JP6445755B2 - 面形状測定装置または波面収差測定装置 - Google Patents
面形状測定装置または波面収差測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6445755B2 JP6445755B2 JP2013185071A JP2013185071A JP6445755B2 JP 6445755 B2 JP6445755 B2 JP 6445755B2 JP 2013185071 A JP2013185071 A JP 2013185071A JP 2013185071 A JP2013185071 A JP 2013185071A JP 6445755 B2 JP6445755 B2 JP 6445755B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measured
- axis
- wavefront aberration
- surface shape
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
面形状測定装置とは、光源と、光を一部反射させ反射波と透過波に分けるビーム・スプリッタと、光源からのビーム・スプリッタで分けられた一方の光を被測定物に照射しその被測定物で反射され反射波を再び上記ビーム・スプリッタに戻す光学系と、光源からのビーム・スプリッタで分けられた他方の光である参照光と上記光学系を経てビーム・スプリッタに戻った光である物体光を重ね合わせる光学系と、上記重ね合わされた光を受光する光電変換素子および信号分析手段を備え、平面、球面、回転楕円面等の基準形状を持つ第1の面原器を有し、第1の面原器を通過した波が被測定物で反射されて再び第1の面原器に戻るときの光路差の異同に基づいて、光を反射する物体、例えば、カメラ用レンズ、半導体露光装置の光学系レンズ、内視鏡光学系、コンパクトディスクの光学系、X線照射光学系、或いはベアリングのボール等の形状が面原器の基準形状とどの程度一致するか或いは異なるかを測定する装置である。
一方、波面収差測定装置とは、面形状測定装置とほぼ同じ光学的構成を有し、面形状測定装置における被測定物としてレンズ等の透過光学系と第2の面原器反射鏡の組み合わせからなる被測定物ユニットを置いたもので、第1の面原器を通り被測定物ユニットに照射された光がその透過光学系を透過しその第2の面原器反射鏡で反射され再びその透過光学系を経て再び第1の面原器に戻るときの光路差の異同に基づいて、レンズ等の透過光学系の波面収差を測定する装置である。
図5は、球面測定の場合の光学レイアウトを示す。フィゾー干渉計ヘッド101の内部には、可干渉性をもつ光源であるレーザ102を配置している。レーザ102から出る光ビームを発散させる発散レンズ103を介し発散光をつくり、その光をビーム・スプリッタ104で反射させ、コリメータレンズ105で平行な光にする。その平行な光を透過球面原器106に入射させる。その透過球面原器106は集光点107に集光する。透過球面原器106の最終面(出射面)はその集光点107を曲率中心とする凹面(原器面108)に形成してある。光は第1の面原器であるその凹面で一部反射し戻る。この反射光が基準の参照光となる。原器面108を透過した光は、集光点107に向かう。被測定レンズ109の球面の曲率中心が集光点107と一致していると、集光点107を通過した光はその球面に垂直に光を入射する。従って、そこで反射した光は元の経路を辿って戻る。これを物体光と称する。物体光は参照光と干渉する。その干渉した光は透過球面原器106とコリメータレンズ105を透過し、ビーム・スプリッタ104を透過し、ミラー110と結像レンズ111を介し、光電変換素子である撮像素子112にその干渉した光を結像させる。
波面収差測定の場合も上記面形状測定の場合とほぼ同じである。ただ、被測定物が透過性光学系である点が異なる。この被測定物である透過性光学系の下側に反射鏡が固定され、被測定物である透過性光学系とその反射鏡が一体となって被測定物ユニットを形成する。フィゾー干渉計ヘッド側から集光点を通って入射した光は被測定物である透過性光学系を透過し、その反射鏡で反射され、再び被測定物である透過性光学系を透過し、集光点と原器面108を通って物体光となり、参照光と重ねあわされる。種々の方向での集光点と反射鏡を往復する光路の異同から波面収差が測定される。
波面収差測定の場合も同様に、原器面の中心と、被測定物である透過性光学系の入射側の焦点が完全に一致していることが、波面収差測定の前提条件である。
図6は、円筒面測定の場合の光学レイアウトを示し、(a)は正面図、(b)は側面図である。図6において図5のフィゾー干渉計ヘッド101の中の透過球面原器106に替えて、透過円筒原器(もしくは透過平面原器)113を配置し、被測定レンズ109の円筒面や平面に光を垂直に入射させる。円筒の場合、集光する位置は点でなく線となる。その線を以下、集光線と呼ぶ。
なお、平面測定の場合は、単にあおりまたは回転機構のみで、参照光と物体光を干渉させることができる。
D=2・R・sin(α)
従って、被測定レンズ109の口径が前述のDより大きい場合は、一回の測定で被測定レンズの全体を測定できない。前述の干渉ヘッド101と被測定レンズ109の相対位置を調整するには、一般に被測定レンズ109を、直交座標であるX,Y,Z軸に平行に移動する。これは透過球面原器106の焦点と被測定レンズ109の曲率中心点を合致させるためには、単に平行移動で可能であるからである。ただ図5のZ方向(フォーカス方向)を除き、X,Y移動の代わりに、X軸まわりやY軸まわりの回転またはあおり機構でも調整可能である。被測定レンズ109の口径が前述のDより大きい場合は、公知例で示したように、平行移動以外に、あおりや回転機構を必要とする。
そこで導入された技術が、測定領域のつなぎ合わせ(スティッチングとかサブアパーチャースティッチングとも言われる)であり、以下の公知例がある。
更に紫外域レーザを用いる場合、光学系レンズで用いられる硝材は紫外線の吸収が少なく他の光学硝材と比較して透過率が高く高解像度が得られるフッ化カルシウム(蛍石)が有効に用いられる。フッ化カルシウム(CaF2)は紫外線から赤外線(250nm〜7μm)において低屈折率で90%以上の高透過率を持つ材料で、潮解性も非常に少なく取扱いが容易な結晶で、光学的には等方な結晶である。そのため、フッ化カルシウムは、紫外域レーザ、例えばエキシマレーザ用の高透過材料として優れている。
具体的には、光源、光を一部反射させ反射波と透過波に分けるビーム・スプリッタ、光源からのビーム・スプリッタで分けられた一方の光を被測定物に照射しその被測定物側で反射された反射波を再び上記ビーム・スプリッタに戻して物体光とする光学系、光を受光する光電変換素子および信号分析手段を用いて、面形状を測定する面形状測定手段または波面収差を測定する波面収差測定手段と、被測定物を固定する被測定物固定手段とを備える面形状測定装置または波面収差測定装置において、
直交するX軸とY軸を規定する基準面を持つ架台を備え、
上記面形状測定手段または波面収差測定手段が、上記架台に相対的にY軸方向、および、X軸とY軸に垂直なZ軸方向に移動可能であることと、
上記被測定物固定手段が、上記架台に対してX軸方向に移動可能なX方向移動部と、上記X方向移動部に固定された第1の回転軸のまわりで回転可能な第1の回転部と、上記第1の回転部に固定された第2の回転軸のまわりで回転可能な第2の回転部とを備えることと、上記第2の回転部に結合可能である第1の被測定物固定部を備えることと、上記X方向移動部がY軸方向に移動可能なY方向移動部を備えることと、第1の球軸受けと第2の球軸受けとを備えることと、一端が上記第1の球軸受けを介して上記第2の回転部に結合可能であり他端が上記第2の球軸受けを介して上記Y方向移動部に結合可能である第2の被測定物固定部を備えることと、
上記第1の回転部の回転軸が上記Y軸に略平行であることと、上記第2の回転部の回転軸が上記第1の回転部の回転軸に略垂直であることと、上記第1の回転部が略90度回転可能であり、その回転により上記第2の回転部の軸の方向が上記Z軸方向に略平行な方向からX軸に略平行な方向まで変えられることと、
球面の被測定物について測定する際は、上記第1の被測定物固定部を上記第2の回転部に結合させた構成とし、平面または円筒面の被測定物について測定する際は、上記第2の被測定物固定部の一端を上記第1の球軸受けを介して上記第2の回転部に結合させ他端を上記第2の球軸受けを介して上記Y方向移動部に結合させた構成とすることを特徴とする、
面形状測定装置または波面収差測定装置によって解決された。
波面収差測定装置を実現するための、第1の被測定物固定部および第2の被測定物固定部、および波面収差測定手段の一つの実施形態を請求項3に示した。
面形状測定手段または波面収差測定手段をハルトマン・シャック装置で実現する一つの実施形態を請求項5に示した。
球面の被測定物について測定する際と、平面または円筒面の被測定物について測定する際に、測定されるべき部分を移動することについての、請求項1に記載の面形状測定装置または波面収差測定装置の使用方法を請求項8に示した。
(2)被測定物に広範囲の方向から光を照射して、被測定物を広範囲で測定することが容易になった。
但し、出射する光は波長の短い紫外域レーザ光、好ましくはArFレーザ(波長193nm)、KrFレーザ(波長248nm)などのエキシマレーザ光とし、該紫外域レーザ光を投射しかつ反射する光を基準光と干渉させ生ずる干渉縞を計測する光学干渉計とし、干渉縞形成までに用いられる光学系レンズの材料をフッ化カルシウムとしたものとすることが好ましい。他方、被測定物を実際に使用する際の波長の光を光源として用いることが好ましい場合もある。
フィゾー干渉計ヘッド1は、その図示しない架台に対してZ方向とY方向に移動可能であり、その移動した箇所に固定することができる。Y軸方向の移動にはY軸移動機構1aが使われ、Z軸方向の移動にはZ軸移動機構1bが使われる。Y軸移動機構1aおよびZ軸移動機構1bは、それぞれ、移動駆動手段、レーザ光測距装置やマグネスケール測長装置および制御装置を備え、所定の位置にフィゾー干渉計ヘッド1を導き、そこでロック(位置固定)できる。
但し、出射する光は波長の短い紫外域レーザ光、好ましくはArFレーザ(波長193nm)、KrFレーザ(波長248nm)などのエキシマレーザ光とし、該紫外域レーザ光を投射しかつ反射する光を基準光と干渉させ生ずる干渉縞を計測する光学干渉計とし、干渉縞形成までに用いられる光学系レンズの材料をフッ化カルシウムとしたものとすることが好ましい。他方、被測定物を実際に使用する際の波長の光を光源として用いることが好ましい場合もある。
先ず、測定の条件を決める。具体的には測定対象となるレンズ、すなわち被測定レンズの形状、移動機構の初期位置の変更、透過原器の条件、測定位置などを設定し、その条件に合うように工具(取り付け具、透過原器など)をセットし、各種移動機構、回転機構の初期位置や測定位置を予め設定する。
〔STEP2(レンズ取り付け)〕
被測定レンズを取り付け具に取り付ける。このとき被測定レンズに変形がなく、移動などで動かないようにしっかり固定する必要がある。
〔STEP3(移動)〕
X方向、Y方向、Z方向にフィゾー干渉計ヘッドと被測定レンズの相対的位置を移動させて、集光点と球面の中心を一致させたり、集光線と円筒面の中心線を一致させる。
〔STEP4(光学調整)〕
被測定レンズと干渉計の光学調整を行い、集光線と円筒面の中心線を一致させたり、測定面の測定領域を選択したりする。操作者が干渉縞を見ながら手動で調整するか、干渉縞の計測データから光学調整誤差、例えばフォーカス誤差やそのフォーカスと直交方向の誤差さらには回転誤差を計算してその誤差量に応じた量に従い移動機構又は回転機構を所定の位置に自動で動かすこともできる。
〔STEP5(干渉縞計測)〕
干渉縞の計測を行い、その測定範囲内の面形状を求める。つなぎ合わせで大口径全面を測定するときは、更に測定位置を動かして、同様に繰り返し干渉縞計測をする。つなぎ合わせ合わせの技術は従来技術に属するので説明は省略する。
〔STEP6(形状計算)〕
つなぎ合わせの計算などして、被測定レンズの全面の形状をもとめ、全面形状の3次元表示、ある所定の断面形状表示、全面での数値の極大と極小の差P−V(ピークと谷の差)などの数値結果、更には被測定レンズの規格値との差異から合否判定までを表示または記録をする。
ここで、被測定レンズ209の面形状の誤差に応じて、個々のマイクロレンズによる集光位置が変化する。即ち、被測定レンズ209面の微小範囲での光の傾き変化に応じて、集光位置は変化する。これは1種の微分であり、積分することで面の形状に換算できる。従って、ハルトマン・シャック光学系により面形状測定ができることになる。なお、結像レンズ227、集光レンズ230、コリメータレンズ232などの光学系レンズは、紫外線の吸収が少なく他の光学硝材と比較して透過率が高く高解像度が得られるフッ化カルシウム(蛍石)が用いられる。
図7の波面収差測定装置は、図1の面形状測定装置と同様に、フィゾー干渉計ヘッドを備え、被測定物をフィゾー干渉計ヘッドに対して相対的に移動可能かつ回転可能とする構造を有する。その移動および回転のための部材および構造は、図1のものと共通であるので、共通の部材に対しては同一の参照番号を付し、それらの部材の構造および動きについての説明は省略する。以下、主として、図1の面形状測定装置と異なる点を説明する。なお、フィゾー干渉計ヘッドは図5の従来技術のものと基本的には同じである。ただし、面形状測定と波面収差測定は測定目的が異なるので、得られたデータの分析過程は異なる。それぞれのデータ分析の手法は公知であり、設計選択の領域に属するので、説明は省略する。
1a Y軸移動機構
1b Z軸移動機構
2 X方向移動部
3 2段式回転機構
4 第1の回転部
5 第1の回転軸
6 第2の回転部
7 第2の回転軸
8 被測定物
9a 第1の被測定物固定部
9b 第2の被測定物固定部
10 集光点
11 Y方向移動部
12a 第1の球面軸受
12b 第2の球面軸受
20 被測定透過結像レンズ
21 凹面原器反射鏡
22 被測定物ユニット
30 第1のレンズ
31 第2レンズ
32 被測定アフォーカルレンズ
33 平面原器
34 被測定物ユニット
Claims (8)
- 光源、光を一部反射させ反射波と透過波に分けるビーム・スプリッタ、光源からのビーム・スプリッタで分けられた一方の光を被測定物に照射しその被測定物側で反射された反射波を再び上記ビーム・スプリッタに戻して物体光とする光学系、光を受光する光電変換素子および信号分析手段を用いて、面形状を測定する面形状測定手段または波面収差を測定する波面収差測定手段と、被測定物を固定する被測定物固定手段とを備える面形状測定装置または波面収差測定装置において、
直交するX軸とY軸を規定する基準面を持つ架台を備え、
上記面形状測定手段または波面収差測定手段が、上記架台に相対的にY軸方向、および、X軸とY軸に垂直なZ軸方向に移動可能であることと、
上記被測定物固定手段が、上記架台に対してX軸方向に移動可能なX方向移動部と、上記X方向移動部に固定された第1の回転軸のまわりで回転可能な第1の回転部と、上記第1の回転部に固定された第2の回転軸のまわりで回転可能な第2の回転部とを備えることと、上記第2の回転部に結合可能である第1の被測定物固定部を備えることと、上記X方向移動部がY軸方向に移動可能なY方向移動部を備えることと、第1の球軸受けと第2の球軸受けとを備えることと、一端が上記第1の球軸受けを介して上記第2の回転部に結合可能であり他端が上記第2の球軸受けを介して上記Y方向移動部に結合可能である第2の被測定物固定部を備えることと、
上記第1の回転部の回転軸が上記Y軸に略平行であることと、上記第2の回転部の回転軸が上記第1の回転部の回転軸に略垂直であることと、上記第1の回転部が略90度回転可能であり、その回転により上記第2の回転部の軸の方向が上記Z軸方向に略平行な方向からX軸に略平行な方向まで変えられることと、
球面の被測定物について測定する際は、上記第1の被測定物固定部を上記第2の回転部に結合させた構成とし、平面または円筒面の被測定物について測定する際は、上記第2の被測定物固定部の一端を上記第1の球軸受けを介して上記第2の回転部に結合させ他端を上記第2の球軸受けを介して上記Y方向移動部に結合させた構成とすることを特徴とする、
面形状測定装置または波面収差測定装置。
- 上記第1の被測定物固定部および上記第2の被測定物固定部が、光を反射する被測定物のためのものであることと、上記面形状測定手段が被測定物の外形の球面、平面、円筒面と基準の球面、平面、円筒面とを比較する面形状測定手段であることを特徴とする、請求項1に記載の面形状測定装置。
- 上記第1の被測定物固定部および上記第2の被測定物固定部が、被測定物を透過した光を反射しその光を入射時と同じ経路を辿って戻らせる反射鏡である凹面原器または平面原器または円筒面原器を備え、上記波面収差測定手段が上記被測定物を透過し上記凹面原器または平面原器または円筒面原器で反射されビーム・スプリッタに戻った光である物体光の波面収差を測定する波面収差測定手段であることを特徴とする、請求項1に記載の波面収差測定装置。
- 上記面形状測定手段または波面収差測定手段が、フィゾー干渉計、またはシアリング干渉計、または位相シフト干渉計、または垂直走査白色干渉計であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の面形状測定装置または波面収差測定装置。
- 上記面形状測定手段または波面収差測定手段が、ハルトマン・シャック装置であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の面形状測定装置または波面収差測定装置。
- 球面の被測定物について測定する際、上記第2の回転部に上記第1の被測定物固定部を取り付け、上記第1の被測定物固定部に被測定物を固定して、被測定物について測定し、
平面または円筒面の被測定物について測定する際、上記第1の回転部を回転して上記第2の回転軸の軸方向をX軸に略平行な方向に変え、第2の被測定物固定部の一端が第1の球面軸受けを介して上記第2の回転部に取り付けられ、他端が第2の球面軸受けを介して上記Y方向移動部に取り付けられ、上記第2の被測定物固定部に被測定物を固定して、被測定物について測定することを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の面形状測定装置または波面収差測定装置の使用方法。 - 平面または円筒面の被測定物について測定する際、被測定物のY軸まわりの方向を上記第1の回転部のY軸まわりの回転により微調整し、そしてX軸まわりの方向は上記第2の回転部のX軸まわりの回転により微調整し、Z軸まわりの方向を上記Y方向移動部のY軸方向移動で微調整することを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の面形状測定装置または波面収差測定装置の使用方法。
- 球面の被測定物について測定する際、上記第1の回転軸のまわりの第1の回転部の回転と、上記第2の回転軸のまわりの第2の回転部の回転を組み合わせて球面の測定されるべき部分を測定し、
平面の被測定物について測定する際、上記X方向移動部によりX方向に移動させ、上記Y方向移動部によりY方向に移動させて被測定物の測定されるべき部分を測定し、
円筒面の被測定物について測定する際、上記X方向移動部によりX方向に移動させること、上記第2の回転部を回転させることを組み合わせて被測定物の測定されるべき部分を測定することを特徴とする、請求項1〜5に記載の面形状測定装置または波面収差測定装置の使用方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013185071A JP6445755B2 (ja) | 2013-05-12 | 2013-09-06 | 面形状測定装置または波面収差測定装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013100806 | 2013-05-12 | ||
JP2013100806 | 2013-05-12 | ||
JP2013185071A JP6445755B2 (ja) | 2013-05-12 | 2013-09-06 | 面形状測定装置または波面収差測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014240826A JP2014240826A (ja) | 2014-12-25 |
JP6445755B2 true JP6445755B2 (ja) | 2018-12-26 |
Family
ID=52140140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013185071A Active JP6445755B2 (ja) | 2013-05-12 | 2013-09-06 | 面形状測定装置または波面収差測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6445755B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111442909A (zh) * | 2020-05-20 | 2020-07-24 | 北京理工大学 | 一种大口径工作台移相干涉透过波前测量装置及方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003057016A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Canon Inc | 高速大口径面形状測定方法および装置 |
JP2004286561A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Canon Inc | 3次元形状測定方法及び装置 |
JP2010117345A (ja) * | 2008-10-15 | 2010-05-27 | Fujinon Corp | 光波干渉測定装置 |
JP2010256320A (ja) * | 2009-02-09 | 2010-11-11 | Fujifilm Corp | 光波干渉測定装置 |
JP5442122B2 (ja) * | 2010-07-15 | 2014-03-12 | キヤノン株式会社 | 被検面の形状を計測する計測方法、計測装置及び光学素子の製造方法 |
JP5300929B2 (ja) * | 2011-07-22 | 2013-09-25 | キヤノン株式会社 | 測定方法、測定装置及びプログラム |
JP6232207B2 (ja) * | 2013-05-12 | 2017-11-15 | 夏目光学株式会社 | 面形状測定装置 |
-
2013
- 2013-09-06 JP JP2013185071A patent/JP6445755B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014240826A (ja) | 2014-12-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5690827B2 (ja) | 光学表面の形状を測定する方法及び干渉測定デバイス | |
US6456382B2 (en) | Interferometer that measures aspherical surfaces | |
US20130044332A1 (en) | Surface profile measurement apparatus and alignment method thereof and an improved sub-aperture measurement data acquisition method | |
US20100309458A1 (en) | Asphere measurement method and apparatus | |
JP6232207B2 (ja) | 面形状測定装置 | |
EP2549222B1 (en) | Use of an abscissa calibration jig, abscissa calibration method and laser interference measuring apparatus | |
JP2003057016A (ja) | 高速大口径面形状測定方法および装置 | |
US20220221269A1 (en) | Measuring apparatus for interferometrically determining a surface shape | |
JP2008089356A (ja) | 非球面測定用素子、該非球面測定用素子を用いた光波干渉測定装置と方法、非球面の形状補正方法、およびシステム誤差補正方法 | |
JP3598983B2 (ja) | 超精密形状測定方法及びその装置 | |
JP4434431B2 (ja) | 三次元形状測定装置 | |
KR20110065365A (ko) | 비구면체 측정 방법 및 장치 | |
US20230125524A1 (en) | Opto-electronic encoder with a ball lens | |
JP6445755B2 (ja) | 面形状測定装置または波面収差測定装置 | |
TWI614481B (zh) | 轉動角度量測裝置及加工系統 | |
JP2005201703A (ja) | 干渉測定方法及び干渉測定システム | |
US11333487B2 (en) | Common path mode fiber tip diffraction interferometer for wavefront measurement | |
US8743373B1 (en) | Metrology of optics with high aberrations | |
JP2010223775A (ja) | 干渉計 | |
JP2004525381A (ja) | 干渉計におけるコヒーレントアーティファクトの低減 | |
JP5793355B2 (ja) | 斜入射干渉計 | |
JP7289780B2 (ja) | 偏芯計測方法および偏芯計測装置 | |
Chen et al. | 3D profile measurement of a cylindrical surface with a multi-beam angle sensor | |
JP5434345B2 (ja) | 回転対称形状の超精密形状測定方法及びその装置 | |
JP3410902B2 (ja) | レンズ面偏心測定方法およびレンズ面偏心測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160804 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170822 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171019 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180410 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180607 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181127 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20181130 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6445755 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |