JP6460944B2 - 被測定物の位置姿勢測定方法 - Google Patents

被測定物の位置姿勢測定方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6460944B2
JP6460944B2 JP2015176410A JP2015176410A JP6460944B2 JP 6460944 B2 JP6460944 B2 JP 6460944B2 JP 2015176410 A JP2015176410 A JP 2015176410A JP 2015176410 A JP2015176410 A JP 2015176410A JP 6460944 B2 JP6460944 B2 JP 6460944B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measurement
measured
shape
orientation
data
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2015176410A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017053670A (ja
JP2017053670A5 (ja
Inventor
匡貴 中島
匡貴 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2015176410A priority Critical patent/JP6460944B2/ja
Publication of JP2017053670A publication Critical patent/JP2017053670A/ja
Publication of JP2017053670A5 publication Critical patent/JP2017053670A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6460944B2 publication Critical patent/JP6460944B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

本発明は、被測定物の位置姿勢測定方法に関する。
照明手段と撮像手段とを備えた測定装置を用いて、照明手段により光が照射された被測定物を撮像手段で撮像して得られた測定データと、被測定物の設計値情報とをマッチングすることで、被測定物の位置および姿勢を測定する方法がある。ひとつの測定データに基づくマッチングから位置および姿勢を測定できない場合、撮像位置を移動させ、複数の撮像位置で得られた各測定データに対しマッチングを行う方法がある。特許文献1は、撮像位置の移動方向および撮像回数(マッチング回数)を予め定めておく測定方法を開示している。
特開平5−12421号公報
しかしながら、特許文献1に開示された方法においては、被測定物の位置および姿勢の測定が完了する前に撮像回数が規定の回数に達してしまう場合がある。また、予め定めた撮像位置の移動方向によっては、移動前後で得られた測定データをマッチングできない場合がある。この場合は、マッチングが可能な撮像位置になるまで移動と撮像を繰り返すことになり、測定効率の点で不利になる。
そこで、本発明は、例えば、被測定物の位置および姿勢の測定効率の点で有利な位置姿勢測定方法を提供することを目的とする。
記課題を解決するために、本発明は、被測定物の位置および姿勢を測定する測定方法を提供する。測定方法は、光が照射された前記被測定物を撮像して得られる画像データに基づく形状測定データを取得する測定工程と、前記測定工程で取得した前記形状測定データと、事前に取得した前記被測定物の形状情報との相関度が所定の閾値を超えるか否かを判定する判定工程と、前記相関度が前記所定の閾値を超えると判定された場合に、前記測定工程で取得した形状測定データを用いて被測定物の位置および姿勢を求める工程と、を有する。前記判定工程において前記相関度が前記所定の閾値を超えないと判定された場合、前記被測定物の測定領域を変更して、光が照射された前記被測定物を撮像して得られる画像データに基づく形状測定データを取得し、前記測定領域の変更前に得られた形状測定データと前記測定領域の変更後に得られた形状測定データとを合わせた形状測定データと、事前に取得した前記被測定物の形状情報との相関度が所定の閾値を超えるか否かを判定する。
本発明によれば、例えば、被測定物の位置および姿勢の測定効率の点で有利な位置姿勢測定方法を提供することができる。
第1実施形態の形状計測装置を示した図である。 第1実施形態の位置姿勢測定工程フローを示した図である。 被測定物と搭載台の境界について示した図である。 被測定物が連続する方向について示した図である。 測定位置移動前後における共通領域について示した図である。 測定データに被測定物と搭載台の境界が無い場合について示した図である。 第2実施形態の形状計測装置を示した図である。 第2実施形態の位置姿勢測定工程フローを示した図である。 第2実施形態の測定領域の拡大について示した図である。 第3実施形態の形状計測装置を示した図である。 第3実施形態の位置姿勢測定工程フローを示した図である。 第4実施形態の形状計測装置を示した図である。 第4実施形態の位置姿勢測定工程フローを示した図である。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態における形状計測装置の一例を示す図である。第1実施形態では、透過照明を用いた形状計測装置において、形状測定データの繋ぎ合せを行い、被測定物の被測定領域を拡大する場合の説明を行う。光源1は、コヒーレント又はインコヒーレントな光源であり、例えばレーザやLED、ランプなどである。光源1から射出される光束を被測定物3の底面から照射することで、画像データを取得する。光源1から射出された光束は、ガラスや拡散板でできたガラスや拡散板でできた搭載台2の上に載置された被測定物3に照射される。搭載台2は、被測定物3を測定位置まで移動させる為、搭載台2駆動する駆動部6を備える。被測定物3によって遮られなかった光束は、対物レンズ4a、結像レンズ4bを経て、二次元撮像素子5に入光し、被測定物3の輪郭形状が光強度画像データ(2次元データ)として取得される。そして、制御・解析部7において、二次元撮像素子5にて取得した光強度画像データを基に、記憶部8に事前に保存されていた被測定物の形状情報とのパターンマッチングを行い、被測定物3の位置姿勢を測定する。
図2に第1位実施形態の位置姿勢測定方法のフローを示す。S101にて、被測定物の輪郭形状を測定する。光源1により被測定物3を底面から照明して、二次元撮像素子5により被測定物3をある撮像範囲で撮像し、被測定物3の輪郭形状を光強度画像データ(形状測定データ)として取得し、光強度画像情報を記憶部8に保存する。S102において、制御・解析部7にて、形状測定データと記憶部8に以前に登録された被測定物の形状とを照合し、被測定物3の位置姿勢を判別する。S101にて得られた形状測定データと、記憶部8に事前に登録された被測定物の形状情報のある一部のデータとの相関度を計算する。記憶部8に事前に登録された被測定物のデータは、例えば、CADデータなどの3次元設計形状データや被測定物全体の形状測定結果である。相関度を計算する領域を変更しながらこの計算を繰り返し行い、相関度が位置姿勢を特定する為に十分な値を超え、且つ最も高くなる被測定物の領域と方位情報を算出する。そして、被測定物の形状情報と相関度が最も高い領域と方位情報が、閾値を越えるか否かで被測定物の位置姿勢情報を判定する。この時点で、被測定物3の位置姿勢が測定できた場合は処理を終了する。
S102にて十分な相関度が得られず、被測定物3の位置姿勢が測定できなかった場合は、S103に進む。S103では、制御・解析部7にて、S101にて得られた形状測定データの外周部に被測定物3と搭載台2の境界が存在するかを判定する(境界判定)。図3(A)の領域31が、S101において二次元撮像素子5によって撮像される測定範囲である。図3(B)に示すように、二次元撮像素子5によって取得された形状測定データ(画像)の外周部の画素において、微分フィルタ等を適用することによりエッジ判定を行い、被測定物と搭載台との境界が存在するかを判定する。領域32に示すように、被測定物3と搭載台2との境界は、光強度が大きく変わる箇所に存在するため、形状測定データの外周部の画素において、光強度が大きく変わる箇所が存在するか判定する。
S103にて、形状測定データの外周部に被測定物と搭載台の境界が存在する場合、S104に進む。S104では、制御・解析部7にて、被測定物3と搭載台2との境界の位置から被測定物の連続する方向を認識し、駆動部6により、被測定物が連続する方向に搭載台2を駆動して、被測定物3の測定位置(測定範囲)を移動させる。ここで被測定物が連続する方向は、S103にて判定した形状測定データ外周部における被測定物と搭載台の境界の向き及び形状測定データにおける光強度情報から認識する。
図4に示すように、被測定物3と搭載台の境界(領域32)が存在する画素が分かれば、被測定物3の輪郭が連続する方向が分かる。また、透過照明による測定では、光強度が低い部分が被測定物に相当するので、形状測定データの外周部において光強度が低い画素が存在する方向が、被測定物が連続する方向となる。そのため、輪郭が連続する方向も考慮して被測定物が連続する方向を認識することができる。
また、被測定物3の測定位置を移動させる際には、繋ぎ合せ後の輪郭形状に切れ目がないようにする為に、共通領域を持つように測定位置を変更させることが望ましい。具体的には、図5の格子線領域55のように、変更前の被測定領域と変更後の被測定領域において共通領域を持つように測定位置を変更させることが望ましい。さらに、第1実施形態では搭載台2を駆動させて測定位置の移動を行っているが、対物レンズ4aや撮像素子5等を含む測定系を駆動して測定位置を移動させてもよい。
またS103にて、図6(A)に示すように測定領域61にまったく被測定物3が存在しない、また図6(B)に示すように測定領域61全域に被測定物3が存在するなどして、形状測定データの外周部に被測定物と搭載台の境界が存在しない場合、S105に進む。S105において、駆動部6により搭載台2を駆動し測定位置を所定の方向に移動させる。この時移動させる方向は、予め設定しておいても、その都度ランダムに決定してもよい。ここでもS104と同様に対物レンズ4aや撮像素子5等を含む測定系を駆動して測定位置を移動させてもよい。
次に、S106にてS101と同様に被測定物の輪郭形状を測定する。光源1にて被測定物3を底面から照明して、被測定物3の輪郭形状を光強度画像データとして取得し、光強度画像を記憶部8に保存する。次に、S107にて形状測定データを繋ぎ合せる。S101とS106にて得られた形状測定データを繋ぎ合せ、被測定物の被測定領域を拡大する。ここでS101とS106にて得られる形状測定データは、被測定物3を底面から照明して被測定物3の輪郭形状を光強度画像として取得したものであり、被測定物3の影を光強度画像データとして捉えている。そこでS105にて被測定物3の測定位置を移動させた移動量を基に、S101とS106で取得した形状測定データの相対位置関係を算出し、被測定物3の影を繋ぎ合せる。
図5において、S101における形状測定データの測定範囲は領域51、S106における形状測定データの測定範囲は領域53である。S101の測定範囲における被測定物3の被測定領域(格子線部と右下がり斜線部の和)は、格子線領域55と斜線領域52の和である。一方、S106の測定範囲における被測定物3の被測定領域(格子線部と右上がり斜線部の和)は、格子線領域55と斜線領域54の和である。形状測定データを繋ぎ合せることにより、S101の測定範囲における被測定物3の被測定領域(格子線領域55と斜線領域52の和)に対して右上がり斜線部(斜線領域54)の領域が追加され、被測定物の被測定領域が拡大されることとなる。
次にS108において、S107にて被測定領域を拡大した形状測定データを用いて、制御・解析部7にて、形状測定データと記憶部8に事前に登録された被測定物の形状とを照合し、再度被測定物3の位置姿勢の判別を行う。複数の形状測定データを繋ぎ合せることにより、被測定領域を拡大することができ、より広範囲にわたって形状情報との相関を算出することが可能となり、被測定物3の位置姿勢を測定できる可能性が高まる。それでも被測定物3の位置姿勢が測定できない場合は再度S103からS107を繰り返し、更なる被測定領域の拡大を行う。これを、S108にて被測定物3の位置姿勢を測定できるまで繰り返す。これによりエラーがなく、余分な測定を繰り返すことなく被測定物3の位置姿勢を測定することができる。
(第2実施形態)
図7は、第2実施形態における形状計測装置の一例を示す図である。第2実施形態では、落射照明を用いた形状計測装置において、形状測定データの繋ぎ合せを行い、被測定物の被測定領域を拡大する場合の説明を行う。光源9はコヒーレントな光源であり、例えばレーザなどである。光源9から射出される光束は拡大レンズ10aで光束を拡大し、コリメートレンズ10bにて平行光束にされ、ビームスプリッタ11により参照面12に向かう光束と、被測定物13とに向かう光束とに分割される。まず、参照面12に向かう光束は、参照面12にて反射され参照光として再度ビームスプリッタ11に戻る。一方、被測定物13に向かう光束は、搭載台14に載置された被測定物13に照射される。ここで搭載台14は、被測定物13を測定位置まで移動させる為、搭載台14駆動する駆動部15を備える。その後、被測定物13に向かった光束は、被測定物13で反射され、被検光として再度ビームスプリッタ11に戻り、参照面12から反射された参照光と干渉を起こし、結像レンズ10c及び結像レンズ10dを経て二次元撮像素子16上に干渉縞を形成する。参照面12を制御・解析部17にて微小に移動させながら干渉縞を複数枚取得し、得られた複数枚の画像から被測定物13の輪郭や高さ形状を測定する。高さは、光量の違いから測定できる。記憶部18には、事前に登録された被測定物の形状が保存されており、また、形状測定データも保存される。
図8に第2位実施形態の位置姿勢測定方法のフローを示す。S201にて被測定物の落射照明により被測定物の形状測定を行う。光源9にて被測定物13を照明し、制御・解析部17にて、参照面12を移動させながら干渉縞を取得し、4バケット法等の方法を用いて被測定物13の輪郭や高さ形状を測定する。そして、得られた形状測定データを記憶部18に保存する。形状測定データは、輪郭と高さをあわせた3次元データであってもよいし、輪郭と高さを個別に扱ったデータでもよい。
S202において、制御・解析部17は、形状測定データと記憶部18に事前に登録された被測定物の形状と照合し、被測定物13の位置姿勢を判別する。第1実施形態のS102と同様に相関度を計算し、閾値を越えるか否かで被測定物13の位置姿勢の測定を行う。また第2実施形態では第1実施形態と比較して、輪郭形状に追加して被測定物の高さ情報を取得する事ができる。そこで相関度を計算する際に輪郭形状のみならず高さ情報も考慮することにより、被測定物13の位置姿勢を測定できる可能性が高くなる。この時点で被測定物13の位置姿勢が判定できた場合は処理を終了する。
S202にて十分な相関が得られず、被測定物13の位置姿勢が判定できなかった場合、S203に進む。S203において、制御・解析部17は、形状測定データの外周部に被測定物13と搭載台14の境界が存在するかを判定する(境界判定)。具体的には、形状測定データの外周部の画素において、微分フィルタ等を適用することによりエッジ判定を行い、被測定物と搭載台との境界が存在するかを判定する。被測定物13と搭載台14との境界は、光強度が大きく変わる箇所に存在するため、形状測定データの外周部の画素において、光強度が大きく変わる箇所が存在するか判定する。このとき、被測定物自体の高さの差によっても、光強度が大きく変わる箇所が存在してしまう。しかし、第2位実施形態においては、高さを計測することができるため、光強度が大きく変わる箇所が被測定物13と搭載台14との境界であるか、被測定物13の高さの差によるものか区別できる。
S203にて形状測定データの外周部に被測定物と搭載台の境界が存在すると判定された場合、S204に進む。S204では第1実施形態のS104と同様に被測定物13が連続する方向を認識し、被測定物が連続する方向に駆動部15により搭載台14を駆動して測定位置を移動させる。ただし、第2実施形態では、落射照明による測定の為に、形状測定データ外周部において、搭載台14の反射率が被測定物13の反射率よりも高い場合は、光強度が低い画素が存在する方向が、被測定物が連続する方向である。反対に、被測定物13の反射率が搭載台14の反射率よりも高い場合は、光強度が高い画素が存在する方向が、被測定物が連続する方向となる。輪郭が連続する方向も考慮して被測定物が連続する方向を認識することができる。測定位置を移動させる際には繋ぎ合せ後の輪郭形状に切れ目がないように、また共通領域から各形状測定データの相対位置関係を算出する為に、共通領域を持つように測定位置を変更させることが望ましい。具体的には、図5の格子線領域55のように変更前の被測定領域と変更後の被測定領域において共通領域を持つように測定位置を移動させることが望ましい。また、第2実施形態でもビームスプリッタ11や撮像素子16等を含む測定系を駆動して測定位置を移動させてもよい。
またS203にて、図6(A)に示すように測定領域にまったく被測定物が存在しない、また図6(B)に示すように測定領域全域に被測定物が存在するなどして、形状測定データの外周部に被測定物と搭載台の境界が存在しないと判定された場合、S205に進む。S205にて、駆動部15により搭載台14を駆動し測定位置を所定の方向に移動させる。この時移動させる方向は予め設定しておいても、その都度ランダムに決定してもよい。ここでもS204と同様にビームスプリッタ11や撮像素子16等を含む測定系を駆動して測定位置を移動させてもよい。
S206にて、S201と同様に被測定物の形状を測定する。光源9にて被測定物13を照明し、参照面12を移動させながら干渉縞を取得し、4バケット法等の方法を用いて被測定物13の形状を測定する。そして形状測定データを記憶部18に保存する。S207にて、形状測定データを繋ぎ合せる。S201とS206にて得られた形状測定データを繋ぎ合せ、被測定物の被測定領域を拡大する。ここでS201とS206にて得られる形状測定データは被測定物13を上面から照明して4バケット法等の方法を用いて被測定物13の輪郭形状や高さを測定したものである。そこで、S205にて測定位置を移動させた移動量や、測定位置の変更前後の被測定領域におけるそれぞれの共通領域の高さ情報から相関が最も高くなる位置を算出するなどして、S201とS206で得られた形状測定データの相対位置関係を算出する。そして、被測定物13の輪郭形状及び高さ情報を繋ぎ合せ、被測定物13の被測定領域を拡大する。
S208において、S207にて被測定物の被測定領域を拡大した形状測定データを用いて、再度、被測定物13の位置姿勢の判別を行う。第1実施形態と同様に、S203からS207を、被測定物13の位置姿勢を測定できるまで繰り返す。これによりエラーがなく、余分な測定を繰り返すことなく被測定物13の位置姿勢を測定することができる。
(第3実施形態)
図9は、第3実施形態における形状計測装置の一例を示す図である。第3実施例では、透過照明を用いた形状計測装置において、測定光学系の倍率を変更し、測定範囲を広げることにより被測定物の被測定領域を拡大する場合の説明を行う。図9の装置を構成するものは、基本的に図1と同じである。しかし、ズーム光学系4cが追加されており、ズーム光学系による倍率変更により、輪郭形状を測定する範囲を拡大する点が第1実施形態と異なる。各部の機能も図1と同様である。図1と異なる点は、ズーム光学系4cが制御・解析部7とつながれており、位置姿勢判別結果を基に制御・解析部7によりズーム光学系4cを駆動して測定範囲を拡大しながら測定を行うことである。これにより、被測定物の被測定領域を拡大しながら被測定物の位置姿勢を測定する。
図10に、第3実施形態における測定方法を示す。S301は、図2のS101と同様である。被測定物の輪郭形状を測定する。光源1にて被測定物3を底面から照明して被測定物3の輪郭形状を光強度画像データとして取得し、光強度画像情報を記憶部8に保存する。次にS302は、図2のS102と同様である。制御・解析部7にてS301で得られた形状測定データと記憶部8に事前に登録された被測定物の形状と照合し、被測定物3の位置姿勢を判別する。具体的には、記憶部8に事前に登録された被測定物の形状情報のある一部のデータとの相関度を計算する。相関度を計算する領域を変更しながらこの計算を繰り返し行い、相関度が位置姿勢を特定する為に十分な値を超え、且つ最も高くなる被測定物の領域と方位情報を算出する。そして被測定物の形状情報と相関が最も高い領域と方位情報から、閾値を越えるか否かで被測定物の位置姿勢情報を判定する。この時点で被測定物3の位置姿勢が判定できた場合は処理を終了する。
S302にて被測定物3の位置姿勢が判定できなかった場合、S303にて制御・解析部7によりズーム光学系4cを駆動して測定倍率を変更し、図11に示すように測定範囲を広げることにより被測定物の被測定領域を拡大する。図11において、元の測定範囲が領域71であり、拡大した測定範囲が領域73である。また、元の測定範囲における被測定物3の被測定領域が格子領域72であり、拡大した測定範囲における被測定物3の被測定領域が格子領域72と斜線領域74の和である。
第3実施形態の測定においては、被測定物3の位置姿勢を測定するのみならず、被測定物の輪郭形状から被測定物の寸法を測定する目的がある。その為、測定の際は高倍率で測定を行い、高精細なデータを取得することが望ましい。そこで第3実施形態の工程フローでは、一度目の形状測定データで被測定物の位置姿勢を測定できる場合を考慮し、始めに高倍率で測定を行い、その形状測定データを用いて被測定物の位置姿勢が判定できない場合にズーム光学系の倍率を下げて測定を行う。そして、拡大した被測定領域において再度301の測定とS302の位置姿勢判別を行い、被測定物3の位置姿勢を測定する。これを被測定物3の位置姿勢を測定できるまで測定範囲を広げ、被測定領域を拡大しながら繰り返し行う。また、被測定領域を拡大と併せて、搭載台2や、対物レンズ4aや撮像素子5等を含む測定系を駆動して測定位置を変更させてもよい。倍率を下げて被測定領域を拡大していくことが望ましいが、それに限られず、倍率を上げて被測定領域を縮小することも可能である。
これにより、エラーがなく、余分な測定を繰り返すことなく被測定物3の位置姿勢を測定することができる。また判定した被測定物の位置姿勢を基にズーム光学系4cの倍率が最大の場合において被測定物の全体を包含するような測定位置座標を自動で算出する。そして算出した各位置で測定を行い、形状測定データを繋ぎ合せることで、高解像度で被測定物の全体を測定することができる。
(第4実施形態)
図12は、第4実施形態における形状計測装置の一例を示す図である。第4実施形態は、落射照明を用いた形状計測装置において、測定光学系の倍率を変更し、測定範囲を広げることにより被測定物の被測定領域を拡大する場合の説明を行う。図12の装置を構成するものは基本的に図7と同じである。しかしズーム光学系10eが追加されており、ズーム光学系により倍率変更により測定範囲を広げることにより被測定物の被測定領域を拡大する点が第2実施形態と異なる。また各部の機能も図7と同様である。図7と異なる点は、ズーム光学系10eが制御・解析部7とつながれており、位置姿勢判別結果を基に制御・解析部17がズーム光学系10eを駆動して測定範囲を広げながら測定を行い、被測定物の位置姿勢を測定する点である。
図13に、第4実施形態における測定方法を示す。S401は、図8のS201と同様である。被測定物の落射照明により被測定物の形状測定を行う。光源9にて被測定物13を照明し、参照面12を移動させながら干渉縞を取得し、4バケット法等の方法を用いて被測定物13の輪郭形状及び高さ形状を測定する。そして形状測定データを記憶部18に保存する。形状測定データは、輪郭と高さをあわせた3次元データであってもよいし、輪郭と高さを個別に扱ったデータでもよい。
S402は、図8のS202と同様である。制御・解析部17にてS401で得られた形状測定データと記憶部18に事前に登録された被測定物の形状と照合し、被測定物13の位置姿勢を判別する。具体的には、記憶部18に事前に登録された被測定物の形状情報のある一部のデータとの相関度を計算する。相関度を計算する領域を変更しながらこの計算を繰り返し行い、相関度が位置姿勢を特定する為に十分な値を超え、且つ最も高くなる被測定物の領域と方位情報を算出する。そして被測定物の形状情報と相関度が最も高い領域と方位情報から、閾値を越えるか否かで被測定物の位置姿勢情報を判定する。この時点で被測定物13の位置姿勢が判定できた場合は処理を終了する。
S402にて被測定物13の位置姿勢が判定できなかった場合、S403にて、制御・解析部17によりズーム光学系10eを駆動して測定倍率を変更し、図11に示すように測定範囲を広げる。そして、測定範囲を広げることにより拡大した被測定領域において再度401の測定とS402の位置姿勢判別を行い、被測定物13の位置姿勢を測定する。これを被測定物13の位置姿勢を測定できるまで、被測定領域を拡大しながら繰り返し行う。
これによりエラーがなく、余分な測定を繰り返すことなく被測定物13の位置姿勢を測定することができる。また判定した被測定物の位置姿勢を基にズーム光学系10eの倍率が最大の場合において被測定物の全体を包含するような測定位置座標を自動で算出する。そして算出した各位置で測定を行い、形状測定データを繋ぎ合せることにより高解像度で被測定物の全体を測定することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
1 光源
2 搭載台
3 被測定物
4a 対物レンズ
4b 結像レンズ
5 撮像素子
6 搭載台駆動部
7 制御・解析部
8 記憶部

Claims (12)

  1. 被測定物の位置および姿勢を測定する測定方法であって、
    光が照射された前記被測定物を撮像して得られる画像データに基づく形状測定データを取得する測定工程と、
    前記測定工程で取得した前記形状測定データと、事前に取得した前記被測定物の形状情報との相関度が所定の閾値を超えるか否かを判定する判定工程と、
    前記相関度が前記所定の閾値を超えると判定された場合に、前記測定工程で取得した形状測定データを用いて被測定物の位置および姿勢を求める工程と、を有し、
    前記判定工程において前記相関度が前記所定の閾値を超えないと判定された場合、
    前記被測定物の測定領域を変更して、光が照射された前記被測定物を撮像して得られる画像データに基づく形状測定データを取得し、
    前記測定領域の変更前に得られた形状測定データと前記測定領域の変更後に得られた形状測定データとを合わせた形状測定データと、事前に取得した前記被測定物の形状情報との相関度が所定の閾値を超えるか否かを判定する、ことを特徴とする測定方法。
  2. 前記形状情報は前記被測定物の3次元設計形状データ又は被測定物の形状測定結果であることを特徴とする請求項1に記載の測定方法。
  3. 前記画像データの外周部に、前記被測定物と前記被測定物を載置する搭載台との境界が存在するか否かを判定し、
    前記境界が存在すると判定された場合、前記被測定物の輪郭が連続する方向に前記測定領域を変更する
    ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の測定方法。
  4. 前記境界は、光強度が大きく変わる箇所である
    ことを特徴とする請求項3に記載の測定方法。
  5. 前記変更は、前記被測定物を撮像する撮像手段および前記被測定物のうち少なくともひとつを移動させて行うことを特徴とする請求項3または請求項4に記載の測定方法。
  6. 前記変更は、前記測定領域の変更前の画像データの一部と前記測定領域の変更後の画像データの一部とが重なるように行われる
    ことを特徴とする請求項3乃至5のうちいずれか1項に記載の測定方法。
  7. 前記被測定物の輪郭が連続する方向は、
    前記被測定物を透過照明で測定する場合、前記画像データの外周部において、光強度が低い画素が存在する方向である、
    ことを特徴とする請求項3乃至6のうちいずれか1項に記載の測定方法。
  8. 前記被測定物の輪郭が連続する方向は、
    前記被測定物を落射照明で測定する場合、前記画像データの外周部において、前記搭載台の反射率が前記被測定物の反射率よりも高い場合は光強度が低い画素が存在する方向、前記被測定物の反射率が前記搭載台の反射率よりも高い場合は光強度が高い画素が存在する方向である
    ことを特徴とする請求項3乃至6のうちいずれか1項に記載の測定方法。
  9. 前記測定領域の変更前の測定データと、前記測定領域の変更後の測定データとを繋ぎ合せた画像データと、事前に取得した前記被測定物の形状情報との相関度が所定の閾値を超えるか否かを判定する
    ことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の測定方法。
  10. 前記被測定物を透過照明で測定する場合、取得される測定データは2次元データである、
    ことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の測定方法。
  11. 前記被測定物を落射照明で測定する場合、取得される測定データは3次元データである
    ことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の測定方法。
  12. 前記境界が存在しないと判定された場合、所定の方向に前記測定領域を変更する
    ことを特徴とする請求項3乃至のうちいずれか1項に記載の測定方法。
JP2015176410A 2015-09-08 2015-09-08 被測定物の位置姿勢測定方法 Expired - Fee Related JP6460944B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015176410A JP6460944B2 (ja) 2015-09-08 2015-09-08 被測定物の位置姿勢測定方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015176410A JP6460944B2 (ja) 2015-09-08 2015-09-08 被測定物の位置姿勢測定方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017053670A JP2017053670A (ja) 2017-03-16
JP2017053670A5 JP2017053670A5 (ja) 2018-09-13
JP6460944B2 true JP6460944B2 (ja) 2019-01-30

Family

ID=58320719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015176410A Expired - Fee Related JP6460944B2 (ja) 2015-09-08 2015-09-08 被測定物の位置姿勢測定方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6460944B2 (ja)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0512421A (ja) * 1991-07-08 1993-01-22 Rohm Co Ltd 画像認識手段による電子部品の位置検出装置
JP4487421B2 (ja) * 2000-12-27 2010-06-23 沖電気工業株式会社 帳票はみ出し検出装置
JP2008168372A (ja) * 2007-01-10 2008-07-24 Toyota Motor Corp ロボット装置及び形状認識方法
JP2010032331A (ja) * 2008-07-28 2010-02-12 Keyence Corp 画像計測装置及びコンピュータプログラム
JP5997989B2 (ja) * 2012-09-13 2016-09-28 株式会社キーエンス 画像測定装置、その制御方法及び画像測定装置用のプログラム

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017053670A (ja) 2017-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5001286B2 (ja) 対象物再構成方法およびシステム
EP2183544B1 (en) Non-contact measurement apparatus and method
US8416491B2 (en) Method and system for three-dimensional polarization-based confocal microscopy
EP2508871A1 (en) Inspection apparatus, measurement method for three-dimensional shape, and production method for structure
JP2013101045A (ja) 物品の3次元位置姿勢の認識装置及び認識方法
JPWO2006013635A1 (ja) 3次元形状計測方法及びその装置
JP2012013660A (ja) 点群データ処理装置、点群データ処理システム、点群データ処理方法、および点群データ処理プログラム
WO2012057284A1 (ja) 三次元形状測定装置、三次元形状測定方法、構造物の製造方法および構造物製造システム
JP6937482B2 (ja) 表面形状測定装置及びそのスティッチング測定方法
JP5385703B2 (ja) 検査装置、検査方法および検査プログラム
CN105306922A (zh) 一种深度相机参考图的获取方法和装置
JP2010048553A (ja) 複眼測距装置の検査方法およびそれに用いるチャート
JP7085725B2 (ja) 表面形状測定装置及び表面形状測定方法
US20170069110A1 (en) Shape measuring method
CN110836647B (zh) 三维扫描系统
WO2013035847A1 (ja) 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、形状測定プログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体
JP6460944B2 (ja) 被測定物の位置姿勢測定方法
JP6820516B2 (ja) 表面形状測定方法
JP2012093234A (ja) 三次元形状測定装置、三次元形状測定方法、構造物の製造方法および構造物製造システム
JP6820515B2 (ja) 表面形状測定装置及び表面形状測定方法
Van Wolputte et al. Embedded line scan image sensors: The low cost alternative for high speed imaging
JP2022031956A (ja) 走査範囲決定方法
JP2006003276A (ja) 3次元形状計測システム
JP7512839B2 (ja) 制御装置、ロボット、制御方法、プログラム
US12073506B2 (en) Methods, systems, and media for generating images of multiple sides of an object

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180731

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180731

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20180731

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20180817

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180828

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181029

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181127

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181225

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6460944

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees