JP6470864B1 - 応力発光計測装置及び応力発光計測方法 - Google Patents

応力発光計測装置及び応力発光計測方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6470864B1
JP6470864B1 JP2018162385A JP2018162385A JP6470864B1 JP 6470864 B1 JP6470864 B1 JP 6470864B1 JP 2018162385 A JP2018162385 A JP 2018162385A JP 2018162385 A JP2018162385 A JP 2018162385A JP 6470864 B1 JP6470864 B1 JP 6470864B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stress
light
excitation light
time
irradiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018162385A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020034466A (ja
Inventor
翔 橋本
翔 橋本
Original Assignee
株式会社トヨタプロダクションエンジニアリング
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社トヨタプロダクションエンジニアリング filed Critical 株式会社トヨタプロダクションエンジニアリング
Priority to JP2018162385A priority Critical patent/JP6470864B1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6470864B1 publication Critical patent/JP6470864B1/ja
Publication of JP2020034466A publication Critical patent/JP2020034466A/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Abstract

【課題】一定間隔で連続して発生する応力発光を、蛍光及び燐光を含む自然放出光から分離して計測することができる応力発光計測装置及び応力発光計測方法を提供すること。
【解決手段】応力発光体を含む応力発光塗料2に励起光L0を照射する励起光照射部20と、励起光L0を応力発光塗料2に照射して応力発光体を最大励起状態にした場合の自然放出光L1である蛍光及び燐光の自然放出光量の時間推移から、励起光L0の照射停止から自然放出光量が所定光量に減ずるまでの経過時間を求める光量経過時間取得部14と、一定間隔で発生する応力が発生しない非発生期間であって、応力Sの発生時点から前記経過時間遡った時点において応力発光体が最大励起状態となるように励起光L0を照射し、前記経過時間遡った時点から励起光L0の照射をオフする照射制御部15とを備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、一定間隔で連続して発生する応力発光を、蛍光及び燐光を含む自然放出光から分離して計測することができる応力発光計測装置及び応力発光計測方法に関する。
従来、計測対象の残留応力や応力集中などによる破壊を検知又は予測するために、応力分布が計測されることが多い。一般的に、応力分布の計測手法として、(1)計測対象にひずみゲージを貼り付けてひずみ量を電気的に検出する手法A、(2)赤外線カメラを用いて計測対象の振動に対する発熱作用又は吸熱作用を計測して応力分布を求める手法B、(3)計測対象の表面にランダム模様を付与して複数カメラで撮像し、応力変動を求めるデジタル画像相関法Cなどが知られている。
ところが、上記の手法Aは、ひずみゲージは貼り付けのための手間がかかるとともに計測部位が限られるという問題がある。また、上記の手法Bは、赤外線カメラは測定範囲が限られ、繰り返し加振が必要になるという問題がある。さらに、上記のデジタル画像相関法Cは、事前に表面模様の準備が必要になるという問題がある。
このため、非接触かつ広範囲に一括で応力計測するために、応力発光体を表面に付与した計測対象からの応力発光を撮像することにより、計測対象の応力分布を非接触で計測する技術が注目されている。例えば、特許文献1には、応力発光体の励起状態が飽和するまでの励起光照射時間を記憶しておき、この励起光照射時間分、励起光を照射することによって応力発光体の励起状態を飽和状態にし、一定条件で発光する装置が開示されている。なお、応力発光塗料を応力発光させるためには、応力発光塗料内の応力発光体を励起状態にする必要があり、この応力発光体の励起は、応力発光塗料に励起光を照射する必要がある。
特開2016−180637号公報
しかしながら、応力発光塗料の励起エネルギーの充填率が低い状態になると、応力発光塗料に応力が与えられたとしても、応力に起因する応力発光の発光感度が低下するため、時間的に連続した応力計測を行うことができなくなってしまう。したがって、応力発光塗料の十分な励起状態を保持するために応力発光塗料に励起光を連続照射すればよいが、応力発光塗料に励起光を照射すると、励起光の照射時点から励起光量に応じた蛍光と燐光とが自然放出光として発光し、応力に起因する応力発光が自然放出光に埋もれてしまい、自然放出光から応力発光を分離して検出することが困難になるという課題が生ずる。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、一定間隔で連続して発生する応力発光を、蛍光及び燐光を含む自然放出光から分離して計測することができる応力発光計測装置及び応力発光計測方法を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明は、応力発光体を含む応力発光塗料に励起光を照射して前記応力発光体を励起状態にし、一定間隔で前記応力発光体に加えられる応力に応じた応力発光を計測する応力発光計測装置であって、前記応力発光塗料に励起光を照射する励起光照射部と、前記励起光を前記応力発光塗料に照射して前記応力発光体を最大励起状態にした場合の自然放出光である蛍光及び燐光の自然放出光量の時間推移から、前記励起光の照射停止から前記自然放出光量が所定光量に減ずるまでの経過時間を求める光量経過時間取得部と、前記一定間隔で発生する応力が発生しない非発生期間であって、前記応力の発生時点から前記経過時間遡った時点において前記応力発光体が最大励起状態となるように前記励起光を照射し、前記経過時間遡った時点から前記励起光の照射をオフする照射制御部とを備えたことを特徴とする。
また、本発明は、上記の発明において、前記所定光量は、前記応力発生時に、前記自然放出光量に対する応力発光量の比が所定値以上となる値であることを特徴とする。
また、本発明は、上記の発明において、前記照射制御部は、前記経過時間遡った時点で最大励起状態となるように前記励起光の照射時間及び励起光量を調整することを特徴とする。
また、本発明は、上記の発明において、前記応力発生時に前記応力発光塗料の発光を撮像する撮像部を備えたことを特徴とする。
また、本発明は、応力発光体を含む応力発光塗料に励起光を照射して前記応力発光体を励起状態にし、一定間隔で前記応力発光体に加えられる応力に応じた応力発光を計測する応力発光計測方法であって、前記励起光を前記応力発光塗料に照射して前記応力発光体を最大励起状態にした場合の蛍光及び燐光の自然放出光量の時間推移から、前記励起光の照射断から前記自然放出光量が所定光量に減ずるまでの経過時間を求める光量経過時間取得ステップと、前記一定間隔で発生する応力が発生しない非発生期間であって、前記応力の発生時点から前記経過時間遡った時点において前記応力発光体が最大励起状態となるように前記励起光を照射し、前記経過時間遡った時点から前記励起光の照射をオフする照射制御ステップとを含むことを特徴とする。
また、本発明は、上記の発明において、前記所定光量は、前記応力発生時に、前記自然放出光量に対する応力発光量の比が所定値以上となる値であることを特徴とする。
また、本発明は、上記の発明において、前記照射制御ステップは、前記経過時間遡った時点で最大励起状態となるように前記励起光の照射時間及び励起光量を調整することを特徴とする。
また、本発明は、上記の発明において、前記応力発生時に前記応力発光塗料からの発光を撮像する撮像ステップを含むことを特徴とする。
本発明によれば、一定間隔で連続して発生する応力発光を、蛍光及び燐光を含む自然放出光から分離して計測することができる。
図1は、本実施の形態に係る応力発光計測装置の構成を示す図である。 図2は、励起光の照射をオフした場合における自然放出光量の時間推移を示す図である。 図3は、発生する応力に対する応力発光量の関係を示す図である。 図4は、照射制御部による非発生期間における励起光の照射制御を説明する説明図である。 図5は、応力発光時における所定光量の自然放出光量と応力発光量との関係を示す図である。 図6は、制御部による応力発光計測処理手順を示すフローチャートである。
以下、添付図面を参照して、本実施の形態に係る応力発光計測装置及び応力発光計測方法について説明する。
<装置構成>
図1は、本実施の形態に係る応力発光計測装置1の構成を示す図である。図1に示した応力発光計測装置1が応力発光を計測する対象は、上下に往復運動する上側金型101及び下側金型102を有するプレス機100の上側金型101である。上側金型101の上面には、応力発光体が含まれる応力発光塗料2が塗布されている。
上側金型101には、周期的に行うプレス加工時に周期的な力Pの発生によって応力Sが一定間隔で発生する。応力発光計測装置1は、応力発光体を含む応力発光塗料2に励起光L0を照射して応力発光体を励起状態にし、一定間隔で応力発光体に加えられる応力Sに応じた応力発光L2を計測する。
応力発光体は、外部からの機械刺激により発光する発光材料である。機械刺激の種類としては、摩擦、衝撃、圧縮、引っ張り、ねじりなどがあり、かかる機械刺激により応力発光体に応力が発生する。応力発光体は、例えば、粒子径の制御が可能な粉末状のセラミックス微粒子であり、ユーロピウムをドープし構造制御したアルミン酸ストロンチウム(SrAl2O4:Eu)、遷移金属や希土類をドープした硫化亜鉛(ZnS:Mn)、チタン酸バリウム・カルシウム((Ba,Ca)TiO3:Pr)、アルミン酸カルシウム・イットリウム(CaYAl3O7:Ce)などである。なお、上記の応力発光体は、紫外線を励起光として可視光を発光するものであるが、紫外線や近赤外線を発光するものであってもよい。
図1に示した応力発光計測装置1は、励起光L0である紫外線を応力発光塗料2に照射する励起光照射部20と、少なくとも応力発生時に応力発光塗料2の発光を撮像する撮像部30と、装置本体10とを有する。
装置本体10は、入出力部11、記憶部12及び制御部13を有し、励起光照射部20、撮像部30及びプレス機100に接続される。入出力部11は、各種操作入力及び表示出力等を行うタッチパネル式ディスプレイなどの入出力インターフェースである。
記憶部12は、フラッシュメモリ等の不揮発性メモリ又はハードディスク装置等の二次記憶媒体等からなる記憶デバイスであり、所定光量LMaを含む所定光量データD1と、経過時間ΔTを含む経過時間データD2と、計測画像Dを含む計測画像データD3とを記憶する。
制御部13は、応力発光計測装置1を全体制御する制御部であり、光量経過時間取得部14、照射制御部15及び計測画像取得制御部16を有する。実際には、これらの機能部に対応するプログラムを図示しないROMや不揮発性メモリに記憶しておき、これらのプログラムをCPU(Central Processing Unit)にロードして実行することにより、光量経過時間取得部14、照射制御部15及び計測画像取得制御部16にそれぞれ対応するプロセスを実行させることになる。
光量経過時間取得部14は、励起光L0を応力発光塗料2に照射して応力発光体を最大励起状態にした場合の自然放出光L1である蛍光及び燐光の自然放出光量LM1の時間推移から、励起光L0の照射停止から自然放出光量LM1が最大励起状態(飽和状態)の最大光量Lmaxから所定光量LMaに減ずるまでの経過時間ΔTを求める。この所定光量LMaは、記憶部12内の所定光量データD1に予め含まれる。また、求めた経過時間ΔTは、記憶部12内の経過時間データD2に含まれる。なお、光量経過時間取得部14による経過時間ΔTの取得処理の詳細について後述する。
照射制御部15は、一定間隔で発生する応力Sに起因する応力発光L2が発生しない非発生期間であって、応力Sの発生時点から経過時間ΔT遡った時点において応力発光体が最大励起状態となるように励起光L0を照射し、経過時間ΔT遡った時点から励起光L0の照射をオフする制御を行う。この照射制御部15による照射制御処理の詳細については後述する。
計測画像取得制御部16は、撮像部30により撮像された応力発光時の計測画像Dを取得し、記憶部12の計測画像データD3として記憶する。
<経過時間ΔTの取得処理及び照射制御処理>
次に、光量経過時間取得部14による経過時間ΔTの取得処理、及び照射制御部15による励起光L0の照射制御処理の詳細について説明する。
まず、自然放出光L1は、応力発光体が励起状態にあると、応力発光L2とは無関係に蛍光及び燐光を自然放出する。蛍光は、励起光L0から吸収した励起状態のエネルギーの一部を熱として放出し、残りの励起状態のエネルギーを光として放出するものであり、励起光よりも長波長側にシフトした光、例えば緑色の可視光として放出される。一方、燐光は、異なるエネルギー準位間の項間交差が起こり、すぐに基底状態に戻れず、蛍光に比してゆっくりと発光し続ける。例えば、蛍光は10-6〜10-3秒で発光し、燐光は10-3〜10秒で発光する。これに対し、応力Sに起因する応力発光L2は、励起状態のエネルギーの一部を熱として放出し、蛍光及び燐光のエネルギー準位に近く、かつ、異なる特定のエネルギー準位に遷移し、応力Sが発生した場合、この遷移した特定のエネルギー準位から基底状態に遷移することによって、例えば緑色の可視光として発光する。
したがって、図2に示すように、自然放出光量LM1は、励起光L0が照射されている間は、蛍光が大部分を占める蛍光領域E1が形成され、励起光L0の照射がオフされた時点t1からは燐光のみとなり、燐光の光量が時間経過とともに減少する燐光領域E2が形成される時間推移を呈する。例えば、最大励起状態の自然放出光量LM1が最大光量Lmaxのときを100%として正規化した場合、時点t2,t3,t4と時間経過するに従って、それぞれ燐光の光量が30%、20%、10%に減少する。
一方、応力Sが発生した場合に応力発光体から発光する応力発光L2の応力発光量LM2は、ひずみ量とひずみ速度との乗算値で決定され、ひずみ速度が一定であった場合、図3に示すように、発生する応力Sの大きさに対して直線的な関係f1を有する。しかし、応力Sの発生時に、応力発光体における応力発光のエネルギー準位におけるエネルギー充填率が低いと、応力Sに応じた応力発光量LM2を発光することができなくなる。この関係f1を維持しない応力発光が発生すると、精度の高い応力分布、応力変化を得ることができないとともに、応力発光が燐光に埋もれてしまう可能性がある。
このため、光量経過時間取得部14は、関係f1が維持できる応力発光エネルギー充填率をもつ所定光量LMaの状態で応力発光L2を行わせるとともに、応力Sの発生時に、自然放出光量LM1を、応力発光量LM2と燐光に起因する自然放出光量LM1との分離が可能な所定光量LMaとすべく、励起光L0の照射がオフされる時点t1から所定光量LMaとなる時点t3までの経過時間ΔTを求めている。なお、所定光量LMaとなる時点t3よりも早い時点で応力発光させると、エネルギー充填率が高くても、燐光の自然放出光量LM1が大きくなるため、応力発光量LM2と燐光に起因する自然放出光量LM1との分離が困難なものとなる。したがって、所定光量LMa以下で応力発光させることが最適なものとなる。なお、自然放出光量LM1及び応力発光量LM2は、単位時間あたりに通過する光量である。
そして、図4に示すように、照射制御部15は、一定間隔(周期TP)で発生する応力Sに起因する応力発光L2が発生しない非発生期間TNであって、応力Sの発生時点tsから経過時間ΔT遡った時点t12において応力発光体が最大励起状態となるように励起光L0を照射時間T以上照射し、経過時間ΔT遡った時点t12から励起光L0の照射をオフする制御を行う。
これにより、応力発光に関するエネルギー充填率は非発生期間TNで十分に高められ、応力発光L2の発光時に、発生する応力Sに応じた応力発光量LM2を発光できるエネルギー充填量以上を有することになるので、信号成分としての応力発光L2が、発生した応力Sに応じた応力発光量LM2未満とならない。また、雑音成分としての自然放出光L1は、小さな光量(所定光量LMa)の燐光のみとなる。
したがって、図5に示すように、信号成分としての応力発光量LMbは、エネルギー充填量が十分であるため、小さくならず、しかも、雑音成分としての自然放出光量LM1は、燐光のみの小さな値である所定光量LMaとなる。この結果、応力発光量LMbと所定光量LMaとの間に大きな光量差ΔLが生じ、応力発光L2と自然放出光L1とを分離して計測することができる。すなわち、雑音成分としての所定光量LMaに対する、信号成分としての応力発光量LMbの比(S/N比)を所定値以上、例えば25dB以上とすることができ、応力発光L2と自然放出光L1とを分離して計測することができる。
<応力発光計測処理>
次に、制御部13による応力発光計測処理手順について説明する。図6は、制御部13による応力発光計測処理手順を示すフローチャートである。図6に示すように、まず、事前準備のため、撮像部30による応力発光塗料2の撮像を開始する(ステップS101)。その後、制御部13は、照射制御部15を介して、励起光L0を応力発光塗料2に照射し、応力発光体を最大励起状態にする(ステップS102)。すなわち、応力発光L2に関するエネルギー充填率を最大にする。その後、撮像部30を介して、図2に示すような、励起光L0の照射停止後の自然放出光量(燐光光量)LM1の時間推移を取得する(ステップS103)。そして、制御部13は、撮像部30を停止させる(ステップS104)。
その後、光量経過時間取得部14は、励起光L0の照射停止後から、自然放出光量LM1が所定光量LMaに減ずるまでの経過時間ΔTを算出する(ステップS105)。これにより、応力発光計測処理の事前準備を終える。
その後、応力発光計測の開始か否かを判定する(ステップS106)。すなわち、プレス機の駆動状態をモニタし、応力発生が開始したか否かを判定する。応力発光計測の開始でないならば(ステップS106;No)、ステップS106の判定処理を繰り返す。一方、応力発光計測の開始であるならば(ステップS106;Yes)、照射制御部15は、一定間隔(周期TP)で発生する応力Sが発生しない非発生期間TNであって、次の応力の発生時点tsから経過時間ΔT遡った時点t12において最大励起状態(エネルギー充填率100%)となるように、励起光L0を照射し、経過時間ΔT遡った時点t12から励起光L0の照射をオフする(ステップS107)。
その後、計測画像取得制御部16は、撮像部30に対して応力発生タイミングに合わせた撮像処理を行わせ、撮像した応力発光時の計測画像Dを取得し、記憶部12の計測画像データD3として記憶する(ステップS108)。
その後、応力発光計測の終了か否かを判定する(ステップS109)。応力発光計測の終了でないならば(ステップS109;No)、ステップS107に移行して上記の照射処理及び撮像処理を繰り返し行う。一方、応力発光計測の終了であるならば(ステップS109;Yes)、本処理を終了する。
なお、照射制御部15は、一定間隔(周期TP)に対応した非発生期間TNの長さに応じて、経過時間ΔT遡った時点t12で最大励起状態となるように励起光L0の照射時間T及び励起光量を調整するようにしてもよい。この場合、励起光量が小さい場合には照射時間Tを長くし、照射時間Tを短くしたい場合には励起光量を大きくする。
また、所定光量LMaは、応力発光量LM2に対応して適宜、設定変更される。
さらに、上記の実施の形態では、撮像部30を用いた計測画像を得るようにしていたが、これに限らず、目視計測を行ってもよい。
なお、上記の実施の形態で図示した各構成は機能概略的なものであり、必ずしも物理的に図示の構成をされていることを要しない。すなわち、各装置の分散・統合の形態は図示のものに限られず、その全部又は一部を各種の負荷や使用状況などに応じて、任意の単位で機能的又は物理的に分散・統合して構成することができる。
本発明の応力発光計測装置及び応力発光計測方法は、応力発光体を含む応力発光塗料に励起光を照射して前記応力発光体を励起状態にし、一定間隔で前記応力発光体に加えられる応力に応じた応力発光を計測する場合に有用であり、特に一定間隔で連続して発生する応力発光を、蛍光及び燐光を含む自然放出光から分離して計測する場合に有用である。
1 応力発光計測装置
2 応力発光塗料
10 装置本体
11 入出力部
12 記憶部
13 制御部
14 光量経過時間取得部
15 照射制御部
16 計測画像取得制御部
20 励起光照射部
30 撮像部
100 プレス機
101 上側金型
102 下側金型
D 計測画像
D1 所定光量データ
D2 経過時間データ
D3 計測画像データ
E1 蛍光領域
E2 燐光領域
f1 関係
L0 励起光
L1 自然放出光
L2 応力発光
LM1 自然放出光量
LM2,LMb 応力発光量
LMa 所定光量
Lmax 最大光量
P 力
S 応力
T 照射時間
t1,t12,t2,t3,t4 時点
TN 非発生期間
TP 周期
ts 発生時点
ΔL 光量差
ΔT 経過時間

Claims (8)

  1. 応力発光体を含む応力発光塗料に励起光を照射して前記応力発光体を励起状態にし、一定間隔で前記応力発光体に加えられる応力に応じた応力発光を計測する応力発光計測装置であって、
    前記応力発光塗料に励起光を照射する励起光照射部と、
    前記励起光を前記応力発光塗料に照射して前記応力発光体を最大励起状態にした場合の自然放出光である蛍光及び燐光の自然放出光量の時間推移から、前記励起光の照射停止から前記自然放出光量が所定光量に減ずるまでの経過時間を求める光量経過時間取得部と、
    前記一定間隔で発生する応力が発生しない非発生期間であって、前記応力の発生時点から前記経過時間遡った時点において前記応力発光体が最大励起状態となるように前記励起光を照射し、前記経過時間遡った時点から前記励起光の照射をオフする照射制御部と
    を備えたことを特徴とする応力発光計測装置。
  2. 前記所定光量は、前記応力発生時に、前記自然放出光量に対する応力発光量の比が所定値以上となる値であることを特徴とする請求項1に記載の応力発光計測装置。
  3. 前記照射制御部は、前記経過時間遡った時点で最大励起状態となるように前記励起光の照射時間及び励起光量を調整することを特徴とする請求項1又は2に記載の応力発光計測装置。
  4. 前記応力発生時に前記応力発光塗料の発光を撮像する撮像部を備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の応力発光計測装置。
  5. 応力発光体を含む応力発光塗料に励起光を照射して前記応力発光体を励起状態にし、一定間隔で前記応力発光体に加えられる応力に応じた応力発光を計測する応力発光計測方法であって、
    前記励起光を前記応力発光塗料に照射して前記応力発光体を最大励起状態にした場合の蛍光及び燐光の自然放出光量の時間推移から、前記励起光の照射断から前記自然放出光量が所定光量に減ずるまでの経過時間を求める光量経過時間取得ステップと、
    前記一定間隔で発生する応力が発生しない非発生期間であって、前記応力の発生時点から前記経過時間遡った時点において前記応力発光体が最大励起状態となるように前記励起光を照射し、前記経過時間遡った時点から前記励起光の照射をオフする照射制御ステップと
    を含むことを特徴とする応力発光計測方法。
  6. 前記所定光量は、前記応力発生時に、前記自然放出光量に対する応力発光量の比が所定値以上となる値であることを特徴とする請求項5に記載の応力発光計測方法。
  7. 前記照射制御ステップは、前記経過時間遡った時点で最大励起状態となるように前記励起光の照射時間及び励起光量を調整することを特徴とする請求項5又は6に記載の応力発光計測方法。
  8. 前記応力発生時に前記応力発光塗料からの発光を撮像する撮像ステップを含むことを特徴とする請求項5〜7のいずれか一つに記載の応力発光計測方法。
JP2018162385A 2018-08-31 2018-08-31 応力発光計測装置及び応力発光計測方法 Active JP6470864B1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018162385A JP6470864B1 (ja) 2018-08-31 2018-08-31 応力発光計測装置及び応力発光計測方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018162385A JP6470864B1 (ja) 2018-08-31 2018-08-31 応力発光計測装置及び応力発光計測方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6470864B1 true JP6470864B1 (ja) 2019-02-13
JP2020034466A JP2020034466A (ja) 2020-03-05

Family

ID=65356058

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018162385A Active JP6470864B1 (ja) 2018-08-31 2018-08-31 応力発光計測装置及び応力発光計測方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6470864B1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2020246460A1 (ja) * 2019-06-06 2020-12-10
JPWO2020246461A1 (ja) * 2019-06-06 2020-12-10
JPWO2020246462A1 (ja) * 2019-06-06 2020-12-10
CN113825990A (zh) * 2019-05-13 2021-12-21 株式会社岛津制作所 应力发光测定装置、应力发光测定方法和应力发光测定系统

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7334664B2 (ja) * 2020-04-02 2023-08-29 株式会社島津製作所 応力発光測定方法および応力発光測定装置
WO2021229929A1 (ja) * 2020-05-15 2021-11-18 株式会社島津製作所 ひずみ計測装置およびひずみ計測方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003506698A (ja) * 1999-08-06 2003-02-18 ユニバーシティ・オブ・フロリダ ひずみ解析における発光性脆性コーティング
JP2007510913A (ja) * 2003-11-05 2007-04-26 イノヴェイティブ サイエンティフィック ソリューションズ,インコーポレイテッド 表面接触力を判定するための方法
JP2007279013A (ja) * 2006-03-13 2007-10-25 Railway Technical Res Inst 圧力分布測定システム及び校正用測定子
JP2010190865A (ja) * 2009-02-20 2010-09-02 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 応力発光解析装置、応力発光解析方法、応力発光解析プログラムおよび記録媒体
JP2015075477A (ja) * 2013-10-11 2015-04-20 独立行政法人産業技術総合研究所 応力発光評価装置並びに応力発光評価方法
JP2018119834A (ja) * 2017-01-24 2018-08-02 株式会社トヨタプロダクションエンジニアリング 歪み量算出装置、歪み量算出方法及び歪み量算出プログラム
CN108398420A (zh) * 2018-01-31 2018-08-14 华南理工大学 发光材料力致发光性能的检测装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003506698A (ja) * 1999-08-06 2003-02-18 ユニバーシティ・オブ・フロリダ ひずみ解析における発光性脆性コーティング
JP2007510913A (ja) * 2003-11-05 2007-04-26 イノヴェイティブ サイエンティフィック ソリューションズ,インコーポレイテッド 表面接触力を判定するための方法
JP2007279013A (ja) * 2006-03-13 2007-10-25 Railway Technical Res Inst 圧力分布測定システム及び校正用測定子
JP2010190865A (ja) * 2009-02-20 2010-09-02 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 応力発光解析装置、応力発光解析方法、応力発光解析プログラムおよび記録媒体
JP2015075477A (ja) * 2013-10-11 2015-04-20 独立行政法人産業技術総合研究所 応力発光評価装置並びに応力発光評価方法
JP2018119834A (ja) * 2017-01-24 2018-08-02 株式会社トヨタプロダクションエンジニアリング 歪み量算出装置、歪み量算出方法及び歪み量算出プログラム
CN108398420A (zh) * 2018-01-31 2018-08-14 华南理工大学 发光材料力致发光性能的检测装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113825990A (zh) * 2019-05-13 2021-12-21 株式会社岛津制作所 应力发光测定装置、应力发光测定方法和应力发光测定系统
JPWO2020246460A1 (ja) * 2019-06-06 2020-12-10
JPWO2020246461A1 (ja) * 2019-06-06 2020-12-10
JPWO2020246462A1 (ja) * 2019-06-06 2020-12-10
JP7054125B2 (ja) 2019-06-06 2022-04-13 国立研究開発法人産業技術総合研究所 応力発光計測装置及び応力発光計測方法
JP7054123B2 (ja) 2019-06-06 2022-04-13 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ひずみ計測装置及びひずみ計測方法
JP7054124B2 (ja) 2019-06-06 2022-04-13 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ひずみ計測装置及びひずみ計測方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020034466A (ja) 2020-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6470864B1 (ja) 応力発光計測装置及び応力発光計測方法
JP6499363B1 (ja) 応力発光計測装置及び応力発光計測方法
JP6470863B1 (ja) 応力発光計測装置及び応力発光計測方法
DE102014009647B4 (de) TOF-Kamera für ein Fahrzeug und Verfahren zum Ansteuern derselben
Kamimura et al. Development of new elasticoluminescent material SrMg2 (PO4) 2: Eu
JP6654159B2 (ja) 歪み量算出装置、歪み量算出方法及び歪み量算出プログラム
JP2015075477A (ja) 応力発光評価装置並びに応力発光評価方法
JP2010190865A (ja) 応力発光解析装置、応力発光解析方法、応力発光解析プログラムおよび記録媒体
JP6129462B1 (ja) 内視鏡システム
US6835064B2 (en) Light hardening device and method for hardening a polymerizable mass for dental applications
JP7213695B2 (ja) 応力発光計測装置及び応力発光計測方法
WO2016147822A1 (ja) 重畳画像生成装置及び重畳画像生成方法
JP2019158437A (ja) 残留応力算出方法、残留応力算出装置、及び残留応力算出プログラム
JP2020169936A (ja) 応力発光計測装置及び応力発光計測方法
JP7184704B2 (ja) 応力発光計測装置及び応力発光計測方法
JP2020176903A (ja) バックグラウンドデータ測定装置、応力発光測定装置及びバックグラウンドデータ測定方法
JP6539139B2 (ja) 赤外線画像データの画像処理方法及び赤外線画像処理装置
JP7054123B2 (ja) ひずみ計測装置及びひずみ計測方法
JP5866568B2 (ja) 樹脂硬化装置
Nakamura et al. Effect of ultrasonic oscillatory stress on deformation luminescence of X-irradiated KCl: Eu2+
JP7054125B2 (ja) 応力発光計測装置及び応力発光計測方法
WO2023136015A1 (ja) 物理量検出装置、物理量検出方法、および物理量検出プログラム
Banishev Photo-and Mechanoluminescent Properties of SrAl2O4:(Eu2+, Dy3+) Phosphor and Its Use for Visualization of Deformation Dynamics of Materials
JP2006120548A (ja) X線管装置及びx線管の加熱制御方法
JP4079919B2 (ja) グロー放電発光分析装置及びグロー放電発光分析方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20181116

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20181116

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20181128

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181225

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190118

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6470864

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250