JP6503894B2 - 窒化物半導体テンプレートの製造方法および窒化物半導体テンプレート - Google Patents
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Description
凹凸サファイア基板1は、平坦なサファイア基板の主面に凹部12及び凸部13によって規則的な凹凸が形成されたサファイア基板である。図2は凹部12の形状が凹凸サファイア基板1の上面から見てストライプ状である例である。図2の(a)は凹凸サファイア基板1を上面から見た平面図、図2の(b)は、図2の(a)において線分XYで切断し、側面から見た断面図である。図3は凸部13が凹凸サファイア基板1の上面から見て略円形である例である。図3の(a)は凹凸サファイア基板1を上面から見た平面図、図3の(b)は、図3の(a)において線分XYで切断し、側面から見た断面図である。図4は凹部12の形状が凹凸サファイア基板1の上面から見て略円形である例(図3と凹凸が逆)である。図4の(a)は凹凸サファイア基板1を上面から見た平面図、図4の(b)は、図4の(a)において線分XYで切断し、側面から見た断面図である。なお、図2、図3及び図4共に、凹凸サファイア基板1の部分的な領域を抜き出した概念図である。規則的な凹凸の他の例として、凸部13が凹凸サファイア基板1の上面から見て略正多角形である例、凹部12が凹凸サファイア基板1の上面から見て略多角形である例が考えられる。あるいは、複数種の凹部及び/又は凸部が混在し、全体として規則的になっていても良い。凹部12の形成方法は、エッチング等公知の手法を適宜採用すれば良い。好ましい形成方法については後述する。
バッファ層2は窒化アルミニウムからなり、凹凸サファイア基板1の凹部にのみ存在する。凹部にのみバッファ層2が存在することで、後述の縦成長領域31をほぼ凹部12上にのみ形成できるようになる。バッファ層2の形成方法は公知の手法を適宜採用すれば良い。バッファ層2の好ましい形成方法については後述する。
窒化物半導体層3は窒化物アルミニウムからなり、凹凸サファイア基板1及びバッファ層2の上に存在している。窒化粒半導体層3の上面は、略平面な窒化アルミニウムによって形成される。こうして得られる窒化物半導体テンプレートは、紫外光を発する半導体発光素子との格子不整合が低い。そのため、得られる窒化物半導体テンプレート上に紫外光を発光する半導体発光素子を形成すると、各種配向性の良い半導体発光素子が得られる。その結果、得られる半導体発光素子の初期特性、寿命特性が向上する。
図5の(a)〜(c)は、本工程の一例の流れを表す概念図である。図5の(a)は、平坦なサファイア基板11上に保護膜4が形成され、さらにレジスト膜5が形成された複合体を表す。
準備された保護膜付き凹凸サファイア基板の上に窒化物半導体からなるバッファ層2を形成し、第一の中間体を得る。図5の(d)はその結果の例である。凹12部上では凹凸サファイア基板1とバッファ層2とは直接接しているが、凸部13上では間に保護膜4が存在していることになる。バッファ層2の組成、高さ、凹凸サファイア基板1の凹部12との関係等は本発明の窒化物半導体テンプレートについて述べたことに準ずるので割愛する。
得られる第一の中間体から保護膜4を除去し、第二の中間体を得る。図5の(e)はその結果の例である。保護膜4の除去に伴い、保護膜4の上に存在していたバッファ層2も同時に除去される。このため、バッファ層2は凹部12上にのみ存在する。
得られる第二の中間体上に窒化物半導体層3を形成し、凹部12に由来する凹凸を無くし、その上面を略平面にする。本工程の好ましい形態は、縦成長工程及び横成長工程を含む。以下、両工程について説明する。
第二の中間体におけるバッファ層2から、第二の中間体の上面と垂直な方向に優先的に窒化物半導体の結晶を成長させ、縦成長領域31を形成する。図6の(a)はその結果の例である。結晶成長の方向の優劣は、成長温度、原料ガスの流量比等を適宜調節すれば制御可能である。本工程においては、成長温度を低めに、原料ガスの流量比は窒素原料ガスの流量をIII族元素原料ガスの流量より多くする。こうして形成される縦成長領域31は傾斜面を有している。
縦成長領域31から、第二の中間体の上面と平行な方向に優先的に窒化物半導体の結晶を成長させ、横成長領域32を形成する。図6の(b)はその結果の例である。縦成長領域31及び横成長領域32によって、窒化物半導体層3が形成される。本工程を経ると、結晶成長の主な方向が第二の中間体の上面と平行な方向であるため、得られる上面の平坦度が高くなりやすく好ましい。結晶成長の方向の優劣の制御は、縦成長工程の逆の思想に基づいて行えば良い。
サファイア基板をMOCVD装置に設置し、MOCVD法によって二酸化ケイ素からなる膜厚2μmの保護膜を形成した。保護膜形成後、サファイア基板をMOCVD装置から取り出し、保護膜上にレジストを塗布し、レジスト膜を形成した。レジスト膜形成後、特定パターンのマスクを通じてレジスト膜を露光した。露光後、レジスト膜を現像してその形状を特定パターンにした。現像後、特定パターンの形状になったレジスト膜に熱処理を施してレジスト膜を硬化させた。硬化後、トリフルオロメタン(CHF3)を用いて保護膜をパターンに沿ってエッチングした。保護膜のエッチング完了後、塩素ガスを用いてサファイア基板及びレジスト膜をエッチングし、保護膜付き凹凸サファイア基板を得た。
得られた保護膜付き凹凸サファイア基板を再度MOCVD装置の反応容器に設置し、反応容器内の温度を1140℃に調整した。調節後、水素を1.2×10−2mol/sec(16slm)で600秒間流し続け、反応容器内を熱洗浄した。熱洗浄後、反応容器内の温度を1000℃、圧力を12.7kPa(95Torr)に調整した。調整後、アンモニアを3.6×10−8mol/sec(5.0×10−3slm)で1800秒間流し続け、凹凸サファイア基板の上面の内、保護膜に覆われていない露出部を窒化した。
窒化後、水素を1.0×10−2mol/sec(13slm)、窒素を5.25×10−3mol/sec(7slm)、酸素を1.6×10−8mol/sec、アンモニアを3.6×10−8mol/sec(5.0×10−3slm)、TMA(トリメチルアルミニウム)を5.1×10−8mol/secで250秒流し続け、凹凸サファイア基板上に窒化アルミニウムからなるバッファ層を形成し、第一の中間体を得た。バッファ層の形状は、下面が直径20nm程度、高さが20nm程度の多角錐台が隙間なく並んだ形状であった。
得られた第一の中間体をMOCVD装置から取り出し、バッファードフッ酸に二時間浸して保護膜と、保護膜上に形成されたバッファ層とを除去し、第二の中間体を得た。得られた第二の中間体は水洗、乾燥し、再度MOCVD装置の反応容器に設置した。
反応容器内の温度を1000℃に調整し、アンモニアを4.46×10−3mol/sec(6slm)、TMG(トリメチルガリウム)を1.0×10−6mol/secで20分間流し続け、ファセット面を有する窒化ガリウムの結晶を成長させた。引き続き反応容器内の温度を1100℃に調整し、アンモニアを4.46×10−3mol/sec、TMGを3.3×10−6mol/secで20分間流し続け、ファセット面から優先的に結晶を成長させ、窒化ガリウムからなり、その上面が略平面である窒化物半導体層を形成した。
アンモニア、TMGの供給を止め、反応容器内を常温まで放冷した。放冷後、目的の窒化物半導体テンプレートを得た。
<前処理>、<バッファ層形成工程>
サファイア基板をMOCVD装置の反応容器に設置し、実施例における前処理と同様にしてサファイア基板の上面を窒化した。窒化後、実施例におけるバッファ層形成工程と同様にしてサファイア基板上に窒化アルミニウムからなるバッファ層を形成した。バッファ層の厚さは20nm程度であった。
バッファ層が形成されたサファイア基板をCVD装置に設置し、実施例における準備工程と同様にして、凹凸サファイア基板の凸部にのみバッファ層が形成された中間体を得た。
得られた中間体をMOCVD装置から取り出し、以下実施例における除去工程〜後処理と同様にして目的の窒化物半導体テンプレートを得た。
<準備工程>
サファイア基板をCVD装置に設置し、実施例における準備工程と同様にして保護膜付き凹凸サファイア基板を得た。
得られた凹凸サファイア基板をMOCVD装置から取り出し、実施例における除去工程と同様にして保護膜付き凹凸サファイア基板から保護膜を除去した。
保護膜が除去された凹凸サファイア基板をMOCVD装置の反応容器に設置し、実施例における前処理、バッファ層形成工程と同様にして、凹凸サファイア基板の凹部及び凸部にバッファ層が形成された第一の中間体を得た。
引き続き実施例における平面化工程、後処理と同様にして目的の窒化物半導体テンプレートを得た。
実施例及び比較例1、2の窒化物半導体テンプレートについて、XRC(X線ロッキングカーブ回折)法によって、窒化物半導体テンプレート上面における(302)方向の配向性を測定した。また、CL(カソードルミネッセンス)法によって単位面積当たりの転位密度ρを測定した。これらの結果を表1に示す。
11 サファイア基板
12 凹部
13 凸部
2 バッファ層
3 窒化物半導体層
31 縦成長領域
32 横成長領域
4 保護膜
5 レジスト膜
Claims (10)
- 凹凸サファイア基板の凸部の上に保護膜を有する保護膜付き凹凸サファイア基板を用意する準備工程と、
前記保護膜付き凹凸サファイア基板上に窒化物半導体からなるバッファ層を形成し、第一の中間体を得るバッファ層形成工程と、
前記第一の中間体から前記保護膜を除去し、第二の中間体を得る除去工程と、
前記第二の中間体の上に、窒化物半導体からなり、その上面が前記第二の中間体の上部全体を覆う略平面である窒化物半導体層を形成する平面化工程と、
を含む窒化物半導体テンプレートの製造方法。 - 前記保護膜が二酸化ケイ素である、請求項1に記載の製造方法。
- 前記平面化工程が、
前記バッファ層から前記第二の中間体の上面と垂直な方向に優先的に結晶成長させ、縦成長領域を形成する縦成長工程と、
前記縦成長領域から前記第二の中間体の上面と平行な方向に優先的に結晶成長させ、横成長領域を形成する横成長工程と
を含み、前記縦成長領域及び前記横成長領域を併せて窒化物半導体層とする、請求項1又は2に記載の製造方法。 - 複数の凹部及び凸部によって規則的な凹凸を有する凹凸サファイア基板と、
前記凹凸サファイア基板の前記凹部にのみ存在し、窒化アルミニウムからなるバッファ層と、
前記バッファ層及び前記凹凸サファイア基板の上に存在し、窒化アルミニウムからなる窒化物半導体層と、
を有する窒化物半導体テンプレート。 - 前記凹部と前記凸部が、前記凹部及び前記凸部に対して略垂直な面によって接続されている、請求項4に記載の窒化物半導体テンプレート。
- 前記バッファ層の厚さの、前記凹凸サファイア基板の前記凹部の深さに対する比が、0.002以上0.05以下である、請求項4又は5に記載の窒化物半導体テンプレート。
- 前記凹凸サファイア基板の前記凸部の形状が、前記凹凸サファイア基板の上面から見て略円形である、請求項4乃至6のいずれか一項に記載の窒化物半導体テンプレート。
- 前記凹凸サファイア基板の前記凸部の直径diが、2μm以上20μm以下である、請求項7に記載の窒化物半導体テンプレート。
- 前記凹凸サファイア基板の前記凸部の直径diの、前記凹部の深さdpに対する比di/dpが、4以上100以下である、請求項7又は8に記載の窒化物半導体テンプレート。
- 前記凹凸サファイア基板の前記凸部の間隔Lが、4μm以上25μm以下である、請求項7乃至9のいずれか一項に記載の窒化物半導体テンプレート。
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