JP6460944B2 - 被測定物の位置姿勢測定方法 - Google Patents
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Description
図1は、第1実施形態における形状計測装置の一例を示す図である。第1実施形態では、透過照明を用いた形状計測装置において、形状測定データの繋ぎ合せを行い、被測定物の被測定領域を拡大する場合の説明を行う。光源1は、コヒーレント又はインコヒーレントな光源であり、例えばレーザやLED、ランプなどである。光源1から射出される光束を被測定物3の底面から照射することで、画像データを取得する。光源1から射出された光束は、ガラスや拡散板でできたガラスや拡散板でできた搭載台2の上に載置された被測定物3に照射される。搭載台2は、被測定物3を測定位置まで移動させる為、搭載台2駆動する駆動部6を備える。被測定物3によって遮られなかった光束は、対物レンズ4a、結像レンズ4bを経て、二次元撮像素子5に入光し、被測定物3の輪郭形状が光強度画像データ(2次元データ)として取得される。そして、制御・解析部7において、二次元撮像素子5にて取得した光強度画像データを基に、記憶部8に事前に保存されていた被測定物の形状情報とのパターンマッチングを行い、被測定物3の位置姿勢を測定する。
図7は、第2実施形態における形状計測装置の一例を示す図である。第2実施形態では、落射照明を用いた形状計測装置において、形状測定データの繋ぎ合せを行い、被測定物の被測定領域を拡大する場合の説明を行う。光源9はコヒーレントな光源であり、例えばレーザなどである。光源9から射出される光束は拡大レンズ10aで光束を拡大し、コリメートレンズ10bにて平行光束にされ、ビームスプリッタ11により参照面12に向かう光束と、被測定物13とに向かう光束とに分割される。まず、参照面12に向かう光束は、参照面12にて反射され参照光として再度ビームスプリッタ11に戻る。一方、被測定物13に向かう光束は、搭載台14に載置された被測定物13に照射される。ここで搭載台14は、被測定物13を測定位置まで移動させる為、搭載台14駆動する駆動部15を備える。その後、被測定物13に向かった光束は、被測定物13で反射され、被検光として再度ビームスプリッタ11に戻り、参照面12から反射された参照光と干渉を起こし、結像レンズ10c及び結像レンズ10dを経て二次元撮像素子16上に干渉縞を形成する。参照面12を制御・解析部17にて微小に移動させながら干渉縞を複数枚取得し、得られた複数枚の画像から被測定物13の輪郭や高さ形状を測定する。高さは、光量の違いから測定できる。記憶部18には、事前に登録された被測定物の形状が保存されており、また、形状測定データも保存される。
図9は、第3実施形態における形状計測装置の一例を示す図である。第3実施例では、透過照明を用いた形状計測装置において、測定光学系の倍率を変更し、測定範囲を広げることにより被測定物の被測定領域を拡大する場合の説明を行う。図9の装置を構成するものは、基本的に図1と同じである。しかし、ズーム光学系4cが追加されており、ズーム光学系による倍率変更により、輪郭形状を測定する範囲を拡大する点が第1実施形態と異なる。各部の機能も図1と同様である。図1と異なる点は、ズーム光学系4cが制御・解析部7とつながれており、位置姿勢判別結果を基に制御・解析部7によりズーム光学系4cを駆動して測定範囲を拡大しながら測定を行うことである。これにより、被測定物の被測定領域を拡大しながら被測定物の位置姿勢を測定する。
図12は、第4実施形態における形状計測装置の一例を示す図である。第4実施形態は、落射照明を用いた形状計測装置において、測定光学系の倍率を変更し、測定範囲を広げることにより被測定物の被測定領域を拡大する場合の説明を行う。図12の装置を構成するものは基本的に図7と同じである。しかしズーム光学系10eが追加されており、ズーム光学系により倍率変更により測定範囲を広げることにより被測定物の被測定領域を拡大する点が第2実施形態と異なる。また各部の機能も図7と同様である。図7と異なる点は、ズーム光学系10eが制御・解析部7とつながれており、位置姿勢判別結果を基に制御・解析部17がズーム光学系10eを駆動して測定範囲を広げながら測定を行い、被測定物の位置姿勢を測定する点である。
2 搭載台
3 被測定物
4a 対物レンズ
4b 結像レンズ
5 撮像素子
6 搭載台駆動部
7 制御・解析部
8 記憶部
Claims (12)
- 被測定物の位置および姿勢を測定する測定方法であって、
光が照射された前記被測定物を撮像して得られる画像データに基づく形状測定データを取得する測定工程と、
前記測定工程で取得した前記形状測定データと、事前に取得した前記被測定物の形状情報との相関度が所定の閾値を超えるか否かを判定する判定工程と、
前記相関度が前記所定の閾値を超えると判定された場合に、前記測定工程で取得した形状測定データを用いて被測定物の位置および姿勢を求める工程と、を有し、
前記判定工程において前記相関度が前記所定の閾値を超えないと判定された場合、
前記被測定物の測定領域を変更して、光が照射された前記被測定物を撮像して得られる画像データに基づく形状測定データを取得し、
前記測定領域の変更前に得られた形状測定データと前記測定領域の変更後に得られた形状測定データとを合わせた形状測定データと、事前に取得した前記被測定物の形状情報との相関度が所定の閾値を超えるか否かを判定する、ことを特徴とする測定方法。 - 前記形状情報は前記被測定物の3次元設計形状データ又は被測定物の形状測定結果であることを特徴とする請求項1に記載の測定方法。
- 前記画像データの外周部に、前記被測定物と前記被測定物を載置する搭載台との境界が存在するか否かを判定し、
前記境界が存在すると判定された場合、前記被測定物の輪郭が連続する方向に前記測定領域を変更する
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の測定方法。 - 前記境界は、光強度が大きく変わる箇所である
ことを特徴とする請求項3に記載の測定方法。 - 前記変更は、前記被測定物を撮像する撮像手段および前記被測定物のうち少なくともひとつを移動させて行うことを特徴とする請求項3または請求項4に記載の測定方法。
- 前記変更は、前記測定領域の変更前の画像データの一部と前記測定領域の変更後の画像データの一部とが重なるように行われる
ことを特徴とする請求項3乃至5のうちいずれか1項に記載の測定方法。 - 前記被測定物の輪郭が連続する方向は、
前記被測定物を透過照明で測定する場合、前記画像データの外周部において、光強度が低い画素が存在する方向である、
ことを特徴とする請求項3乃至6のうちいずれか1項に記載の測定方法。 - 前記被測定物の輪郭が連続する方向は、
前記被測定物を落射照明で測定する場合、前記画像データの外周部において、前記搭載台の反射率が前記被測定物の反射率よりも高い場合は光強度が低い画素が存在する方向、前記被測定物の反射率が前記搭載台の反射率よりも高い場合は光強度が高い画素が存在する方向である
ことを特徴とする請求項3乃至6のうちいずれか1項に記載の測定方法。 - 前記測定領域の変更前の測定データと、前記測定領域の変更後の測定データとを繋ぎ合せた画像データと、事前に取得した前記被測定物の形状情報との相関度が所定の閾値を超えるか否かを判定する
ことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の測定方法。 - 前記被測定物を透過照明で測定する場合、取得される測定データは2次元データである、
ことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の測定方法。 - 前記被測定物を落射照明で測定する場合、取得される測定データは3次元データである
ことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の測定方法。 - 前記境界が存在しないと判定された場合、所定の方向に前記測定領域を変更する
ことを特徴とする請求項3乃至8のうちいずれか1項に記載の測定方法。
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