JP6480781B2 - 透明被膜形成用塗布液、透明被膜形成用塗布液の製造方法、透明被膜付基材、および透明被膜付基材の製造方法 - Google Patents
透明被膜形成用塗布液、透明被膜形成用塗布液の製造方法、透明被膜付基材、および透明被膜付基材の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6480781B2 JP6480781B2 JP2015074530A JP2015074530A JP6480781B2 JP 6480781 B2 JP6480781 B2 JP 6480781B2 JP 2015074530 A JP2015074530 A JP 2015074530A JP 2015074530 A JP2015074530 A JP 2015074530A JP 6480781 B2 JP6480781 B2 JP 6480781B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- transparent film
- coating liquid
- film
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 171
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 168
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 98
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 67
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 37
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 61
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 57
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 57
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 57
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 54
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 49
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 46
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 46
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 43
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 32
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 26
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 25
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 23
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 19
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 17
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 claims description 15
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 11
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 claims description 7
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 6
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 4
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 162
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 17
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical group O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 6
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXYCCJAPZKHOLS-UHFFFAOYSA-N chembl2008674 Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2C(N=NC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=C(S(O)(=O)=O)C2=C1 SXYCCJAPZKHOLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVQAJTFOCKOKIN-UHFFFAOYSA-N flavonol Chemical compound O1C2=CC=CC=C2C(=O)C(O)=C1C1=CC=CC=C1 HVQAJTFOCKOKIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- SHXHPUAKLCCLDV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoropentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C(F)(F)F SHXHPUAKLCCLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPYKJDYMMUIUFG-UHFFFAOYSA-N 1-(2-Furanyl)-1,3-butanedione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=CO1 GPYKJDYMMUIUFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDGWHQSOYIQHAS-UHFFFAOYSA-N 1-(furan-2-yl)-3-phenylpropane-1,3-dione Chemical compound C=1C=COC=1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 NDGWHQSOYIQHAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 1-nitrosonaphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=O)C(O)=CC=C21 YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbutane-1,3-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSXCLFYNJYBVPM-UHFFFAOYSA-N 1-thiophen-2-ylbutane-1,3-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=CS1 BSXCLFYNJYBVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSPLFNGUPLZYHV-UHFFFAOYSA-N 1h-1,5-naphthyridin-4-one Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=NC2=C1 NSPLFNGUPLZYHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBYLBWHHTUWMER-UHFFFAOYSA-N 2-Methylquinolin-8-ol Chemical compound C1=CC=C(O)C2=NC(C)=CC=C21 NBYLBWHHTUWMER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQZDYPHFVGRHKD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC(C)=CC=C3C=CC2=C1 LQZDYPHFVGRHKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYUYTOYKQOAVDW-UHFFFAOYSA-N 2-nitrosonaphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(N=O)C=CC2=C1 SYUYTOYKQOAVDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLPKTAFPRRIFQX-UHFFFAOYSA-N 2-thiophen-2-ylpyridine Chemical compound C1=CSC(C=2N=CC=CC=2)=C1 QLPKTAFPRRIFQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DACWUGOLTNQROR-UHFFFAOYSA-N 3-diethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[SiH](OCC)CCCOC(=O)C=C DACWUGOLTNQROR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWLPCALGCHDBCN-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluoro-1-(furan-2-yl)butane-1,3-dione Chemical compound FC(F)(F)C(=O)CC(=O)C1=CC=CO1 OWLPCALGCHDBCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVXLFFIFNVKFBD-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluoro-1-phenylbutane-1,3-dione Chemical compound FC(F)(F)C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 VVXLFFIFNVKFBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIVLDFFWTQYGSR-UHFFFAOYSA-N 4,7-dimethyl-[1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CC2=C(C)C=CN=C2C2=C1C(C)=CC=N2 JIVLDFFWTQYGSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=NC2=C1C=CC1=C(C=3C=CC=CC=3)C=CN=C21 DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYBLVRRCNVHZQJ-UHFFFAOYSA-N 5-Hydroxyflavone Chemical compound C=1C(=O)C=2C(O)=CC=CC=2OC=1C1=CC=CC=C1 IYBLVRRCNVHZQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWKGPQCKIBRXGW-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=C2C(Br)=CC3=CC=CN=C3C2=N1 GWKGPQCKIBRXGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDUUQOQFSWSZSM-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC3=CC=CN=C3C2=N1 XDUUQOQFSWSZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJAQYOZROIFQHO-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC3=CC=CN=C3C2=N1 UJAQYOZROIFQHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCRMNYVCABKJCM-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2h-pyran Chemical compound CC1=COCC=C1 QCRMNYVCABKJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDDBTWXLNJNICS-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=CC3=CC=CN=C3C2=N1 PDDBTWXLNJNICS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQEQHUHZBMUJET-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC2=CC=CN=C2C2=NC=CC=C12 QQEQHUHZBMUJET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIBOXZCUYYHFTM-UHFFFAOYSA-N 6-methylquinolin-8-ol Chemical compound N1=CC=CC2=CC(C)=CC(O)=C21 AIBOXZCUYYHFTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTUQISVBYRDYAW-UHFFFAOYSA-N 7h-1,7-naphthyridin-8-one Chemical compound C1=CN=C2C(=O)NC=CC2=C1 VTUQISVBYRDYAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGDFHDKSYGVKDC-UHFFFAOYSA-N 8-hydroxyquinoline-5-sulfonic acid Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=C(S(O)(=O)=O)C2=C1 LGDFHDKSYGVKDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGWXFLWSINBWMC-UHFFFAOYSA-N COC(C([O-])(OC)OC)OC.[Ti+4].CC([O-])C.CC([O-])C.CC([O-])C.CC([O-])C.[Ti+4] Chemical compound COC(C([O-])(OC)OC)OC.[Ti+4].CC([O-])C.CC([O-])C.CC([O-])C.CC([O-])C.[Ti+4] RGWXFLWSINBWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQLYURKXFXANGH-UHFFFAOYSA-N COC(C([O-])(OC)OC)OC.[Zr+4].COC(C([O-])(OC)OC)OC.COC(C([O-])(OC)OC)OC.COC(C([O-])(OC)OC)OC Chemical compound COC(C([O-])(OC)OC)OC.[Zr+4].COC(C([O-])(OC)OC)OC.COC(C([O-])(OC)OC)OC.COC(C([O-])(OC)OC)OC QQLYURKXFXANGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRQGZDVJDWYCFR-UHFFFAOYSA-N COC(C([O-])OCC)(OC)OC.[Al+3].COC(C([O-])OCC)(OC)OC.COC(C([O-])OCC)(OC)OC Chemical compound COC(C([O-])OCC)(OC)OC.[Al+3].COC(C([O-])OCC)(OC)OC.COC(C([O-])OCC)(OC)OC BRQGZDVJDWYCFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYMZZANFZOCBSZ-UHFFFAOYSA-N COC(CC[O-])(OC)OC.[In+3].COC(CC[O-])(OC)OC.COC(CC[O-])(OC)OC Chemical compound COC(CC[O-])(OC)OC.[In+3].COC(CC[O-])(OC)OC.COC(CC[O-])(OC)OC SYMZZANFZOCBSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKSOYURVMXCCJU-UHFFFAOYSA-N COC(COC([O-])C)(OC)OC.COC(CO[In+2])(OC)OC.[In+3].COC(COC([O-])C)(OC)OC.COC(COC([O-])C)(OC)OC.COC(COC([O-])C)(OC)OC.COC(COC([O-])C)(OC)OC Chemical compound COC(COC([O-])C)(OC)OC.COC(CO[In+2])(OC)OC.[In+3].COC(COC([O-])C)(OC)OC.COC(COC([O-])C)(OC)OC.COC(COC([O-])C)(OC)OC.COC(COC([O-])C)(OC)OC XKSOYURVMXCCJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISZWRZGKEWQACU-UHFFFAOYSA-N Primuletin Natural products OC1=CC=CC(C=2OC3=CC=CC=C3C(=O)C=2)=C1 ISZWRZGKEWQACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKPHOMMNDXXWIT-UHFFFAOYSA-N [O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.C(C)O[Ti](OCC)(OCC)OCC.[Ti+4] Chemical compound [O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.C(C)O[Ti](OCC)(OCC)OCC.[Ti+4] LKPHOMMNDXXWIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBZFVMXEFOGGDT-UHFFFAOYSA-N aluminum 3,3,3-trimethoxypropan-1-olate Chemical compound COC(CC[O-])(OC)OC.[Al+3].COC(CC[O-])(OC)OC.COC(CC[O-])(OC)OC LBZFVMXEFOGGDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- CQOXUSHAXLMSEN-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);propan-1-olate Chemical compound CCCO[Sb](OCCC)OCCC CQOXUSHAXLMSEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- LLYOXZQVOKALCD-UHFFFAOYSA-N chembl1400298 Chemical compound OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC1=CC=CC=N1 LLYOXZQVOKALCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQWICJYATMSSSD-UHFFFAOYSA-M chembl2028584 Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(N=NC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=C(S([O-])(=O)=O)C2=C1 ZQWICJYATMSSSD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HOWITLLZNKSJOJ-UHFFFAOYSA-M chembl471028 Chemical compound [Na+].C1=CC=CC2=C(O)C(N=NC3=C4C=CC=CC4=C(C=C3O)S([O-])(=O)=O)=CC=C21 HOWITLLZNKSJOJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N dibenzoylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical compound CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N dimethylglyoxime Chemical compound O/N=C(/C)\C(\C)=N\O JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N ethanolate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N ethyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](CC)(OC(C)C)OC(C)C MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- QAMFBRUWYYMMGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluoroacetylacetone Chemical compound FC(F)(F)C(=O)CC(=O)C(F)(F)F QAMFBRUWYYMMGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- CXIAOEXVDRAYBR-UHFFFAOYSA-N indium(3+);propan-1-olate Chemical compound [In+3].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] CXIAOEXVDRAYBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFGQQVBNSKSLDU-UHFFFAOYSA-K indium(3+);triphenoxide Chemical compound [In+3].[O-]C1=CC=CC=C1.[O-]C1=CC=CC=C1.[O-]C1=CC=CC=C1 WFGQQVBNSKSLDU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- ITNVWQNWHXEMNS-UHFFFAOYSA-N methanolate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C ITNVWQNWHXEMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKGXNCHYONXJSM-UHFFFAOYSA-N methanolate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C IKGXNCHYONXJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N methyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)OC(C)C HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- IOJNPSPGHUEJAQ-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-(pyridin-2-yldiazenyl)aniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1N=NC1=CC=CC=N1 IOJNPSPGHUEJAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005186 naphthyloxy group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)O* 0.000 description 1
- IYRGXJIJGHOCFS-UHFFFAOYSA-N neocuproine Chemical compound C1=C(C)N=C2C3=NC(C)=CC=C3C=CC2=C1 IYRGXJIJGHOCFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTILUDNICMILKJ-UHFFFAOYSA-N niobium(v) ethoxide Chemical compound CCO[Nb](OCC)(OCC)(OCC)OCC ZTILUDNICMILKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOAUVZALPPNFOQ-UHFFFAOYSA-N quinaldic acid Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C(=O)O)=CC=C21 LOAUVZALPPNFOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNNRQIKKDKDFRV-UHFFFAOYSA-N quinazolin-8-ol Chemical compound N1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 LNNRQIKKDKDFRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRDZFPUVLYEQTA-UHFFFAOYSA-N quinoline-8-carboxylic acid Chemical compound C1=CN=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 QRDZFPUVLYEQTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUQDDQFXSNXEOD-UHFFFAOYSA-N quinoxalin-5-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=N1 ZUQDDQFXSNXEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- TXBBUSUXYMIVOS-UHFFFAOYSA-N thenoyltrifluoroacetone Chemical compound FC(F)(F)C(=O)CC(=O)C1=CC=CS1 TXBBUSUXYMIVOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVZUSPADPSOQQN-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yloxy)indigane Chemical compound [In+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] OVZUSPADPSOQQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N tributoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWRQFDQQDBJDHD-UHFFFAOYSA-N tributoxyindigane Chemical compound CCCCO[In](OCCCC)OCCCC JWRQFDQQDBJDHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGBFTDQFAKDXBZ-UHFFFAOYSA-N tributyl stiborite Chemical compound [Sb+3].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YGBFTDQFAKDXBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)F BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCXZOLDSEPCWRB-UHFFFAOYSA-N triethoxyindigane Chemical compound [In+3].CC[O-].CC[O-].CC[O-] MCXZOLDSEPCWRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGOJQVLHSPGMOC-UHFFFAOYSA-N triethyl stiborite Chemical compound [Sb+3].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JGOJQVLHSPGMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(F)(F)F ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAEJRRZPRZCUBE-UHFFFAOYSA-N trimethoxyalumane Chemical compound [Al+3].[O-]C.[O-]C.[O-]C UAEJRRZPRZCUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGPUIKFYWJXRBX-UHFFFAOYSA-N trimethoxyindigane Chemical compound [In+3].[O-]C.[O-]C.[O-]C FGPUIKFYWJXRBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEUYHGXCOWNTEJ-UHFFFAOYSA-N trimethyl stiborite Chemical compound [Sb+3].[O-]C.[O-]C.[O-]C KEUYHGXCOWNTEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPSWAWSNPREEFQ-UHFFFAOYSA-K triphenoxyalumane Chemical compound [Al+3].[O-]C1=CC=CC=C1.[O-]C1=CC=CC=C1.[O-]C1=CC=CC=C1 OPSWAWSNPREEFQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- HYPTXUAFIRUIRD-UHFFFAOYSA-N tripropan-2-yl stiborite Chemical compound [Sb+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] HYPTXUAFIRUIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N tripropoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUGZSDKTVZEUQC-UHFFFAOYSA-N tris(2,2,2-trimethoxyethoxy)alumane Chemical compound [Al+3].COC(C[O-])(OC)OC.COC(C[O-])(OC)OC.COC(C[O-])(OC)OC IUGZSDKTVZEUQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAOVYDBYKGXFOB-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylpropoxy)alumane Chemical compound [Al+3].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-] DAOVYDBYKGXFOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQVWIBENITYPO-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylpropoxy)indigane Chemical compound [In+3].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-] OLQVWIBENITYPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOOXOWAGPRNWEG-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylpropyl) stiborite Chemical compound CC(C)CO[Sb](OCC(C)C)OCC(C)C MOOXOWAGPRNWEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDDPTCUZZASZIQ-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]alumane Chemical compound [Al+3].CC(C)(C)[O-].CC(C)(C)[O-].CC(C)(C)[O-] MDDPTCUZZASZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSEICBQSWNBGQZ-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]indigane Chemical compound CC(C)(C)O[In](OC(C)(C)C)OC(C)(C)C SSEICBQSWNBGQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
さらに詳しくは、金属アルコキシドとキレート形成可能な有機化合物、特定の金属アルコキシドなどを含んでいるために、80〜300℃という比較的低温で硬化するとともに、密着性、硬度、膜強度、耐久性、屈折率(高屈折率)等に優れた透明被膜を形成することのできる透明被膜形成用塗布液およびその製造方法、並びに、該透明被膜形成用塗布液を基材上に塗布し、硬化してなる透明被膜付基材に関する。
金属アルコキシドとキレート形成可能な有機化合物と3官能シラン化合物と金属アルコキシド(ただし、シリコンアルコキシドを除く)とが水および有機溶媒からなる混合溶媒中に溶解または分散した塗布液を用いると、十分な硬度を有するとともにクラックを生じにくい透明被膜が得られることを見いだした。本発明はこの知見をもとに完成されたものである。
すなわち、本発明は、以下のような、透明被膜形成用塗布液、透明被膜形成用塗布液の製造方法、透明被膜付基材、および透明被膜付基材の製造方法を提供するものである。
また、本発明は、透明被膜形成用塗布液に高屈折率粒子を配合することなく、高屈折率(屈折率1.3〜2.3)な透明被膜を形成できる透明被膜形成用塗布液を提供するものである。
R3Si(R4)3 (2)
(R3は炭素数1から8までの非置換または置換アルキル基、非置換または置換アリール基、およびビニル基のいずれかである。R4は炭素数1から8までの非置換または置換アルコキシ基、非置換または置換アリールオキシ基、ビニルオキシ基、水酸基、水素原子、およびハロゲン原子のいずれかであり、同一であってもよく、異なっていてもよい。)
M(OR5)n (3)
(Mは、Be、Al、P、Sc、Ti、V、Cr、Fe、Ni、Zn、Ga、Ge、As、Se、Y、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Pb、B、Bi、Ce、およびCuから選ばれた1種の元素であり、R5は炭素数1から10までの非置換または置換アルキル基であり、同一であってもよく、異なっていてもよい。nはMの原子価と同じ整数である。)
R3Si(R4)3 (2)
(R3は炭素数1から8までの非置換または置換アルキル基、非置換または置換アリール基、およびビニル基のいずれかである。R4は炭素数1から8までの非置換または置換アルコキシ基、非置換または置換アリールオキシ基、ビニルオキシ基、水酸基、水素原子、およびハロゲン原子のいずれかであり、同一であってもよく、異なっていてもよい。)
M(OR5)n (3)
(Mは、Be、Al、P、Sc、Ti、V、Cr、Fe、Ni、Zn、Ga、Ge、As、Se、Y、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Pb、B、Bi、Ce、およびCuから選ばれた1種の元素であり、R5は炭素数1から10までの非置換または置換アルキル基であり、同一であってもよく、異なっていてもよい。nはMの原子価と同じ整数である。)
Si(R4)4 (4)
(R4は炭素数1から8までの非置換又は置換アルコキシ基、非置換または置換アリールオキシ基、ビニルオキシ基、水酸基、水素原子、およびハロゲン原子のいずれかであり、同一であってもよく、異なっていてもよい。)
予備工程1:前記有機溶媒と、前記水と、前記B成分(前記一般式(2)で表される3官能シラン化合物)と、加水分解触媒とを配合した後、酸中和物質の添加またはイオン交換樹脂による中和のいずれかを実施して、pHを5〜8の範囲に保持した3官能シラン溶液を調製する工程(ただし、前記B成分の配合量は、予備工程2における前記C成分金属1モルに対し、0.5モル以上8モル以下の範囲である。)
予備工程2:前記有機溶媒と、前記A成分と、前記C成分(前記一般式(3)で表される金属アルコキシド)とを配合して金属アルコキシド溶液を調製する工程(ただし、前記A成分は、前記C成分金属1モルに対し、0.25モル以上2モル未満の範囲である。)
本工程:前記予備工程1で得られた前記3官能シラン溶液に、前記予備工程2で得られた前記金属アルコキシド溶液を添加し、次いで水を添加し、5℃以上40℃以下の温度で撹拌混合する工程
ことを特徴とする上記〔8〕または〔9〕のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液の製造方法。
〔12〕前記本工程において、前記B成分、前記C成分、および前記E成分の共加水分解および縮合反応を行うことを特徴とする上記〔10〕に記載の透明被膜形成用塗布液の製造方法。
〔13〕上記〔1〕から〔12〕までのいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液を基材に塗布してなることを特徴とする透明被膜付基材。
成膜工程1:前記透明被膜形成用塗布液を基材に塗布する工程
成膜工程2:前記成膜工程1に続き、前記基材を80℃以上150℃以下で加熱し乾燥する工程
成膜工程3:前記成膜工程2に続き、前記基材上に形成された塗布膜に対し紫外線を照射する工程
成膜工程4:前記成膜工程3に続き、前記基材上に形成された塗布膜を80℃以上300℃以下で加熱する工程
更に詳しくは、本発明の透明被膜形成用塗布液は、UV処理および80〜300℃という比較的低温での加熱処理により充分な硬度と耐擦傷性等を示し、高屈折率(屈折率1.3〜2.3)を示す透明被膜を形成することができる。
本発明の透明被膜付基材の製造方法は、耐熱性に劣る基材に対しても充分な硬度と耐擦傷性等を示す透明被膜を形成することができる。
本発明の透明被膜付基材は、液晶表示装置の透明電極基板と配向膜との間に用いる絶縁膜、タッチパネルの透明電極上の保護膜等に好適に用いることができる。また、本発明の透明被膜形成用塗布液は、高屈折率粒子を配合することなく、被膜の高屈折率化を達成したものであり、従来の高屈折率粒子を配合した透明被膜形成用塗布液に見られる問題(高活性な微粒子が溶媒を抱き込みながら増粘することに原因するボイドの発生およびそれに起因する膜の緻密性の低下、膜硬度の低下、耐薬品性の低下等や低温での被膜形成に適さないこと等)が生じ難いので、特に薄膜(膜厚20〜200nm)形成に好適に用いることができる。
本実施形態における透明被膜形成用塗布液(以下、単に「本塗布液」ともいう。)は、金属アルコキシドとキレート形成可能な有機化合物(A)と、上記一般式(2)で表される3官能シラン化合物およびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれか(B)と、上記一般式(3)で表される金属アルコキシドおよびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれか(C)と、酸中和物質(D)とを、水および有機溶媒を含む混合溶媒中に溶解または分散してなるものである。また、他の実施形態による本塗布液は、上記した(A)成分、(B)成分、および(C)成分を含み、pHを4以上8以下としたものである。
本塗布液におけるA成分は、金属アルコキシドとキレート形成可能な有機化合物である。
金属アルコキシドとキレート形成可能な有機化合物としては、例えば、アセチルアセトン、トリフルオルアセチルアセトン、ヘキサフルオルアセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ベンゾイルトリフルオルアセトン、ジベンゾイルメタン、フロイルアセトン、トリフルオルフロイルアセトン、ベンゾイルフロイルメタン、テノイルアセトン、トリフルオルテノイルアセトン、フロイルテノイルアセトン、オキシン、2−メチルオキシン、4−メチルオキシン、5−メチルオキシン、6−メチルオキシン、7−メチルオキシン、オキシン−5−スルホン酸、7−ヨードオキシン−5−スルホン酸、キノリン−2−カルボン酸、キノリン−8−カルボン酸、8−ヒドロキシシノリン、4−ヒドロキシ−1,5−ナフチリジン、8−ヒドロキシ−1,6−ナフチリジン、8−ヒドロキシ−1,7−ナフチリジン、5−ヒドロキシキノキサリン、8−ヒドロキシキナゾリン、2,2′−ビピリジン、2−(2′−チエニル)ピリジン、1,10−フェナントロリン、2−メチル−1,10−フェナントロリン、5−メチル−1,10−フェナントロリン、2,9−ジメチル−1,10−フェナントロリン、4,7−ジメチル−1,10−フェナントロリン、5−クロル−1,10−フェナントロリン、6−ブロム−1,10−フェナントロリン、5−ニトロ−1,10−フェナントロリン、5−フェニル−1,10−フェナントロリン、4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、ジメチルグリオキシム、ジメチルグリオキシム−o−メチルエステル、ジメチルジチオカルバミン酸、ジエチルジチオカルバミン酸、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン、1−ニトロソ−2−ナフトール、2−ニトロソ−1−ナフトール、3−ヒドロキシフラボン、5−ヒドロキシフラボン、1−(2−ピリジルアゾ)−2−ナフトール、4−(2−ピリジルアゾ)レゾルシン、2−(4′−ジメチルアミノフェニルアゾ)ピリジン、エリオクロムブラックA、エリオクロムブラックT、エリオクロムブルーブラックB、エリオクロムブルーブラックR、フタレインコンプレクソン、アルカノールアミン、およびヒドロキシ酸等を挙げることができる。
R1としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、フェニル基、フリル基、チエニル基、トリフルオロメチル基 、メトキシ基、およびエトキシ基等を挙げることができる。R1としては、特にメチル基、エチル基、およびエトキシ基が好ましい。
R2のうち有機基としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、フェニル基、フリル基、チエニル基、トリフルオロ基、メトキシ基、およびエトキシ基等を挙げることができる。
A成分としては、1種を用いてもよく任意の2種以上を混合して用いてもよいが、キレート剤としての効果の観点よりアセチルアセトンを用いることが特に好ましい。
本塗布液におけるB成分は、下記の一般式(2)で表される3官能シラン化合物およびその加水分解縮合物の少なくともいずれかである。
R3Si(R4)3 (2)
本塗布液では、B成分を配合することにより、塗布膜の耐クラック性が向上するととともに、耐薬品性や絶縁性も向上する。
R4は炭素数1から8までの非置換または置換アルコキシ基、非置換または置換アリールオキシ基、ビニルオキシ基、水酸基、水素原子、およびハロゲン原子のいずれかであり、同一であってもよく、異なっていてもよい。
このような3官能シラン化合物としては、メチルトリメトキシシラン(MTMS)、メチルトリエトキシシラン(MTES)、エチルトリエトキシシラン(ETES)、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシランγ-(メタ)アクリロオキシプロピルジメトキシシラン、およびγ-(メタ)アクリロオキシプロピルジエトキシシラン等が好適に挙げられる。これらは1種を用いてもよく任意の2種以上を混合して用いてもよいが、R3があまり長鎖になると十分な硬度を得るのが困難となるおそれもあり、またR3が互いに異なると加水分解速度に違いが生じ、均一な反応が起こりにくくなるので、メチルトリメトキシシラン(MTMS)を用いることが好ましい。
また、加水分解縮合後におけるB成分の重量平均分子量(ポリスチレン換算)は、300以上3000以下の範囲であることが耐クラック性の観点より好ましい。ここで、重量平均分子量は、GPCにより求められる。
前記したとおり、本塗布液では、B成分(3官能性シラン化合物)を配合することにより、塗布膜(透明被膜)の耐クラック性が向上する。これは3官能シラン化合物の有する嵩高い非官能性の有機基(炭素数1から8までの非置換または置換アルキル基、非置換または置換アリール基、およびビニル基)の存在が、透明被膜に可撓性を付与し、さらに透明被膜が形成される基材(有機材料)との濡れ性を向上させることによるものといえる。
また、前記有機基が成膜工程における紫外線照射により、一部または全部が分解する場合でも、応力集中を緩和する方向に働くため、これも耐クラック性の向上に寄与するものといえる。さらに、本発明の透明被膜形成用塗布液の製造方法においては、B成分(3官能性シラン化合物)をオリゴマー化(重量平均分子量(ポリスチレン換算)300以上
3000以下)させてからC成分(金属アルコキシドおよびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれか)と共加水分解縮合することが望ましく、このようにして得られた共加水分解縮合物は緻密であり、耐クラック性に優れる。
本塗布液におけるC成分は、下記一般式(3)で表される金属アルコキシドおよびその加水分解縮合物の少なくともいずれかである。
M(OR5)n (3)
ここで、R5は炭素数1から10までの非置換または置換アルキル基である。Mは金属元素であり、同一であってもよく、異なっていてもよい。nはMの原子価と同じ整数である。
ここで、金属元素MとしてSi以外の金属元素が選択される。具体的には、金属元素Mは、Be、Al、P、Sc、Ti、V、Cr、Fe、Ni、Zn、Ga、Ge、As、Se、Y、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Pb、B、Bi、CeおよびCuから選ばれる少なくとも1種の元素のアルコキシドが用いられる。
本塗布液におけるD成分は、酸中和物質である。後述する本塗布液の製造方法において、上記したB成分(一般式(2)で表される3官能シラン化合物)は、主に酸触媒により加水分解されるが、配合液を中性に戻すために酸中和物質を添加する。B成分を含んだ配合液が酸性のままであると3官能シラン化合物が不溶性の固形分として析出しやすくなり好ましくない。ここで本塗布液のpHは4〜8が好ましく、4〜7.5がより好ましい。
酸中和物質としては、金属不純分の混入、有機溶媒への溶解性の観点よりアミン化合物が好適である。アミン化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、トリメチルアミン、エチレンジアミン、ピペリジン、アニリン、およびピリジン等が好ましく挙げられる。
D成分としては、酸中和物質を1種用いてもよいし、任意の2種以上の酸中和物質を混合して用いてもよい。
ただし、本発明において、D成分は必ずしも必須ではない。本塗布液が中性付近(pHが4〜8であればよく、4〜7.5が好ましい。)であればよいので、例えば、各成分を配合した後の配合液を上記したpHになるようにイオン交換樹脂を通してもよい。
D成分が本塗布液中に存在する場合、その割合は1質量%程度までであることが好ましい。
本塗布液における混合溶媒としては、水および有機溶媒の混合溶媒が用いられる。混合される有機溶媒のうち少なくとも1種は、沸点が120℃以上であることが好ましい。ただし、沸点が300℃以下であると好ましい。また、20℃における有機溶媒の粘度が1〜400mPa・sの範囲にあることが好ましく、20〜350MPa・sの範囲にあることがより好ましい。
有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール等のアルコール類、酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル等のエステル類、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル等のエーテル類、アセトン、およびメチルエチルケトン等のケトン類等が好ましく挙げられる。これらは1種を用いてもよく任意の2種以上を混合して用いてもよい。
なお、本塗布液における当該有機溶媒としては、前記成分(A)金属アルコキシドとキレート形成可能な有機化合物は除外される。
また、本塗布液には、E成分として、下記一般式(4)で表される4官能シラン化合物およびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれか(E)をさらに配合してもよい。
Si(R4)4 (4)
ここで、R4は炭素数1から8までの非置換又は置換アルコキシ基、非置換または置換アリールオキシ基、ビニルオキシ基、水酸基、水素原子、およびハロゲン原子のいずれかであり、同一であってもよく、異なっていてもよい。
炭素数1から8までの非置換アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、およびブトキシ基等を挙げることができる。同じく置換アルコキシ基としては、前記した非置換アルコキシ基の水素原子をメチル基、エチル基等に置き換えてなる基を挙げることができる。アリールオキシ基としては、フェノキシ基、およびナフチルオキシ基等を挙げることができる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等を挙げることができる。
E成分の4官能シラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシランテトラクロロシラン、およびトリメトキシシラン等が挙げられる。E成分としてはテトラエトキシシランが特に好ましい。
E成分は、1種のみを用いてもよいし、任意に2種以上を混合して用いてもよい。
本塗布液においては、A成分のモル数(M1)と前記C成分のモル数(M3)のモル比(M1)/(M3)が0.25以上2未満の範囲にあることが必要であり、0.5以上1以下の範囲にあることが好ましい。ここで、A成分やC成分が加水分解した場合であっても、M1やM2は、加水分解前の構造を基準とした値である。
モル比(M1)/(M3)が2以上であると、C成分におけるOR5部の大半に、A成分が配位することになり、B成分とC成分との反応が抑制されるおそれあり、このため、膜硬化時に−M−O−Si−の架橋を形成しにくくなり、得られる透明被膜の硬度が不十分となるおそれがある。また、透明被膜に残存するA成分の量が増加し、膜の表面抵抗値等といった電気的特性が経時的に変化し、信頼性が低下するおそれもある。
また、モル比(M1)/(M3)が0.25未満の場合、C成分の反応の進行が過大となるため、塗布液中での加水分解縮合物の安定性が悪くなり、塗布液寿命が短くなるため、得られる透明被膜の耐クラック性に悪影響を及ぼすおそれがある。
前記モル比(M2)/(M3)が0.5未満であると、塗布液の安定性が低下し、塗布液寿命も短くなるため、得られる透明被膜の膜厚、屈折率、硬度等といった特性が一定して得られない場合があり、さらには耐クラック性が低下するおそれもある。
前記モル比(M2)/(M3)が8を超えると、得られる透明被膜の硬度が不十分となり、やはり耐クラック性が低下するおそれがある。
ここで、B成分やE成分が加水分解した場合であっても、(M2)や(M4)は、加水分解前の構造を基準とした値である。
また、本塗布液が、さらに前記E成分を含有する場合、前記一般式(2)で表される3官能シラン化合物およびその加水分解縮合物の一部と、前記一般式(3)で表される金属アルコキシドおよびその加水分解縮合物の一部と、前記一般式(4)で表される4官能シラン化合物およびその加水分解縮合物の一部との共加水分解縮合物を含有しても構わない。
なお、本発明の透明被膜形成用塗布液には、その効果を阻害しない範囲で、任意成分を添加させることができる。このような任意成分の例としては、無機酸化物微粒子、有機樹脂微粒子、オルガノポリシロキサン樹脂微粒子、顔料、着色料、帯電防止剤、および界面活性剤などが挙げられる。
本塗布液の製造方法は、下記の予備工程1、予備工程2および本工程を含むことを特徴とする。
予備工程1:前記有機溶媒と、前記水と、前記B成分(一般式(2)で表される3官能シラン化合物)と、加水分解触媒とを配合した後、酸中和物質の添加およびイオン交換樹脂による中和の少なくともいずれかを実施して、pHを5〜8の範囲に保持した3官能シラン溶液を調製する工程(ただし、前記B成分の配合量は、予備工程2における前記C成分金属1モルに対し、0.5モル以上8モル以下の範囲である。)
(本願では、予備工程1で調製した、3官能シラン化合物およびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれかを含む溶液を「3官能シラン溶液」と称する。)
予備工程2:前記有機溶媒と、前記A成分と、前記C成分(一般式(3)で表される金属アルコキシド)とを配合して金属アルコキシド溶液を調製する工程(ただし、前記A成分は、前記C成分金属1モルに対し、0.25モル以上2モル未満の範囲である。)
(本願では、予備工程2で調製した、金属アルコキシドおよびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれかを含む溶液を「金属アルコキシド溶液」と称する。)
本工程:前記予備工程1で得られた前記3官能シラン溶液に、前記予備工程2で得られた前記金属アルコキシド溶液を添加し、次いで水を添加し、5℃以上40℃以下の温度で撹拌混合する工程
<予備工程1>
予備工程1では、有機溶媒中で水および加水分解用媒の存在下、B成分である3官能シラン化合物について加水分解縮合を進行させ、さらにD成分である酸中和物質による中和を実施して、pHを5〜8の範囲に保持した3官能シラン化合物の加水分解縮合物が混合溶媒に分散してなる3官能シラン溶液を調製する。
加水分解触媒としては、従来公知の触媒を使用することができ、その例としては、(a)硝酸、酢酸、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、フッ化水素などの無機酸、(b)シュウ酸、マレイン酸などのカルボン酸、(c)メタンスルフォン酸などのスルフォン酸、および(d)酸性或いは弱酸性の無機塩などを例示することができるがこれらに限定されるものではない。また、これらの触媒を任意に複数種混合使用してもよい。
加水分解触媒の量は、B成分の3官能シラン化合物に対して0.001〜1モル%(SiO2換算、外割)の範囲内であることが好ましい。
B成分の混合溶媒における量は、加水分解縮合が進行できる程度であれば、格別に限定されるものではないが、0.01〜8質量%(SiO2換算)の範囲が好ましい。
予備工程1では、通常は有機溶媒に水、加水分解用触媒、B成分(前記一般式(2)で表される3官能シラン化合物)を添加し、5〜40℃で5〜120分の撹拌を行い、3官能シラン溶液を調製する。
なお、E成分をさらに配合する場合は、この予備工程1において配合する。好ましい配合量は上記した通りである。
予備工程1では、B成分の3官能シラン化合物の加水分解縮合物が生じてから、配合液を中性に戻すために酸中和物質を添加する。B成分を含んだ配合液が酸性のままであると3官能シラン化合物が不溶性の固形分として析出しやすくなり好ましくない。ここで3官能シラン溶液のpHは5〜8が好ましく、より好ましくはpH6〜7.5が推奨される。
前記のとおり酸中和物質としては、金属不純分の混入、有機溶媒への溶解性の観点よりアミン化合物が好適である。アミン化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、トリメチルアミン、エチレンジアミン、ピペリジン、アニリン、およびピリジン等が好ましく挙げられる。
D成分としては、酸中和物質を1種用いてもよいし、任意の2種以上の酸中和物質を混合して用いてもよい。
なお、本発明において、D成分は必ずしも必須ではない。酸中和物質の添加によらず、
イオン交換樹脂の使用により、加水分解用触媒を除去しても構わない。この場合も、3官能シラン溶液のpHが5〜8となるように加水分解用触媒を除去すべきであり、より好ましくはpH6〜7.5が推奨される。
予備工程2では、有機溶媒にA成分とC成分(一般式(3)で表される金属アルコキシド)を添加し、撹拌することにより金属アルコキシドやその加水分解縮合物を含む金属アルコキシド溶液を調製する。好ましい有機溶媒は上記した通りである。また、A成分やC成分(一般式(3)で表される金属アルコキシド)の例としては、上記した各化合物を好適に挙げることができる。
予備工程2におけるC成分のモル数(M3)に対するA成分のモル数(M1)のモル比(M1)/(M3)は、0.25以上2未満の範囲にあることが必要である。予備工程2において、A成分はC成分のアルコキシ基に配位するが、モル比(M1)/(M3)が0.25以上、2未満の範囲にあれば、A成分が有するキレート配位基に配位されない金属アルコキシドが残存するので、C成分の反応性を制御する点で好ましい。なお、モル比(M1)/(M3)は、0.5以上1以下の範囲がより好ましい。
モル比(M1)/(M3)が2以上の場合、金属アルコキシドのアルコキシ基に対する配位が進行しすぎるので、金属アルコキシドの安定化が過大となり、3官能シラン等との共加水分解縮合にも影響し、透明被膜形成用塗布液の低温硬化(80〜300℃)にも適さなくなるおそれがある。
予備工程2におけるC成分のMOX換算濃度は0.04〜9.5質量%の範囲が好ましい。
予備工程2で調製される金属アルコキシド溶液は、A成分が配位した金属アルコキシドやその加水分解縮合物を含んでいる。
予備工程1で調製した3官能シラン溶液に、予備工程2で調製した金属アルコキシド溶液を添加し、続いて水を添加し、5〜40℃で撹拌混合し、本塗布液を調製する。
ここで、B成分のモル数(M2)とC成分のモル数(M3)は、モル比(M2)/(M3)が0.5以上8以下の範囲を満たすことが好ましい。モル比(M2)/(M3)がこの範囲にあると、共加水分解反応が円滑に進むからである。
上記した水の添加により、3官能シランの加水分解縮合物と金属アルコキシドおよび/またはその加水分解縮合物との共加水分解縮合反応が促進されるので、緻密な透明被膜を得るうえで好ましい。
本実施形態に係る透明被膜付基材の製造方法では、以下の成膜工程1から成膜工程4までを実施することを特徴とする。
成膜工程1:本塗布液を基材に塗布する工程
成膜工程2:前記成膜工程1に続き、前記基材を80℃以上150℃以下で加熱し乾燥する工程
成膜工程3:前記成膜工程2に続き、前記基材に対し紫外線を照射する工程
成膜工程4:前記成膜工程3に続き、前記基材を80℃以上300℃以下で加熱する工程
<成膜工程1>
成膜工程1では、本塗布液を基材へ塗布する。塗布方法としては、ディップ法、スピナー法、バーコート法、スプレー法、ロールコーター法、フレキソ印刷法、スリットコート法等従来公知の方法を採用することができる。前記した基材としては、例えば、ガラス、ITO膜が処理された基材、ポリカーボネート、アクリル樹脂、PET、およびTAC等の素材を用いたシート、フィルム、およびパネル等が挙げられる。
加熱および乾燥の温度は、基材を変質させることなく所望の強度、硬度、耐擦傷性等が得られれば特に制限はないが、80〜150℃の範囲が好ましく、90〜140℃の範囲がより好ましい。また、加熱および乾燥は、1〜10分程度かけることが好ましい。
乾燥と加熱に明確な境は無く、所望の硬度、強度等を有する透明被膜が得られれば一時に乾燥および加熱を実施してもよく、乾燥した後乾燥温度より高温で加熱してもよい。
乾燥方法や加熱方法としては従来公知の方法を採用することができる。また、電磁波照射処理を併用することもできる。
乾燥温度および加熱温度が80℃未満の場合は、溶剤の残存や、−M−O−M−、または、−M−O−Si−の架橋不足により、十分な膜強度が得られず、加熱乾燥温度が350℃を超えると、B成分の有機基が分解し、目的の膜特性が得られなくなることがある。
成膜工程3では、成膜工程2に続いて、加熱乾燥した透明被膜に紫外線(UV)を照射する。例えば、2kwの高圧水銀灯を用いて3,000mJ/cm2の紫外線を照射する。UV照射により、加熱乾燥した透明被膜内でA成分の脱離が生じて、透明被膜は成膜工程4で架橋しやすい状態となる。
成膜工程3に続いて、成膜工程4として、透明被膜を80〜300℃の範囲で加熱する。この加熱により透明被膜は十分に架橋の進んだ状態となる。加熱温度が80〜300℃の範囲にあれば、例えばITO配線の抵抗変化抑制の点で有利である。なお、加熱時間は、1〜10分とすることが好ましい。
上記成膜工程により得られた透明被膜基材における透明被膜の平均膜厚(T)は20〜200nmの範囲にあることが好ましく、40〜150nmの範囲にあることがより好ましい。
透明被膜の平均膜厚(T)が20nm以上であると、膜厚が十分であるため成膜できない部分(塗布ムラ)が生じにくく、成膜した効果も十分に得られる。一方、透明被膜の平均膜厚(T)が200nm以下であると、クラックの発生を十分に抑制することができ、また、膜の強度や硬度も十分なものとなる。
本発明の透明被膜付基材は、液晶表示装置の電極基板と配向膜との間に用いる絶縁膜、タッチパネルの透明電極上の保護膜等に好適に用いることができる。
透明被膜形成用塗布液を製造するための各工程は以下の通りである。配合する各成分の種類および配合量を表1に示す。
(予備工程1−1)
B成分の3官能シラン化合物としてKBM−13(信越化学工業(株)製:SiO2濃度44.1質量%)713.22gおよびソルミックスAP−11(日本アルコール販売(株)製)1875.40gを混合し、30分撹拌した。ついで撹拌しながら濃度0.1質量%の硝酸570.50gを30分かけて逐次添加し、30分間撹拌した。この時のpHは2.0であった。これに撹拌しながらトリエタノールアミン(林純薬工業(株)製)5.06gを添加し、10分撹拌してSiO2換算濃度(C2)10.0質量%の予備液1−1を調製した。この時のpHは7.1であった。
(予備工程1−2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)2109.45gに、撹拌しながら前記予備液1−1を添加し30分間撹拌してSiO2換算濃度(C2)6.0質量%の予備液1−2を調製した。
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)を3499.11g、A成分のカルボニル基含有有機化合物としてアセチルアセトン(和光純薬(株)製)を175.37g、C成分の金属アルコキシドとしてオルガチックス(マツモトファインケミカル(株)製: TA−10、TiO2濃度28質量%)を1002.13g混合し、5分間撹拌してMOx換算濃度(C3)6.0質量%の予備液2−1を調製した。
撹拌しながら前記予備液1−2に前記予備液2−1を混合し、10分間撹拌した後、純水49.75gを加え、25℃で30分間撹拌した。撹拌終了後、0.2μmのフィルターで濾過を行い、凝集物等を除去して全固形分濃度(CT:C2とC3の合計値)6.0質量%の透明被膜形成用塗布液(1)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(1)をフレキソ印刷法にて、ITO膜付ガラス基板(AGCファブリテック(株)製、厚み:1.1mm)上に塗布し、90℃で5分間乾燥した。
次に、3000mJ/cm2の紫外線(波長365nm)を照射し、その後、230℃で30分間加熱して透明被膜付基材(1−1)を調製した。
透明被膜付基材(1−1)について、膜厚、鉛筆硬度、および表面抵抗を後述する方法で測定した。
得られた透明被膜付基材(1−2)について、耐クラック性を後述する方法で測定した。
別途、透明被膜形成用塗布液(1)をフレキソ印刷法にて、6インチシリコンウェハ((株)松崎製作所製、厚み:0.625mm)上に塗布し、90℃で5分間乾燥し、次に、3000mJ/cm2の紫外線(波長365nm)を照射した後、230℃で30分間加熱して透明被膜付基材(1−3)を調製した。
得られた透明被膜付基材(1−3)について、屈折率を後述する方法で測定した。
以下の予備工程以外は、実施例1と同様にして、透明被膜形成用塗布液(2)を調製し、さらに透明被膜付基材(2−1)〜(2−3)を製造した。その後、実施例1と同様にして評価を行った。
(予備工程1−1)
B成分の3官能シラン化合物としてKBM−13(信越化学工業(株)製:SiO2濃度44.1質量%)1009.27gおよびソルミックスAP−11(日本アルコール販売(株)製)2653.86gを混合し、30分撹拌した。ついで撹拌しながら濃度0.1質量%の硝酸807.32gを30分かけて逐次添加し、30分間撹拌した。この時のpHは2.1であった。これに撹拌しながらトリエタノールアミン(林純薬工業(株)製)7.16gを添加し、10分撹拌してSiO2換算濃度(C2)10.0質量%の予備液1−1を調製した。この時のpHは7.2であった。
(予備工程1−2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)2985.07gに、撹拌しながら前記予備液1−1を添加し30分間撹拌してSiO2換算濃度(C2)6.0質量%の予備液1−2を調製した。
(予備工程2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)を1861.23g、A成分のカルボニル基含有有機化合物としてアセチルアセトン(和光純薬(株)製)を93.28g、C成分の金属アルコキシドとしてオルガチックス(マツモトファインケミカル(株)製: TA−10、TiO2濃度28質量%)を533.05g混合し、5分間撹拌してMOx換算濃度(C3)6.0質量%の予備液2−1を調製した。
以下の予備工程以外は、実施例1と同様にして、透明被膜形成用塗布液(3)を調製し、さらに透明被膜付基材(3−1)〜(3−3)を製造した。その後、実施例1と同様にして評価を行った。
(予備工程1−1)
B成分の3官能シラン化合物としてKBM−13(信越化学工業(株)製:SiO2濃度44.1質量%)1143.84gおよびソルミックスAP−11(日本アルコール販売(株)製)3007.71gを混合し、30分撹拌した。ついで撹拌しながら濃度0.1質量%の硝酸914.96gを30分かけて逐次添加し、30分間撹拌した。この時のpHは2.1であった。これに撹拌しながらトリエタノールアミン(林純薬工業(株)製)8.11gを添加し、10分撹拌してSiO2換算濃度(C2)10.0質量%の予備液1−1を調製した。この時のpHは7.1であった。
(予備工程1−2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)3383.08gに、撹拌しながら前記予備液1−1を添加し30分間撹拌してSiO2換算濃度(C2)6.0質量%の予備液1−2を調製した。
(予備工程2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)を1116.74g、A成分のカルボニル基含有有機化合物としてアセチルアセトン(和光純薬(株)製)を55.97g、C成分の金属アルコキシドとしてオルガチックス(マツモトファインケミカル(株)製: TA−10、TiO2濃度28質量%)を319.83g混合し、5分間撹拌してMOx換算濃度(C3)6.0質量%の予備液2−1を調製した。
以下の予備工程以外は、実施例1と同様にして、透明被膜形成用塗布液(4)を調製し、さらに透明被膜付基材(4−1)〜(4−3)を製造した。その後、実施例1と同様にして評価を行った。
(予備工程1−1)
B成分の3官能シラン化合物としてKBM−13(信越化学工業(株)製:SiO2濃度44.1質量%)403.71gおよびソルミックスAP−11(日本アルコール販売(株)製)1061.55gを混合し、30分撹拌した。ついで撹拌しながら濃度0.1質量%の硝酸322.92gを30分かけて逐次添加し、30分間撹拌した。この時のpHは2.0であった。これに撹拌しながらトリエタノールアミン(林純薬工業(株)製)2.86gを添加し、10分撹拌してSiO2換算濃度(C2)10.0質量%の予備液1−1を調製した。この時のpHは7.0であった。
(予備工程1−2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)1194.03gに、撹拌しながら前記予備液1−1を添加し30分間撹拌してSiO2換算濃度(C2)6.0質量%の予備液1−2を調製した。
(予備工程2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)を5211.44g、A成分のカルボニル基含有有機化合物としてアセチルアセトン(和光純薬(株)製)を261.19g、C成分の金属アルコキシドとしてオルガチックス(マツモトファインケミカル(株)製: TA−10、TiO2濃度28質量%)を1492.54g混合し、5分間撹拌してMOx換算濃度(C3)6.0質量%の予備液2−1を調製した。
以下の予備工程以外は、実施例1と同様にして、透明被膜形成用塗布液(5)を調製し、さらに透明被膜付基材(5−1)〜(5−3)を製造した。その後、実施例1と同様にして評価を行った。
(予備工程1−1)
B成分の3官能シラン化合物としてKBM−13(信越化学工業(株)製:SiO2濃度44.1質量%)470.99gおよびソルミックスAP−11(日本アルコール販売(株)製)1238.47gを混合し、30分撹拌した。ついで撹拌しながら濃度0.1質量%の硝酸376.75gを30分かけて逐次添加し、30分間撹拌した。この時のpHは2.0であった。これに撹拌しながらトリエタノールアミン(林純薬工業(株)製)3.34gを添加し、10分撹拌してSiO2換算濃度(C2)10.0質量%の予備液1−1を調製した。この時のpHは6.9であった。
(予備工程1−2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)2745.39gに、純水64.48gおよび濃度60質量%の硝酸1.07gを混合し、5分間撹拌した。ついで、撹拌しながらE成分の4官能シラン化合物としてエチルシリケート(多摩化学(株)製:SiO2濃度28.8質量%)を373.13g添加し、30分間撹拌した。さらに撹拌しながら前記予備液1−1を添加し30分間撹拌してSiO2換算濃度(C2)6.0質量%の予備液1−2を調製した。
(予備工程2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)を3499.11g、A成分のカルボニル基含有有機化合物としてアセチルアセトン(和光純薬(株)製)を175.37g、C成分の金属アルコキシドとしてオルガチックス(マツモトファインケミカル(株)製: TA−10、TiO2濃度28質量%)を1002.13g混合し、5分間撹拌してMOx換算濃度(C3)6.0質量%の予備液2−1を調製した。
以下の予備工程以外は、実施例1と同様にして、透明被膜形成用塗布液(6)を調製し、さらに透明被膜付基材(6−1)〜(6−3)を製造した。その後、実施例1と同様にして評価を行った。
(予備工程1−1)
B成分の3官能シラン化合物としてKBM−13(信越化学工業(株)製:SiO2濃度44.1質量%)1164.03gおよびソルミックスAP−11(日本アルコール販売(株)製)3060.79gを混合し、30分撹拌した。ついで撹拌しながら濃度0.1質量%の硝酸931.10gを30分かけて逐次添加し、30分間撹拌した。この時のpHは2.0であった。これに撹拌しながらトリエタノールアミン(林純薬工業(株)製)8.26gを添加し、10分撹拌してSiO2換算濃度(C2)10.0質量%の予備液1−1を調製した。この時のpHは7.0であった。
(予備工程1−2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)3442.79gに、撹拌しながら前記予備液1−1を添加し30分間撹拌してSiO2換算濃度(C2)6.0質量%の予備液1−2を調製した。
(予備工程2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)を1008.06g、A成分のカルボニル基含有有機化合物としてアセチルアセトン(和光純薬(株)製)を50.37g、C成分の金属アルコキシドとしてオルガチックス(マツモトファインケミカル(株)製: TA−10、TiO2濃度28質量%)を287.85g混合し、5分間撹拌してMOx換算濃度(C3)6.0質量%の予備液2−1を調製した。
以下の予備工程以外は、実施例1と同様にして、透明被膜形成用塗布液(7)を調製し、さらに透明被膜付基材(7−1)〜(7−3)を製造した。その後、実施例1と同様にして評価を行った。
(予備工程1−1)
B成分の3官能シラン化合物としてKBM−13(信越化学工業(株)製:SiO2濃度44.1質量%)309.51gおよびソルミックスAP−11(日本アルコール販売(株)製)813.85gを混合し、30分撹拌した。ついで撹拌しながら濃度0.1質量%の硝酸247.58gを30分かけて逐次添加し、30分間撹拌した。この時のpHは2.1であった。これに撹拌しながらトリエタノールアミン(林純薬工業(株)製)2.20gを添加し、10分撹拌してSiO2換算濃度(C2)10.0質量%の予備液1−1を調製した。この時のpHは7.1であった。
(予備工程1−2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)915.42gに、撹拌しながら前記予備液1−1を添加し30分間撹拌してSiO2換算濃度(C2)6.0質量%の予備液1−2を調製した。
(予備工程2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)を5732.59g、A成分のカルボニル基含有有機化合物としてアセチルアセトン(和光純薬(株)製)を287.31g、C成分の金属アルコキシドとしてオルガチックス(マツモトファインケミカル(株)製: TA−10、TiO2濃度28質量%)を164.79g混合し、5分間撹拌してMOx換算濃度(C3)6.0質量%の予備液2−1を調製した。
以下の予備工程以外は、実施例1と同様にして、透明被膜形成用塗布液(8)を調製し、さらに透明被膜付基材(8−1)〜(8−3)を製造した。その後、実施例1と同様にして評価を行った。
(予備工程1−1)
B成分の3官能シラン化合物としてKBM−13(信越化学工業(株)製:SiO2濃度44.1質量%)282.60gおよびソルミックスAP−11(日本アルコール販売(株)製)743.08gを混合し、30分撹拌した。ついで撹拌しながら濃度0.1質量%の硝酸226.05gを30分かけて逐次添加し、30分間撹拌した。この時のpHは2.0であった。これに撹拌しながらトリエタノールアミン(林純薬工業(株)製)2.00gを添加し、10分撹拌してSiO2換算濃度(C2)10.0質量%の予備液1−1を調製した。この時のpHは6.9であった。
(予備工程1−2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)3240.01gに、純水114.63gおよび濃度60質量%の硝酸1.91gを混合し、5分間撹拌した。ついで、撹拌しながらE成分の4官能シラン化合物としてエチルシリケート(多摩化学(株)製:SiO2濃度28.8質量%)を663.35g添加し、30分間撹拌した。さらに撹拌しながら前記予備液1−1を添加し30分間撹拌してSiO2換算濃度(C2)6.0質量%の予備液1−2を調製した。
(予備工程2)
ヘキシレングリコール(和光純薬(株)製)を3499.11g、A成分のカルボニル基含有有機化合物としてアセチルアセトン(和光純薬(株)製)を175.37g、C成分の金属アルコキシドとしてオルガチックス(マツモトファインケミカル(株)製: TA−10、TiO2濃度28質量%)を1002.13g混合し、5分間撹拌してMOx換算濃度(C3)6.0質量%の予備液2−1を調製した。
実施例1(pH5.0)
実施例2(pH5.5)
実施例3(pH6.0)
実施例4(pH4.5)
実施例5(pH4.0)
比較例1(pH6.0)
比較例2(pH4.0)
比較例3(pH3.3)
各実施例・各比較例により得られた透明被膜付基材に対し、以下の評価を行った。また、透明被膜形成用塗布液についても以下のようにして経時安定性を評価した。結果を表1に示す。
(1)膜厚
表面粗さ測定機(東京精密(株)製:サーフコム)にて測定した。
(2)表面抵抗値
表面抵抗値は、表面抵抗測定機((株)三菱化学アナリテック製:ハイレスターUX MCP−HT800)にて測定した。
塗布膜の表面を目視観察し、以下の基準で耐クラック性を評価した。
◎:塗布面内にクラックが認められない
○:エッジ部に僅かにクラックが認められる
×:塗布面内にクラックが生じる
JIS−K−5600に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。即ち、透明被膜表面に対して45度の角度に鉛筆をセットし、所定の加重を負荷して一定速度で引っ張り、傷の有無を観察した。
(5)屈折率
分光エリプソメーター(SOPRA(株)製:ES4G、@550nm)にて測定した。
塗布液を40℃で72時間加熱した後、E型粘度計(東機産業(株)製:TV‐25型)にて粘度を測定し、以下の基準で評価した。
◎:粘度に変化が認められない
○:わずかに粘度の増加がみられる(5mPa・s未満)
×:明らかな粘度の増加がみられる(5mPa・s以上)
表1に示すように、実施例1〜5より、本発明の透明被膜形成用塗布液を用いて製造された透明被膜付基材は、表面硬度および耐クラック性に優れることがわかる。
一方、比較例1〜3より、本発明の構成を有しない透明被膜形成用塗布液を用いたのでは表面硬度および耐クラック性の双方を満足させることはできない。
Claims (16)
- 金属アルコキシドとキレート形成可能な有機化合物(A)と、
下記一般式(2)で表される3官能シラン化合物およびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれか(B)と、
下記一般式(3)で表される金属アルコキシドおよびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれか(C)と、
酸中和物質(D)と、
場合により、下記一般式(4)で表される4官能シラン化合物およびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれか(E)とを、
水および有機溶媒を含む混合溶媒中に溶解または分散してなり、
前記A成分のモル数(M1)と前記C成分のモル数(M3)のモル比(M1/M3)が0.25以上2未満の範囲にあり、
前記B成分のモル数(M2)と前記C成分のモル数(M3)のモル比(M2/M3)が0.5以上8以下の範囲にあり、
前記E成分を含む場合、前記B成分のモル数(M2)に対する前記E成分のモル数(M4)のモル比(M4)/(M2)の値が0.01以上0.5以下の範囲にある
ことを特徴とする透明被膜形成用塗布液。
R3Si(R4)3 (2)
(R3は炭素数1から8までの非置換または置換アルキル基、非置換または置換アリール基、およびビニル基のいずれかである。R4は炭素数1から8までの非置換または置換アルコキシ基、非置換または置換アリールオキシ基、ビニルオキシ基、水酸基、およびハロゲン原子のいずれかであり、同一であってもよく、異なっていてもよい。)
M(OR5)n (3)
(Mは、Be、Al、P、Sc、Ti、V、Cr、Fe、Ni、Zn、Ga、Ge、As、Se、Y、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Pb、B、Bi、Ce、およびCuから選ばれた1種の元素であり、R5は炭素数1から10までの非置換または置換アルキル基である。nはMの原子価と同じ整数である。)
Si(R 4 ) 4 (4)
(R 4 は炭素数1から8までの非置換又は置換アルコキシ基、非置換または置換アリールオキシ基、ビニルオキシ基、水酸基、およびハロゲン原子のいずれかであり、同一であってもよく、異なっていてもよい。) - 前記D成分がアミン化合物である
ことを特徴とする請求項1に記載の透明被膜形成用塗布液。 - 金属アルコキシドとキレート形成可能な有機化合物(A)と、
下記一般式(2)で表される3官能シラン化合物およびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれか(B)と、
下記一般式(3)で表される金属アルコキシドおよびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれか(C)とを、
水および有機溶媒を含む混合溶媒中に溶解または分散してなり、
前記A成分のモル数(M1)と前記C成分のモル数(M3)のモル比(M1/M3)が0.25以上2未満の範囲にあり、
前記B成分のモル数(M2)と前記C成分のモル数(M3)のモル比(M2/M3)が0.5以上8以下の範囲にあり、pHが4以上8以下であることを特徴とする透明被膜形成用塗布液。
R3Si(R4)3 (2)
(R3は炭素数1から8までの非置換または置換アルキル基、非置換または置換アリール基、およびビニル基のいずれかである。R4は炭素数1から8までの非置換または置換アルコキシ基、非置換または置換アリールオキシ基、ビニルオキシ基、水酸基、およびハロゲン原子のいずれかであり、同一であってもよく、異なっていてもよい。)
M(OR5)n (3)
(Mは、Be、Al、P、Sc、Ti、V、Cr、Fe、Ni、Zn、Ga、Ge、As、Se、Y、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Pb、B、Bi、Ce、およびCuから選ばれた1種の元素であり、R5は炭素数1から10までの非置換
または置換アルキル基であり、同一であってもよく、異なっていてもよい。nはMの原子価と同じ整数である。) - 当該透明被膜形成用塗布液において、
前記B成分に由来するSiO2換算濃度(C2)が0.005〜12質量%の範囲にあり、
前記C成分に由来するMOX換算濃度(C3)が0.02〜14質量%の範囲にあり、
前記C2と前記C3の合計(CT)が0.1〜15質量%の範囲にある
ことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液。 - さらに下記一般式(4)で表される4官能シラン化合物およびその加水分解縮合物のうち少なくともいずれか(E)を含み、
前記B成分のモル数(M2)に対する前記E成分のモル数(M4)のモル比(M4)/(M2)の値が0.01以上0.5以下の範囲にある
ことを特徴とする請求項3に記載の透明被膜形成用塗布液。
Si(R4)4 (4)
(R4は炭素数1から8までの非置換又は置換アルコキシ基、非置換または置換アリールオキシ基、ビニルオキシ基、水酸基、およびハロゲン原子のいずれかであり、同一であってもよく、異なっていてもよい。) - 当該透明被膜形成用塗布液において、
前記B成分に由来するSiO2換算濃度(C2)が0.005〜12質量%であり、
前記C成分に由来するMOX換算濃度(C3)が0.02〜14質量%であり、
前記E成分に由来するSiO2換算濃度(C4)が0〜12質量%であり、
前記C2、前記C3および前記C4の合計(CT)が0.1〜15質量%である
ことを特徴とする請求項5に記載の透明被膜形成用塗布液。 - 前記有機溶媒の沸点が120℃以上であり、
20℃における前記有機溶媒の粘度が1〜400mPa・sの範囲にある
ことを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液。 - 以下の予備工程1、予備工程2、および本工程を実施することを特徴とする請求項1から請求項7までのいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液の製造方法。
予備工程1:前記有機溶媒と、前記水と、前記B成分(前記一般式(2)で表される3官能シラン化合物)と、加水分解触媒とを配合した後、酸中和物質の添加またはイオン交換樹脂による中和のいずれかを実施して、pHを5〜8の範囲に保持した3官能シラン溶液を調製する工程(ただし、前記B成分の配合量は、予備工程2における前記C成分金属1モルに対し0.5モル以上8モル以下の範囲である。)
予備工程2:前記有機溶媒と、前記A成分と、前記C成分(前記一般式(3)で表される金属アルコキシド)とを配合して金属アルコキシド溶液を調製する工程(ただし、前記A成分の配合量は、前記C成分金属1モルに対し、0.25モル以上2モル未満の範囲である。)
本工程:前記予備工程1で得られた前記3官能シラン溶液に、前記予備工程2で得られた前記金属アルコキシド溶液を添加し、次いで水を添加し、5℃以上40℃以下の温度で撹拌混合する工程 - 加水分解および縮合後における前記B成分の重量平均分子量(ポリスチレン換算)が、300以上3000以下の範囲である
ことを特徴とする請求項8に記載の透明被膜形成用塗布液の製造方法。 - 前記予備工程1において、さらに請求項5におけるE成分(前記一般式(4)で表される4官能シラン化合物)を添加し、
前記B成分のモル数(M2)に対する前記E成分のモル数(M4)のモル比(M4)/(M2)が、0.01以上0.5以下の範囲である
ことを特徴とする請求項8または請求項9に記載の透明被膜形成用塗布液の製造方法。 - 前記本工程において、前記B成分と前記C成分との共加水分解および縮合反応を行う
ことを特徴とする請求項8または請求項9に記載の透明被膜形成用塗布液の製造方法。 - 前記本工程において、前記B成分、前記C成分、および前記E成分の共加水分解および縮合反応を行う
ことを特徴とする請求項10に記載の透明被膜形成用塗布液の製造方法。 - 請求項1から請求項12までのいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液を基材に塗布してなる
ことを特徴とする透明被膜付基材。 - 前記透明被膜の平均膜厚が20nm以上200nm以下である
ことを特徴とする請求項13に記載の透明被膜付基材。 - 以下の成膜工程1から成膜工程4までを実施することを特徴とする請求項13または請求項14に記載の透明被膜付基材の製造方法。
成膜工程1:前記透明被膜形成用塗布液を基材に塗布する工程
成膜工程2:前記成膜工程1に続き、前記基材を80℃以上150℃以下で加熱し乾燥する工程
成膜工程3:前記成膜工程2に続き、前記基材上に形成された塗布膜に対し紫外線を照射する工程
成膜工程4:前記成膜工程3に続き、前記基材上に形成された塗布膜を80℃以上300℃以下で加熱する工程 - 前記紫外線が波長254nmの紫外線と波長365nmの紫外線のうち少なくともいずれかを含んでいる
ことを特徴とする請求項15に記載の透明被膜付基材の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015074530A JP6480781B2 (ja) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | 透明被膜形成用塗布液、透明被膜形成用塗布液の製造方法、透明被膜付基材、および透明被膜付基材の製造方法 |
TW105108808A TWI682010B (zh) | 2015-03-31 | 2016-03-22 | 被膜形成用之塗佈液及其製造方法、以及附被膜基材之製造方法 |
KR1020160037555A KR102596586B1 (ko) | 2015-03-31 | 2016-03-29 | 피막 형성용 도포액과 그 제조 방법, 및 피막이 형성된 기재의 제조 방법 |
CN201610202193.8A CN106009788B (zh) | 2015-03-31 | 2016-03-31 | 覆膜形成用涂布液和其制造方法、和带覆膜的基材的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015074530A JP6480781B2 (ja) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | 透明被膜形成用塗布液、透明被膜形成用塗布液の製造方法、透明被膜付基材、および透明被膜付基材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016194008A JP2016194008A (ja) | 2016-11-17 |
JP6480781B2 true JP6480781B2 (ja) | 2019-03-13 |
Family
ID=57323458
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015074530A Active JP6480781B2 (ja) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | 透明被膜形成用塗布液、透明被膜形成用塗布液の製造方法、透明被膜付基材、および透明被膜付基材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6480781B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112251136A (zh) * | 2020-10-20 | 2021-01-22 | 苏州图纳新材料科技有限公司 | 防护涂层前驱体、防护涂层前驱体溶液及其制备方法 |
TW202239880A (zh) * | 2021-01-22 | 2022-10-16 | 日商日揮觸媒化成股份有限公司 | 塗布液及其製備方法、帶膜基材的製備方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000327999A (ja) * | 1999-05-21 | 2000-11-28 | Jsr Corp | 膜形成用組成物および層間絶縁膜用材料 |
JP4022802B2 (ja) * | 1999-09-29 | 2007-12-19 | Jsr株式会社 | 膜形成用組成物、膜の形成方法および絶縁膜 |
JP4117439B2 (ja) * | 2000-05-15 | 2008-07-16 | Jsr株式会社 | 膜形成用組成物およびシリカ系膜 |
JP5061412B2 (ja) * | 2001-07-16 | 2012-10-31 | Jsr株式会社 | 膜形成用組成物、膜の形成方法およびシリカ系膜 |
JP5337394B2 (ja) * | 2007-05-15 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | 親水性コーティング組成物及びこれを用いた親水性部材 |
JP5124496B2 (ja) * | 2008-02-01 | 2013-01-23 | 富士フイルム株式会社 | 親水性部材 |
-
2015
- 2015-03-31 JP JP2015074530A patent/JP6480781B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016194008A (ja) | 2016-11-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4941302B2 (ja) | 被膜形成用塗布液の製造方法 | |
US9505888B2 (en) | Composite of metal oxide nanoparticles and silsesquioxane polymer, method for producing same, and composite material produced using composite thereof | |
KR101985547B1 (ko) | 전극 보호막 형성제 | |
JPWO2010074264A1 (ja) | インクジェット塗布用液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | |
WO2010074261A1 (ja) | インクジェット塗布用液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | |
JP6778007B2 (ja) | 被膜形成用の塗布液とその製造方法、及び被膜付基材の製造方法 | |
JPWO2008059844A1 (ja) | 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材 | |
JP2009297626A (ja) | シリカ系被膜形成法及び塗布液 | |
JP6480781B2 (ja) | 透明被膜形成用塗布液、透明被膜形成用塗布液の製造方法、透明被膜付基材、および透明被膜付基材の製造方法 | |
TWI495687B (zh) | 矽氧烷樹脂組成物的硬化被膜形成方法 | |
KR102596586B1 (ko) | 피막 형성용 도포액과 그 제조 방법, 및 피막이 형성된 기재의 제조 방법 | |
JP6480780B2 (ja) | 透明被膜形成用塗布液、その製造方法および透明被膜付基材 | |
JP2007217739A (ja) | 撥水性被膜の成膜方法 | |
JPWO2011136370A1 (ja) | スプレー塗布用の被膜形成用塗布液及び被膜 | |
JP6578946B2 (ja) | 保護膜を有するガラス基板 | |
JP4754035B1 (ja) | めっき付着性良好なポリオルガノシロキサン塗料組成物とその塗膜 | |
KR102623650B1 (ko) | 피막 형성용 도포액, 피막 형성용 도포액의 제조 방법, 및 피막이 부착된 기재 | |
JP6383983B2 (ja) | 金属酸化物膜形成用組成物及び金属酸化物膜 | |
JP5310549B2 (ja) | 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材 | |
JP5459228B2 (ja) | インクジェット塗布用液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | |
JP2015218301A (ja) | 熱硬化性白色コート剤及びこれを用いた白色硬化膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180921 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181002 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20181120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190110 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190208 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6480781 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |