JP6498146B2 - 積層フィルムおよびその製造方法、偏光板、液晶パネル、液晶表示装置ならびにタッチパネル - Google Patents

Description

本発明は、積層フィルムおよびその製造方法、偏光板、液晶パネル、液晶表示装置ならびにタッチパネルに関する。

液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）等の画像表示装置に含まれるフィルムをはじめとする様々なフィルム部材として、基材フィルム上に硬化性組成物を硬化した硬化層を形成した積層フィルムが広く用いられている。また、かかる硬化層に、表面形状の制御等のためにシリカ粒子を含有させることも行われている（例えば特許文献１参照）。

特開２０１５−３１７９４号公報

上記硬化層を有する積層フィルム（以下、単に「フィルム」とも記載する。）は、製造工程等における取り扱いを容易にするために、積層フィルム表面が他のフィルム等の表面と貼り付き難いこと、即ちアンチブロッキング性に優れることが望ましい。アンチブロッキング性向上のための手段としては、硬化層に粒子を添加することが挙げられる。そこで、例えば特許文献１に記載されているように、硬化層にシリカ粒子を含有させてアンチブロッキング性の向上を図ることが考えられる。しかし一方で、一般に、シリカ粒子を添加すると、フィルムに白濁が生じて透明性が低下する傾向がある。防眩性フィルムのように透明性を敢えて下げることが望ましい一部の用途のフィルムを除けば、一般に、フィルムの白濁は低減することが求められる。例えば、画像表示装置のように透明性に優れることが求められる用途に、耐擦傷性向上等のために用いられる積層フィルムは、白濁が少ないことが望ましい。

そこで本発明の目的は、基材フィルムと硬化性組成物を硬化した硬化層とを有する積層フィルムであって、優れたアンチブロッキング性を有し、かつ白濁が抑制された積層フィルムを提供することにある。

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、以下の積層フィルム：
基材フィルムと、硬化性組成物を硬化した硬化層と、を有する積層フィルムであって、
上記積層フィルムのヘイズは１．０％以下であり、
上記硬化層は、
シリカ粒子Ａ：表面に疎水性基を有し、平均一次粒子径が５〜５０ｎｍの範囲であり、かつ上記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像を二値化処理した二値化画像において１００ｎｍ以上の長さの連続した黒色部として観察されるシリカ粒子、および
シリカ粒子Ｂ：上記シリカ粒子Ａ以外のシリカ粒子であって、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が７〜５０ｎｍの範囲であるシリカ粒子、
を含み、
上記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像における上記シリカ粒子Ａの占有面積率は、０．５〜２０．０％の範囲であり、かつ上記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像における上記シリカ粒子Ｂの占有面積率と下記式：
０．００５≦シリカ粒子Ａの占有面積率／シリカ粒子Ｂの占有面積率≦０．４００
の関係を満たし、
上記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像における上記シリカ粒子Ａの占有面積率の変動係数は０．５％超３．０％以下であり、かつ上記シリカ粒子Ｂの占有面積率の変動係数は０．０〜０．５％の範囲である積層フィルム、
を新たに見出した。即ち、上記積層フィルムは、優れたアンチブロッキング性を示すことができ、かつ白濁抑制が可能であることが、明らかとなった。この点に関する本発明者らの推察は、後述する。

本発明および本明細書において、上記の用語の定義および／または測定方法は、以下の通りである。

「硬化性組成物」とは、一種以上の硬化性化合物を含む組成物をいう。「硬化性化合物」とは、１分子中に１つ以上の硬化性基（重合性基とも呼ばれる。）を有する化合物をいい、「硬化性基」とは、硬化反応し得る基をいう。硬化性組成物を硬化した硬化層は、硬化性化合物由来の成分を含む。硬化性化合物由来の成分は、硬化性化合物が有する硬化性基を、硬化反応した後の形態で含み得る。

「ヘイズ」とは、雰囲気温度２５℃および相対湿度６０％の環境下で、ヘイズメーター（例えば日本電色工業社製ヘイズメーターＮＤＨ２０００）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６（２０００）にしたがって測定される値である。一般に、防眩性フィルムは、１．０％を超えるヘイズを示すフィルムである。これに対し、上記積層フィルムのヘイズは、１．０％以下である。

「疎水性基」とは、溶解性パラメータ（ＳＰ（Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒ）値）が１０．０〜３０．０の範囲である基をいう。上記ＳＰ値とは、Ｆｅｄｏｒの推算法によって計算される値である。計算方法の詳細は、ＳＰ値基礎・応用と計算方法 ｐ．６６：山本秀樹著：情報機構（２００５．３．３１発行）に記載されている。

上記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像は、積層フィルムから切り出した厚み約５０ｎｍの断面観察用試料（超薄切片）を透過型電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＴＥＭ）によって観察し取得する。上記切り出しは、例えばミクロトームによって行う。
二値化処理される断面透過型電子顕微鏡像は、５０万倍〜５００万倍の間の、シリカ粒子Ａおよびシリカ粒子Ｂの一次粒子径が判別できる任意の観察倍率で観察し取得する。
上記硬化層に含まれるシリカ粒子をシリカ粒子Ａとシリカ粒子Ｂとに分類するために用いる二値化画像は、上記方法により取得された断面透過型電子顕微鏡像（以下、「断面ＴＥＭ像」とも記載する。）を、以下の方法により二値化処理することによって作成する。
上記断面ＴＥＭ像において上記硬化層の部分を２５６階調のグレースケール表示し、０〜５０階調部を黒色部とし、５１〜２５５階調部を白色部として二値化処理して、上記二値化画像を得る。
上記方法により得られた二値化画像において、１００ｎｍ以上の長さの連続した黒色部として観察されるシリカ粒子をシリカ粒子Ａと特定する。シリカ粒子の中で、シリカ粒子Ａに分類されない粒子を、シリカ粒子Ｂと特定する。「連続した黒色部」とは、黒色部からなる部分であること、即ち、この部分の中に白色部を含まないことをいう。連続した黒色部の「長さ」とは、連続した黒色部の輪郭上のいずれか２点をむすぶ直線の中で、最も長い直線の長さをいうものとする。なお硬化層の中にシリカ粒子以外の粒子が含まれる場合、粒子がシリカ粒子であることの特定は、粒子の成分分析が可能な公知の分析方法を用いて行うことができる。そのような分析方法としては、走査型電子顕微鏡を用いる成分分析法、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＳ：Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ−ｒａｙ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）、オージェ電子分光法（ＡＥＳ：Ａｕｇｅｒ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）等の公知の方法を用いることができる。

上記硬化層における粒子の「平均一次粒子径」とは、以下の方法により測定される値である。
上記のように取得した断面ＴＥＭ像において、シリカ粒子Ａに分類された粒子中の任意に選択した１００個の一次粒子について、一次粒子に外接する円の直径を求め、その算術平均を、上記硬化層におけるシリカ粒子Ａの平均一次粒子径とする。シリカ粒子Ｂについても、上記のように取得した断面ＴＥＭ像において、シリカ粒子Ｂに分類された粒子中の任意に選択した１００個の一次粒子について、一次粒子に外接する円の直径を求め、その算術平均を、上記硬化層におけるシリカ粒子Ｂの平均一次粒子径とする。
また、硬化層形成のために用いたシリカ粒子の種類および硬化層におけるシリカ粒子の存在状態から、硬化層形成のために用いたいずれのシリカ粒子が、硬化層においてシリカ粒子Ａまたはシリカ粒子Ｂとして存在するか確認できる場合もある。そのような場合、硬化層形成のための硬化性組成物の調製に用いたシリカ粒子の平均一次粒子径を、硬化層におけるシリカ粒子Ａおよび／またはシリカ粒子Ｂの平均一次粒子径として採用してもよい。硬化性組成物の調製に用いたシリカ粒子の平均一次粒子径の測定方法としては、後述のシリカ粒子含有組成物１および２におけるシリカ粒子の平均一次粒子径の測定方法を用いるものとする。

上記硬化層の断面ＴＥＭ像におけるシリカ粒子Ａの占有面積率および変動係数とは、以下の方法により求められる値とする。
上記硬化層に含まれるシリカ粒子をシリカ粒子Ａとシリカ粒子Ｂとに分類するために用いた厚み約５０ｎｍの断面観察用試料（超薄切片）を、透過型電子顕微鏡によって倍率１万倍で観察して断面ＴＥＭ像を取得する。先に記載の方法によりシリカ粒子Ａに分類された粒子が、取得した断面ＴＥＭ像において、面積２μｍ×２μｍの領域に占める割合（面積率）を求める。任意に選択した２０箇所の測定箇所において、同様にシリカ粒子Ａに分類された粒子の占める割合を求め、求めた値の算術平均を、シリカ粒子Ａの占有面積率とする。更に、２０箇所の測定箇所における面積率の「標準偏差／上記占有面積率（算術平均）×１００」を変動係数（単位：％）とする。

上記硬化層の断面ＴＥＭ像におけるシリカ粒子Ｂの占有面積率および変動係数とは、以下の方法により求められる値とする。
上記硬化層に含まれるシリカ粒子をシリカ粒子Ａとシリカ粒子Ｂとに分類するために用いた厚み約５０ｎｍの断面観察用試料（超薄切片）を、透過型電子顕微鏡によって倍率２０万倍で観察して断面ＴＥＭ像を取得する。先に記載の方法によりシリカ粒子Ｂに分類された粒子が、取得した断面ＴＥＭ像において、面積４００ｎｍ×４００ｎｍの領域に占める割合（面積率）を求める。任意に選択した２０箇所の測定箇所において、同様にシリカ粒子Ｂに分類された粒子の占める割合を求め、求めた値の算術平均を、シリカ粒子Ｂの占有面積率とする。更に、２０箇所の測定箇所における面積率の「（標準偏差／上記占有面積率（算術平均））×１００」を変動係数（単位：％）とする。

本発明の一態様にかかる積層フィルムは、断面ＴＥＭ像を取得する硬化層断面の位置および／または測定箇所の１箇所以上が異なるあらゆる測定において、上記占有面積率および占有面積率の変動係数のすべてが上記範囲内となる積層フィルムに限定されるものではない。断面ＴＥＭ像を硬化層断面の任意の位置で取得し、かつ任意に選択した２０箇所について行われる少なくとも１つの測定において、上記占有面積率および占有面積率の変動係数のすべてが上記範囲内となる積層フィルムであれば、本発明の一態様にかかる積層フィルムに包含される。

一態様では、上記硬化層の表面で測定される凹凸プロファイルの波長２．５０〜５．００μｍにおける合計振幅は０．００７〜０．０５０ｎｍの範囲であり、かつ上記硬化層の表面で測定される凹凸プロファイルの最大高さＳｔは７〜１００ｎｍの範囲である。

上記硬化層の表面で測定される凹凸プロファイルの波長２．５０〜５．００μｍにおける合計振幅とは、以下の方法により求めるものとする。
光干渉方式の非接触表面形状測定装置（例えば菱化システム社製非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ２．０）を用いて、視野サイズ１２４μｍ×１２４μｍで表面の凹凸プロファイルを得る。例えば、菱化システム社製非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ２．０を、レンズ倍率１０倍、Ｐｈａｓｅモードにて用いて上記凹凸プロファイルを得ることができる。得られた凹凸プロファイルを高速フーリエ変換し、周波数１００（１／ｍｍ）毎の振幅を算出する。波長３．３３μｍ〜５．００μｍにおける振幅と波長２．５０μｍ〜３．３３μｍにおける振幅を足し合わせた値として、上記硬化層の表面で測定される凹凸波形の波長２．５０〜５．００μｍにおける合計振幅を求める。

上記「最大高さＳｔ」とは、以下の方法により求めるものとする。
光干渉方式の非接触表面形状測定装置（例えば菱化システム社製非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ２．０）を用いて、視野サイズ１２４μｍ×１２４μｍで表面の凹凸プロファイルを得る。例えば、菱化システム社製非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ２．０を、レンズ倍率１０倍、Ｐｈａｓｅモードにて用いて上記凹凸プロファイルを得ることができる。得られた凹凸プロファイルにおいて、隣り合う凸部の頂部と凹部の底部との鉛直方向における最大距離を、最大高さＳｔとする。

一態様では、シリカ粒子ＡのＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−Ｔｅｌｌｅｒ）比表面積は、３０〜４００ｍ^２／ｇの範囲である。ＢＥＴ比表面積は、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．６０，３０９（１９３８）に記載の方法によって測定される。

一態様では、シリカ粒子Ａは、炭素含有率をＢＥＴ比表面積で除した値が０．００５〜０．１５０の範囲である。炭素含有率は、公知の元素分析法により測定することができる。

一態様では、シリカ粒子Ａは、炭素含有率をＢＥＴ比表面積で除した値が０．０１０〜０．０３０の範囲である。

一態様では、シリカ粒子Ｂが有する疎水性基は、アルキルシリル基、ビニルシリル基由来の残基、エポキシシリル基由来の残基および（メタ）アクリロキシシリル基由来の残基からなる群から選択される。「ビニルシリル基由来の残基」とは、硬化性基の一種であるビニルシリル基が硬化反応した後の基であって、硬化反応によって他の基と結合している場合もある。エポキシシリル基由来の残基および（メタ）アクリロキシシリル基由来の残基についても、同様である。また、本発明および本明細書において、「（メタ）アクリロキシシリル基」とは、アクリロキシシリル基とメタクリロキシシリル基の一方または両方を意味する。後述の「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基とメタクリロイル基の一方または両方を意味し、「（メタ）アクリル」とは、アクリルおよびメタクリルの一方または両方を意味する。残基についてのＳＰ値は、硬化反応前の基のＳＰ値をいうものとする。

一態様では、上記硬化性組成物は、多官能（メタ）アクリレート化合物およびエポキシ化合物からなる群から選択される硬化性化合物を含む。本発明および本明細書において、「（メタ）アクリレート化合物」は、１分子中に１つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物をいう。（メタ）アクリレート化合物を、（メタ）アクリレートとも記載する。「多官能（メタ）アクリレート化合物」とは、１分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物をいう。

一態様では、上記硬化性組成物は、重合開始剤を更に含む。

本発明の更なる態様は、上記積層フィルムの製造方法であって、
表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が５〜５０ｎｍであるシリカ粒子を有機溶媒中に分散してシリカ粒子含有組成物１を調製する工程と、
シリカ粒子含有組成物１を、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が７〜５０ｎｍであるシリカ粒子を有機溶媒中に含むシリカ粒子含有組成物２、および硬化性化合物と混合して硬化性組成物を調製する工程と、
上記硬化性組成物を基材フィルム上に塗布する工程と、
上記塗布された硬化性組成物を硬化する工程と、
を含む上記積層フィルムの製造方法、
に関する。

上記のシリカ粒子含有組成物１およびシリカ粒子含有組成物２に含まれるシリカ粒子の平均一次粒子径は、シリカ粒子組成物中に含まれるシリカ粒子または組成物調製のために用いるシリカ粒子について測定される値とする。測定は、透過型電子顕微鏡観察により行う。具体的には、任意に選択した５０個の一次粒子について、一次粒子に外接する円の直径を求め、その算術平均を、平均一次粒子径とする。透過型電子顕微鏡の観察倍率は、５０万倍〜５００万倍の間の一次粒子径が判別できる任意の倍率とする。

一態様では、シリカ粒子含有組成物１中のシリカ粒子の平均二次粒子径は、１００〜５００ｎｍの範囲である。上記平均二次粒子径は、レーザー回折散乱式粒子径分布測定装置を用いて真球形フィッティング（屈折率１．４６）を行い測定される値である。測定装置としては、例えばマイクロトラック・ベル社製ＭｉｃｒｏＴｒａｃ ＭＴ３０００を用いることができる。

本発明の更なる態様は、偏光子と、上記積層フィルムと、を含む偏光板に関する。

本発明の更なる態様は、液晶表示素子と、上記偏光板と、を含む液晶パネルに関する。

本発明の更なる態様は、上記液晶パネルと、バックライトユニットと、を含む液晶表示装置に関する。

本発明の更なる態様は、上記積層フィルムを含むタッチパネルに関する。

本発明の一態様によれば、基材フィルムと硬化性組成物を硬化した硬化層とを有する積層フィルムであって、優れたアンチブロッキング性を有し、かつ白濁が抑制された積層フィルムを提供することができる。本発明の更なる態様によれば、上記積層フィルムの製造方法、ならびに上記積層フィルムを含む偏光板、液晶パネル、液晶表示装置、およびタッチパネルを提供することができる。

以下の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがある。ただし、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。

本発明および本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

［積層フィルム］
本発明の一態様にかかる積層フィルムは、
基材フィルムと、硬化性組成物を硬化した硬化層と、を有する積層フィルムであって、
上記積層フィルムのヘイズは１．０％以下であり、
上記硬化層は、
シリカ粒子Ａ：表面に疎水性基を有し、平均一次粒子径が５〜５０ｎｍの範囲であり、かつ上記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像を二値化処理した二値化画像において１００ｎｍ以上の長さの連続した黒色部として観察されるシリカ粒子、および
シリカ粒子Ｂ：上記シリカ粒子Ａ以外のシリカ粒子であって、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が７〜５０ｎｍの範囲であるシリカ粒子、
を含み、
上記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像における上記シリカ粒子Ａの占有面積率は、０．５〜２０．０％の範囲であり、かつ上記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像における上記シリカ粒子Ｂの占有面積率と下記式：
０．００５≦シリカ粒子Ａの占有面積率／シリカ粒子Ｂの占有面積率≦０．４００
の関係を満たし、
上記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像における上記シリカ粒子Ａの占有面積率の変動係数は０．５％超３．０％以下であり、かつ上記シリカ粒子Ｂの占有面積率の変動係数は０．０〜０．５％の範囲である積層フィルム、
である。

上記積層フィルムについて、本発明者らは、以下のように推察している。ただし本発明は、下記推察に限定されるものではない。

シリカ粒子Ａは、上記範囲の平均一次粒子径を有し、かつ上記二値化画像において１００ｎｍ以上の長さの連続した黒色部として観察されるシリカ粒子である。かかる状態で観察されるシリカ粒子は、他のシリカ粒子（シリカ粒子Ｂ）と比べて、上記硬化層において、より凝集した状態で存在する粒子と考えられる。このような状態のシリカ粒子Ａの占有面積率が０．５〜２０．０％の範囲であり、シリカ粒子Ｂの占有面積率と上記式の関係を満たし、かつシリカ粒子Ａの占有面積率の変動係数およびシリカ粒子Ｂの占有面積率の変動係数が上記範囲であることは、上記硬化層におけるシリカ粒子の存在状態が、下記（１）および（２）であることを示していると、本発明者らは推察している。そして、下記（１）および（２）の状態で上記硬化層にシリカ粒子が存在することが、上記硬化層を有する積層フィルムのアンチブロッキング性の向上および白濁低減に寄与すると、本発明者らは考えている。
（１）より凝集した状態で存在するシリカ粒子Ａが、上記硬化層に、シリカ粒子Ｂと比べて、少量、よりばらついた存在状態で含まれる。
（２）これに対し、シリカ粒子Ｂは、上記硬化層に、より凝集した状態で存在するシリカ粒子Ａと比べて、多量に、より均一な存在状態で含まれる。
また、シリカ粒子Ａおよびシリカ粒子Ｂが表面に疎水性基を有するシリカ粒子であることも、白濁低減に寄与すると、本発明者らは推察している。
ただし、以上は推察であって、本発明を何ら限定するものではない。また、本明細書に記載の本発明者らの他の推察にも、本発明は何ら限定されるものではない。

以下に、上記積層フィルムについて、更に詳細に説明する。

＜硬化層＞
＜＜硬化層におけるシリカ粒子Ａおよびシリカ粒子Ｂの存在状態＞＞
上記硬化層において、シリカ粒子Ａおよびシリカ粒子Ｂは、以下の状態で存在する。
占有面積率に関して、シリカ粒子Ａの占有面積率は、０．５〜２０．０％の範囲であり、かつシリカ粒子Ｂの占有面積率と、下記式：
０．００５≦シリカ粒子Ａの占有面積率／シリカ粒子Ｂの占有面積率≦０．４００
の関係を満たす。
占有面積率の変動係数に関して、シリカ粒子Ａの占有面積率の変動係数は０．５％超３．０％以下であり、かつシリカ粒子Ｂの占有面積率の変動係数は０．０〜０．５％の範囲である。

（占有面積率）
上記硬化層におけるシリカ粒子Ａの占有面積率は、０．５〜２０．０％の範囲である。これに対し、上記硬化層におけるシリカ粒子Ｂの占有面積率は、シリカ粒子Ａの占有面積率より大きい。詳しくは、シリカ粒子Ａの占有面積率とシリカ粒子Ｂの占有面積率の比率（シリカ粒子Ａの占有面積率／シリカ粒子Ｂの占有面積率）は、下記式：
０．００５≦シリカ粒子Ａの占有面積率／シリカ粒子Ｂの占有面積率≦０．４００
を満たす。以下において、「シリカ粒子Ａの占有面積率／シリカ粒子Ｂの占有面積率」を、「占有面積比率Ａ／Ｂ」とも記載する。

本発明者らは、シリカ粒子Ａの占有面積率が０．５％以上であることはアンチブロッキング性向上に寄与すると推察している。アンチブロッキング性の更なる向上の観点から、シリカ粒子Ａの占有面積率は、１．０％以上であることが好ましく、２．０％以上であることがより好ましく、３．０％以上であることが更に好ましい。また、シリカ粒子Ａの占有面積率が２０．０％以下であることは白濁抑制に寄与すると、本発明者らは推察している。白濁をより一層抑制する観点から、シリカ粒子Ａの占有面積率は、１５．０％以下であることが好ましく、１０．０％以下であることがより好ましく、８．０％以下であることが更に好ましく、６．０％以下であることが一層好ましく、５．０％以下であることがより一層好ましい。

また、占有面積比率Ａ／Ｂが上記式を満たすこと、即ち占有面積比率Ａ／Ｂが０．００５〜０．４００の範囲であることは白濁抑制に主に寄与すると、本発明者らは推察している。上記の観点から、占有面積比率Ａ／Ｂは、０．０１０以上であることが好ましく、０．０５０以上であることがより好ましい。また、同様の観点から、占有面積比率Ａ／Ｂは、０．２００以下であることが好ましく、０．１５０以下であることがより好ましく、０．１００以下であることが更に好ましい。

シリカ粒子Ｂの占有面積率は、例えば、３０．０〜９２．０％の範囲であり、４５．０〜９０．０％の範囲であることが好ましく、５０．０〜７０．０％の範囲であることが更に好ましい。ただし、シリカ粒子Ｂの占有面積率は、シリカ粒子Ａの占有面積率との関係で上記式を満たせばよく、上記例示した範囲に限定されるものではない。

シリカ粒子Ａの占有面積率、シリカ粒子Ｂの占有面積率、および占有面積比率Ａ／Ｂは、上記硬化層を形成するために用いる硬化性組成物の成分の種類および含有量によって調整することができる。この点について、詳細は後述する。

（占有面積率の変動係数）
上記硬化層において、シリカ粒子Ａの占有面積率の変動係数は、０．５％超かつ３．０％以下である。シリカ粒子Ａは、上記硬化層の断面ＴＥＭ像を二値化処理した二値化画像において１００ｎｍ以上の長さの連続した黒色部として観察されるシリカ粒子である。先に詳述したように、このように存在しているシリカ粒子Ａは、シリカ粒子Ｂと比べて凝集した状態で存在していると考えられる。凝集していることに起因して硬化層における存在状態にばらつきが生じる結果、シリカ粒子Ａの占有面積率の変動係数は０．５％超になり、このことがアンチブロッキング性の向上に寄与すると本発明者らは推察している。アンチブロッキング性の更なる向上の観点から、シリカ粒子Ａの占有面積率の変動係数は、０．８％以上であることが好ましく、１．０％以上であることがより好ましく、１．５％以上であることが更に好ましい。一方、シリカ粒子Ａの占有面積率の変動係数が３．０％以下であることは白濁抑制に寄与すると、本発明者らは推察している。白濁をより一層抑制する観点から、シリカ粒子Ａの占有面積率は、２．５％以下であることが好ましく、２．０％以下であることがより好ましい。
なおシリカ粒子Ａは、上記二値化画像において１００ｎｍ以上の長さの連続した黒色部として観察される。上記黒色部の長さは１００ｎｍ以上であって、例えば１００〜３０００ｎｍの範囲である。ただし、例示した範囲に限定されるものではない。

上記硬化層におけるシリカ粒子Ｂの占有面積率の変動係数は、０．０〜０．５％の範囲である。シリカ粒子Ａの占有面積率の変動係数は上記範囲であるため、シリカ粒子Ｂの占有面積率の変動係数はシリカ粒子Ａの占有面積率の変動係数より小さい。シリカ粒子Ａと比べて凝集が少ないシリカ粒子Ｂが、このようにシリカ粒子Ａと比べて均一な状態で存在することも、白濁抑制に寄与すると本発明者らは推察している。白濁をより一層抑制する観点から、シリカ粒子Ｂの占有面積率の変動係数は、０．０〜０．３％の範囲であることが好ましく、０．０〜０．１％の範囲であることがより好ましく、０．０％であることが特に好ましい。

シリカ粒子Ａおよびシリカ粒子Ｂの占有面積率の変動係数は、上記硬化層を形成するために用いる硬化性組成物の成分の種類、硬化性組成物の調製方法等によって、調整することができる。この点について、詳細は後述する。

（平均一次粒子径）
シリカ粒子Ａの平均一次粒子径は、５〜５０ｎｍの範囲である。アンチブロッキング性の更なる向上の観点からは、シリカ粒子Ａの平均一次粒子径は、７ｎｍ以上であることが好ましい。一方、白濁の更なる抑制の観点からは、シリカ粒子Ａの平均一次粒子径は、４０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１５ｎｍ以下であることが一層好ましく、１０ｎｍ以下であることがより一層好ましい。

シリカ粒子Ｂの平均一次粒子径は、７〜５０ｎｍの範囲である。占有面積率の変動係数を０．０〜０．５％により容易に制御する観点からは、シリカ粒子Ｂの平均一次粒子径は、１０ｎｍ以上であることが好ましい。一方、白濁の更なる抑制の観点からは、シリカ粒子Ｂの平均一次粒子径は、４０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。

＜＜硬化層の表面形状＞＞
上記硬化層の表面形状に関して、上記硬化層の表面で測定される凹凸プロファイルの波長２．５０〜５．００μｍにおける合計振幅が０．０５０ｎｍ以下であることが、白濁のより一層の低減の観点から好ましい。上記合計振幅は、０．０４０ｎｍ以下であることがより好ましく、０．０３５ｎｍ以下であることが更に好ましく、０．０３０ｎｍ以下であることが一層好ましく、０．０２５ｎｍ以下であることがより一層好ましく、０．０２０ｎｍ以下であることが更に一層好ましい。また、アンチブロッキング性の更なる向上の観点からは、上記合計振幅は０．００７ｎｍ以上であることが好ましく、０．０１０ｎｍ以上であることがより好ましい。

また、上記硬化層の表面形状に関して、上記積層フィルムの硬化層表面で測定される凹凸プロファイルの最大高さＳｔが７〜１００ｎｍの範囲であることも好ましい。かかる硬化層表面において、更に上記合計振幅が上記好ましい範囲であることがより好ましい。
最大高さＳｔは、白濁のより一層の抑制の観点からは、８０ｎｍ以下であることがより好ましく、７０ｎｍ以下であることが更に好ましく、５０ｎｍ以下であることが一層好ましく、３０ｎｍ以下であることがより一層好ましい。また、アンチブロッキング性の更なる向上の観点からは、上記硬化層の表面で測定される最大高さＳｔは、１５ｎｍ以上であることがより好ましく、２０ｎｍ以上であることが更に好ましい。

以上記載した合計振幅および最大高さＳｔは、上記硬化層を形成するために用いる硬化性組成物の成分の種類、含有量、調製方法等によって、調整することができる。

次に、シリカ粒子Ａおよびシリカ粒子Ｂについて、更に詳細に説明する。

＜シリカ粒子Ａ＞
シリカ粒子Ａは、平均一次粒子径が５〜５０ｎｍの範囲であり、かつ上記積層フィルムの硬化層において、先に詳述した状態で存在する。かかるシリカ粒子Ａは、一態様では、適度な凝集性を発現させる観点から、ＢＥＴ比表面積が３０〜４００ｍ^２／ｇのシリカ粒子であることが好ましい。シリカ粒子ＡのＢＥＴ比表面積は、硬化層形成に用いたシリカ粒子が入手可能であれば、このシリカ粒子のＢＥＴ比表面積として求めることができる。この点は、後述の炭素含有率についても同様である。シリカ粒子のＢＥＴ比表面積は、より好ましくは１００〜３５０ｍ^２／ｇの範囲であり、更に好ましくは１６０〜３００ｍ^２／ｇの範囲である。

以上のＢＥＴ比表面積を有するシリカ粒子Ａとしては、好ましくはフュームドシリカを用いることができる。フュームドシリカは、乾式法で作製されるシリカ粒子である。フュームドシリカについて、製造方法は公知であり、市販品としても入手可能である。フュームドシリカの製造方法については、例えば特開２０１５−３１７９４号公報の段落００２０を参照できる。フュームドシリカは、通常、一次粒子が凝集（例えば融着）した粉末であるため、フュームドシリカを用いて上記硬化層を形成することは、先に記載した状態でシリカ粒子Ａを含む硬化層を容易に得るために好ましい。

シリカ粒子Ａは、表面に疎水性基を有するシリカ粒子である。なお本発明および本明細書における「表面に疎水性基を有する」とは、一次粒子の表面に疎水性基を有する態様に限定されるものではなく、一次粒子が凝集した凝集粒子の表面に疎水性基を有する態様も包含する意味で用いるものとする。表面に疎水性基を有するシリカ粒子の製造方法は公知であり、かかるシリカ粒子は市販品としても入手可能である。シリカ粒子Ａが表面に疎水性基を有することにより疎水性が付与されたシリカ粒子であることが、白濁抑制に寄与すると本発明者らは推察している。シリカ粒子Ａの疎水性については、シリカ粒子Ａの炭素含有率をＢＥＴ比表面積で除した値（炭素含有率／ＢＥＴ比表面積）を指標とすることができる。白濁の更なる低減の観点から、シリカ粒子Ａの炭素含有率をＢＥＴ比表面積で除した値（炭素含有率／ＢＥＴ比表面積）は、０．００５〜０．１５０の範囲であることが好ましい。また、硬化層の硬度を高めて耐擦傷性を向上する観点からは、シリカ粒子Ａの炭素含有率をＢＥＴ比表面積で除した値（炭素含有率／ＢＥＴ比表面積）は、０．００５〜０．０３０の範囲であることがより好ましい。

シリカ粒子Ａが有する疎水性基は、溶解性パラメータが１０．０〜３０．０の範囲である基（疎水性基）の少なくとも一種である。シリカ粒子Ａは、疎水性基を一種のみ有することができ、二種以上の疎水性基を有することもできる。シリカ粒子Ａが有する疎水性基は、ケイ素（Ｓｉ）含有基であることが好ましい。ケイ素含有基は、一般にシランカップリング剤と呼ばれるシラノール基を有する化合物によりシリカ粒子を表面処理することによって、シリカ粒子表面に導入することができる。好ましいケイ素含有基としては、アルキルシリル基、（メタ）アクリロキシシリル基、およびアミノシリル基を挙げることができる。（メタ）アクリロキシシリル基とは、アクリロキシシリル基とメタクリロキシシリル基の一方または両方を意味する。なお、（メタ）アクリロキシシリル基は硬化性基であるため、上記硬化層において（メタ）アクリロキシシリル基由来の残基としてシリカ粒子Ａに含まれ得る。

アルキルシリル基が有するアルキル基は、直鎖であっても分岐を含んでもよく、環構造を含んでもよい。上記アルキル基の炭素数は、例えば１〜１０であり、好ましくは１〜６であり、より好ましくは１〜３である。なお、本発明および本明細書において、特記しない限り、記載されている基は置換基を有してもよく無置換であってもよい。ある基が置換基を有する場合、置換基としては、アルキル基（例えば炭素数１〜６のアルキル基）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えば炭素数１〜６のアルコキシ基）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アシル基、カルボキシ基等を挙げることができる。また、置換基を有する基について「炭素数」とは、置換基を含まない部分の炭素数を意味するものとする。また、アルキルシリル基は、モノアルキルシリル基、ジアルキルシリル基およびトリアルキルシリル基のいずれであってもよい。好ましくはジアルキルシリル基およびトリアルキルシリル基であり、より好ましくはトリアルキルシリル基であり、特に好ましくはトリメチルシリル基である。また、ケイ素含有基としては、一般にシリコーンオイルと呼ばれるジアルキルポリシロキサン（例えばジメチルポリシロキサン）によって導入されたケイ素含有基および環状シロキサンによって導入されたケイ素含有基を挙げることもできる。環状シロキサンとしては、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサン等を挙げることができる。

＜シリカ粒子Ｂ＞
シリカ粒子Ｂは、平均一次粒子径が７〜５０ｎｍの範囲であり、かつ上記積層フィルムの硬化層において、先に詳述した状態で存在する。先に記載した状態でシリカ粒子Ｂを含む硬化層を容易に得ることができる観点から、シリカ粒子Ｂは、コロイダルシリカであることが好ましい。コロイダルシリカとは、湿式法で作製されるシリカ粒子（シリカコロイド粒子）である。コロイダルシリカについて、製造方法は公知であり、市販品としても入手可能である。コロイダルシリカの製造方法については、例えば特開２０１５−３１７９４号公報の段落００２０を参照できる。コロイダルシリカは、通常、一次粒子として存在する粒子を多く含む粉末であるため、コロイダルシリカを用いて上記硬化層を形成することは、先に記載した状態でシリカ粒子Ｂを含む硬化層を容易に得るために好ましい。

シリカ粒子Ｂも、表面に疎水性基を有するシリカ粒子である。シリカ粒子Ｂが表面に疎水性基を有することにより疎水性が付与されたシリカ粒子であることも、白濁抑制に寄与すると本発明者らは推察している。シリカ粒子Ｂは、疎水性基を一種のみ有することができ、二種以上の疎水性基を有することもできる。シリカ粒子Ｂが有する疎水性基は、溶解性パラメータが１０．０〜３０．０の範囲である基（疎水性基）の少なくとも一種であり、アルキルシリル基、ビニルシリル基由来の残基、エポキシシリル基由来の残基および（メタ）アクリロキシシリル基由来の残基からなる群から選択される疎水性基であることが好ましい。アルキルシリル基については、先のシリカ粒子Ａに関する記載を参照できる。ビニルシリル基、エポキシシリル基および（メタ）アクリロキシシリル基は、いずれも硬化性基である。これらの硬化性基は、少なくとも一部が、上記硬化層を含む積層フィルムの製造工程において硬化反応することにより残基として硬化層中のシリカ粒子Ｂに含まれ得る。一部が未反応の基として硬化層中のシリカ粒子Ｂに含まれていてもよい。上記硬化性基の残基が、好ましくは硬化反応によって他の基と結合して含まれることは、硬化層の硬度を更に高める観点から好ましい。更に、硬化層の硬度を更に高めることは、この硬化層を有する積層フィルムの耐擦傷性向上の観点からも好ましい。

＜＜硬化層の厚み＞＞
上記硬化層の厚みは、この硬化層を有する積層フィルムの用途、望ましい物性等に応じて定めればよく特に限定されるものではない。例えば、硬化層の厚みは、１〜５０μｍの範囲であることができる。また、上記硬化層を有する積層フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合には、硬化層の厚みは、３〜３０μｍの範囲とすることが好ましく、３〜１０μｍの範囲とすることがより好ましい。

以上記載した硬化層は、硬化性組成物を硬化して形成される。以下に、上記硬化層の形成に用いる硬化性組成物について説明する。

＜硬化性組成物＞
（シリカ粒子）
上記硬化層はシリカ粒子Ａおよびシリカ粒子Ｂを含む。したがって、この硬化層を形成するために用いる硬化性組成物は、シリカ粒子を含む。

上記硬化性組成物は、下記二種のシリカ粒子：
表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が５〜５０ｎｍのシリカ粒子；および
表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が７〜５０ｎｍの範囲のシリカ粒子、
を併用して調製することが好ましい。
平均一次粒子径が５〜５０ｎｍのシリカ粒子は、ＢＥＴ比表面積および炭素含有率をＢＥＴ比表面積で除した値の一方または両方、好ましくは両方が、先にシリカ粒子Ａについて記載した範囲であるシリカ粒子であることがより好ましい。
また、平均一次粒子径が５〜５０ｎｍのシリカ粒子の表面に含まれる疎水性基については、シリカ粒子Ａの表面に含まれる疎水性基に関する上記記載を参照できる。平均一次粒子径が７〜５０ｎｍのシリカ粒子の表面に含まれる疎水性基については、シリカ粒子Ｂの表面に含まれる疎水性基に関する上記記載を参照できる。ただし疎水性基が硬化性基である場合、硬化性組成物中のシリカ粒子には、通常、硬化性基は硬化反応前の状態で含まれる。

先に記載したシリカ粒子Ａおよびシリカ粒子Ｂを含む硬化層の形成容易性の観点からは、上記硬化性組成物は、凝集状態が異なる二種以上のシリカ粒子を添加して調製することが好ましい。この点からは、フュームドシリカとコロイダルシリカを併用することがより好ましい。

一例として、平均一次粒子径が５〜５０ｎｍのシリカ粒子としては、市販の表面疎水化フュームドシリカである日本アエロジル社製ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）Ｒ９７２、Ｒ９２００、Ｒ９７４、Ｒ９７６Ｓ、Ｒ１０４、Ｒ１０６、ＲＸ５０、ＮＡＸ５０、ＮＸ９０Ｇ、ＲＸ２００、ＲＸ３００、ＲＸ３８０Ｓ、Ｒ８１２、Ｒ８１２Ｓ、Ｒ８２００、ＲＡ２００Ｈ、ＲＹ５０、ＮＹ５０、ＲＹ２００Ｓ、ＲＹ２００、ＲＹ３００、Ｒ２０２、Ｒ８０５、Ｒ７１１、Ｒ７２００等を用いることができる。
一方、平均一次粒子径が７〜５０ｎｍのシリカ粒子としては、市販の表面疎水化コロイダルシリカである日産化学工業社製ＭＥＫ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＥＣ−２１３０Ｙ、ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ、ＭＥＫ−ＡＣ−４１３０Ｚ、日揮触媒化成社製ＥＬＥＣＯＭ Ｖ−８８０２、ＥＬＥＣＯＭ Ｖ−８８０３等を用いることができる。
以上記載した市販品の中には、シリカ粒子が有機溶媒中に分散した分散液として市販されているものがある。それらはそのまま、または更に有機溶媒を添加して上記硬化性組成物の調製に用いることができる。

上記硬化性組成物の調製方法については、更に後述する。

（硬化性化合物）
上記硬化層の形成に用いる硬化性組成物は、シリカ粒子とともに少なくとも硬化性化合物を含む。硬化性化合物は、一種のみ用いてもよく、二種以上を併用してもよい。硬化性化合物の硬化反応の形態は特に限定されるものではない。例えば、硬化性化合物として、ラジカル重合性基を有する化合物、ならびにカチオン重合性基を有する化合物、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基を有する化合物からなる群から選ばれる一種以上の化合物を用いることができる。硬化性化合物が有する硬化性基の数は、１分子中に少なくとも１個であり、２個以上であることが好ましい。１分子中に２個以上の硬化性基を有する硬化性化合物は、硬化性基を一種のみ含んでもよく、二種以上含んでもよい。硬化性基としてラジカル重合性基のみを有する化合物については、１分子中に含まれるラジカル重合性基の数は、好ましくは２個以上であり、より好ましくは３個以上であり、更に好ましくは４個以上であり、一層好ましくは６個以上である。また、硬化性基としてラジカル重合性基のみを有する化合物については、１分子中に含まれるラジカル重合性基の数は、例えば１０個以下である。ただしこれに限定されず、１０個超であってもよい。一方、硬化性基としてカチオン重合性基のみを有する化合物については、１分子中に含まれるカチオン重合性基の数は、少なくとも１つであり、好ましくは２個以上である。硬化性基としてカチオン重合性基のみを有する化合物については、１分子中に含まれるカチオン重合性基の数は、例えば６個以下である。ただしこれに限定されず、６個超であってもよい。硬化性基としてラジカル重合性基およびカチオン重合性基を有する化合物については、１分子中に含まれるラジカル重合性基の数およびカチオン重合性基の数は、それぞれ少なくとも１個であり、２個以上でもよい。硬化性基としてラジカル重合性基およびカチオン重合性基を有する化合物については、１分子中に含まれるラジカル重合性基の数およびカチオン重合性基の数は、例えば、それぞれ３個以下である。ただしこれに限定されず、それぞれ３個超であってもよい。

ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和基を挙げることができる。エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等を挙げることができ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。即ち、硬化性化合物の好ましい一例としては、（メタ）アクリレート化合物を挙げることができる。なお（メタ）アクリロイル基は、（メタ）アクリロイルオキシ基の形態で硬化性化合物に含まれてもよい。硬化性化合物は、一態様では、多官能（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。

一態様では、硬化性化合物の少なくとも一種として、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を用いることができる。そのような硬化性化合物の具体例については、特開２０１３−１０５１６０号公報の段落００２５を参照できる。

ラジカル重合性基を有する硬化性化合物としては、１分子中に１個以上のウレタン結合を有する（メタ）アクリレート（以下、「ウレタン（メタ）アクリレート」と記載する。）を挙げることもできる。 ウレタン（メタ）アクリレートの具体例については、特開２０１３−１０５１６０号公報の段落００２８を参照できる。

カチオン重合性基としては、好ましくは、含酸素複素環基およびビニルエーテル基を挙げることができる。含酸素複素環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、ビシクロ骨格を有するものも好ましい。含酸素複素環は、非芳香族環であっても芳香族環であってもよく、非芳香族環であることが好ましい。単環の具体例としては、エポキシ環、テトラヒドロフラン環およびオキセタン環を挙げることができる。また、ビシクロ骨格を有するものとしては、オキサビシクロ環を挙げることができる。なお含酸素複素環を含むカチオン重合性基は、１価の置換基として、または２価以上の多価置換基として、硬化性化合物に含まれる。また、縮合環は、含酸素複素環の２つ以上が縮合したものであっても、含酸素複素環の１つ以上と含酸素複素環以外の環構造の１つ以上が縮合したものであってもよい。上記の含酸素複素環以外の環構造としては、例えば、シクロヘキサン環等のシクロアルカン環を挙げることができる。

カチオン重合性基としては、エポキシ基が好ましい。本発明および本明細書において、１分子中に１個以上のエポキシ基を有する化合物を、エポキシ化合物という。エポキシ化合物は、脂環エポキシ基を有する化合物であることがより好ましい。「脂環エポキシ基」とは、エポキシ環と飽和炭化水素環が縮環した構造を有する環状基をいう。なお先に記載したエポキシシリル基に含まれるエポキシ基は、縮環した構造を持たない単環構造のエポキシ基であっても脂環エポキシ基であってもよく、好ましくは縮環した構造を持たない単環構造のエポキシ基である。脂環エポキシ基は、好ましくはエポキシ環とシクロアルカン環との縮環を有する環状基であり、３，４−エポキシシクロヘキシル基がより好ましい。脂環エポキシ基は、無置換であってもよく、１つ以上の置換基を有していてもよい。脂環エポキシ基は、無置換であることが好ましい。以下において、脂環エポキシ基を有する化合物を、脂環エポキシ化合物とも記載する。脂環エポキシ化合物について、単官能とは１分子中に含まれる脂環エポキシ基の数が１個であることをいい、多官能とは１分子中に含まれる脂環エポキシ基の数が２個以上であることをいう。例えば二官能とは、１分子中に含まれる脂環エポキシ基の数が２個であることをいう。

カチオン重合性基である脂環エポキシ基を有する硬化性化合物が、一種以上のラジカル重合性基を有していてもよい。そのようなラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

ラジカル重合性基およびカチオン重合性基を有する硬化性化合物の好ましい一態様としては、１分子中に１個の脂環エポキシ基（３，４−エポキシシクロヘキシル基）と１分子中に１個の（メタ）アクリロイル基（（メタ）アクリロイルオキシ基）とを有する下記一般式（１）で表される化合物を挙げることができる。一般式（１）で表される化合物は、好ましくは下記一般式（１Ａ）で表される化合物である。

一般式（１）および一般式（１Ａ）中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表し、Ｌ^１は炭素数１〜３の２価の脂肪族炭化水素基を表し、炭素数１〜３のアルキレン基を表すことが好ましく、メチレン基を表すことがより好ましい。一般式（１）で表される化合物は、好ましくは一般式（１Ａ）で表される化合物であり、より好ましくは、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートであり、更に好ましくは３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートである。

また、硬化性化合物は、重合体であることもできる。硬化性化合物が重合体の場合、重合体の繰り返し単位の好ましい態様としては、特開２０１６−３５５５７号公報に一般式（１）で表されている繰り返し単位を挙げることができる。重合体は、含まれる繰り返し単位が一種のみの重合体、即ちホモポリマーでもよく、含まれる繰り返し単位が二種以上の重合体、即ちコポリマー（共重合体）でもよい。特開２０１６−３５５５７号公報に一般式（１）で表されている繰り返し単位の詳細および具体例については、特開２０１６−３５５５７号公報の段落００１２〜００１９を参照できる。また、特開２０１６−３５５５７号公報に一般式（１）で表されている繰り返し単位を有する重合体である硬化性化合物については、特開２０１６−３５５５７号公報の段落００２０〜００２８も参照できる。

また、脂環エポキシ化合物の具体例としては、下記化合物２ａ〜２ｃも例示できる。

硬化性化合物の分子量は、単量体については、例えば１００〜５００の範囲であることができ、重合体については重量平均分子量が１０００〜１０００００の範囲であることができる。ただし、上記範囲に限定されるものではない。
重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ；Ｇｅｌ ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）によりポリスチレン換算で測定される重量平均分子量をいうものとする。具体的な測定条件の一例としては、以下の測定条件を挙げることができる。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ２００（東ソー社製）

上記硬化性組成物における硬化性化合物の含有量は、硬化性組成物全量１００質量％に対して、好ましくは３０質量％以上であり、より好ましくは５０質量％以上であり、更に好ましくは７０質量％以上である。また、上記硬化性組成物における硬化性化合物の含有量は、硬化性組成物全量１００質量％に対して、９８質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましく、９０質量％以下であることが更に好ましい。本発明および本明細書において、ある成分は一種のみ含まれてもよく、異なる二種以上が含まれていてもよい。二種以上が含まれる場合について含有量とは、これら二種以上の合計含有量をいう。

（重合開始剤）
上記硬化性組成物は、重合開始剤を含んでもよく、含むことが好ましい。重合開始剤としては、好ましくは、上記硬化性組成物に含まれる硬化性化合物の種類に応じて、ラジカル重合開始剤およびカチオン重合開始剤の一方または両方を用いることができる。 ラジカル重合開始剤およびカチオン重合開始剤は、光重合開始剤でもよく、熱重合開始剤でもよい。

ラジカル重合開始剤としては、例えば、「最新ＵＶ硬化技術」（ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）に記載の各種重合開始剤、ＢＡＳＦ社製のカタログに記載されている市販品等を用いることができる。ラジカル重合開始剤の市販品の具体例としては、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＤＡＲＯＣＵＲＥ１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７、ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＭＢＦ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９ＥＧ）、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ）、その他（ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ７８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４）等を用いることができる。

カチオン重合開始剤としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、または、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物およびそれらの混合物等が挙げられる。
例えば、オニウム塩化合物、有機ハロゲン化合物およびジスルホン化合物が挙げられる。

オニウム塩化合物としては、ジアゾニウム塩化合物、アンモニウム塩化合物、イミニウム塩化合物、ホスホニウム塩化合物、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物、アルソニウム塩化合物、セレノニウム塩化合物等が挙げられる。具体的には、例えば特開２００２−２９１６２号公報の段落００５８〜００５９に記載の化合物等が挙げられる。

特に好適に用いられるカチオン重合開始剤としては、オニウム塩化合物が挙げられる。ジアゾニウム塩化合物、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物、イミニウム塩化合物が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましく、中でも耐光性の観点でヨードニウム塩化合物が最も好ましい。

好適に用いることのできるオニウム塩化合物の具体例としては、例えば、特開平９−２６８２０５号公報の段落００３５に記載のアミル化されたスルホニウム塩化合物、特開２０００−７１３６６号公報の段落００１０〜００１１に記載のジアリールヨードニウム塩化合物またはトリアリールスルホニウム塩化合物、特開２００１−２８８２０５号公報の段落００１７に記載のチオ安息香酸Ｓ−フェニルエステルのスルホニウム塩化合物、特開２００１−１３３６９６号公報の段落００３０〜００３３に記載のオニウム塩化合物等が挙げられる。

カチオン重合開始剤の他の例としては、特開２００２−２９１６２号公報の段落００５９〜００６２に記載の有機金属および／または有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物（イミノスルフォネート等）等の化合物が挙げられる。

ヨードニウム塩系のカチオン重合開始剤の市販品の具体例としては、Ｂ２３８０（東京化成社製）、ＢＢＩ−１０２（みどり化学社製）、ＷＰＩ−１１３（和光純薬工業社製）、ＷＰＩ−１２４（和光純薬工業社製）、ＷＰＩ−１６９（和光純薬工業社製）、ＷＰＩ−１７０（和光純薬工業社製）、およびＤＴＢＰＩ−ＰＦＢＳ（東洋合成化学社製）を挙げることができる。

上記硬化性組成物におけるラジカル重合開始剤の含有量は、この硬化性組成物に含まれる硬化性化合物が有するラジカル重合性基の硬化反応を良好に進行させる観点から、上記硬化性組成物の固形分全量（１００質量％）に対して、０．１〜１０．０質量％の範囲であることが好ましく、１．０〜５．０質量％の範囲であることがより好ましく、２．０〜４．０質量％の範囲であることが更に好ましい。固形分とは、組成物の溶媒を除く成分をいう。
一方、上記硬化性組成物におけるカチオン重合開始剤の含有量は、この硬化性組成物に含まれる硬化性化合物が有するカチオン重合性基の硬化反応を良好に進行させる観点および硬化性組成物の安定性の観点から、上記硬化性組成物の固形分全量（１００質量％）に対して、０．１〜１０．０質量％の範囲であることが好ましく、０．５〜３．０質量％の範囲であることがより好ましい。
ラジカル重合開始剤およびカチオン重合開始剤は、それぞれ一種のみ用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

（任意成分）
上記硬化性組成物は、以上説明した各種成分に加えて、一種以上の任意成分を含むこともできる。以下に、任意成分の具体例を記載する。ただし、上記硬化性組成物に含まれ得る任意成分は下記具体例に限定されるものではなく、一般にハードコートと呼ばれる硬化層に添加され得る公知の添加剤の一種以上が任意の量で含まれていてもよい。

−溶媒−
上記硬化性組成物は、溶媒を含有してもよい。溶媒は、公知の各種溶媒の中から、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程および乾燥工程において均一な面状の塗布膜を形成し易いこと、液保存性が良好であること、適度な飽和蒸気圧を有すること等の観点から選択して使用することが好ましい。
溶媒としては、二種以上の溶媒を混合した混合溶媒を用いることもできる。混合溶媒は、乾燥負荷低減の観点から、沸点が１００℃以下の溶媒を含み、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃超の溶媒も含むことが好ましい。沸点は、常圧室温（１０１．３３ｋＰａ、２５℃）における沸点をいう。

沸点が１００℃以下の溶媒としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）等の炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル（９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）等のエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９．０℃）等のエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン（ＭＥＫ（メチルエチルケトン）とも呼ばれる、７９．６℃）等のケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）等のアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）等のシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）等がある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、更に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノン（ＭＥＫ）が特に好ましい。上記硬化性組成物は、溶媒全量（１００．０質量％）に対して、沸点が１００℃以下の溶媒を３０．０〜８０．０質量％含有することが好ましく、５０．０〜７０．０質量％含有することが更に好ましい。

沸点が１００℃を超える溶媒としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８．０℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８．０℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭｉＢＫ（メチルイソブチルケトン）とも呼ばれる、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３．０℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６．０℃）、ジメチルスルホキシド（１８９．０℃）等がある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノン（ＭｉＢＫ）である。上記硬化性組成物は、溶媒全量（１００．０質量％）に対して、沸点が１００℃を超える溶媒を１０．０〜６０．０質量％含有することが好ましい。

上記硬化性組成物における固形分濃度は、例えば３０．０〜７０．０質量％である。ただし、上記範囲に限定されるものではない。

（界面活性剤）
上記硬化性組成物は、界面活性剤を含むこともできる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の公知の界面活性剤の一種または二種以上を用いることができる。界面活性剤は、例えばレベリング剤として機能することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤が、塗布ムラ、乾燥ムラ等の発生を効果的に抑制する効果に優れるため、好ましい。好ましく使用されるフッ素系界面活性剤の詳細については、特開２０１５−００４９７９号公報の段落００６４〜００７２を参照できる。上記硬化性組成物における界面活性剤の含有量は、特に限定されるものではない。上記硬化性組成物には、塗布ムラ、乾燥ムラ等の発生を抑制できるように適量の界面活性剤が含まれればよい。

＜基材フィルム＞
本発明の一態様にかかる積層フィルムは、基材フィルムと上記硬化性組成物を硬化した硬化層とを有する。基材フィルムとしては、光学性能、透明性、機械的強度、熱安定性、等方性等に優れる樹脂フィルムが好ましく、透明樹脂フィルムがより好ましい。本発明および本明細書における「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは９０％以上である。
樹脂フィルムに含まれる樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート等の（メタ）アクリル樹脂、ポリスチレンおよびアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ（アクリロニトリル・スチレン）樹脂）等のスチレン樹脂等が挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂、塩化ビニル樹脂、ナイロンおよび芳香族ポリアミド等のアミド樹脂、イミド樹脂、スルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ビニルブチラール樹脂、アリレート樹脂、ポリオキシメチレン樹脂、エポキシ樹脂、または上記樹脂を混合した樹脂も例として挙げられる。また、基材フィルムは、二層以上の樹脂フィルムを積層したフィルムでもよい。

基材フィルムとしては、偏光板の保護フィルムとして広く用いられているトリアセチルセルロースに代表される、セルロース樹脂フィルムが好ましく、セルロースアシレートフィルムがより好ましい。また、基材フィルムとしては、近年、偏光板の保護フィルムとして用いることが提案されているアクリル樹脂フィルムも好ましい。
基材フィルムの厚み（基材フィルムが二層以上の樹脂フィルムを積層したフィルムの場合は、それらの総厚）は、例えば１０μｍ〜１０００μｍ程度であることができ、好ましくは１０ｍ〜８０μｍの範囲であり、１５μｍ〜４０μｍの範囲であることがより好ましい。基材フィルムの厚みが薄いほど、この基材フィルムを含む積層フィルムの薄型化の観点から好ましい。積層フィルムを薄型化することは、この積層フィルムを組み込んだ装置および物品、例えば画像表示装置および偏光板を薄型化できるため好ましい。

基材フィルムとして用いる樹脂フィルムに含まれ得る添加剤に関しては、例えば、特開２０１４−２１０９０５号公報の段落００２４〜００５２および００７３〜０２１６を参照できる。

＜ヘイズ＞
一般に、防眩性フィルムは、１．０％を超えるヘイズを示すフィルムである。これに対し、上記積層フィルムのヘイズは、１．０％以下である。上記積層フィルムのヘイズは、好ましくは０．８％以下であり、より好ましくは０．６％以下であり、更に好ましくは０．４％以下であり、一層好ましくは０．３％以下であり、より一層好ましくは０．３％未満である。また、上記積層フィルムのヘイズは、例えば０．１％以上である。ただし、これを下回ってもよい。なおヘイズと後述の実施例で評価される白濁とは、必ずしも相関するものではない。

＜積層フィルムの構成＞
本発明の一態様にかかる積層フィルムは、少なくとも、基材フィルムと上記硬化性組成物を硬化した硬化層とを有する。最も単純な構成は、基材フィルムと、この基材フィルム上に直接形成された上記硬化層と、からなる積層フィルムである。他の構成としては、基材フィルム上に形成された上記硬化層上に更に一層以上の層を有する構成、基材フィルムと上記硬化層との間に一層以上の層が含まれる構成、基材フィルムの上記硬化層を有する側とは反対側に一層以上の層を有する構成等を挙げることができる。任意に含まれ得る他の層については、公知技術を何ら制限なく適用することができる。特に好ましい構成は、積層フィルムの一方または両方の最表層が上記硬化層である構成である。

［積層フィルムの製造方法］
本発明の一態様にかかる積層フィルムは、基材フィルム上に上記硬化性組成物を塗布する工程および塗布された硬化性組成物を硬化する工程を経て、基材フィルム上に上記硬化性組成物が硬化した硬化層を形成することにより、製造することができる。上記硬化性組成物は、基材フィルム上に直接塗布してもよく、基材フィルム上に設けられた一層以上の他の層の上に塗布してもよい。硬化工程は、硬化性組成物に含まれる成分の種類に応じて、加熱により行ってもよく、光照射により行ってもよい。光照射により行われる硬化反応のために照射される光としては、例えば、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線等が挙げられ、一般に、紫外線が広く用いられている。本発明および本明細書における「紫外線」とは、波長１９０〜４００ｎｍの光をいうものとする。

以下に、上記積層フィルムの製造方法の具体的態様について説明する。

（硬化性組成物の調製）
上記硬化層を形成するために用いる硬化性組成物は、
表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が５〜５０ｎｍであるシリカ粒子、
表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が７〜５０ｎｍであるシリカ粒子、および
硬化性化合物、
を混合することにより調製することができる。上記各成分について、詳細は先に記載した通りである。表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が５〜５０ｎｍであるシリカ粒子と、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が７〜５０ｎｍであるシリカ粒子との混合比は、「前者／後者」の比率が、０．００５〜０．４００の範囲であることが好ましく、０．０１０〜０．１００の範囲であることがより好ましい。

上記硬化性組成物の好ましい調製方法としては、
表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が５〜５０ｎｍであるシリカ粒子を有機溶媒中に分散してシリカ粒子含有組成物１を調製する工程と、
シリカ粒子含有組成物１を、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が７〜５０ｎｍであるシリカ粒子を有機溶媒中に含むシリカ粒子含有組成物２、および硬化性化合物と混合する工程と、
を含む調製方法を挙げることができる。上記調製方法は、先に記載した状態でシリカ粒子Ａおよびシリカ粒子Ｂを含む硬化層を形成するために好ましい方法である。シリカ粒子含有組成物１に含まれるシリカ粒子は、形成される硬化層においてシリカ粒子Ａとして存在することができる。一方、シリカ粒子含有組成物２に含まれるシリカ粒子は、形成される硬化層にシリカ粒子Ｂとして存在することができる。シリカ粒子含有組成物１に含まれるシリカ粒子およびシリカ粒子含有組成物２に含まれるシリカ粒子について、詳細は硬化性組成物に含まれるシリカ粒子について先に記載した通りである。

シリカ粒子含有組成物１は、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が５〜５０ｎｍであるシリカ粒子を有機溶媒中に分散することにより調製することができる。分散処理は、超音波分散等の公知の分散方法によって行うことができる。分散処理によって、シリカ粒子含有組成物１には、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が５〜５０ｎｍであるシリカ粒子が、平均二次粒子径が１００〜５００ｎｍの範囲である状態で含まれることが好ましい。この点は、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が５〜５０ｎｍであるシリカ粒子が、シリカ粒子Ａの存在状態で含まれる硬化層を容易に形成するために好ましい。上記平均二次粒子径は、１５０〜４００ｎｍの範囲であることがより好ましい。分散時間等の分散条件は、特に限定されず、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が５〜５０ｎｍであるシリカ粒子が、上記好ましい平均二次粒子径で分散した組成物が得られるように調整することが好ましい。

シリカ粒子含有組成物２としては、例えば、市販のシリカ粒子含有組成物（例えば市販のコロイダルシリカ分散液）をそのまま、または任意に有機溶媒を添加して、用いることができる。シリカ粒子含有組成物２において、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が１０〜５０ｎｍであるシリカ粒子は、一次粒子の状態で分散していることが特に好ましい。そのようなシリカ粒子含有組成物２を容易に調製できる点から、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が７〜５０ｎｍであるシリカ粒子は、コロイダルシリカであることが好ましい。

シリカコロイド粒子含有組成物１、シリカコロイド粒子含有組成物２および硬化性組成物の混合順序は限定されず、同時に混合してもよく、任意の順序で順次混合してもよい。また、上記硬化性組成物に任意に含まれる成分も、任意の段階で添加すればよい。

（塗布工程）
上記硬化性組成物を基材フィルム上に直接または他の層を介して塗布する方法としては、公知の塗布方法を用いることができる。塗布方法の具体例としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法を挙げることができる。基材フィルム上に塗布する硬化性組成物の塗布量によって、形成される硬化層の厚みを調整することができる。

（乾燥工程）
基材フィルム上に塗布した硬化性組成物は、好ましくは、乾燥工程を経て硬化される。 乾燥工程は、上記硬化性組成物が塗布された基材フィルムを加熱雰囲気中に配置する方法、加熱雰囲気中に搬送する方法、塗布された硬化性組成物の表面に温風を吹き付ける方法等の乾燥方法の１つまたは２つ以上を任意に組み合わせて行うことができる。乾燥雰囲気の雰囲気温度および温風の温度は、硬化性組成物を乾燥させることができる温度であればよく、特に限定されるものではない。また、乾燥工程は、硬化性組成物の硬化の後に行ってもよく、硬化前および硬化後に行ってもよい。

（硬化工程）
基材フィルム上に塗布された硬化性組成物は、この組成物に含まれる硬化性組成物の種類に応じた硬化処理に付される。硬化処理は、光照射および／または加熱により行うことができる。光照射および加熱の条件は、硬化性組成物の硬化反応が良好に進行するように硬化性組成物に含まれる成分の種類および含有量に応じて設定すればよい。例えば、光照射は、紫外線を照射可能な各種光源、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、無電極放電ランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ））等を用いて行うことができる。光照射量は、通常、１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲であり、好ましくは２０〜１５００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲である。光照射量は、光源の出力および照度により調整可能である。光照射は窒素パージ下で行うことが好ましく、酸素濃度０．１体積％以下で行うことがより好ましい。

（積層フィルムの加工）
基材フィルム上に上記硬化層を形成した積層フィルムは、用途に応じた形状に加工して、各種用途に用いることができる。加工には、例えば、製造された積層フィルムを巻き取って、ロール形状のフィルムにすることも含まれる。また、打ち抜き機により用途に応じた形状に打ち抜くことも含まれる。

以上説明したように、本発明の一態様によれば、
上記積層フィルムの製造方法であって、
表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が５〜５０ｎｍであるシリカ粒子を有機溶媒中に分散してシリカ粒子含有組成物１を調製する工程と、
シリカ粒子含有組成物１を、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が７〜５０ｎｍであるシリカ粒子を有機溶媒中に含むシリカ粒子含有組成物２、および硬化性化合物と混合して硬化性組成物を調製する工程と、
上記硬化性組成物を基材フィルム上に塗布する工程と、
塗布された硬化性組成物を硬化する工程と、
を含む上記積層フィルムの製造方法、
も提供される。

本発明の一態様にかかる積層フィルムは、優れたアンチブロッキング性を示すことができる。アンチブロッキング性に優れることにより積層フィルム表面が他の表面と接触した際に貼り付きが生じ難いことは、加工時および加工後のハンドリング容易性の観点から好ましい。また、アンチブロッキング性に優れることは、上記積層フィルムを含む物品の製造容易性およびハンドリング容易性の観点からも好ましい。上記積層フィルムを含む物品の具体的態様については、後述する。

［偏光板］
本発明の一態様は、偏光子と、上記積層フィルムと、を含む偏光板に関する。上記積層フィルムは、偏光子を保護する保護フィルム（偏光板保護フィルム）として機能することができる。また、一般に、液晶表示装置は、表示素子より視認側に前面板が含まれる。偏光板保護フィルムとして機能する上記積層フィルムが、前面板を兼ねてもよく、または別の部材として前面板が含まれてもよい。

偏光板としては、２枚の偏光板保護フィルム（単に「保護フィルム」とも呼ぶ。）の間に偏光子（偏光膜または偏光子層とも呼ばれる。）が位置する構成の偏光板が、現在広く用いられている。本発明の一態様にかかる偏光板も、上記構成の偏光板であることができる。偏光板に含まれる２枚の偏光板保護フィルムのうち、液晶表示装置に組み込まれた際に液晶表示素子側に位置する偏光板保護フィルムを「インナー側保護フィルム」と呼び、他方の偏光板保護フィルムを「アウター側保護フィルム」と呼ぶ。本発明の一態様にかかる積層フィルムは、インナー側保護フィルムとして用いることができ、アウター側保護フィルムとして用いることもできる。偏光板および液晶表示素子の保護の観点からは、上記積層フィルムを、上記硬化層が偏光板の最表層となるように配置することが好ましい。
また、上記偏光板は、フロント偏光板として用いてもよく、リア偏光板として用いてもよく、少なくともフロント偏光板として用いることが好ましい。「フロント偏光板」とは、液晶パネルがバックライトユニットとともに液晶表示装置に組み込まれた際、２枚の偏光板の中で視認側に位置する偏光板であり、「リア偏光板」とはバックライトユニット側に位置する偏光板である。

上記偏光板は、一方の保護フィルムとして本発明の一態様にかかる積層フィルムを含み、他方の保護フィルムとして他のフィルムを含んでもよい。他のフィルムとしては、一般に偏光板保護フィルムとして用いられるセルロースアセテートフィルムが挙げられる。他のフィルムとしては、例えば、溶液製膜法で製造され、かつ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における幅方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることができる。

また、他方の保護フィルムとして用いられる他のフィルムとしては、光学異方層を含む光学補償層を有する光学補償フィルムを挙げることもできる。光学補償フィルム（「位相差フィルム」とも呼ばれる。）によれば、液晶表示装置において、画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができる、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。

偏光子は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有するいわゆる直線偏光子を用いることができる。偏光子としては、例えば、吸収型偏光子を利用することができる。吸収型偏光子としては、通常用いられている偏光子を利用することができ、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、ポリエン系偏光子、およびワイヤーグリッドを用いた偏光子のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することにより作製することができる。偏光子の好ましい一態様としては、ヨウ素染色ポリビニルアルコール系フィルムを挙げることができる。偏光子の厚みは、特に限定されず、例えば０．１μｍ以上５０μｍ以下であることができる。偏光板の薄型化の観点からは、偏光子層の厚みは、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましい。

また、偏光子は、いわゆる塗布型偏光子であってもよい。塗布型偏光子については、特開２０１４−１７０２０２号公報の段落００５２〜００５３を参照できる。

偏光子と保護フィルムとして用いる上記積層フィルムは、公知の手法、例えば接着剤の使用により貼り合わせることができる。本発明および本明細書において、接着剤には粘着剤も包含されるものとする。

［液晶パネル］
本発明の一態様は、液晶表示素子と、上記偏光板と、を含む液晶パネルに関する。例えば、上記液晶パネルは、フロント偏光板、液晶表示素子、およびリア偏光板を含み、上記フロント偏光板が、本発明の一態様にかかる積層フィルムを含む偏光板である液晶パネルであることができる。リア偏光板も、本発明の一態様にかかる積層フィルムを含む偏光板であってもよい。偏光板と液晶表示素子とは、公知の手法、例えば接着剤の使用により貼り合わせることができる。

液晶表示素子としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ−Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＴＳＴＮ（Ｔｒｉｐｌｅ Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、マルチドメイン型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）型等が挙げられる。液晶表示素子は、一般に、２枚のガラス基板の間に液晶層が配置された構成を有する。

また、液晶表示素子としては、上記のいずれかの型の液晶表示素子にタッチパネル機能を組み込んだインセルタッチパネル液晶素子およびオンセルタッチパネル液晶表示素子を挙げることもできる。また、フィルム型のタッチセンサーが液晶表示素子と貼着された形態も挙げられる。
インセルタッチパネル液晶表示素子は、例えば、２枚のガラス基板に液晶層を挟んだ液晶表示素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだインセルタッチパネル液晶表示素子であることができる。インセルタッチパネル液晶表示素子については、例えば、特開２０１１−７６６０２号公報、特開２０１１−２２２００９号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。
オンセルタッチパネル液晶表示素子は、好ましくは、液晶層を挟み込んだガラス基板と偏光板の間に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだオンセルタッチパネル液晶表示素子であることができる。オンセルタッチパネル液晶表示素子は、例えば、特開２０１２−８８６８３号公報に記載されている。

［液晶表示装置］
本発明の一態様は、以上説明した液晶パネルと、バックライトユニットと、を含む液晶表示装置に関する。

液晶パネルの詳細は、先に記載した通りである。

上記液晶表示装置に含まれるバックライトユニットは、特に限定されるものではなく、エッジライト型バックライトユニットであってもよく、直下型バックライトユニットであってもよい。バックライトユニットには、少なくとも光源が含まれ、一般に、拡散板、反射板、導光板、輝度向上膜、プリズムシート等の公知の部材の１つ以上が含まれ得る。

以上、本発明の一態様にかかる積層フィルムを液晶表示装置へ適用する態様について説明した。ただし、本発明の一態様にかかる積層フィルムは、液晶表示装置以外の各種画像表示装置に、いわゆるハードコートフィルムとして含まれるフィルムに代えて用いることもできる。画像表示装置としては、陰極管表示装置（ＣＲＴ；Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ；Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ；Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｄｉｓｐｌａｙ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ；Ｖａｃｕｕｍ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｓｐｌａｙ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）等を挙げることができる。本発明の一態様にかかる積層フィルムは、例えば、上記画像表示装置の最も視認側に配置される部材として用いることができ、積層フィルムに含まれる硬化層が画像表示装置の最表層に配置されることが好ましい。

［タッチパネル］
本発明の一態様は、上記積層フィルムを含むタッチパネルに関する。かかるタッチパネルの一態様としては、上記のインセルタッチパネル液晶素子、オンセルタッチパネル液晶表示素子またはフィルム型のタッチセンサーが貼着された液晶表示素子を含む液晶パネルを挙げることができる。

タッチパネルの他の一態様としては、上記積層フィルムにおいて、基材フィルムの上記硬化層を有する側とは反対側にタッチセンサーフィルムを有するタッチパネルを挙げることができる。タッチセンサーフィルムの好ましい態様については、特開２０１２−２０６３０７号公報の段落００１６〜００４２を参照できる。

タッチパネルの他の一態様としては、上記積層フィルムを前面板に含む抵抗膜式タッチパネルを挙げることができる。抵抗膜式タッチパネルは、導電層を有する上下１対の基板の導電性膜同士が対向するようにスペーサーを介して配置された基本構成からなるものである。抵抗膜式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。

タッチパネルの他の一態様としては、上記積層フィルムを前面板に含む静電容量式タッチパネルを挙げることもできる。静電容量式タッチパネルの方式としては、表面型静電容量式、投影型静電容量式等が挙げられる。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、Ｘ電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成からなる。具体的態様としては、Ｘ電極およびＹ電極が、１枚の基板上の別々の面に形成される態様、１枚の基板上にＸ電極、絶縁体層、Ｙ電極を上記順で形成する態様、１枚の基板上にＸ電極を形成し、別の基板上にＹ電極を形成する態様（この態様では、２枚の基板を貼り合わせた構成が上記基本構成となる）等が挙げられる。静電容量式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。

上記前面板およびタッチパネルでは、一態様では、上記積層フィルムに含まれる硬化層が最表層に位置し、最表面が上記硬化層の表面である。また、上記前面板が、本発明の一態様にかかる偏光板であること（即ち偏光板が前面板を兼ねること）もできる。

以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。以下において、「％」とは、特記しない限り、「質量％」を意味する。

実施例および比較例で用いた各種成分は、以下の通りである。

＜硬化性化合物＞
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（日本化薬社製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）
セロキサイド２０２１Ｐ（前述の化合物２ｃ）：二官能脂環エポキシ化合物（ダイセル社製）
サイクロマーＭ１００（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート）：メタクリロイル基含有単官能脂環エポキシ化合物（ダイセル社製）

＜重合開始剤（光重合開始剤）＞
ラジカル重合開始剤：ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４
カチオン重合開始剤：ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスファート（東京化成工業社製）

＜シリカ粒子ａ＞
下記表５または表６に記載のシリカ粒子ａは、日本アエロジル社製の表面疎水化フュームドシリカであり、詳細を表１に示す。表１に示す表面疎水性基は、いずれも溶解性パラメータが１０．０〜３０．０の範囲の疎水性基である。一例として、トリメチルシリル基の溶解性パラメータは１３．２、オクチルシリル基の溶解性パラメータは１７．１、ジメチルシリル基の溶解性パラメータは１３．８である。

＜シリカ粒子ｂ＞
下記表５または表６に記載のシリカ粒子ａは、日産化学社製コロイダルシリカ（メチルエチルケトン分散液）であり、詳細を表２に示す。表２に示す表面疎水性基は、いずれも溶解性パラメータが１０．０〜３０．０の範囲の疎水性基である。

＜その他の粒子＞
下記表５または表６に記載のその他の粒子は、市販のシリカ粒子であり、詳細を表３および表４に示す。表３中、「ＩＰＡ」は、イソプロピルアルコール（２−プロパノール）である。表４に記載の粒子は、市販の表面疎水化処理なしのフュームドシリカである。

＜界面活性剤＞
・ＦＰ−１：下記含フッ素化合物（フッ素系界面活性剤）

＜シリカ粒子含有組成物１（シリカ粒子ａの分散液）の調製＞
シリカ粒子ａを、固形分濃度が５％になるように、ＭｉＢＫへ添加し、マグネチックスターラーで３０分攪拌した。その後、超音波分散機（エスエムテー社製Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ Ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒ ＵＨ−６００Ｓ）で１０分間、超音波分散し、シリカ粒子ａの分散液を作製した。
得られた分散液から一部を平均二次粒子径測定用に採取し、Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ ＭＴ３０００（マイクロトラックベル株式会社製）を用いて、分散液中のシリカ粒子ａの平均二次粒子径を測定した。測定結果を、下記表５および表６に示す。

＜シリカ粒子含有組成物２（シリカ粒子ｂの分散液）＞
シリカ粒子ｂの分散液としては、表２に記載の市販のＭＥＫ分散液を用いた。

＜その他粒子の分散液＞
表３に示したその他の粒子の分散液としては、表３に記載の市販の分散液を用いた。
表４に示したその他粒子の分散液は、シリカ粒子ａの分散液と同様の方法で調製した。

＜硬化性組成物Ａ１〜Ａ２９の調製＞
下記表５または表６に示す組成で、溶媒（ＭＥＫおよびＭｉＢＫ）、硬化性化合物、重合開始剤、シリカ粒子ａの分散液、シリカ粒子ｂの分散液、および界面活性剤の順に各成分を添加し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して各硬化性組成物を調製した。
ただし、シリカ粒子ａに代えてその他の粒子を含む硬化性組成物は、溶媒（ＭＥＫおよびＭｉＢＫ）、硬化性化合物、重合開始剤、その他の粒子の分散液、シリカ粒子ｂの分散液、および界面活性剤の順に各成分を添加して調製した。
シリカ粒子ｂに代えてその他の粒子を含む硬化性組成物は、溶媒（ＭＥＫおよびＭｉＢＫ）、硬化性化合物、重合開始剤、シリカ粒子ａの分散液、その他の粒子の分散液、および界面活性剤の順に各成分を添加して調製した。
硬化性組成物Ａ１２は、シリカ粒子ａを分散液ではなく粉末の状態で使用し、硬化性化合物、重合開始剤、シリカ粒子ａ（粉末）、シリカ粒子ｂの分散液、および界面活性剤の順に各成分を添加して調製した。
表５および表６中の各成分の含有量の数値は、各成分の固形分（溶媒を除く成分）が、調製した硬化性組成物の固形分全量１００質量％に占める質量％を表している。また、溶媒は、硬化性組成物の固形分の濃度が５０質量％になるように、かつ硬化性組成物中に含まれる全溶媒中のＭＥＫ比率が５０％、ＭｉＢＫ比率が５０％となるように添加量を調整した。

＜積層フィルムＳ１〜Ｓ２９の作製＞
２５μｍの厚みのトリアセチルセルロースフィルムをロール形態で巻き出して、表５および表６に示す各硬化性組成物を使用し、形成される硬化層の厚みが表５および表６に記載の値になるように硬化性組成物の塗布量を調整して積層フィルムＳ１〜Ｓ２９を作製した。具体的には、特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で各硬化性組成物をトリアセチルセルロースフィルム表面に塗布し、雰囲気温度６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ^２および照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して硬化性組成物を硬化させて硬化層を形成した後、巻き取った。
以上の方法により、実施例および比較例の各積層フィルムを作製した。

＜積層フィルムの評価＞
（１）硬化層における粒子の存在状態の評価（シリカ粒子Ａおよびシリカ粒子Ｂの特定、占有面積率および占有面積率の変動係数の測定）
実施例および比較例の各積層フィルムから、ミクロトームを用いて厚み約５０ｎｍの断面観察用試料（超薄切片）を切り出した。この断面観察用試料を用いて、先に記載した方法により、透過型電子顕微鏡によって断面ＴＥＭ像を取得し、先に記載した方法により二値化画像を得た。得られた二値化画像において、先に記載した方法によりシリカ粒子Ａとシリカ粒子Ｂを分類した。シリカ粒子Ａは、１００ｎｍ以上（１００〜３０００ｎｍの範囲）の長さの連続した黒色部として観察された。断面ＴＥＭ像における粒子の凝集状態および分散状態から、硬化層では、シリカ粒子ａがシリカ粒子Ａとして観察され、シリカ粒子ｂがシリカ粒子Ｂとして観察されたことが確認された。したがって、シリカ粒子Ａの平均一次粒子径は、表１に示したシリカ粒子ａの平均一次粒子径であり、シリカ粒子Ａが有する疎水性基は、表１に示したシリカ粒子ａが有する疎水性基である。シリカ粒子Ｂの平均一次粒子径は、表２に示したシリカ粒子ｂの平均一次粒子径であり、シリカ粒子Ｂが有する疎水性基は、表２に示したシリカ粒子ｂが有する疎水性基である。
断面ＴＥＭ像を用いて、先に記載した方法によりシリカ粒子Ａおよびシリカ粒子Ｂについて、占有面積率および占有面積率の変動係数を求めた。同様に、その他の粒子についても、占有面積率の変動係数を求めた。

（２）積層フィルムのヘイズの測定
先に記載した方法により、ヘイズメーター（日本電色工業社製ヘイズメーターＮＤＨ２０００）を用いて、実施例および比較例の各積層フィルムのヘイズを測定した。

（３）硬化層の表面形状
実施例および比較例の各積層フィルムの硬化層表面において、菱化システム社製非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ２．０を用いて、レンズ倍率１０倍、Ｐｈａｓｅモードにて、先に記載した方法により、凹凸プロファイルの波長２．５０〜５．００μｍにおける合計振幅および最大高さＳｔを測定した。

（４）アンチブロッキング性
実施例および比較例の各積層フィルムについて、積層フィルムの硬化層表面同士を貼り合わせた際の貼り付き性を、下記基準で評価した。貼り合わせたフィルムは同じ実施例または比較例のフィルムである。例えば、積層フィルムＳ１は、２枚の積層フィルムＳ１を貼り合わせた。このように同じ実施例または比較例の積層フィルム同士を貼り合わせて評価を行うことにより、他の表面と貼り合わせてアンチブロッキング性を評価する場合と比べて、積層フィルムのアンチブロッキング性を、貼り合わせる他の表面の物性の影響を受けることなく、より正確に評価することができる。
Ａ：貼り付き感が全く無い。
Ｂ：貼り付き感が殆ど無い。
Ｃ：貼り付き感が強い。

（５）白濁
実施例および比較例の各積層フィルムについて、硬化層表面と反対側の表面（トリアセチルセルロースフィルム側の表面）に油性黒インキを塗り、硬化層表面とは反対側の表面の光反射を防止したＡ４サイズの試料を作製した。この試料を周囲が全て黒色の部屋で光を遮断し、タングステン光源のライトを照射し、目視観察することにより以下の基準で白濁の有無および程度を評価した。
Ａ：注意深く見ても硬化層表面に白味がかった箇所は確認されない。
Ｂ：注意深く見ると硬化層表面がやや白味がかっている。ただし製品フィルムとして許容できる。
Ｃ：硬化層表面が白味を帯びている。

（６）硬度
実施例および比較例の各積層フィルムの硬化層表面において、ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。積層フィルムを、雰囲気温度２５℃および相対湿度６０％の環境中で２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する２Ｈ〜５Ｈの試験用鉛筆を用いて、６．０Ｎの荷重にて同じ積層フィルムの硬化層表面で測定箇所を変えて５回（ｎ＝５）測定し、以下の判定基準で判定した。
ＯＫ：５回の評価において、３回以上、はっきりと視認される傷がなかった。
ＮＧ：５回の評価において、はっきりと視認される傷がなかった回数が２回以下。
上記判定により得られた結果により、以下の基準で硬度を評価した。
Ａ：３Ｈの試験用鉛筆を用いた評価結果の判定がＯＫ
Ｂ：２Ｈの試験用鉛筆を用いた評価結果の判定はＯＫ、３Ｈの試験用鉛筆を用いた評価結果の判定はＮＧ
Ｃ：２Ｈの試験用鉛筆を用いた評価結果の判定がＮＧ

（６）耐擦傷性（スチールウール耐傷擦性）
５００ｇまたは７００ｇの荷重をかけて、スチールウール（日本スチールウール社製＃００００ボンスター）を、実施例および比較例の各積層フィルムの硬化層表面上で５０往復させた。その後、硬化層表面を目視で観察した。目視にて筋状に発生した傷が観察される荷重によって、下記基準により耐擦傷性を評価した。
Ａ：７００ｇ荷重で傷が観察されない。
Ｂ：７００ｇ荷重では傷が観察され、５００ｇ荷重では傷が観察されない。
Ｃ：５００ｇ荷重で傷が観察される。

以上の結果を、表５および表６に示す。

表５および表６に示す結果から、実施例の積層フィルムは、アンチブロッキング性に優れ、しかも白濁発生が抑制されていることが確認できる。
また、表５および表６に示す結果から、実施例の積層フィルムは、硬化層表面の耐擦傷性に優れるフィルムであることも確認された。このように耐擦傷性に優れる積層フィルムは、各種物品の耐擦傷性向上等のために用いられる、一般にハードコートフィルムと呼ばれるフィルムとして好適である。ハードコートフィルムとしては、先に記載した方法により評価される硬度の評価結果がＡまたはＢのフィルムが好ましく、Ａのフィルムがより好ましい。
中でも、シリカ粒子ａとして表面にトリメチルシリル基を有するシリカ粒子を用いた実施例の積層フィルムは、高硬度であり耐擦傷性に特に優れる（例えば、評価Ａ、即ち、７００ｇ荷重で傷が観察されない）ことが確認された。

＜偏光板の作製＞
（セルロースアシレートフィルムの作製）
−コア層セルロースアシレートドープの作製−
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアアシレート溶液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
ポリエステルＡ １２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
メタノール（第２溶媒） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
（ポリエステルＡ：４−メチル−１，２−シクロヘキシルジカルボン酸５０モル％とエチレングリコール５０モル％との重合体であり、末端構造はシクロヘキサノイル基であり、数平均分子量８５０のポリエステル。）

−外層セルロースアシレートドープの作製−
上記コア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアシレート溶液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
シリカ粒子（日本アエロジル社製ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶媒） １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――

上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープと、その両側に外層セルロースアシレートドープとを、三層同時に流延口から表面温度２０℃のドラム上に流延した（ドラム流延機）。ドラム上のフィルムを、溶媒含有率が約２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥させた。乾燥後のフィルムを、熱処理装置のロール間に搬送することにより、更に乾燥させ、コア層の厚みが１６μｍであり、コア層の両側に位置する外層がそれぞれ厚み２μｍであり、フィルム厚みが２０μｍのセルロースアシレートフィルムを得た。

（フィルムの鹸化）
実施例および比較例で作製した各積層フィルム、ならびに上記で作製したセルロースアシレートフィルムを、液温３７℃に調温した４．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（鹸化液）に１分間浸漬した。その後、フィルムを水洗し、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に水洗浴に通した。そして、エアナイフを用いる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に雰囲気温度７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。

（偏光子の作製）
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、延伸したポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて、厚み７μｍの偏光子（ヨウ素染色ポリビニルアルコール系フィルム）を作製した。

（偏光板の作製（偏光子と保護フィルムとの貼り合わせ））
上記で作製した偏光子を、一方の保護フィルムとして上記で鹸化した実施例または比較例の積層フィルムと、他方の保護フィルムとして上記で鹸化したセルロースアシレートフィルムとで挟んだ後、ポリビニルアルコール（クラレ社製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、吸収軸とフィルムの長手方向とが直交するようにロールツーロールで貼り合わせて偏光板を作製した。ここで、実施例または比較例の積層フィルムは、鹸化された基材フィルム表面と偏光子とを貼り合わせた。こうして、実施例および比較例の各偏光板を得た。

＜液晶表示装置の作製＞
市販のＩＰＳ型液晶テレビ（ＬＧ電子製４２ＬＳ５６００）のフロント偏光板をはがして除去し、代わりにフロント偏光板として、実施例および比較例の各偏光板を、吸収軸が長手方向（左右方向）になるように粘着剤を介して硬化層が最表面になるように貼り付けて液晶表示装置を得た。

＜インセルタッチパネル液晶素子を有する液晶表示装置の作製＞
市販の液晶表示装置（ソニーエリクソン社製エクスペリアＰ）に組み込まれているインセルタッチパネル液晶素子を準備した。このインセルタッチパネル液晶素子上に、実施例の各偏光板を、厚み２０μｍの接着層を介して貼り合わせた。

＜オンセルタッチパネル液晶素子を有する液晶表示装置の作製＞
特開２０１２−８８６８３号公報の段落０１３９〜０１４３に記載のタッチパネルセンサー一体型カラーフィルター上に、実施例の各偏光板を、厚み２０μｍの接着層を介して貼り合わせた。

本発明は、液晶表示装置の技術分野において有用である。

Claims (14)

1. 基材フィルムと、硬化性組成物を硬化した硬化層と、を有する積層フィルムであって、
   前記積層フィルムのヘイズは１．０％以下であり、
   前記硬化層は、
   シリカ粒子Ａ：表面に疎水性基を有し、平均一次粒子径が５〜５０ｎｍの範囲であり、かつ前記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像を二値化処理した二値化画像において１００ｎｍ以上の長さの連続した黒色部として観察されるシリカ粒子、および
   シリカ粒子Ｂ：前記シリカ粒子Ａ以外のシリカ粒子であって、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が７〜５０ｎｍの範囲であるシリカ粒子、
   を含み、
   前記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像における前記シリカ粒子Ａの占有面積率は、０．５〜２０．０％の範囲であり、かつ前記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像における前記シリカ粒子Ｂの占有面積率と下記式：
   ０．００５≦シリカ粒子Ａの占有面積率／シリカ粒子Ｂの占有面積率≦０．４００
   の関係を満たし、
   前記硬化層の断面透過型電子顕微鏡像における前記シリカ粒子Ａの占有面積率の変動係数は０．５％超３．０％以下であり、かつ前記シリカ粒子Ｂの占有面積率の変動係数は０．０〜０．５％の範囲である積層フィルム。
2. 前記硬化層の表面で測定される凹凸プロファイルの波長２．５０〜５．００μｍにおける合計振幅は０．００７〜０．０５０ｎｍの範囲であり、かつ前記硬化層の表面で測定される凹凸プロファイルの最大高さＳｔは７〜１００ｎｍの範囲である請求項１に記載の積層フィルム。
3. 前記シリカ粒子ＡのＢＥＴ比表面積は、３０〜４００ｍ^２／ｇの範囲である請求項１または２に記載の積層フィルム。
4. 前記シリカ粒子Ａは、炭素含有率をＢＥＴ比表面積で除した値が０．００５〜０．１５０の範囲である請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層フィルム。
5. 前記シリカ粒子Ａは、炭素含有率をＢＥＴ比表面積で除した値が０．０１０〜０．０３０の範囲である請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層フィルム。
6. 前記シリカ粒子Ｂが有する疎水性基は、アルキルシリル基、ビニルシリル基由来の残基、エポキシシリル基由来の残基および（メタ）アクリロキシシリル基由来の残基からなる群から選択される請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層フィルム。
7. 前記硬化性組成物は、多官能（メタ）アクリレート化合物およびエポキシ化合物からなる群から選択される硬化性化合物を含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層フィルム。
8. 前記硬化性組成物は、重合開始剤を更に含む請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層フィルム。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層フィルムの製造方法であって、
   表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が５〜５０ｎｍであるシリカ粒子を有機溶媒中に分散してシリカ粒子含有組成物１を調製する工程と、
   前記シリカ粒子含有組成物１を、表面に疎水性基を有し、かつ平均一次粒子径が７〜５０ｎｍであるシリカ粒子を有機溶媒中に含むシリカ粒子含有組成物２、および硬化性化合物と混合して硬化性組成物を調製する工程と、
   前記硬化性組成物を基材フィルム上に塗布する工程と、
   前記塗布された硬化性組成物を硬化する工程と、
   を含む、前記積層フィルムの製造方法。
10. 前記シリカ粒子含有組成物１中のシリカ粒子の平均二次粒子径は１００〜５００ｎｍの範囲である請求項９に記載の積層フィルムの製造方法。
11. 偏光子と、請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層フィルムと、を含む偏光板。
12. 液晶表示素子と、請求項１１に記載の偏光板と、を含む液晶パネル。
13. 請求項１２に記載の液晶パネルと、バックライトユニットと、を含む液晶表示装置。
14. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層フィルムを含むタッチパネル。