JP6504971B2 - Semiconductor chip test apparatus and semiconductor chip test method - Google Patents
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Description
本発明は、半導体チップのテスト装置およびテスト方法に関するものである。 The present invention relates to a test apparatus and test method for a semiconductor chip.
従来の半導体チップテストでは、半導体チップの終端部がシュリンクされ、電極間の距離が短くなると、耐圧試験または遮断試験などの高電圧印加測定時に半導体チップの終端部で放電が起きるなどの問題があった。 In the conventional semiconductor chip test, there is a problem that when the terminal end of the semiconductor chip is shrunk and the distance between the electrodes becomes short, discharge occurs at the terminal end of the semiconductor chip at the time of high voltage application measurement such as withstand voltage test or interruption test. The
例えば、特許文献1には、次のようなプローブ装置が開示されている。被検査チップのおもて側電極(ゲート電極およびソース電極)にそれぞれ対応するプローブ針の先端が接触している状態では、環状突起部の頂部がコンタクトプレートの下面に接触または近接して、コンタクトプレートと載置台との間の隙間が少なくとも雰囲気に関して塞がるようになっている。そして、ガス供給機構からのガス供給により囲繞室内に形成される正圧雰囲気の圧力をさらに効率的に高くすることで、半導体デバイスの電気的特性検査をウエハレベルで行う際にウエハ表面付近でスパーク(放電)が発生することを簡便かつ効率的に防止している。
For example,
しかしながら、半導体チップの表面に異物が付着している場合、半導体チップの電気的特性の測定時に高電圧側のチップ端部とGND側のチップ表面電極間に電流経路が発生し放電する可能性がある。 However, if foreign matter adheres to the surface of the semiconductor chip, a current path may be generated between the chip end on the high voltage side and the chip surface electrode on the GND side during measurement of the electrical characteristics of the semiconductor chip, and discharge may occur. is there.
そこで、本発明は、被検体の電気的特性の測定時に放電の発生を抑制することが可能な技術を提供することを目的とする。 Then, an object of the present invention is to provide art which can control generating of electric discharge at the time of measurement of an electrical property of a subject.
本発明に係る半導体チップテスト装置は、被検体である半導体チップが載置される下治具と、前記被検体の表面に接触させて前記被検体の電気的特性を測定するためのコンタクトピンと、前記被検体の上側に配置され、かつ、前記コンタクトピンが固定される上治具と、前記被検体の側面を囲む位置に配置され、かつ、前記上治具と前記下治具とで前記被検体を密閉可能な絶縁壁と、前記上治具に対して上下方向に貫通状に形成され、前記被検体の表面に向けて絶縁性ガスを噴出可能に配置されるガス噴出口と、前記ガス噴出口に前記絶縁性ガスを供給するガス供給部とを備え、前記ガス供給部は、前記被検体が前記下治具に載置されかつ前記被検体が密閉されていない状態で、予め定められた周期で前記絶縁性ガスを前記ガス噴出口に供給して前記被検体の表面に向けて前記絶縁性ガスを噴出し、前記被検体が密閉された状態で、密閉された空間が予め定められた圧力になるまで前記絶縁性ガスを前記ガス噴出口に供給して噴出するものである。
また、本発明に係る他の半導体チップテスト装置は、被検体である半導体チップが載置される下治具と、前記被検体の表面に接触させて前記被検体の電気的特性を測定するためのコンタクトピンと、前記被検体の上側に配置され、かつ、前記コンタクトピンが固定される上治具と、前記被検体の側面を囲む位置に配置され、かつ、前記上治具と前記下治具とで前記被検体を密閉可能な絶縁壁と、前記被検体が密閉された状態で、密閉された空間の空気を排気し負圧にする排気部と、前記上治具において、前記被検体の表面に向けて絶縁性ガスを噴出可能に配置されるガス噴出口と、前記ガス噴出口に前記絶縁性ガスを供給するガス供給部とを備え、前記ガス供給部は、前記排気部により排気を行う前であって、前記被検体が前記下治具に載置されかつ前記被検体が密閉されていない状態で、予め定められた周期で前記絶縁性ガスを前記ガス噴出口に供給するものである。
また、本発明に係る半導体チップテスト方法は、被検体が下治具に載置されかつ前記被検体が密閉されていない状態で、上治具に対して上下方向に貫通状に形成されたガス噴出口から前記被検体である半導体チップの表面に向けて予め定められた周期で絶縁性ガスを噴出する工程と、前記被検体の上側に配置された上治具と、前記下治具と、前記被検体の側面を囲む位置に配置された絶縁壁とで前記被検体を密閉する工程と、密閉された空間が予め定められた圧力になるまで前記絶縁性ガスを前記ガス噴出口に供給して噴出する工程と、前記被検体を密閉した状態で前記被検体の電気的特性を測定する工程とを備えるものである。
また、本発明に係る他の半導体チップテスト方法は、被検体が下治具に載置されかつ前記被検体が密閉されていない状態で、上治具に形成されたガス噴出口から前記被検体である半導体チップの表面に向けて予め定められた周期で絶縁性ガスを噴出する工程と、前記被検体である半導体チップが載置された前記下治具と、前記被検体の上側に配置された前記上治具と、前記被検体の側面を囲む位置に配置された絶縁壁とで前記被検体を密閉する工程と、密閉された空間の空気を排気し負圧にする工程と、前記密閉された空間を負圧にした状態で前記被検体の電気的特性を測定する工程とを備えるものである。
A semiconductor chip test apparatus according to the present invention comprises: a lower jig on which a semiconductor chip as a subject is mounted; An upper jig disposed on the upper side of the subject and to which the contact pin is fixed, and a position surrounding the side surface of the subject, and the upper jig and the lower jig perform the subject An insulating wall capable of sealing a sample, a gas outlet formed vertically penetrating with respect to the upper jig , and disposed so as to be able to eject an insulating gas toward the surface of the subject, the gas And a gas supply unit for supplying the insulating gas to a jet nozzle, wherein the gas supply unit is predetermined in a state where the subject is placed on the lower jig and the subject is not sealed. cycle in supplying the insulating gas to the gas port The insulating gas is injected toward the surface of the subject, and in the state where the subject is sealed, the insulating gas is injected into the gas jet port until the sealed space reaches a predetermined pressure. Supply and spout .
In another semiconductor chip test apparatus according to the present invention, a lower jig on which a semiconductor chip which is a subject is mounted and a surface of the subject are brought into contact to measure electrical characteristics of the subject Contact pins, an upper jig disposed above the subject, and an upper jig to which the contact pins are fixed, and a position surrounding a side surface of the subject, and the upper jig and the lower jig And an exhaust unit for exhausting air in a sealed space to a negative pressure in a state in which the subject is sealed, and the upper jig in the upper jig. And a gas supply unit configured to supply the insulating gas to the gas injection port, the gas supply unit configured to discharge the exhaust gas by the exhaust unit. Before the test, the subject is placed on the lower jig Re and wherein in a state in which the subject is not sealed, and supplies the insulating gas to the gas ejection port at a predetermined period.
Further, in the semiconductor chip test method according to the present invention, the gas formed vertically penetrating the upper jig in a state where the object is placed on the lower jig and the object is not sealed. A step of spouting an insulating gas at a predetermined cycle toward the surface of the semiconductor chip as the subject from a spout, an upper jig disposed on the upper side of the subject, and the lower jig; And a step of sealing the subject with an insulating wall disposed at a position surrounding the side surface of the subject, and supplying the insulating gas to the gas jet port until the sealed space reaches a predetermined pressure. And a step of measuring an electrical property of the subject in a state in which the subject is sealed.
In another semiconductor chip test method according to the present invention, the object is placed on the lower jig and the object is not sealed, and the object is tested from the gas jet port formed on the upper jig. A step of injecting an insulating gas toward the surface of the semiconductor chip in a predetermined cycle, the lower jig on which the semiconductor chip as the subject is mounted, and the upper side of the subject Sealing the object with the upper jig and an insulating wall disposed at a position surrounding the side surface of the object, exhausting the air in the sealed space to a negative pressure, and the sealing Measuring the electrical characteristics of the subject under negative pressure in the space.
本発明によれば、ガス供給部は、被検体が下治具に載置されかつ被検体が密閉されていない状態で、予め定められた周期で絶縁性ガスをガス噴出口に供給する。 According to the present invention, the gas supply unit supplies the insulating gas to the gas jet port at a predetermined cycle in a state where the subject is placed on the lower jig and the subject is not sealed.
したがって、被検体の表面に異物が付着している場合、被検体の電気的特性の測定時に被検体の端部と表面との間に電流経路が生じ放電する可能性があるが、ガス噴出口から予め定められた周期で絶縁性ガスが被検体の表面に向けて噴出される。これにより、被検体の表面に付着した異物を除去することができるため、被検体の電気的特性の測定時に放電が発生することを抑制できる。 Therefore, when foreign matter adheres to the surface of the subject, a current path may be generated between the end of the subject and the surface when the electrical property of the subject is measured, and a discharge may occur. The insulating gas is jetted toward the surface of the subject at a predetermined cycle. As a result, the foreign matter attached to the surface of the subject can be removed, so that the occurrence of the discharge at the time of measurement of the electrical characteristics of the subject can be suppressed.
<実施の形態1>
本発明の実施の形態1について、図面を用いて以下に説明する。図1は、実施の形態1に係る半導体チップテスト装置の断面図であり、コンタクト前、すなわち、半導体チップの電気的特性の測定における直前の状態を示す図である。図2は、半導体チップテスト装置の断面図であり、コンタクト時、すなわち、半導体チップの電気的特性の測定時の状態を示す図である。図3は、下治具8の平面図であり、図4は、上治具7の底面図である。
The first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of the semiconductor chip test apparatus according to the first embodiment, showing a state before contact, that is, immediately before measurement of the electrical characteristics of the semiconductor chip. FIG. 2 is a cross-sectional view of the semiconductor chip test apparatus, showing a state at the time of contact, that is, at the time of measurement of the electrical characteristics of the semiconductor chip. FIG. 3 is a plan view of the
図1に示すように、下治具8、コンタクトピン1、上治具7、絶縁壁3、ガス噴出口2、ガス供給部12、排気口4、吸着口5、および排気部14を備えている。
As shown in FIG. 1, the
図1と図3に示すように、下治具8は、被検体である半導体チップ6を載置するための台座である。下治具8には、排気口4および吸着口5が設けられている。吸着口5は、下治具8に対して上下方向に貫通状に形成され、吸着口5の一端は、下治具8における半導体チップ6が載置される領域の内側に形成されている。吸着口5の他端は、排気管14aを介して排気部14と接続され、排気部14の駆動により吸着口5を介して半導体チップ6を吸着して固定する。排気口4は、下治具8に対して上下方向に貫通状に形成され、排気口4の一端は、下治具8における半導体チップ6が載置される領域の外側に設けられている。排気口4の他端は、排気管14aを介して排気部14と接続され、排気部14の駆動により半導体チップ6の周辺の空気を排気する。
As shown in FIG. 1 and FIG. 3, the
図1と図4に示すように、上治具7は、半導体チップ6の上側、すなわち、下治具8の上側に配置され、下治具8に対して上下方向に昇降可能に構成されている。上治具7には、コンタクトピン1、ガス噴出口2、および絶縁壁3が設けられている。コンタクトピン1は、下治具8に載置された半導体チップ6の表面に接触させて半導体チップ6の電気的特性を測定するための部材である。コンタクトピン1は、上治具7における半導体チップ6が載置される領域の内側に対応する位置に固定されている。ここで、電気的特性の測定とは、耐圧試験または遮断試験などの高電圧印加測定を含むものである。
As shown in FIGS. 1 and 4, the
絶縁壁3は、上治具7の下面に配置されている。より具体的には、上治具7の下面に溝(図示省略)が形成されており、溝に絶縁壁3が装着されている。また、絶縁壁3は、図3に示すように、平面視にて、半導体チップ6と排気口4よりも外側に配置されており、すなわち、絶縁壁3は、半導体チップ6の側面を囲む位置に配置されている。絶縁壁3は、上治具7とともに下治具8に対して昇降可能に構成されている。図2に示すように、半導体チップ6は、上治具7が下降位置に位置する状態で上治具7と下治具8と絶縁壁3とで密閉される。
The
ガス噴出口2は、上治具7に対して上下方向に貫通状に形成され、ガス噴出口2の一端は、下治具8に載置された半導体チップ6の表面に向けられている。より具体的には、ガス噴出口2は複数(例えば2つ)設けられ、一方は、図1において半導体チップ6の中心に対して左上に配置され右下に向けられている。他方は、図1において半導体チップ6の中心に対して右上に配置され左下に向けられている。ガス噴出口2の他端は供給管12aを介してガス供給部12と接続されている。ガス供給部12は、ガス噴出口2に絶縁性ガスを供給し、ガス噴出口2から半導体チップ6の表面に向けて絶縁性ガスを噴出させる。ここで、絶縁性ガスとは、例えばSF6(六フッ化硫黄)である。
The
次に、半導体チップテスト方法について説明する。最初に、上治具7が上昇位置に位置する状態(すなわち、半導体チップ6が密閉されていない状態)で、ガス噴出口2から下治具8に載置された半導体チップ6の表面に向けて予め定められた周期で絶縁性ガスを噴出する(工程a)。ガス噴出口2から半導体チップ6の表面に向けて絶縁性ガスを噴出することで、半導体チップ6の表面に付着している異物が除去される。ここで、絶縁性ガスの噴出の周期は、例えば5Hzから30Hz程度である。また、絶縁性ガスの噴出時間は例えば1秒程度であり、噴出量は例えば1600Paから3200Pa程度の圧力である。
Next, a semiconductor chip test method will be described. First, with the
次に、上治具7を下降させて、上治具7が下降位置に到達すると、コンタクトピン1の先端が半導体チップ6の表面に接触すると同時に絶縁壁3の下端が下治具8の表面に接触する。これにより、上治具7と下治具8と絶縁壁3とで半導体チップ6が密閉される(工程b)。
Next, the
ここで、コンタクトピン1として先端が収縮できるようスプリングを兼ね備えたピンが採用されている。半導体チップ6の厚みのばらつきにより、コンタクトピン1の先端が半導体チップ6の表面に接触していない、または絶縁壁3が下治具8の表面に接触していないことを防ぐためである。また、絶縁壁3として柔らかい部材が採用されている。
Here, a pin having a spring is adopted as the
次に、ガス供給部12は、上治具7と下治具8と絶縁壁3とで密閉された空間が予め定められた圧力になるまで絶縁性ガスを供給する。ここで、予め定められた圧力とは、例えば0.3MPaから0.6MPa程度である。
Next, the
次に、密閉された空間を絶縁性ガスにより予め定められた圧力にした状態で、半導体チップ6の電気的特性を測定する(工程c)。半導体チップ6の電気的特性の測定時に最も放電が発生しやすい場所は、電圧を印加したときの高電位面とGND面の最短距離である、半導体チップ6の高電圧印加電極端部とGND電極端部との間である。半導体チップ6を密閉した空間に絶縁性ガスを満たすことで、半導体チップ6における高電圧印加電極端部とGND電極端部との間の絶縁性を高めることができる。これにより、半導体チップ6の電気的特性の測定時に放電が発生することを一層抑制できる。
Next, the electrical characteristics of the
しかし、ウエハプロセス性能およびウエハ材料の性質向上に伴い、半導体チップ6の終端部がシュリンクされることで電極間の距離が短くなり、絶縁性ガスを満たしても放電する可能性がある。その場合は、絶縁性ガスの圧力を高くすることで放電を抑制することができる。
However, with the improvement of the wafer process performance and the properties of the wafer material, the terminal portion of the
測定後、排気部14は、密閉された空間に存在する絶縁性ガスを下治具8に設けられた排気口4を介して排気する。なお、絶縁性ガスは下治具8の排気口4から排出されるが、排出された絶縁性ガスを回収し、再度、ガス供給部12から絶縁性ガスを供給する、すなわち絶縁性ガスを再使用することで、絶縁性ガスの使用量を削減することができる。また、半導体チップ6の吸着と絶縁性ガスの排気について1つの排気部14が行うことで、装置の小型化および軽量化を図ることができ、ひいては装置の低コスト化を図ることができる。
After the measurement, the
なお、ガス供給部12が、上治具7と下治具8と絶縁壁3とで密閉された空間が予め定められた圧力になるまで絶縁性ガスを供給する工程は必須ではなく、この工程を省略することも可能である。
Note that the step of supplying the insulating gas until the space sealed by the
以上のように、実施の形態1に係る半導体チップテスト装置および半導体チップテスト方法では、ガス供給部12は、被検体である半導体チップ6が下治具8に載置されかつ半導体チップ6が密閉されていない状態で、予め定められた周期で絶縁性ガスをガス噴出口2に供給する。
As described above, in the semiconductor chip test apparatus and the semiconductor chip test method according to the first embodiment, in the
したがって、半導体チップ6の表面に異物が付着している場合、半導体チップ6の電気的特性の測定時に半導体チップ6の端部と表面との間に電流経路が生じ放電する可能性があるが、ガス噴出口2から予め定められた周期で絶縁性ガスが半導体チップ6の表面に向けて噴出される。これにより、半導体チップ6の表面に付着した異物を除去することができるため、半導体チップ6の電気的特性の測定時に放電が発生することを抑制できる。
Therefore, when foreign matter adheres to the surface of the
ガス供給部12は、予め定められた周期で絶縁性ガスをガス噴出口2に供給した後であって、半導体チップ6が密閉された状態で、密閉された空間が予め定められた圧力になるまで絶縁性ガスをガス噴出口2に供給する。
The
したがって、半導体チップ6を密閉した空間に絶縁性ガスを満たすことで、半導体チップ6における高電圧印加電極端部とGND電極端部との間の絶縁性を高めることができる。これにより、半導体チップ6の電気的特性の測定時に放電が発生することを一層抑制できる。
Therefore, by filling the space in which the
<実施の形態2>
次に、図1と図2を用いて、実施の形態2に係る半導体チップテスト装置および半導体チップテスト方法について説明する。なお、実施の形態2において、実施の形態1で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
Second Embodiment
Next, a semiconductor chip test apparatus and a semiconductor chip test method according to the second embodiment will be described using FIGS. 1 and 2. In the second embodiment, the same components as those described in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
実施の形態2に係る半導体チップテスト装置は、実施の形態1に係る半導体チップテスト装置と同じ構成であるが、排気部14の機能が実施の形態1の場合と異なっており、排気部14は、半導体チップ6が密閉された状態で、密閉された空間の空気を排気し負圧にする。
The semiconductor chip test apparatus according to the second embodiment has the same configuration as the semiconductor chip test apparatus according to the first embodiment, but the function of the
次に、半導体チップテスト方法について説明する。最初に、図1と図2に示すように、上治具7を下降させて、上治具7が下降位置に到達すると、コンタクトピン1の先端が半導体チップ6の表面に接触すると同時に絶縁壁3の下端が下治具8の表面に接触する。これにより、上治具7と下治具8と絶縁壁3とで半導体チップ6が密閉される(工程d)。
Next, a semiconductor chip test method will be described. First, as shown in FIGS. 1 and 2, when the
次に、排気部14は、半導体チップ6が密閉された状態で、密閉された空間の空気を排気口4から排気させることで密閉された空間を負圧にする(工程e)。密閉された空間を負圧にすることで、半導体チップ6の表面に付着した異物が除去され、除去された異物は密閉された空間から排気口4を介して排出される。次に、密閉された空間を負圧にした状態で、半導体チップ6の電気的特性を測定する(工程f)。
Next, with the
以上のように、実施の形態2に係る半導体チップテスト装置および半導体チップテスト方法では、排気部14は被検体が密閉された状態で、密閉された空間の空気を排気し負圧にする。したがって、負圧にすることで、半導体チップ6の表面に付着した異物を除去し、除去した異物を密閉された空間から排気口4を介して排出することができるため、半導体チップ6の電気的特性の測定時に放電が発生することを抑制できる。
As described above, in the semiconductor chip test apparatus and the semiconductor chip test method according to the second embodiment, the
また、実施の形態2では、工程dを行う前に、実施の形態1の工程aを行うことも可能である。具体的には、ガス供給部12は、排気部14により排気を行う前であって、半導体チップ6が下治具8に載置されかつ半導体チップ6が密閉されていない状態で、予め定められた周期で絶縁性ガスをガス噴出口2に供給する。この場合、半導体チップ6の電気的特性の測定前にも、半導体チップ6の表面に付着した異物を除去することができるため、密閉された空間を負圧にした場合のみよりも、半導体チップ6の電気的特性の測定時に放電が発生することを一層抑制できる。
Moreover, in the second embodiment, the step a of the first embodiment can be performed before the step d. Specifically, the
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。 In the present invention, within the scope of the invention, each embodiment can be freely combined, or each embodiment can be appropriately modified or omitted.
1 コンタクトピン、2 ガス噴出口、3 絶縁壁、6 半導体チップ、7 上治具、8 下治具、12 ガス供給部、14 排気部。 1 contact pin, 2 gas outlet, 3 insulating wall, 6 semiconductor chip, 7 upper jig, 8 lower jig, 12 gas supply part, 14 exhaust part.
Claims (5)
前記被検体の表面に接触させて前記被検体の電気的特性を測定するためのコンタクトピンと、
前記被検体の上側に配置され、かつ、前記コンタクトピンが固定される上治具と、
前記被検体の側面を囲む位置に配置され、かつ、前記上治具と前記下治具とで前記被検体を密閉可能な絶縁壁と、
前記上治具に対して上下方向に貫通状に形成され、前記被検体の表面に向けて絶縁性ガスを噴出可能に配置されるガス噴出口と、
前記ガス噴出口に前記絶縁性ガスを供給するガス供給部と、
を備え、
前記ガス供給部は、前記被検体が前記下治具に載置されかつ前記被検体が密閉されていない状態で、予め定められた周期で前記絶縁性ガスを前記ガス噴出口に供給して前記被検体の表面に向けて前記絶縁性ガスを噴出し、前記被検体が密閉された状態で、密閉された空間が予め定められた圧力になるまで前記絶縁性ガスを前記ガス噴出口に供給して噴出する、半導体チップテスト装置。 A lower jig on which a semiconductor chip which is a subject is placed;
A contact pin for contacting the surface of the subject and measuring the electrical property of the subject;
An upper jig disposed on the upper side of the subject and to which the contact pin is fixed;
An insulating wall disposed at a position surrounding the side surface of the subject and capable of sealing the subject by the upper jig and the lower jig;
A gas ejection port formed in a penetrating shape in the vertical direction with respect to the upper jig , and disposed so as to be able to eject an insulating gas toward the surface of the subject;
A gas supply unit for supplying the insulating gas to the gas injection port;
Equipped with
Wherein the gas supply unit, the state where placed on and the subject to the subject is the lower jig is not sealed, by supplying the insulating gas to the gas ejection port in a predetermined cycle The insulating gas is jetted toward the surface of the subject, and the insulating gas is supplied to the gas jet port until the sealed space reaches a predetermined pressure in a state where the subject is sealed. ejecting Te, semiconductor chip test device.
前記被検体の表面に接触させて前記被検体の電気的特性を測定するためのコンタクトピンと、
前記被検体の上側に配置され、かつ、前記コンタクトピンが固定される上治具と、
前記被検体の側面を囲む位置に配置され、かつ、前記上治具と前記下治具とで前記被検体を密閉可能な絶縁壁と、
前記被検体が密閉された状態で、密閉された空間の空気を排気し負圧にする排気部と、
前記上治具において、前記被検体の表面に向けて絶縁性ガスを噴出可能に配置されるガス噴出口と、
前記ガス噴出口に前記絶縁性ガスを供給するガス供給部と、
を備え、
前記ガス供給部は、前記排気部により排気を行う前であって、前記被検体が前記下治具に載置されかつ前記被検体が密閉されていない状態で、予め定められた周期で前記絶縁性ガスを前記ガス噴出口に供給する、半導体チップテスト装置。 A lower jig on which a semiconductor chip which is a subject is placed;
A contact pin for contacting the surface of the subject and measuring the electrical property of the subject;
An upper jig disposed on the upper side of the subject and to which the contact pin is fixed;
An insulating wall disposed at a position surrounding the side surface of the subject and capable of sealing the subject by the upper jig and the lower jig;
An exhaust unit that exhausts air in a sealed space to make the negative pressure in a state in which the subject is sealed;
In the upper jig, a gas ejection port disposed so as to be capable of ejecting an insulating gas toward the surface of the subject;
A gas supply unit for supplying the insulating gas to the gas injection port;
Bei to give a,
The gas supply unit is the insulating device at a predetermined cycle in a state in which the subject is placed on the lower jig and the subject is not sealed before the gas is exhausted by the exhaust unit. supplying sex gas to the gas ejection port, semiconductors chip test device.
前記被検体の上側に配置された上治具と、前記下治具と、前記被検体の側面を囲む位置に配置された絶縁壁とで前記被検体を密閉する工程と、
密閉された空間が予め定められた圧力になるまで前記絶縁性ガスを前記ガス噴出口に供給して噴出する工程と、
前記被検体を密閉した状態で前記被検体の電気的特性を測定する工程と、
を備える、半導体チップテスト方法。 In a state where the subject is placed on the lower jig and the subject is not sealed , the surface of the semiconductor chip which is the subject from the gas jet formed vertically penetrating to the upper jig. Spouting the insulating gas at a predetermined cycle toward the
A step of sealing the subject with an upper jig which is arranged on the upper side of the front Symbol subject, and the lower jig, and the insulating wall which is disposed at a position surrounding the side face of the subject,
Supplying the insulating gas to the gas outlet and injecting the insulating gas until the sealed space reaches a predetermined pressure;
And measuring the electrical characteristics of the subject in a state sealing the pre Symbol subject,
A semiconductor chip test method comprising:
前記被検体である半導体チップが載置された前記下治具と、前記被検体の上側に配置された前記上治具と、前記被検体の側面を囲む位置に配置された絶縁壁とで前記被検体を密閉する工程と、
密閉された空間の空気を排気し負圧にする工程と、
前記密閉された空間を負圧にした状態で前記被検体の電気的特性を測定する工程と、
を備える、半導体チップテスト方法。 In a state in which the subject is placed on the lower jig and the subject is not sealed, a cycle predetermined from the gas jet port formed on the upper jig toward the surface of the semiconductor chip as the subject Spouting the insulating gas at
Wherein in said lower jig on which the semiconductor chip is mounted is subject wherein said upper jig arranged on the upper side of the subject, and the insulating wall which is disposed at a position surrounding the side face of the subject A process of sealing the subject;
A step of negative pressure to evacuate the air-tight closed spaces,
And measuring the electrical characteristics of the subject while the enclosed space to a negative pressure,
A semiconductor chip test method comprising:
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