JP6467193B2 - 量子カスケードレーザ - Google Patents
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Description
のように見積もった。
e:素電荷
Z(zimp):ダイポール長
ε0:真空の誘電率
εs:活性層の比誘電率
S:活性層の水平方向の面積
M:カスケード構造の段数
nimp:カスケード構造1段当たりの不純物面密度
f(Eimp,EF,Te):不純物準位の電子分布関数
Eimp:不純物準位のエネルギー
EF:注入層にあるミニバンドに対する擬似フェルミエネルギー
Te:活性層内での電子温度(〜格子温度)
I:ミニバンドに含まれるサブバンドの数
τeL:不純物準位からのミニバンドへの放出最長時間(レートの逆数)
τeS:不純物準位からのミニバンドへの放出最短時間
Ei:ミニバンドに含まれるi番目のサブバンド端のエネルギー
z:半導体積層構造の積層方向での空間的位置(ミニバンド内の電子の位置)
zimp:不純物準位の積層方向での空間的位置
Ψi:ミニバンドに含まれるi番目のサブバンドの規格化された波動関数
fN:ノイズ周波数
m*:電子の有効質量
kB:ボルツマン定数
p(zimp):添加位置zimpに不純物が存在する確率
50…InP基板、51…InP下部クラッド層、52…InGaAs/AlInAs下部グレーデッド層、53…InGaAs下部ガイド層、54…InGaAs上部ガイド層、55…InGaAs/AlInAs上部グレーデッド層、56…InP上部クラッド層、57…InP第2コンタクト層、58…InP第1コンタクト層、59…InGaAsキャップ層、
30…基体部、31…基体上面、35…リッジ部、36…リッジ側面、60、61…電子阻止膜、65…絶縁層、66…電極構造、Lup…発光上準位、Lh…高エネルギー準位(第2発光上準位、注入準位)、MB…ミニバンド、Llow…発光下準位、Lr…緩和準位、Limp…不純物準位、Ls…表面準位。
Claims (6)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられ、量子井戸発光層及び注入層からなる単位積層体が多段に積層されることで前記量子井戸発光層と前記注入層とが交互に積層されたカスケード構造が形成された活性層とを備え、
前記単位積層体は、その量子井戸構造によるサブバンド準位構造において、発光上準位と、それぞれ発光下準位または緩和準位として機能する複数の準位を含むミニバンドとを少なくとも有し、
前記量子井戸発光層における前記発光上準位から発光下準位への電子のサブバンド間遷移によって光が生成され、前記サブバンド間遷移を経た電子は、前記ミニバンド内の前記緩和準位を介して後段の単位積層体の量子井戸発光層へと注入され、
前記注入層は、n個(nは4以上の整数)の障壁層及び井戸層を含んで構成され、前記ミニバンドは、I個(Iは4以上の整数)の準位を含むとともに、
前記半導体基板を含む基体部と、前記活性層を含んで前記基体部上に設けられて前記活性層で生成される光に対するレーザ共振器構造における共振方向にストライプ状に延びるリッジ部と、前記活性層の側面を含む前記リッジ部のリッジ側面上にエピタキシャル成長された電子阻止膜とを有し、
前記電子阻止膜は、前記活性層を構成する障壁層と同一の半導体材料で形成されているアンドープ型の膜であることを特徴とする量子カスケードレーザ。 - 前記電子阻止膜は、前記電子阻止膜内での伝導帯が、前記活性層における前記注入層内での前記ミニバンドよりも高いエネルギー位置にあるように形成されていることを特徴とする請求項1記載の量子カスケードレーザ。
- 前記電子阻止膜は、前記活性層を構成する井戸層に対して歪緩和が生じない半導体材料及び膜厚で形成されていることを特徴とする請求項1または2記載の量子カスケードレーザ。
- 前記電子阻止膜は、前記活性層を構成する井戸層と前記電子阻止膜との間での格子不整合率の大きさが1%以下となるように形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の量子カスケードレーザ。
- 前記電子阻止膜は、100nm以上200nm以下の膜厚で形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の量子カスケードレーザ。
- 前記電子阻止膜は、前記リッジ側面上から前記基体部の基体上面上にわたって形成されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項記載の量子カスケードレーザ。
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