JP6493790B2 - 表面処理剤及びゴム製品 - Google Patents
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Description
(上記式(III)中、pは0〜2の整数である。)
[表面処理剤]
本実施形態に係る表面処理剤は、ゴム基材の表面を処理するために用いられるものであって、下記一般式(I)で示されるフッ素含有化合物と、ケイ化カルシウム(CaSi2)と、ゴム組成物及びゴム糊用溶剤を含むゴム糊と、アルカリと、それらを溶解する表面処理剤用溶剤とを含有する。
本実施形態に係る表面処理剤は、上記式(I)で示されるフッ素化合物と、ケイ化カルシウムと、ゴム糊と、アルカリと、所望によりシランカップリング剤とを表面処理剤用溶剤に添加し、所定時間(10〜30分程度)攪拌してそれらの成分を表面処理剤用溶剤に溶解させることにより容易に製造され得る。
本実施形態におけるゴム製品は、ゴム基材(加硫ゴム基材又は未加硫ゴム基材)と、本実施形態に係る表面処理剤を用いたゴム基材の表面に対する表面処理により形成されてなる表面処理層とを有する。表面処理層は、ゴム製品の用途等に応じて、ゴム基材の全面に形成されていてもよいし、一部(一部の表面、表面のうちの一部分等)に形成されていてもよい。
アクリロニトリルブタジエンゴム(NBRポリマー)82g、老化防止剤(BHT)0.5g、ステアリン酸1g、酸化亜鉛5g、補強剤(含水非晶質二酸化ケイ素)40g、顔料1.8g、酸化チタン3g、硫黄2g、可塑剤(ジブトキシエトキシエチルホルマール)15g、加硫促進剤(ZnBDC)3g、及び加硫促進剤(CBS)2gを8インチロールによって混練してアクリロニトリルブタジエンゴム組成物(未加硫ゴム)を調製した。次に、この未加硫ゴムを、熱プレスを用いて加硫処理(150℃,10分間)を行い、アクリロニトリルブタジエンゴム(加硫ゴム)からなるゴム基材(厚さ:2mm)を作製した。
(1)表面処理剤の調製
表1に示す処方に従って、上記式(IV)で示されるフッ素含有化合物、ケイ化カルシウム(CaSi2)、ゴム糊(上記アクリロニトリルブタジエンゴム組成物(未加硫ゴム)5gをゴム糊用溶剤としてのトルエン(関東化学社製)45gに溶解させて調製)、アルカリとしてのアンモニア水、及び上記式(II)で示されるメルカプト系シランカップリング剤(R5=CH3,R7=SH,m=3,n=3;Z6062,東レダウコーニング社製)を、表面処理剤用溶剤としてのトルエンに添加し、室温下にて30分間攪拌することにより、表面処理剤を調製した。
上記のようにして得られた表面処理剤を、上記ゴム基材の一方面に刷毛で塗布し、表面処理剤の塗膜を形成した。次に、当該ゴム板に、140℃のオーブン内で8時間加熱処理を施し、ゴム基材の一方面に表面処理層が形成されたゴム製品を作製した。
シランカップリング剤を含有させなかった以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、当該表面処理剤を用いてゴム基材の一方面に表面処理層を形成し、ゴム製品を作製した。
テトラエトキシシランをさらに含有させた以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、当該表面処理剤を用いてゴム基材の一方面に表面処理層を形成し、ゴム製品を作製した。
表面処理剤用溶剤としてのトルエンをキシレンに変更した以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、当該表面処理剤を用いてゴム基材の一方面に表面処理層を形成し、ゴム製品を作製した。
シランカップリング剤をビニル系シランカップリング剤(R5=CH3,R7=CH2CH,m=3,n=0;Z6300,東レダウコーニング社製)に変更した以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、当該表面処理剤を用いてゴム基材の一方面に表面処理層を形成し、ゴム製品を作製した。
表2に示す処方に従い、フッ素含有化合物を含有させなかった以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、当該表面処理剤を用いてゴム基材の一方面に表面処理層を形成し、ゴム製品を作製した。
ケイ化カルシウムを含有させなかった以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、当該表面処理剤を用いてゴム基材の一方面に表面処理層を形成し、ゴム製品を作製した。
ゴム糊を含有させなかった以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、当該表面処理剤を用いてゴム基材の一方面に表面処理層を形成し、ゴム製品を作製した。
アルカリとしてのアンモニア水を含有させなかった以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、当該表面処理剤を用いてゴム基材の一方面に表面処理層を形成し、ゴム製品を作製した。
アルカリとしてのアンモニア水を1N塩酸に変更した以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、当該表面処理剤を用いてゴム基材の一方面に表面処理層を形成し、ゴム製品を作製した。
ケイ化カルシウムを炭酸カルシウム(CaCO3)に変更した以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、当該表面処理剤を用いてゴム基材の一方面に表面処理層を形成し、ゴム製品を作製した。
ケイ化カルシウムを水酸化カルシウム(Ca(OH)2)に変更した以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、当該表面処理剤を用いてゴム基材の一方面に表面処理層を形成し、ゴム製品を作製した。
(1)表面処理剤の調製
表2に示す処方に従って、上記式(IV)で示されるフッ素含有化合物、テトラエトキシシラン(TEOS)、テトラエトキシチタン(Ti(OEt)4)、上記式(II)で示されるメルカプト系シランカップリング剤(R5=CH3,R7=SH,m=3,n=3;Z6062,東レダウコーニング社製)、及び0.1N塩酸を、表面処理剤用溶剤としてのアセトンに添加し、室温下にて1時間攪拌することにより、表面処理剤を調製した。
上記のようにして得られた表面処理剤を、上記ゴム基材の一方面に刷毛で塗布し、表面処理剤の塗膜を形成した。次に、当該ゴム板を室温下にて10分間放置して塗膜を乾燥させた後、100℃のオーブン内で60分間加熱処理を施し、ゴム基材の一方面に表面処理層が形成されたゴム製品を作製した。
接触角測定器(協和界面科学社製,DM−501)の試料ステージ上に、表面処理層が上方に位置するように実施例1〜5及び比較例1〜10のゴム製品を載置し、所定量(約2μL)の水滴をシリンジ先端に形成させた後、試料ステージを上方に移動してシリンジ先端に形成された水滴にゴム製品の表面処理層を接触させた。その後、試料ステージを下方に移動させて、ゴム製品の表面処理層上の水滴の接触角を測定した。参考として、表面処理剤による表面処理を施していないゴム基材(参考例1)の一方面上の水滴についても同様の操作により接触角を測定した。
所定量(約2μL)のドデカンの液滴をシリンジ先端に形成させた以外は、試験例1と同様の操作により実施例1〜5及び比較例1〜10のゴム製品の表面処理層上、並びに参考例1のゴム基材の一方面上のドデカン液滴の接触角を測定した。また、実施例1〜5及び比較例1〜10のゴム製品の表面処理層、並びに参考例1のゴム基材の一方面を、エタノールを含む不織布で拭き取った後、同様にしてドデカン液滴の接触角を測定した。結果を表3にあわせて示す
実施例1〜5及び比較例1〜10の表面処理層、並びに参考例1のゴム基材の一方面の算術平均表面粗さRaを、表面粗さ測定装置(KEYENCE社製,形状解析レーザー顕微鏡VK−X150)を用いて測定した。結果を表3にあわせて示す。
Claims (6)
- 前記ゴム基材を構成するゴム組成物及び前記ゴム糊に含まれる前記ゴム組成物が、いずれもジエン系ゴム組成物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の表面処理剤。
- 前記ゴム基材を構成するゴム組成物及び前記ゴム糊に含まれる前記ゴム組成物の少なくとも一方が、アクリロニトリルブタジエンゴム組成物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の表面処理剤。
- ゴム基材と、
前記ゴム基材の表面に形成されてなる表面処理層と
を有し、
前記表面処理層は、前記ゴム基材の表面に請求項1〜4のいずれかに記載の表面処理剤を用いた表面処理により形成されてなることを特徴とするゴム製品。 - 前記ゴム基材が、アクリロニトリルブタジエンゴムにより構成されることを特徴とする請求項5に記載のゴム製品。
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