JP6487729B2 - 基材処理装置、塗膜形成システム、基材処理方法及び塗膜形成方法 - Google Patents
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Description
また、処理区間において、基材をアーチ状に曲げて搬送することで、処理区間の直線距離を変えずに、基材の搬送距離を長くすることができる。また、複数のローラによって基材をアーチ状に支持するため、直線的に支持する場合よりも、各ローラの基材と接触する面の面積(抱き角)を大きくすることができる。したがって、各ローラを傾動させた際に、基材をより確実に引っ掛けることができる。よって、基材の位置ずれをより確実に修正できる。
また、均一な処理が実行可能とされる規定処理範囲内に収まるように、基材の位置ずれを修正できる。
図1は、実施形態に係る乾燥処理部30A,30Bを備えた塗膜形成システム1を示す概略構成図である。
図6は、実施形態に係る傾動機構制御部711が実行する傾動駆動制御のフローを示す図である。なお、この傾動駆動制御は、搬送機構60によって搬送される基材5が乾燥処理区間12Aまたは乾燥処理区間12Bで乾燥処理されている際に実行される。
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
5 基材
7 制御部
10A,10B 塗工部
11A,11B ノズル
12A,12B 乾燥処理区間
30A,30B 乾燥処理部
31 筐体部
311 チャンバ
312 連結部
313 入口
313A 搬入口
314 出口
314A 搬出口
33 傾動ローラ群
331 傾動ローラ
35 表面乾燥部
37 裏面乾燥部
41 傾動機構
411 移動部
413 固定部
415 モータ
51A,51B 位置検出器
60 搬送機構
61 巻出しローラ(第1ローラ)
62 巻き取りローラ(第2ローラ)
711 傾動機構制御部
RP1 乾燥処理範囲
Claims (7)
- 第1ローラから送り出された基材を第2ローラで巻き取ることによって所定の搬送方向に連続して搬送する搬送機構によって搬送される基材に対して、規定処理を行う基材処理装置であって、
前記搬送機構によって搬送される前記基材の両面のうち少なくとも一方主面に対して、規定処理を行う規定処理部と、
前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記規定処理部が前記規定処理を行う処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラと、
前記複数のローラのうち全部の各回転軸の一方側端部を、他方側端部に対して相対的に、前記基材の前記他方主面に交差する方向に沿って移動させる傾動機構と、
前記処理区間よりも前記搬送方向の下流側において、前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向端部の位置を検出する位置検出器と、
前記位置検出器によって検出された前記基材の位置に基づいて、前記傾動機構を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記処理区間に存する前記基材の幅方向の位置が、前記規定処理部が前記基材に対して前記規定処理を均一に実行可能とされる規定処理範囲内に含まれるように、前記傾動機構を制御して前記基材の幅方向の位置を修正し、
前記複数のローラの全部が非直線状に配置されていることによって、前記処理区間に存する前記基材の部分がアーチ状に曲げられる、基材処理装置。 - 請求項1に記載の基材処理装置であって、
前記処理区間に存する前記基材の部分を収容する筐体部、
をさらに備え、
前記筐体部には、その内部に前記基材よりも幅広である進入口及び退出口が形成されており、
前記進入口から前記基材が進入する際の進入方向が、前記退出口から前記基材が退出する際の退出方向と鈍角を成す、基材処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基材処理装置であって、
前記傾動機構は、前記2つ以上のローラの各他方側の端部を固定する固定部を有する、基材処理装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基材処理装置であって、
前記規定処理が、前記基材の一方主面に塗布された処理液を乾燥させる乾燥処理である、基材処理装置。 - 基材に塗膜を形成する塗膜形成システムであって、
第1ローラから送り出された基材を第2ローラで巻き取ることによって所定の搬送方向に連続して基材を搬送する搬送機構と、
前記搬送機構によって搬送される前記基材の主面に対して、塗工液を吐出するノズルと、
前記基材に形成された前記塗工液を乾燥させる乾燥処理を行う乾燥処理部と、
前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記乾燥処理部が前記乾燥処理を行う乾燥処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラと、
前記複数のローラのうち全部の各回転軸の一方端を、他方端に対して相対的に、前記基材の他方主面に交差する方向に移動させる傾動機構と、
前記乾燥処理区間よりも前記搬送方向の下流側において、前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向端部の位置を検出する位置検出器と、
前記位置検出器によって検出された前記基材の位置に基づいて、前記傾動機構を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記乾燥処理区間に存する前記基材の幅方向の位置が、前記乾燥処理部が前記基材に対して前記乾燥処理を均一に実行可能とされる規定処理範囲内に含まれるように、前記傾動機構を制御して前記基材の幅方向の位置を修正し、
前記複数のローラの全部が非直線状に配置されていることによって、前記乾燥処理区間に存する前記基材の部分がアーチ状に曲げられる、塗膜形成システム。 - 第1ローラから送り出された基材を第2ローラで巻き取ることによって所定の搬送方向に連続して搬送する搬送機構によって搬送される基材に対して、規定処理を行う基材処理方法であって、
(a)前記搬送機構によって搬送される前記基材の両面のうち少なくとも一方主面に対して、規定処理を行う工程と、
(b)前記規定処理が行われる処理区間よりも前記搬送方向の下流側において、前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向端部の位置を検出する工程と、
(c)前記(b)工程にて検出された前記基材の位置に応じて、前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記規定処理が行われる処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラの全部の各回転軸の一方側端部を、他方側端部に対して相対的に、前記基材の前記他方主面に交差する方向に沿って移動させて、前記処理区間に存する前記機材の幅方向の位置が、前記基材に対して前記規定処理を均一に実行可能とされる規定処理範囲内に含まれるように、前記基材の幅方向の位置を修正する工程と、
を含み、
前記複数のローラの全部が非直線状に配置されることによって、前記処理区間に存する前記基材の部分がアーチ状に曲げられる、基材処理方法。 - 基材に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、
(A)第1ローラから送り出された基材を第2ローラで巻き取る搬送機構によって所定の搬送方向に連続して前記基材を搬送する工程と、
(B)前記搬送機構によって搬送される前記基材の主面に対して、塗工液を吐出する工程と、
(C)前記基材に形成された前記塗工液を乾燥させる乾燥処理を行う工程と、
(D)前記乾燥処理が行われる乾燥処理区間よりも前記搬送方向の下流側において、前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向端部の位置を検出する工程と、
(E)前記(D)工程にて検出された前記基材の位置に応じて、前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記乾燥処理が行われる乾燥処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラの全部の各回転軸の一方側端部を、他方側端部に対して相対的に前記基材の前記他方主面に交差する方向に沿って移動させて、前記乾燥処理区間に存する前記基材の幅方向の位置が、前記基材に対して前記乾燥処理を均一に実行とされる規定処理範囲内に含まれるように、前記基材の位置を修正する工程と、
を含み、
前記複数のローラの全部が非直線状配置されることによって、前記乾燥処理区間に存する前記基材の部分がアーチ状に曲げられる、塗膜形成方法。
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