JP6463107B2 - 液体吐出ヘッドおよび液体吐出装置 - Google Patents

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Description

本発明は、インクなどの液体(以下、単にインクと称する。)を吐出する液体吐出ヘッドおよび液体吐出装置に関する。
インクを吐出して記録媒体に画像を記録する液体吐出装置には、一般的にインクを吐出する液体吐出ヘッドが搭載されている。液体吐出ヘッドにインクを吐出させる機構として、圧電素子によって容積が収縮可能な圧力室を利用した機構が知られている。この機構では、電圧が印加された圧電素子の変形により圧力室が収縮することによって、圧力室内のインクが、圧力室に連通する吐出口から吐出される。このような機構を有する液体吐出ヘッドの一つとして、薄膜状に形成された圧電素子を用いた、いわゆる薄膜圧電素子型ヘッドが知られている。薄膜圧電素子は剛性が低いために変位量が大きいという特徴がある。この特徴により、圧力室を小型化し、吐出口を高密度に配置することができる。
圧力室を備える液体吐出ヘッドでは、気泡がインクとともに圧力室内に侵入したり、圧力室内で気泡が発生したりする場合がある。この場合、気泡が液体を吐出するための圧力を吸収してしまい所望の吐出量や吐出速度が得られない、さらには吐出不能になる問題が起こり得る。また、長期間インクを吐出していない吐出口近傍に付着したインクが増粘して吐出口が目詰まりすることによって、吐出性能の低下や吐出不良を引き起こす問題が起こり得る。そこで、これらの問題を解決するための液体吐出ヘッドが特許文献1に開示されている。
特許文献1に記載の液体吐出ヘッドは、吐出口に連通するインクの回収流路を有し、記録中も供給流路から圧力室を介して回収流路へ至る循環流を発生させている。この液体吐出ヘッドによれば、圧力室内の気泡を循環流に乗せて除去することができる。さらに、循環流により吐出口近傍には常にフレッシュなインクが供給されるので、吐出口内の増粘したインクの含有物の拡散が促され、インクの増粘を回復させることができる。
特表2011−520670号公報
特許文献1に開示された液体吐出ヘッドでは、供給流路および回収流路が複数の吐出口列のそれぞれに対応して形成されている。各供給流路及び各回収流路はチップの厚さ方向に形成された貫通流路にそれぞれ連通している。各貫通流路は、圧電素子を駆動するための配線が形成された配線形成層にも形成されている。さらに、この配線形成層には、複数の圧電素子も形成されている。つまり、圧電素子、配線、および貫通流路が同じ層に形成されている。そのため、配線は、圧電素子の形成エリアを避けて貫通流路の開口部間を通って配線形成層の端部に引き出されている。しかし、このような配線パターンでは、吐出口を高密度化した場合に各貫通流路の開口部が配線引き出しの妨げとなり、十分な配線エリアを確保することが困難になる。配線エリアを確保するために供給用および回収用の両方の貫通流路の開口部を小さくすると、流路抵抗が増加し吐出周波数が低下してしまう。
そこで、本発明は、液体を圧力室から回収する流路を備える液体吐出ヘッドにおいて、高密度な吐出口の配置と高い吐出周波数とを実現することが可能な技術を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の液体吐出ヘッドは、液体を吐出する複数の吐出口を備える液体吐出ヘッドであって、液体を前記複数の吐出口から吐出するためのエネルギーを発生する複数のエネルギー発生手段が形成されたエネルギー発生手段形成層と、前記エネルギー発生手段形成層に積層され、前記複数のエネルギー発生手段に電気的に接続される複数の配線が形成された配線パターン形成層と、を有し、前記配線パターン形成層に、前記複数の吐出口に液体を供給するための第1の貫通流路と前記複数の吐出口から吐出されなかった液体を回収するための第2の貫通流路とが形成され、前記第1の貫通流路または前記第2の貫通流路の何れか一方の開口部の面積が他方の開口部の面積よりも大きい、ことを特徴とする。
本発明では、配線パターン形成層にエネルギー発生手段が形成されていないので配線スペースを十分に確保できる。また、第1の貫通流路または第2の貫通流路の一方の開口部を他方の開口部よりも広くしているので、配線の形成スペースを確保できるとともに流路抵抗の増大を抑制できる。
本発明によれば、配線スペースを十分に確保でき、流路抵抗の増加を抑制できるので、高密度な吐出口の配置と高い吐出周波数とを実現することが可能となる。
第1の実施形態の液体吐出ヘッドモジュールの斜視図である。 図1に示す液体吐出ヘッドモジュールの分解斜視図である。 液体吐出ヘッドの断面図である。 液体吐出ヘッドの層構成を示す平面図である。 配線パターン形成層の平面図である。 エネルギー発生手段形成層の平面図である。 圧力室形成層の平面図である。 絞り流路形成層の平面図である。 循環支流路形成層の平面図である。 吐出口形成層の平面図である。 第2の実施形態の配線パターン形成層の平面図である。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、本実施形態によって本発明は限定されない。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の液体吐出装置が備える液体吐出ヘッドモジュールの一実施形態を示す斜視図である。図2は、図1に示す液体吐出ヘッドモジュールの分解斜視図である。図1に示すように、本実施形態の液体吐出ヘッドモジュール101は、2つの液体吐出ヘッド102と、チッププレート103と、FPC(Flexible Printed Circuits)108と、マニホールド104と、を有している。液体吐出ヘッド102は、チッププレート103上に固定されている。液体吐出ヘッド102の電気配線は、FPC108によって外部に引き出される。液体吐出ヘッド102とFPC108とはワイヤーボンディングなどによって接続されている。液体吐出ヘッド102とFPC108との接続部分は、保護のために樹脂(不図示)などで封止される。本発明では、液体吐出ヘッドモジュールが2つの液体吐出ヘッド102を備えた構成に限定されず、液体吐出ヘッドモジュールが液体吐出ヘッドを複数備えていてよい。
本実施形態の液体吐出ヘッドモジュール101では、インクは、マニホールド104に形成されたインレットジョイント106からマニホールド104内部に形成された流路を介してチッププレート103内部に形成された流路に流入する。その後、インクは、チッププレート103内部に形成された流路を介して液体吐出ヘッド102に供給される。供給されたインクの一部は、再びチッププレート103内部の流路及びマニホールド104内部の流路を介してアウトレットジョイント107を通じて回収される。マニホールド104内部に形成された流路及びチッププレート103内部に形成された流路は、図2に示されている。
図2に示すようにマニホールド104は、第1のマニホールド201と、第2のマニホールド202と、第3のマニホールド203と、第4のマニホールド204とからなる4層のマニホールドで構成されている。図2では、太い破線の矢印がインレットのインクの流れを示し、細い波線の矢印がアウトレットのインクの流れを示す。
図3は、液体吐出ヘッド102をZ方向(積層方向)に切断した断面図である。図3に示すように液体吐出ヘッド102には、各吐出口401に対応して吐出側流路416、圧力室403、エネルギー発生手段402、供給絞り流路404、第1の回収絞り流路405及び第2の回収絞り流路406がそれぞれ形成されている。エネルギー発生手段402に駆動信号が入力されると、駆動信号に応じてエネルギー発生手段402が振動板418を介して圧力室403に圧力変化を生じさせる。その圧力変化が吐出側流路416を通じて吐出口401に伝わることによってインクが吐出口401から吐出する。また、圧力室403及び吐出口401近傍にはインクの循環流が形成されている。この循環流は、主に共通供給流路409、供給支流路407、回収支流路408及び共通回収流路410で構成され、これらの流路によって各圧力室403へインクが供給されるとともに各圧力室403からインクが回収される。
図4は、液体吐出ヘッド102の層構成を示す平面図である。液体吐出ヘッド102は、配線パターン形成層301、エネルギー発生手段形成層302、圧力室形成層303、絞り流路形成層304、循環支流路形成層305及び吐出口形成層306の6層で構成されており、この順番に積層されている。個々の層の構成について図5〜図10を用いて説明する。
図5は、配線パターン形成層301の平面図である。図5(a)は、配線パターン形成層301の表面(−Z方向から+Z方向に見た面)を示す平面図である。一方、図5(b)は、配線パターン形成層301の裏面(+Z方向から−Z方向に見た面)を示す平面図である。図5(b)では、配線パターン形成層301において圧力室403及び吐出口401にそれぞれに重なり合う領域を破線で示している。
本実施形態では、配線パターン形成層301は、シリコン基板で構成されている。配線パターン形成層301の裏面には、配線414、接続端子413、FPCパッド501が形成されている。配線パターン形成層301は、FPC108と個別に接続するFPCパッド501を有するので、Y方向(短手方向)の長さが他の層よりも長い。接続端子413は、Au,Ag,Cu,Alなどの金属で構成されたスタッドバンプ、メッキバンプ、または半田バンプであることが望ましい。さらに、配線パターン形成層301には、共通供給流路409に連通する第1の貫通流路411と、共通回収流路410に連通する第2の貫通流路412とが形成されている。第1の貫通流路411の開口部の面積は、第2の貫通流路412の開口部の面積よりも広い。本実施形態では、第1の貫通流路411の開口部および第2の貫通流路412の開口部がY方向で互いに対向するように配線パターン形成層301の両端部に形成されている。FPCパッド501は、第2の貫通流路412の開口部が形成されている端部に形成されている。
図6は、エネルギー発生手段形成層302の平面図である。エネルギー発生手段形成層302には、各圧力室403に対応して、振動板418(図6では不図示)と、エネルギー発生手段402と、個別電極417とが形成されている。本実施形態ではエネルギー発生手段402は、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)などに代表される圧電素子で構成されている。個別電極417は、エネルギー発生手段402を駆動するために配線パターン形成層301に形成された接続端子413と電気的に接続される。さらに、エネルギー発生手段形成層302には、第1の貫通流路411と連通する共通供給流路409の一部と、第2の貫通流路412と連通する共通回収流路410の一部とが形成されている。配線パターン形成層301とエネルギー発生手段形成層302とは接着層415によって接合される。接着層415は、配線パターン形成層301とエネルギー発生手段形成層302との接着機能とともに共通供給流路409と共通回収流路410のそれぞれが形成された流路エリアの液体気密性を保持する機能も有している。接着層415の形成エリアは、流路エリアと、エネルギー発生手段402および接続端子413が形成されたエリアとを避ける必要がある。そのため、接着層415には、フォトレジストのようにパターン形成可能でかつフィルム状である接着剤を用いることが望ましい。このような接着剤を用いることで、流路エリアへの接着剤のはみ出しを防止することができ、エネルギー発生手段402の形成エリアを避けて接着層415を形成できる。また、フィルム状の接着剤は、予め膜厚が規定されているので層厚を基板全面にわたって均一に形成することができる。このようなフィルム状の感光性接着フィルムとして、例えば日立化成工業株式会社製のダイアタッチフィルムのDFシリーズ、KAシリーズや東京応化工業株式会社製のドライフィルムレジストであるTMMFが挙げられる。いずれの接着性フィルムも、フォトリソグラフィによってパターン形成可能な接着性フィルムであり、150℃〜200℃程度の低温で硬化可能である。
図7は、圧力室形成層303の平面図である。本実施形態では、圧力室形成層303はシリコン基板で構成されている。圧力室形成層303は、配線パターン形成層301とは反対側でエネルギー発生手段形成層302に積層されている。圧力室形成層303には、圧力室403がエネルギー発生手段402に対向する位置に形成されている。さらに、共通供給流路409の一部及び共通回収流路410の一部も形成されている。
図8は、絞り流路形成層304の平面図である。絞り流路形成層304には、各圧力室403に対向する位置に供給絞り流路404と第1の回収絞り流路405が形成され、吐出口401に対向する位置に吐出側流路416が形成されている。供給絞り流路404は、供給支流路407よりも断面積が小さく、供給支流路407を圧力室403に連通させる。第1の回収絞り流路405は、回収支流路408よりも断面積が小さく、を圧力室403に連通させる。供給絞り流路404及び第1の回収絞り流路405は、吐出時のインクの流れを制御する流体制御機能を有している。吐出側流路416は圧力室403を吐出口401に連通させる機能を有している。圧力室形成層303と同様に、絞り流路形成層304にも共通供給流路409の一部と共通回収流路410の一部とが形成されている。本実施形態では絞り流路形成層304は、感光性ドライフィルムレジストで形成される。各流路パターンは圧力室形成層303の吐出口側の面に感光性ドライフィルムレジストを直接ラミネートしてフォトリソグラフィによって形成される。絞り流路形成層304に使用可能な材料として、上述した日立化成工業株式会社製の感光性フィルムや東京応化工業株式会社製の感光性フィルムが挙げられる。
図9は、循環支流路形成層305の平面図である。本実施形態では循環支流路形成層305はシリコン基板で構成されている。循環支流路形成層305には、複数の吐出口401の各々に対向する複数の吐出側流路416が列状に並べられている。各吐出側流路列をX方向(長手方向)に挟んで供給支流路407と回収支流路408とが形成されている。供給支流路407は、供給絞り流路404と共通供給流路409とに連通している。回収支流路408は、回収絞り流路405と共通回収流路410とに連通している。
図10は、吐出口形成層306の平面図である。吐出口形成層306には、吐出側流路416に対向する複数の吐出口401が複数の列状に形成されている。また、吐出側流路416及び回収支流路408と連通する第2の回収絞り流路406が形成されている。吐出口形成層306は、例えば感光性フィルムの2段構成によって形成することができる。
以下、インクの循環流について図2及び図3を用いて説明する。まず、インク供給の流れについて説明する。インレットジョイント106から流入したインクは、第1のマニホールド201で2つの流路に分岐され、2つの液体吐出ヘッド102へと供給される。液体吐出ヘッド102では、配線パターン形成層301に形成された第1の貫通流路411を経て、エネルギー発生手段形成層302と圧力室形成層303と絞り流路形成層304と循環支流路形成層305とを貫通する共通供給流路409に流入する。その後、インクは、供給支流路407から供給絞り流路404を経て各圧力室403に流入する。圧力室403でインクの流れは2方向に分岐される。一方は、吐出側流路416を通って吐出口401にインクを供給し第2の回収絞り流路406を経て回収支流路408へ流入する流れである。他方は、第1の回収絞り流路405を通って回収支流路408へ流入する流れである。第2の回収絞り流路406によって吐出口近傍においても定常的なインクの流れが形成され、吐出口近傍に常にフレッシュなインクを供給することができる。
次に、インク回収の流れについて説明する。各回収支流路408から流出したインクは、共通回収流路410および第2の貫通流路412を通ってマニホールド104に流入する。マニホールド104の第3のマニホールド203において、2つの液体吐出ヘッド102から流出したインクの流れは、一つの流路に合流する。そして、インクは、アウトレットジョイント107から外部へと流出される。このような圧力室403及び吐出口近傍を通る循環流を形成することによってヘッド全体の温調効果、圧力室内の気泡除去効果や吐出口近傍のインクの増粘抑制効果が得られる。
本実施形態の配線パターン形成層301では、第1の貫通流路411の開口部の面積は、第2の貫通流路412の開口部の面積よりも大きい。その結果、第2の貫通流路412の開口部のX方向の両側にスペースができ、そのスペースに配線414と接続されるFPCパッド501を形成できる。また、エネルギー発生手段402はエネルギー発生手段形成層302に形成され、配線414は配線パターン形成層301に形成されている。つまり、エネルギー発生手段402は配線414とは異なる層に形成されている。その結果、吐出口401を高密度に配置しても、エネルギー発生手段402の形成エリアに制限されることなく配線414のパターンを形成できる。
本実施形態の配線パターン形成層301では、第1の貫通流路411の開口部が吐出口列の全域に渡ってX方向に開口しているのに対し、第2の貫通流路412は開口部の面積が小さい。そのため、配線パターン形成層301における第2の貫通流路412の開口部が形成された端部には、当該開口部をX方向に挟んだ配線スペースを確保することができる。仮に、第1の貫通流路411も第2の貫通流路412と同様に開口部の面積を小さくした場合、当該開口部をX方向に挟んだ配線スペースを確保できるので、より高密度な配線が可能となる。しかし、この場合、流路抵抗が大幅に増加してしまうためにリフィル周波数が低下してしまう。また、仮に、循環支流路形成層305に形成された供給支流路407及び回収支流路408のそれぞれと同数の貫通流路を配線パターン形成層301に形成した場合、配線414を各貫通流路の間を通って引き出されなければならない。さらに、各貫通流路と配線414との間にはクリアランスが必要になる。また、全体の流路抵抗の低減のために、供給側と回収側の両方の貫通流路の開口部の面積を広くした場合、配線スペースの確保が困難になる。したがって、1200dpiといった高密度に吐出口402を配置するのに十分な配線スペースの確保と低い流路抵抗との両立が困難になる。
そこで、本実施形態のように一方の貫通流路の開口部の面積を十分に広げれば循環流形成及び吐出動作のための圧力制御は可能となる。具体的には、配線引き出し側の貫通流路の開口部の面積を小さくし、もう一方の貫通流路の開口部の面積を大きくして全体の流路抵抗の増加を抑制することによって、配線スペースを確保しつつ全体の流路抵抗を低く抑えることができる。
本実施形態では、全ての配線414が第2の貫通流路412側に引き出されているが、第1の貫通流路411側に少数の配線パターンが引き出されてもよい。つまり、配線パターン形成層301の中央部からY方向の両端部に引き出された配線414の本数に関し、第2の貫通流路412側の端部に引き出された本数が、第1の貫通流路411側の端部に引き出された本数よりも多くてもよい。
本実施形態では、第1の貫通流路411に供給側の流路が連通し第2の貫通流路412に回収側の流路が連通しているが、第1の貫通流路411に回収側の流路が連通し第2の貫通流路412に供給側の流路が連通してもよい。
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態について説明する。以下、第1の実施形態と相違する点を中心に説明する。
図11は、第2の実施形態の配線パターン形成層の平面図である。実施形態1の液体吐出ヘッドと同様の構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。図11に示すように、本実施形態の配線パターン形成層301aの裏面には、駆動制御回路502が形成されている。駆動制御回路502は、第2の貫通流路412の開口部のX方向の両側のスペースに形成されている。駆動制御回路502は、シフトレジスタ回路、ラッチ回路、デコーダ回路等で構成されている。駆動制御回路502は、配線パターン形成層301a(シリコン基板)上に半導体プロセスを用いて直接形成され、各配線414に接続される。駆動制御回路502では、配線414との接続端子近傍部分にアナログスイッチ(不図示)が形成される。駆動制御回路502は、エネルギー発生手段402を個別に駆動する駆動信号を生成し、生成された駆動信号は各アナログスイッチへと伝送される。
本実施形態によれば、駆動信号を生成する駆動制御回路502を形成することによってFPC108に接続させる配線の本数を大幅に低減することができる。これにより、FPCパッド501のピッチや幅の自由度が増しFPC108との接続が容易になる。特許文献1に開示されているように、供給支流路407及び回収支流路408のそれぞれと同数の貫通流路を配線パターン形成層301aに形成した場合、貫通流路間に駆動制御回路502の形成スペースを確保することは困難になる。そのため、駆動制御回路502は貫通流路よりも配線パターン形成層301aの外周部側に形成せざるを得ない。このような流路形態では配線パターン形成層301aのサイズが大きくなってしまう。しかし、本実施形態のような構成であれば駆動制御回路502を第2の貫通流路412の開口部のX方向の両側に形成することができるので配線パターン形成層301aのサイズが大きくなることはない。
本実施形態も第1の実施形態と同様に、第1の貫通流路411に供給側の流路が連通し第2の貫通流路412に回収側の流路が連通しているが、第1の貫通流路411に回収側の流路が連通し第2の貫通流路412に供給側の流路が連通してもよい。
301 配線パターン形成層
302 エネルギー発生手段形成層
303 圧力室形成層
402 エネルギー発生手段
403 圧力室
409 共通供給流路
410 共通回収流路
411 第1の貫通流路
412 第2の貫通流路
414 配線

Claims (10)

  1. 液体を吐出する複数の吐出口を備える液体吐出ヘッドであって、
    液体を前記複数の吐出口から吐出するためのエネルギーを発生する複数のエネルギー発生手段が形成されたエネルギー発生手段形成層と、
    前記エネルギー発生手段形成層に積層され、前記複数のエネルギー発生手段に電気的に接続される複数の配線が形成された配線パターン形成層と、を有し、
    前記配線パターン形成層に、前記複数の吐出口に液体を供給するための第1の貫通流路と前記複数の吐出口から吐出されなかった液体を回収するための第2の貫通流路とが形成され、前記第1の貫通流路または前記第2の貫通流路の何れか一方の開口部の面積が他方の開口部の面積よりも大きい、ことを特徴とする液体吐出ヘッド。
  2. 前記一方の開口部と前記他方の開口部とが互いに対向するように前記配線パターン形成層の両端部に形成され、前記複数の配線が前記両端部に引き出され、前記他方の開口部が形成されている端部に引き出されている配線の本数が、前記一方の開口部が形成されている端部に引き出されている配線の本数よりも多い、請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
  3. 前記一方の開口部と前記他方の開口部とが互いに対向するように前記配線パターン形成層の両端部に形成され、前記複数の配線が前記他方の開口部が形成されている端部のみに引き出されている、請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
  4. 前記一方の開口部および前記他方の開口部が互いに対向するように前記配線パターン形成層の両端部に形成され、前記他方の開口部が形成されている端部に、前記複数の配線と個別に接続され前記複数のエネルギー発生手段の駆動信号を生成する駆動制御回路が形成されている、請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
  5. 前記複数の吐出口が複数の吐出口列を形成し、前記一方の開口部が、前記複数の吐出口列の全域に渡って開口している、請求項1から4のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
  6. 前記配線パターン形成層とは反対側で前記エネルギー発生手段形成層に積層され、前記複数の吐出口のそれぞれと対応する複数の圧力室が形成された圧力室形成層をさらに有し、
    前記圧力室形成層および前記エネルギー発生手段形成層に、前記第1の貫通流路に連通する共通供給流路と前記第2の貫通流路に連通する共通回収流路とがそれぞれ形成されている、請求項1から5のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
  7. 前記複数の吐出口が形成された吐出口形成層と、
    前記吐出口形成層に積層され、前記共通供給流路に連通する供給支流路と、前記共通回収流路に連通する回収支流路と、が形成された循環支流路形成層と、をさらに有する、請求項に記載の液体吐出ヘッド。
  8. 前記循環支流路形成層と前記圧力室形成層との間に積層され、前記供給支流路を前記圧力室に連通させ断面積が前記供給支流路よりも小さな供給絞り流路と、前記回収支流路を前記圧力室に連通させ断面積が前記回収支流路よりも小さな回収絞り流路とが形成された絞り流路形成層をさらに有する、請求項7に記載の液体吐出ヘッド。
  9. 液体を吐出する複数の吐出口と、液体を前記複数の吐出口から吐出するためのエネルギーを発生する複数のエネルギー発生手段とを備える液体吐出ヘッドであって、
    前記複数のエネルギー発生手段に対向し、前記複数のエネルギー発生手段に電気的に接続される複数の配線と、前記複数の吐出口に液体を供給するための第1の貫通流路と、前記複数の吐出口から吐出されなかった液体を回収するための第2の貫通流路と、が形成された配線パターン形成層を備え、
    前記第1の貫通流路または前記第2の貫通流路の何れか一方の開口部の面積が他方の開口部の面積よりも大きい、ことを特徴とする液体吐出ヘッド。
  10. 請求項1から9のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドを複数備える液体吐出装置。
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