の面側に形成された陽極上に形成される。

この際、陽極は、通常、ＩＴＯのような金属酸化物で構成され、本発明の機能性インクは、前述の通り、液性媒体が、貧溶媒と良溶媒とを含み、液性媒体における貧溶媒の容積比が２０ｖｏｌ％以上３０ｖｏｌ％以下となっているものであるため、陽極上を機能性インクが円滑に濡れ広がることとなる。

なお、本工程［１］における雰囲気の温度および圧力は、それぞれ、機能性インクの組成や液性媒体の沸点および融点に応じて決められるものであり、基材２０上に機能性インクを付与することができれば、特に限定されないが、常温常圧であるのが好ましい。したがって、常温常圧下において、基材２０上に付与可能な機能性インクを用いるのが好ましい。これにより、工程［１］を簡単に行える。

［２］乾燥工程
次に、基材２０上に形成された液状被膜２９Ｃ（機能性インク）を加熱する。

これにより、液状被膜２９Ｃから液性媒体を除去して、液状被膜２９Ｃを乾燥させることで、図６（ｃ）に示すように、正孔注入性を有する高分子材料を含む成膜材料を主成分とする正孔注入層２０２が形成される。

この際、液滴吐出装置６は、前述した吐出検査方法を適用して、正孔注入層（膜）の形成に適した条件に設定されているため、液状被膜２９Ｃは、適切な位置で、かつ、適切な液滴２９の液滴数で形成される。したがって、この液状被膜２９Ｃを加熱・乾燥させて形成される正孔注入層（膜）２０２は、均質で均一な膜厚を有するものとして形成される。

乾燥工程［２］における雰囲気の温度および圧力は、それぞれ、機能性インクの組成や液性媒体の沸点および融点に応じて決められるものであり、基材２０上の液状被膜２９Ｃから液性媒体を除去することができれば、特に限定されないが、その加熱温度は、良溶媒および貧溶媒の双方の沸点よりも高いのが好ましく、良溶媒および貧溶媒の双方の沸点よりも５〜３０℃程度高いのがより好ましい。また、圧力は、減圧下であるのが好ましく、１０^０Ｐａ以上１０^−７Ｐａ以下程度であるのがより好ましい。

また、加熱・減圧の時間は、特に限定されないが、１分以上３０分以下程度に設定される。

さらに、液状被膜２９Ｃを加熱する方法は、特に限定されないが、ホットプレートや赤外線などで行うことができ、さらに、前述した液滴吐出装置６のステージ９が備えるラバーヒータにより行ってもよい。

以上のような工程を経ることで、基材２０に、均質で均一な膜厚を有する正孔注入層２０２が優れた成膜精度で形成される。

なお、本実施形態では、機能性インクとして、成膜材料が正孔注入性を有する高分子材料を含むものを用い、この機能性インクを用いた本発明の成膜方法により、正孔注入層を形成する場合について説明したが、かかる場合に限定されず、前記成膜材料を、正孔輸送性を有する高分子材料を含むものとすれば、本発明の成膜方法により、正孔輸送層を形成することもできる。すなわち、本発明の成膜方法を、正孔輸送層の成膜にも適用することができる。なお、この場合、正孔輸送性を有する高分子材料としては、以下に説明する発光装置が備える正孔輸送層２０３に含まれる高分子材料を用いることができる。

（表示装置）
次に、前述した成膜方法を用いて成膜された正孔注入層を備える発光装置の一例である表示装置について説明する。

図７は、発光装置の一例である表示装置を示す断面図である。なお、以下では、説明の都合上、図７中の上側を「上」、下側を「下」として説明を行う。

図７に示す表示装置３００は、複数の発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂがサブ画素３００Ｒ、３００Ｇ、３００Ｂに対応して設けられ、トップエミッション構造のディスプレイパネルを構成している。

なお、本実施形態では表示装置の駆動方式としてアクティブマトリックス方式を採用した例に説明するが、パッシブマトリックス方式を採用したものであってもよい。

表示装置３００は、基板３０１と、複数の発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂと、複数のスイッチング素子３０２とを有している。

基板３０１は、複数の発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂおよび複数のスイッチング素子３０２を支持するものである。本実施形態の各発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂは、基板３０１とは反対側から光を取り出す構成（トップエミッション型）である。したがって、基板３０１には、透明基板および不透明基板のいずれも用いることができる。なお、各発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂが基板３０１側から光を取り出す構成（ボトムエミッション型）とする場合には、基板３０１は、実質的に透明（無色透明、着色透明または半透明）とされる。

基板３０１の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料や、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

不透明基板としては、例えば、アルミナのようなセラミックス材料で構成された基板、ステンレス鋼のような金属基板の表面に酸化膜（絶縁膜）を形成したもの、樹脂材料で構成された基板等が挙げられる。

このような基板３０１上には、複数のスイッチング素子３０２がマトリクス状に配列されている。

各スイッチング素子３０２は、各発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂに対応して設けられ、各発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂを駆動するための駆動用トランジスタである。

このような各スイッチング素子３０２は、シリコンからなる半導体層３０２ａと、半導体層３０２ａ上に形成されたゲート絶縁層３０２ｂと、ゲート絶縁層３０２ｂ上に形成されたゲート電極３０２ｃと、ソース電極３０２ｄと、ドレイン電極３０２ｅとを有している。

このような複数のスイッチング素子３０２を覆うように、絶縁材料で構成された平坦化層３０３が形成されている。

平坦化層３０３上には、各スイッチング素子３０２に対応して発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂが設けられている。

発光素子２００Ｒは、平坦化層３０３上に、反射膜３０４、腐食防止膜３０５、陽極２０１、積層体（有機ＥＬ発光部）２０８（２０８Ｒ）、陰極２０７、陰極カバー３０６がこの順に積層されている。本実施形態では、各発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂの陽極２０１は、画素電極を構成し、各スイッチング素子３０２のドレイン電極３０２ｅに導電部（配線）３０７により電気的に接続されている。また、各発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂの陰極２０７は、共通電極とされている。

また、発光素子２００Ｇ、２００Ｂの構成は、それぞれ、発光素子２００Ｒと同様に構成することができる。ここで、発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂの積層体２０８Ｒ、２０８Ｇ、２０８Ｂ（特に発光層）を互いに異ならせることにより、異なる色を発光させることができる。例えば、発光素子２００Ｒは、赤色発光し、発光素子２００Ｇは、緑色発光し、発光素子２００Ｂは、青色発光する。

隣接する発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂ同士の間には、隔壁３０８が設けられている。また、陰極カバー３０６には、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂で構成された樹脂層３０９を介して、基板３１０が接合されている。

前述したように本実施形態の各発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂはトップエミッション型であるため、基板３１０には、透明基板が用いられる。

このような基板３１０の構成材料としては、基板３１０が光透過性を有するものであれば、特に限定されず、前述した基板３０１の構成材料と同様のものを用いることができる。

（発光素子）
ここで、図８に基づき、発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂを詳細に説明する。

図８は、図７に示す表示装置が備える発光素子の断面図である。
図８に示す発光素子（エレクトロルミネッセンス素子）２００は、前述した発光素子２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂを構成するものであり、前述したように２つの電極間（陽極２０１と陰極２０７との間）に積層体２０８が介挿されている。この積層体２０８は、図８に示すように、陽極２０１側から陰極２０７側へ、正孔注入層２０２と正孔輸送層２０３と発光層２０４と電子輸送層２０５と電子注入層２０６とがこの順に積層されている。

このような発光素子２００にあっては、発光層２０４に対し、陰極２０７側から電子が供給（注入）されるとともに、陽極２０１側から正孔が供給（注入）される。そして、各発光層２０４では、正孔と電子とが再結合し、この再結合に際して放出されたエネルギーによりエキシトン（励起子）が生成し、エキシトンが基底状態に戻る際にエネルギー（蛍光やりん光）を放出（発光）する。

この発光素子２００は、前述した成膜方法（本発明の成膜方法）を用いて正孔輸送層２０３または正孔注入層２０２が形成されている。これにより、優れた特性を有する発光素子２００および表示装置３００を提供することができる。なお、発光素子２００は、正孔注入層２０２および正孔輸送層２０３のうちのいずれか一方を省略してもよい。

以下、発光素子２００を構成する各部を順次説明する。
（陽極）
陽極２０１は、後述する正孔注入層２０２を介して正孔輸送層２０３に正孔を注入する電極である。この陽極２０１の構成材料としては、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料を用いるのが好ましい。

陽極２０１の構成材料としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、Ｉｎ_３Ｏ_３、ＳｎＯ_２、Ｓｂ含有ＳｎＯ_２、Ａｌ含有ＺｎＯ等の酸化物、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

（陰極）
一方、陰極２０７は、後述する電子注入層２０６を介して電子輸送層２０５に電子を注入する電極である。この陰極２０７の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましい。

陰極２０７の構成材料としては、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体等）用いることができる。

特に、陰極２０７の構成材料として合金を用いる場合には、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の安定な金属元素を含む合金、具体的には、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＣｕＬｉ等の合金を用いるのが好ましい。かかる合金を陰極２０７の構成材料として用いることにより、陰極２０７の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。

また、本実施形態の発光素子２００は、トップエミッション型であるため、陰極２０７は、光透過性を有する。

（正孔注入層）
正孔注入層２０２は、陽極２０１からの正孔注入効率を向上させる機能を有するものである。

この正孔注入層２０２は、前述した、本発明の機能性インクを用いた成膜方法を用いて形成されたものであり、その構成材料（正孔注入材料）としては、前述した、正孔注入性を有する高分子材料を含む成膜材料が挙げられる。

このような正孔注入層２０２の平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

（正孔輸送層）
正孔輸送層２０３は、陽極２０１から正孔注入層２０２を介して注入された正孔を発光層２０４まで輸送する機能を有するものである。

この正孔輸送層２０３の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、ＴＦＢ（poly(9,9-dioctyl-fluorene-co-N-(4- butylphenyl)-diphenylamine)）等のトリフェニルアミン系ポリマー等のアミン系化合物、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）やポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）を含むポリシラン系などの高分子有機材料（高分子材料）が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。また、前述した正孔注入層２０２の構成材料を正孔輸送層２０３の構成材料として用いることもできる。

このような正孔輸送層２０３の平均厚さは、特に限定されないが、１０〜１５０ｎｍ程度であるのが好ましく、１０〜１００ｎｍ程度であるのがより好ましい。

（発光層）
この発光層２０４は、発光材料を含んで構成されている。

発光材料としては、特に限定されず、各種蛍光材料、燐光材料を１種または２種以上組み合わせて用いることができる。発光素子２００を前述した発光素子２００Ｒに用いる場合には、発光材料として赤色蛍光材料または赤色燐光材料が用いられ、発光素子２００を前述した発光素子２００Ｇに用いる場合には、発光材料として緑色蛍光材料または緑色燐光材料が用いられ、発光素子２００を発光素子２００Ｂとして用いる場合には、発光材料として青色蛍光材料または青色燐光材料が用いられる。

赤色蛍光材料としては、赤色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、ジインデノペリレン誘導体等のペリレン誘導体、ユーロピウム錯体、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、ポルフィリン誘導体、ナイルレッド、２−（１，１−ジメチルエチル）−６−（２−（２，３，６，７−テトラヒドロ−１，１，７，７−テトラメチル−１Ｈ，５Ｈ−ベンゾ（ｉｊ）キノリジン−９−イル）エテニル）−４Ｈ−ピラン−４Ｈ−イリデン）プロパンジニトリル（ＤＣＪＴＢ）、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）等を挙げられる。

赤色燐光材料としては、赤色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられ、これら金属錯体の配位子の内の少なくとも１つがフェニルピリジン骨格、ビピリジル骨格、ポルフィリン骨格等を持つものも挙げられる。より具体的には、トリス（１−フェニルイソキノリン）イリジウム、ビス［２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ^３’］イリジウム（アセチルアセトネート）（ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ））、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−１２Ｈ，２３Ｈ−ポルフィリン−白金（ＩＩ）、ビス［２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ^３’］イリジウム、ビス（２−フェニルピリジン）イリジウム（アセチルアセトネート）が挙げられる。

緑色蛍光材料としては、緑色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、クマリン誘導体、キナクリドン誘導体等のキナクリドンおよびその誘導体、９，１０−ビス［（９−エチル−３−カルバゾール）−ビニレニル］−アントラセン、ポリ（９，９−ジヘキシル−２，７−ビニレンフルオレニレン）、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−コ−（１，４−ジフェニレン−ビニレン−２−メトキシ−５−｛２−エチルヘキシルオキシ｝ベンゼン）］、ポリ［（９，９−ジオクチル−２，７−ジビニレンフルオレニレン）−オルト−コ−（２−メトキシ−５−（２−エトキシルヘキシルオキシ）−１，４−フェニレン）］等が挙げられる。

緑色燐光材料としては、緑色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられ、具体的には、ファク−トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（Ｉｒ（ｐｐｙ）３）、ビス（２−フェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ^２’）イリジウム（アセチルアセトネート）、ファク−トリス［５−フルオロ−２−（５−トリフルオロメチル−２−ピリジン）フェニル−Ｃ，Ｎ］イリジウム等が挙げられる。

青色蛍光材料としては、青色の蛍光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、ジスチリルジアミン系化合物等のジスチリルアミン誘導体、フルオランテン誘導体、ピレン誘導体、ペリレンおよびペリレン誘導体、アントラセン誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、クリセン誘導体、フェナントレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、テトラフェニルブタジエン、４，４’−ビス（９−エチル−３−カルバゾビニレン）−１，１’−ビフェニル（ＢＣｚＶＢｉ）、ポリ［（９．９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−コ−（２，５−ジメトキシベンゼン−１，４−ジイル）］、ポリ［（９，９−ジヘキシルオキシフルオレン−２，７−ジイル）−オルト−コ−（２−メトキシ−５−｛２−エトキシヘキシルオキシ｝フェニレン−１，４−ジイル）］、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−コ−（エチルニルベンゼン）］等が挙げられる。

青色燐光材料としては、青色の燐光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられ、具体的には、ビス［４，６−ジフルオロフェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ^２’］−ピコリネート−イリジウム、トリス［２−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ^２’］イリジウム、ビス［２−（３，５−トリフルオロメチル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ^２’］−ピコリネート−イリジウム、ビス（４，６−ジフルオロフェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ^２’）イリジウム（アセチルアセトネート）等が挙げられる。

以上のような発光材料は、１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。

また、発光層２０４中には、前述した発光材料の他に、発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料が含まれていてもよい。

ホスト材料は、正孔と電子とを再結合して励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを発光材料に移動（フェルスター移動またはデクスター移動）させて、発光材料を励起する機能を有する。このようなホスト材料を用いる場合、例えば、ゲスト材料である発光材料をドーパントとしてホスト材料にドープして用いることができる。

このようなホスト材料としては、用いる発光材料に対して前述したような機能を発揮するものであれば、特に限定されないが、例えば、ナフタセン誘導体、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体のようなアセン誘導体（アセン系材料）、ジスチリルアリーレン誘導体、ペリレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアミン誘導体、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ_３）等のキノリノラト系金属錯体、トリフェニルアミンの４量体等のトリアリールアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、シロール誘導体、ジカルバゾール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ベンゾピラン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、キノリン誘導体、４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。

前述したような赤色発光材料（ゲスト材料）およびホスト材料を用いる場合、発光層２０４中における発光材料の含有量（ドープ量）は、０．０１〜１０ｗｔ％であるのが好ましく、０．１〜５ｗｔ％であるのがより好ましい。赤色発光材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができる。

このような発光層２０４の平均厚さは、特に限定されないが、１０〜１５０ｎｍ程度であるのが好ましく、１０〜１００ｎｍ程度であるのがより好ましい。また、発光層２０４は、積層された複数の発光層で構成されていてもよく、その場合、任意の発光層間に発光しない中間層が介在していてもよい。

（電子輸送層）
電子輸送層２０５は、陰極２０７から電子注入層２０６を介して注入された電子を発光層２０４に輸送する機能を有するものである。

電子輸送層２０５の構成材料（電子輸送材料）としては、例えば、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ_３）等の８−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子輸送層２０５の平均厚さは、特に限定されないが、０．５〜１００ｎｍ程度であるのが好ましく、１〜５０ｎｍ程度であるのがより好ましい。
なお、この電子輸送層２０５は、省略することができる。

（電子注入層）
電子注入層２０６は、陰極２０７からの電子注入効率を向上させる機能を有するものである。

この電子注入層２０６の構成材料（電子注入材料）としては、例えば、各種の無機絶縁材料、各種の無機半導体材料が挙げられる。

このような無機絶縁材料としては、例えば、アルカリ金属カルコゲナイド（酸化物、硫化物、セレン化物、テルル化物）、アルカリ土類金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物およびアルカリ土類金属のハロゲン化物等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらを主材料として電子注入層を構成することにより、電子注入性をより向上させることができる。特にアルカリ金属化合物（アルカリ金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物等）は仕事関数が非常に小さく、これを用いて電子注入層２０６を構成することにより、発光素子２００は、高い輝度が得られるものとなる。

アルカリ金属カルコゲナイドとしては、例えば、Ｌｉ_２Ｏ、ＬｉＯ、Ｎａ_２Ｓ、Ｎａ_２Ｓｅ、ＮａＯ等が挙げられる。

アルカリ土類金属カルコゲナイドとしては、例えば、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＢｅＯ、ＢａＳ、ＭｇＯ、ＣａＳｅ等が挙げられる。

アルカリ金属のハロゲン化物としては、例えば、ＣｓＦ、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＫＦ、ＬｉＣｌ、ＫＣｌ、ＮａＣｌ等が挙げられる。

アルカリ土類金属のハロゲン化物としては、例えば、ＣａＦ_２、ＢａＦ_２、ＳｒＦ_２、ＭｇＦ_２、ＢｅＦ_２等が挙げられる。

また、無機半導体材料としては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｂａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｙｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃｄ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔａ、ＳｂおよびＺｎのうちの少なくとも１つの元素を含む酸化物、窒化物または酸化窒化物等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子注入層２０６の平均厚さは、特に限定されないが、０．１〜１０００ｎｍ程度であるのが好ましく、０．２〜１００ｎｍ程度であるのがより好ましく、０．２〜５０ｎｍ程度であるのがさらに好ましい。
なお、この電子注入層２０６は、省略することができる。

（電子機器）
図９は、電子機器の一例であるモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。

この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部を備える表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。

このパーソナルコンピュータ１１００において、表示ユニット１１０６が備える表示部が前述の表示装置３００で構成されている。

図１０は、電子機器の一例である携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。

この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、表示部を備えている。
携帯電話機１２００において、この表示部が前述の表示装置３００で構成されている。

図１１は、電子機器の一例であるディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。

ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。

ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。

ディジタルスチルカメラ１３００において、この表示部が前述の表示装置３００で構成されている。

ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。

また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。

撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。

また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、データ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。

なお、電子機器は、図９のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図１０の携帯電話機、図１１のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。

以上、本発明の機能性インク、吐出検査方法および成膜方法を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものでない。

例えば、前述した実施形態では、吐出検査方法に用いる機能性インクが正孔注入層を形成するためのものである場合を例に説明したが、本発明の吐出検査方法は、正孔注入層以外の膜を形成するための機能性インクにも適用可能である。具体的には、回路基板が備える配線の成膜にも適用することができる。なお、この場合、配線を形成するための成膜材料としては、ポリアセチレン、ポリ（p−フェニレンビニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（p−フェニレンスルフィド）のような導電性高分子材料を高分子材料として含有するものが挙げられる。

次に、本発明の具体的実施例について説明する。
１．正孔注入性高分子材料の平均分子量（上限値）および貧溶媒の容積比の検討
１−１．機能性インクの作成
正孔注入性高分子材料として、ポリ（２，７−（９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン）−（１，４−フェニレン−（（４−sec−ブチルフェニル）イミノ）−１，４−フェニレン（ＴＦＢ）を用意し、このＴＦＢの含有量が２．０ｗｔ％となるように、良溶媒（３− フェノキシトルエン）と貧溶媒（ジエチレングリコールブチルメチルエーテルまたはジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル）とを含む液性媒体に溶解することで、正孔注入層形成用の機能性インクを調製した。

なお、この正孔注入層形成用の機能性インクとしては、それぞれ、液性媒体における良溶媒（３− フェノキシトルエン）と貧溶媒（ジエチレングリコールブチルメチルエーテルまたはジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル）との容積比が表１に示すような比率となっているもの、さらに、正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の分子量が表１に示す大きさのものを個別に調製した。

１−２．吐出検査
基材３２上に、ＰＶＡからなるバインダーにシリカ粒子を分散させることにより複数の空隙セルが形成されたインク吸収層３３を備える記録媒体２を、図１に示す液滴吐出装置６が備えるステージ９の載置面１１に搭載した状態で、調製した正孔注入層形成用の機能性インクを、それぞれ、液滴吐出装置６により液滴２９としてインク吸収層３３に供給して浸透・定着させることで、定着領域２９Ａを形成した。

なお、液滴吐出装置６により供給する液滴２９は、吐出時の重さが１２ｎｇのものとし、表１に示す繰り返し回数（ｎ数）を行うことで、インク吸収層３３に供給した。

以上のようにして形成された各定着領域２９Ａについて、吐出検査装置１９を用いて、面積ばらつき率（％）、エッジ未検出率（％）、平均面積および平均半径をそれぞれ測定した。
これらの測定結果を、それぞれ、以下の表１に示す。

次いで、表１の測定結果のうち、貧溶媒の容積比が３０ｖｏｌ％のものについて、正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の平均分子量と、定着領域２９Ａの平均面積との関係について検討を行った。これらの関係を示すグラフを図１２に示す。

その結果、図１２から明らかなように、平均分子量が８７．５ｋから６３．０ｋのように小さくなることで、定着領域２９Ａの（平均）面積が２０％ほど減少した。これに対して、５０．０ｋ、４７．２ｋおよび６３．０ｋでは面積にほぼ差が見られないことから、分子量にしきい値が存在することが推察された。

なお、高分子材料の分子量が定着領域２９Ａの面積に依存する原因としては、分子が小さくなることでインク吸収層３３のSiO₂で形成された間隙内に入り込みやすくなり、その結果、機能性インクの浸透性が向上したためではないかと考えられた。

また、貧溶媒の容積比が３０ｖｏｌ％のものについて、正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の平均分子量と、定着領域２９Ａのエッジ未検出率との関係について検討を行った。これらの関係を示すグラフを図１３に示す。

その結果、図１３から明らかなように、平均分子量７０．０ｋ以下では、エッジ未検出率が良好であることが明らかとなった。これは、定着領域２９Ａの面積が減少し、インク吸収層３３内部への浸透性が向上したことによりエッジのコントラストが改善したことによると推察される。

さらに、貧溶媒の容積比が３０ｖｏｌ％のものについて、正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の平均分子量と、定着領域２９Ａの面積ばらつき率との関係について検討を行った。これらの関係を示すグラフを図１４に示す。

その結果、図１４から明らかなように、平均分子量７０．０ｋ以下では、面積ばらつき率がおおむね良好であることが明らかとなった。これは、定着領域２９Ａの面積が減少し、インク吸収層３３内部への浸透性が向上したことにより、光出射部１９１からの光の反射率が向上し、エッジの検出精度が高まったことによると推察される。

以上のことから、正孔注入性高分子材料の平均分子量を７０．０ｋ以下とすることにより、機能性インクからなる液滴２９のインク吸収層３３への着弾後、速やかに、液滴２９をインク吸収層３３に浸透させることができるため、液滴２９がインク吸収層３３上を濡れ広がるのが、的確に抑制または防止されていることが判った。

次いで、表１の測定結果のうち、正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の平均分子量が６３ｋのものについて、貧溶媒の容積比と、定着領域２９Ａの平均面積との関係について検討を行った。これらの関係を示すグラフを図１５に示す。

その結果、図１５から明らかなように、貧溶媒の容積比率が減少すると定着領域２９Ａの面積が小さくなった。これは、機能性インクの濡れ広がりが減少することに起因して、インク吸収層３３内部への浸透性が高まったことによると推察される。しかしながら、貧溶媒の添加を省略した場合（良溶媒100%）では、逆に定着領域２９Ａの面積が大きくなっている。これは、高分子材料の分散性を高める貧溶媒が機能性インク中に存在しないため、ある域値以上の大きさに凝集した高分子材料が液性媒体中に分散しており、その結果として、インク吸収層３３において、浸透方向への目詰まりが生じているものと考えられた。

また、正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の平均分子量が６３ｋのものについて、貧溶媒の容積比と、定着領域２９Ａのエッジ未検出率との関係について検討を行った。これらの関係を示すグラフを図１６に示す。

その結果、図１６から明らかなように、貧溶媒の容積比率３０％以下では、エッジ未検出率の目安である１％を下回っており、視認性が良好といえる。これは、定着領域２９Ａの面積の減少により隣接する定着領域２９Ａとの間隔があいたことで、エッジ検出性が向上したことが大きいと推察される。なお、貧溶媒の添加を省略した場合は、容積比率３０％よりも面積が向上しているが、貧溶媒の容積比率の減少による反射率向上効果が大きいため、エッジ未検出率は大きく変化していない。

さらに、正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の平均分子量が６３ｋのものについて、貧溶媒の容積比と、定着領域２９Ａの面積ばらつき率との関係について検討を行った。これらの関係を示すグラフを図１７に示す。

その結果、図１７から明らかなように、貧溶媒の容積比率３０％以下では目安である面積ばらつき率１％をおおむね下回っており、面積ばらつき率は良好といえる。ここで、一般的には、定着領域２９Ａの面積が小さくなるとばらつきは大きくなるが、貧溶媒の容積比率の減少によるエッジのコントラスト向上の影響が大きいため、貧溶媒の減少によりばらつきは改善する方向に向かう結果となった。なお、貧溶媒の容積比率３０％で値がばらついているのは、測定中のノズル詰まり・気泡などの影響を拾っているためと考えられる。

以上のことから、液性媒体中における貧溶媒の容積比を３０ｖｏｌ％以下とすることにより、液滴２９の塗布対象物に対する濡れ性を維持しつつ、機能性インクからなる液滴２９のインク吸収層３３への着弾後、速やかに、液滴２９をインク吸収層３３に浸透させることができるため、液滴２９がインク吸収層３３上を濡れ広がるのが、的確に抑制または防止されていることが判った。

２．正孔注入性高分子材料の平均分子量（下限値）の検討
２−１．機能性インクの作成
正孔注入性高分子材料として、ポリ（２，７−（９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン）−（１，４−フェニレン−（（４−sec−ブチルフェニル）イミノ）−１，４−フェニレン（ＴＦＢ）を用意し、このＴＦＢの含有量が２．０ｗｔ％となるように、良溶媒（３− フェノキシトルエン）と貧溶媒（ジエチレングリコールブチルメチルエーテルまたはジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル）とを含む液性媒体に溶解することで、正孔注入層形成用の機能性インクを調製した。

なお、この正孔注入層形成用の機能性インクとしては、それぞれ、液性媒体における良溶媒（３− フェノキシトルエン）と貧溶媒（ジエチレングリコールブチルメチルエーテルまたはジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル）との容積比が７０：３０の比率となっているもの、さらに、正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の分子量が表２に示す大きさのものを個別に調製した。

２−２．発光素子の製造
＜１＞ まず、平均厚さ０．５ｍｍの透明なガラス基板を用意した。次に、この基板上に、スパッタ法により、平均厚さ５０ｎｍのＩＴＯ電極（陽極）を形成した。

そして、基板をアセトン、２−プロパノールの順に浸漬し、超音波洗浄した後、酸素プラズマ処理を施した。

＜２＞ 次に、ＩＴＯ電極上に、上述した２−１．機能性インクの作成で調製した機能性インクを、インクジェット法を用いて供給した後、加熱して乾燥させることにより、平均厚さ４０ｎｍの正孔注入層を形成した。

＜３＞ 次に、正孔注入層上に、発光層の構成材料として、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ１０ｎｍの発光層を形成した。

＜４＞ 次に、発光層上に、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ_３）を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ１０ｎｍの電子輸送層を形成した。

＜５＞ 次に、電子輸送層上に、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ１ｎｍの電子注入層を形成した。

＜６＞ 次に、電子注入層上に、Ａｌを真空蒸着法により成膜した。これにより、Ａｌで構成される平均厚さ１００ｎｍの陰極を形成した。

＜７＞ 次に、形成した各層を覆うように、ガラス製の保護カバー（封止部材）を被せ、エポキシ樹脂により固定、封止して発光素子を製造した。

なお、この２−２．発光素子の製造では、発光素子を、上述した２−１．機能性インクの作成で調製した機能性インク毎に、製造した。

２−３．発光効率および発光寿命の評価
製造された発光素子について、それぞれ、直流電源を用いて発光素子に１０ｍＡ／ｃｍ^２の定電流を流し、輝度計を用いて輝度を測定した。測定された輝度から、発光効率（ｃｄ／Ａ、電流あたりの輝度）を求めた。さらに、直流電源を用いて発光素子に初期輝度を一定として発光させ、輝度計を用いて輝度を測定し、その輝度が初期の輝度の８０％となるまでの時間（ＬＴ８０）を発光寿命として測定した。

表２に、上記の評価結果を示す。なお、表２中では、平均分子量６３０００の高分子材料を用いた発光素子で測定された、発光効率および発光寿命を「１」として、これらの比率を求めた。

その結果、表２のように、高分子材料の平均分子量が６００００未満のものでは、発光効率および発光寿命が、高分子材料の平均分子量が６００００以上のものと比較して、ともに劣る結果を示した。

３．液性媒体の沸点の検討
３−１．機能性インクの作成
正孔注入性高分子材料として、ポリ（２，７−（９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン）−（１，４−フェニレン−（（４−sec−ブチルフェニル）イミノ）−１，４−フェニレン（ＴＦＢ）を用意し、このＴＦＢの含有量が２．０ｗｔ％となるように、良溶媒（３− フェノキシトルエン）と貧溶媒（１，４− ジイソプロピルベンゼン、ジエチレングリコールブチルメチルエーテルまたはジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル）とを含む液性媒体に溶解することで、正孔注入層形成用の機能性インクを調製した。

なお、この正孔注入層形成用の機能性インクとしては、それぞれ、液性媒体における良溶媒と貧溶媒との種類および容積比が表３に示すような比率となっているもの、さらに、正孔注入性高分子材料（ＴＦＢ）の分子量が表３に示す大きさのものを個別に調製した。

また、各正孔注入層形成用の機能性インクに含まれる液性媒体の蒸気圧を予め求めておいた。

３−２．吐出検査
基材３２上に、ＰＶＡからなるバインダーにシリカ粒子を分散させることにより複数の空隙セルが形成されたインク吸収層３３を備える記録媒体２を、図１に示す液滴吐出装置６が備えるステージ９の載置面１１に搭載した状態で、調製した正孔注入層形成用の機能性インクを、それぞれ、液滴吐出装置６により液滴２９としてインク吸収層３３に供給して浸透・定着させることで、定着領域２９Ａを形成した。

なお、液滴吐出装置６により供給する液滴２９は、吐出時の重さが１２ｎｇのものとし、表３に示す繰り返し回数（ｎ数）を行うことで、インク吸収層３３に供給した。

以上のようにして形成された各定着領域２９Ａについて、吐出検査装置１９を用いて、面積ばらつき率（％）、エッジ未検出率（％）、平均面積および平均半径をそれぞれ測定した。
これらの測定結果を、それぞれ、以下の表３に示す。

また、表３の測定結果に基づいて、機能性インクの蒸気圧と、定着領域２９Ａの面積ばらつき率、エッジ未検出率、平均面積および平均半径との関係について検討を行った。これらの関係を示すグラフを図１８〜図２１に示す。

その結果、図１８〜図２１から明らかなように、機能性インクの蒸気圧が低くなる、すなわち、機能性インクの沸点が高くなると、定着領域２９Ａの面積ばらつき率、エッジ未検出率、平均面積および平均半径が小さくなる傾向を示した。

以上のことから、機能性インクに含まれる液性媒体として沸点の高いものを用いることで、機能性インクからなる液滴２９のインク吸収層３３への着弾後、速やかに、液滴２９をインク吸収層３３に浸透させることができるため、液滴２９がインク吸収層３３上を濡れ広がるのが、的確に抑制または防止されていることが判った。

２‥‥記録媒体
６‥‥液滴吐出装置
７‥‥基台
７ａ‥‥上面
８‥‥案内レール
９‥‥ステージ
１０‥‥主走査位置検出装置
１１‥‥載置面
１２‥‥支持台
１３‥‥案内部材
１４‥‥収納タンク
１５‥‥案内レール
１６‥‥キャリッジ
１７‥‥副走査位置検出装置
１８‥‥ヘッドユニット
１９‥‥吐出検査装置
２０‥‥基材
２２‥‥液滴吐出ヘッド
２３‥‥ノズルプレート
２４‥‥吐出ノズル
２５‥‥キャビティ
２６‥‥機能性インク
２７‥‥振動板
２８‥‥圧電素子
２９‥‥液滴
２９Ａ‥‥定着領域
２９Ｂ‥‥非定着領域
２９Ｃ‥‥液状被膜
３２‥‥基材
３３‥‥インク吸収層
４１‥‥制御装置
４２‥‥ＣＰＵ
４３‥‥メモリー
４４‥‥主走査駆動装置
４５‥‥副走査駆動装置
４６‥‥入出力インターフェイス
４７‥‥データバス
４８‥‥ヘッド駆動回路
４９‥‥入力装置
５０‥‥表示装置
５１‥‥プログラムソフト
５２‥‥吐出位置データ
５３‥‥駆動電圧データ
５４‥‥駆動波形データ
５５‥‥吐出計画データ
５６‥‥描画制御部
５７‥‥主走査制御部
５８‥‥副走査制御部
５９‥‥吐出制御部
６０‥‥着弾特性補正制御部
６１‥‥吐出条件設定部
６２‥‥吐出計画設定部
１９０‥‥吐出検査制御部
１９１‥‥光出射部
１９２‥‥測定部
１９３‥‥測定部
１９５‥‥光学系
１９６‥‥光源制御部
１９７‥‥受光制御部
２００‥‥発光素子
２００Ｂ‥‥発光素子
２００Ｇ‥‥発光素子
２００Ｒ‥‥発光素子
２０１‥‥陽極
２０２‥‥正孔注入層
２０３‥‥正孔輸送層
２０４‥‥発光層
２０５‥‥電子輸送層
２０６‥‥電子注入層
２０７‥‥陰極
２０８‥‥積層体
２０８Ｂ‥‥積層体
２０８Ｇ‥‥積層体
２０８Ｒ‥‥積層体
３００‥‥表示装置
３００Ｂ‥‥サブ画素
３００Ｇ‥‥サブ画素
３００Ｒ‥‥サブ画素
３０１‥‥基板
３０２‥‥スイッチング素子
３０２ａ‥‥半導体層
３０２ｂ‥‥ゲート絶縁層
３０２ｃ‥‥ゲート電極
３０２ｄ‥‥ソース電極
３０２ｅ‥‥ドレイン電極
３０３‥‥平坦化層
３０４‥‥反射膜
３０５‥‥腐食防止膜
３０６‥‥陰極カバー
３０７‥‥導電部
３０８‥‥隔壁
３０９‥‥樹脂層
３１０‥‥基板
１１００‥‥パーソナルコンピュータ
１１０２‥‥キーボード
１１０４‥‥本体部
１１０６‥‥表示ユニット
１２００‥‥携帯電話機
１２０２‥‥操作ボタン
１２０４‥‥受話口
１２０６‥‥送話口
１３００‥‥ディジタルスチルカメラ
１３０２‥‥ケース
１３０４‥‥受光ユニット
１３０６‥‥シャッタボタン
１３０８‥‥回路基板
１３１２‥‥ビデオ信号出力端子
１３１４‥‥入出力端子
１４３０‥‥テレビモニタ
１４４０‥‥パーソナルコンピュータ

Claims (7)

1. 高分子材料を含む成膜材料と、
   前記成膜材料が溶解または分散される液性媒体とを有し、
   前記高分子材料は、その平均分子量が６００００以上７００００以下であり、
   前記液性媒体は、貧溶媒と良溶媒とを含み、前記液性媒体における前記貧溶媒の容積比が２０ｖｏｌ％以上３０ｖｏｌ％以下であることを特徴する機能性インク。
2. 前記貧溶媒と前記良溶媒とは、その沸点の差が３０℃以下である請求項１に記載の機能性インク。
3. 前記貧溶媒は、その沸点が１５０℃以上３００℃以下である請求項１または２に記載の機能性インク。
4. 前記良溶媒は、その沸点が２５０℃以上３００℃以下である請求項１ないし３のいずれか１項に記載の機能性インク。
5. 前記高分子材料を含む成膜材料は、有機エレクトロルミネッセンス素子に含まれる正孔注入層を構成する材料であり、
   当該機能性インクは、前記正孔注入層を成膜するために用いられる請求項１ないし４のいずれか１項に記載の機能性インク。
6. 請求項１ないし５のいずれか１項に記載の機能性インクを液滴吐出ヘッドを用いて液滴として吐出して記録媒体上に塗布して定着させる工程と、
   前記記録媒体に光を照射し、前記記録媒体に前記機能性インクが定着した定着領域と、前記機能性インクが定着していない非定着領域とにおける前記光の反射率および透過率のうちの少なくとも一方の差を測定する工程と、を有し、
   前記測定の結果に基づいて、前記液滴吐出ヘッドの検査を行うことを特徴とする吐出検査方法。
7. 請求項１ないし５のいずれか１項に記載の機能性インクを基材上に塗布して、液状被膜を形成する工程と、
   前記液状被膜を加熱して乾燥させることで、膜を成膜する工程と、を有することを特徴とする成膜方法。

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