JP6442177B2 - Light emitting element - Google Patents
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Description
実施形態は、発光素子に関する。 Embodiments relate to a light emitting device.
半導体の3−5族または2−6族化合物半導体物質を用いた発光ダイオード(Light Emitting Diode)やレーザーダイオードのような発光素子は、薄膜成長技術及び素子材料の開発によって赤色、緑色、青色及び紫外線などの様々な色を具現することができ、蛍光物質を用いたり、色を組み合わせたりすることによって効率の良い白色光線も具現可能であり、蛍光灯、白熱灯などの既存の光源に比べて低消費電力、半永久的な寿命、速い応答速度、安全性、環境親和性などの長所を有する。 Light emitting devices such as light emitting diodes and laser diodes using a semiconductor group 3-5 or 2-6 compound semiconductor material are red, green, blue and ultraviolet rays due to the development of thin film growth technology and device materials. It is possible to implement various colors, such as fluorescent materials, and by combining colors, it is possible to implement efficient white light, which is lower than existing light sources such as fluorescent and incandescent lamps. It has advantages such as power consumption, semi-permanent lifetime, fast response speed, safety and environmental friendliness.
したがって、光通信手段の送信モジュール、LCD(Liquid Crystal Display)表示装置のバックライトを構成する冷陰極管(CCFL:Cold Cathode Fluorescence Lamp)を代替する発光ダイオードバックライト、蛍光灯や白熱電球を代替することができる白色発光ダイオード照明装置、自動車のヘッドライト及び信号灯にまでその応用が拡大されている。 Therefore, a transmission module of optical communication means, a light emitting diode backlight replacing a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) constituting a backlight of an LCD (Liquid Crystal Display) display device, a fluorescent lamp or an incandescent lamp is substituted. Its application has been extended to white light-emitting diode illuminating devices, automobile headlights and signal lights.
直列または並列接続された複数個の発光セルを含む発光素子には、隣接する発光セル間を電気的に接続するブリッジ電極(bridge electrode)が存在する。複数個の発光セルを含む発光素子においては、発光素子の作動時に、狭い面積のブリッジ電極に電流が集中しながらブリッジ電極が焦げてしまうなどの信頼性問題が生じることもある。 A light emitting element including a plurality of light emitting cells connected in series or in parallel has a bridge electrode that electrically connects adjacent light emitting cells. In a light-emitting element including a plurality of light-emitting cells, there may be a problem of reliability such that the current is concentrated on a bridge electrode having a small area and the bridge electrode is burnt when the light-emitting element is operated.
実施形態は、信頼性が向上した発光素子を提供しようとする。 Embodiments seek to provide a light emitting device with improved reliability.
一実施形態に係る発光素子は、複数個の発光セルと;隣接する2つの発光セルを電気的に接続するブリッジ電極と;を含み、前記複数個の発光セルは、第1導電型半導体層、第2導電型半導体層、前記第1導電型半導体層と前記第2導電型半導体層との間の活性層を含む発光構造物と、前記第1導電型半導体層上の第1電極と、前記第2導電型半導体層上の第2電極とをそれぞれ含み、前記ブリッジ電極は、前記第1電極または前記第2電極よりも厚い部分を有する。 A light emitting device according to an embodiment includes a plurality of light emitting cells; and a bridge electrode that electrically connects two adjacent light emitting cells, wherein the plurality of light emitting cells includes a first conductive semiconductor layer, A second conductive semiconductor layer, a light emitting structure including an active layer between the first conductive semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer, a first electrode on the first conductive semiconductor layer, and A second electrode on the second conductivity type semiconductor layer, and the bridge electrode has a portion thicker than the first electrode or the second electrode.
前記ブリッジ電極の幅が、前記第1電極または前記第2電極の幅よりも大きくてもよい。 The width of the bridge electrode may be larger than the width of the first electrode or the second electrode.
前記発光構造物は、一部がエッチングされて、前記第1導電型半導体層を露出するエッチング領域を含み、前記第1電極は、露出された前記第1導電型半導体層上に配置することができる。 The light emitting structure may include an etching region that is partially etched to expose the first conductive semiconductor layer, and the first electrode is disposed on the exposed first conductive semiconductor layer. it can.
前記ブリッジ電極は、隣接する2つの発光セルのいずれか一方の発光セルの第1電極と接する第1部分と、他方の発光セルの第2電極と接する第2部分と、前記第1部分と前記第2部分との間の第3部分とを含むことができる。 The bridge electrode includes a first portion that contacts the first electrode of one of the two adjacent light emitting cells, a second portion that contacts the second electrode of the other light emitting cell, the first portion, And a third portion between the second portion.
前記ブリッジ電極は、前記第3部分の厚さが最も大きくてもよい。 The bridge electrode may have the largest thickness of the third portion.
前記第3部分は、隣接する2つの発光セルの間に配置することができる。 The third portion may be disposed between two adjacent light emitting cells.
前記ブリッジ電極は、前記第1部分または前記第2部分において、それぞれ前記第1電極または前記第2電極と高さが同一であってもよい。 The bridge electrode may have the same height as the first electrode or the second electrode in the first portion or the second portion, respectively.
前記ブリッジ電極は複数個存在することができる。 There may be a plurality of the bridge electrodes.
前記第1部分の一部が前記第1電極の上部に配置され、前記第2部分の一部が前記第2電極の上部に配置されてもよい。 A part of the first part may be disposed on the first electrode, and a part of the second part may be disposed on the second electrode.
前記ブリッジ電極は、前記第1部分と前記第3部分との間及び前記第2部分と前記第3部分との間に配置される第4部分をさらに含み、前記第4部分の厚さが、前記第1部分、前記第2部分または前記第3部分のそれぞれの厚さよりも小さくてもよい。 The bridge electrode further includes a fourth part disposed between the first part and the third part and between the second part and the third part, and the thickness of the fourth part is It may be smaller than the thickness of each of the first part, the second part, or the third part.
他の実施形態に係る発光素子は、複数個の発光セルと;隣接する2つの発光セルを電気的に接続するブリッジ電極と;を含み、前記複数個の発光セルは、第1導電型半導体層、第2導電型半導体層、前記第1導電型半導体層と前記第2導電型半導体層との間の活性層を含む発光構造物をそれぞれ含み、前記ブリッジ電極は、隣接する2つの発光セルのいずれか一方の発光セルの第1導電型半導体層と、他方の発光セルの第2導電型半導体層とを電気的に接続し、前記ブリッジ電極は、隣接する2つの発光セルの間に複数個存在する。 A light emitting device according to another embodiment includes: a plurality of light emitting cells; and a bridge electrode that electrically connects two adjacent light emitting cells; and the plurality of light emitting cells includes a first conductive semiconductor layer. , A second conductive semiconductor layer, and a light emitting structure including an active layer between the first conductive semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer, and the bridge electrode includes two adjacent light emitting cells. A first conductive semiconductor layer of one of the light emitting cells is electrically connected to a second conductive semiconductor layer of the other light emitting cell, and a plurality of bridge electrodes are provided between two adjacent light emitting cells. Exists.
前記複数個の発光セルは、第1導電型半導体層上の第1電極及び前記第2導電型半導体層上の第2電極をそれぞれさらに含み、前記ブリッジ電極は、隣接する2つの発光セルのいずれか一方の発光セルの第1電極と、他方の発光セルの第2電極との間に複数個が離隔して配置されてもよい。 The plurality of light emitting cells each further include a first electrode on a first conductive type semiconductor layer and a second electrode on the second conductive type semiconductor layer, and the bridge electrode is one of two adjacent light emitting cells. A plurality of the light emitting cells may be spaced apart from each other between the first electrode of one of the light emitting cells and the second electrode of the other light emitting cell.
前記第1電極及び前記第2電極は第1方向の長手方向を有し、前記複数個のブリッジ電極は、前記第1方向と同じ長手方向を有してもよく、または前記第1方向と異なる第2方向の長手方向を有してもよい。 The first electrode and the second electrode may have a longitudinal direction in a first direction, and the plurality of bridge electrodes may have the same longitudinal direction as the first direction, or different from the first direction. You may have the longitudinal direction of a 2nd direction.
前記複数個のブリッジ電極は、隣接する2つの発光セルのいずれか一方の発光セルの第1導電型半導体層上の第1部分と、他方の発光セルの第2導電型半導体層上の第2部分と、前記第1部分と前記第2部分との間の第3部分とをそれぞれ含むことができる。 The plurality of bridge electrodes include a first part on the first conductive type semiconductor layer of one of the two adjacent light emitting cells and a second part on the second conductive type semiconductor layer of the other light emitting cell. A portion and a third portion between the first portion and the second portion.
前記第1部分または前記第2部分のそれぞれの厚さが、前記第3部分の厚さと同一であってもよい。 Each thickness of the first part or the second part may be the same as the thickness of the third part.
前記複数のブリッジ電極のそれぞれの幅は、前記第1電極の幅または前記第2電極の幅よりも広くすることができる。 Each of the plurality of bridge electrodes may be wider than the first electrode or the second electrode.
前記発光素子は、前記複数の発光セルの下に配置される基板と;隣接する発光セルの間に位置する前記基板の上部面の一領域に形成される第1凹凸と;をさらに含むことができる。 The light emitting device may further include: a substrate disposed under the plurality of light emitting cells; and first unevenness formed in a region of an upper surface of the substrate located between adjacent light emitting cells. it can.
前記ブリッジ電極の第3部分は、前記隣接する発光セルの間に位置する前記基板の上部面の前記一領域上に配置され、前記ブリッジ電極の第3部分の上部面には、前記第1凹凸に対応する第2凹凸を形成することができる。 The third portion of the bridge electrode is disposed on the region of the upper surface of the substrate located between the adjacent light emitting cells, and the first unevenness is formed on the upper surface of the third portion of the bridge electrode. 2nd unevenness | corrugation corresponding to can be formed.
前記基板の上部面を基準として前記ブリッジ電極の第3部分の上部面の高さは、前記ブリッジ電極の第1部分の上部面の高さよりも低いか、または同一であってもよい。 The height of the upper surface of the third portion of the bridge electrode with respect to the upper surface of the substrate may be lower than or the same as the height of the upper surface of the first portion of the bridge electrode.
実施形態によれば、ブリッジ電極に電流が集中する現象を改善することによって、信頼性が向上した発光素子を作製することができる。また、抵抗が高い部分での抵抗を減少させて、効率を向上させることができる。 According to the embodiment, a light-emitting element with improved reliability can be manufactured by improving the phenomenon of current concentration on the bridge electrode. Also, the efficiency can be improved by reducing the resistance at the high resistance portion.
以下、各実施形態は、添付の図面及び各実施形態についての説明を通じて明白になる。実施形態の説明において、各層(膜)、領域、パターンまたは構造物が基板、各層(膜)、領域、パッドまたはパターンの「上/上部(on)」に又は「下/下部(under)」に形成されると記載される場合において、「上/上部(on)」と「下/下部(under)」は、「直接(directly)」または「別の層を介在して(indirectly)」形成されることを全て含む。また、各層の上/上部または下/下部に対する基準は、図面を基準にして説明する。 Hereinafter, each embodiment will become clear through the accompanying drawings and description of each embodiment. In the description of the embodiments, each layer (film), region, pattern, or structure is “on” or “under” the substrate, each layer (film), region, pad, or pattern. In the case described as being formed, “upper / upper” (on) and “lower / lower” are formed “directly” or “indirectly”. Including everything. The reference for the upper / upper or lower / lower of each layer will be described with reference to the drawings.
図面において、大きさは、説明の便宜及び明確性のために誇張されたり、省略されたり、又は概略的に示されている。また、各構成要素の大きさは実際の大きさを必ずしも正確に反映するものではない。また、同一の参照番号は図面の説明を通じて同一の要素を示す。 In the drawings, the size is exaggerated, omitted, or schematically shown for convenience and clarity of description. Also, the size of each component does not necessarily accurately reflect the actual size. The same reference numerals denote the same elements throughout the drawings.
図1は、第1実施形態に係る発光素子の平面図であり、図2は、図1の一部分を拡大して示す平面図であり、図3は、図2をAA方向に切断して正面から見た断面図である。 1 is a plan view of the light emitting device according to the first embodiment, FIG. 2 is an enlarged plan view showing a part of FIG. 1, and FIG. 3 is a front view of FIG. 2 cut in the AA direction. It is sectional drawing seen from.
図1乃至図3を参照すると、第1実施形態に係る発光素子200Aは、複数個の発光セル(light emitting cell)100と、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続するブリッジ電極(bridge electrode)150とを含む。
Referring to FIGS. 1 to 3, the light emitting device 200 </ b> A according to the first embodiment includes a plurality of light emitting
複数個の発光セル100は、複数の化合物半導体層、例えば、3族−5族または2族−6族元素の半導体層を用いたLED(Light Emitting Diode)を含み、LEDは、青色、緑色または赤色などのような光を放出する有色LEDであるか、または白色LED又はUV LEDであってもよい。LEDの放出光は、半導体層をなす物質の種類及び濃度を変形して多様に具現することができ、これに限定されない。
The plurality of light emitting
複数個の発光セル100の下部に基板110が配置される。複数個の発光セル100は、基板110によって支持され、基板110上に互いに離隔して配置される。
A
基板110は、半導体物質の成長に適した材料、熱伝導性に優れた物質で形成することができる。基板110は、例えば、サファイア(Al2O3)、SiC、GaAs、GaN、ZnO、Si、GaP、InP、Ge、及びGa2O3のうち少なくとも一つを使用することができる。基板110に対して湿式洗浄またはプラズマ処理を施して、表面の不純物を除去することができる。
The
複数個の発光セル100は、第1導電型半導体層122、第2導電型半導体層126、第1導電型半導体層122と第2導電型半導体層126との間の活性層124を含む発光構造物120と、第1導電型半導体層122上の第1電極130と、第2導電型半導体層126上の第2電極140とをそれぞれ含む。
The plurality of light emitting
発光構造物120は、例えば、有機金属化学蒸着法(MOCVD;Metal Organic Chemical Vapor Deposition)、化学蒸着法(CVD;Chemical Vapor Deposition)、プラズマ化学蒸着法(PECVD;Plasma−Enhanced Chemical Vapor Deposition)、分子線成長法(MBE;Molecular Beam Epitaxy)、水素化物気相成長法(HVPE;Hydride Vapor Phase Epitaxy)などの方法を用いて形成することができ、これに限定されない。
The
第1導電型半導体層122は、半導体化合物で形成することができ、例えば、3族−5族または2族−6族などの化合物半導体で形成することができる。また、第1導電型ドーパントがドープされていてもよい。前記第1導電型半導体層122がn型半導体層である場合、前記第1導電型ドーパントは、n型ドーパントとして、Si、Ge、Sn、Se、Teなどを含むことができるが、これに限定されない。前記第1導電型半導体層122がp型半導体層である場合、前記第1導電型ドーパントは、p型ドーパントとして、Mg、Zn、Ca、Sr、Baなどを含むことができるが、これに限定されない。
The first conductivity
第1導電型半導体層122は、AlxInyGa(1−x−y)N(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1)の組成式を有する半導体物質を含むことができる。第1導電型半導体層122は、Ga、N、In、Al、As、Pのうち少なくとも一つ以上の元素を含むことができ、GaN、InN、AlN、InGaN、AlGaN、InAlGaN、AlInN、AlGaAs、InGaAs、AlInGaAs、GaP、AlGaP、InGaP、AlInGaP、InPのいずれか一つ以上で形成することができる。
The first conductivity
第2導電型半導体層126は、半導体化合物で形成することができ、例えば、3族−5族または2族−6族などの化合物半導体で形成することができる。また、第2導電型ドーパントがドープされていてもよい。第2導電型半導体層126がp型半導体層である場合、前記第2導電型ドーパントは、p型ドーパントとして、Mg、Zn、Ca、Sr、Baなどを含むことができるが、これに限定されない。第2導電型半導体層126がn型半導体層である場合、前記第2導電型ドーパントは、n型ドーパントとして、Si、Ge、Sn、Se、Teなどを含むことができるが、これに限定されない。
The second conductivity
第2導電型半導体層126は、AlxInyGa(1−x−y)N(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1)の組成式を有する半導体物質を含むことができる。第2導電型半導体層126は、Ga、N、In、Al、As、Pのうち少なくとも一つ以上の元素を含むことができ、GaN、InN、AlN、InGaN、AlGaN、InAlGaN、AlInN、AlGaAs、InGaAs、AlInGaAs、GaP、AlGaP、InGaP、AlInGaP、InPのいずれか一つ以上で形成することができる。
The second conductivity
以下では、第1導電型半導体層122がn型半導体層であり、第2導電型半導体層126がp型半導体層である場合を例に挙げて説明する。
Hereinafter, a case where the first
前記第2導電型半導体層126上には、前記第2導電型と反対の極性を有する半導体、例えば前記第2導電型半導体層126がp型半導体層である場合、n型半導体層(図示せず)を形成することができる。これによって、発光構造物は、n−p接合構造、p−n接合構造、n−p−n接合構造、p−n−p接合構造のいずれか一つの構造で具現することができる。
On the second conductivity
第1導電型半導体層122と第2導電型半導体層126との間に活性層124が配置される。
An
活性層124は、電子と正孔とが会って、活性層(発光層)物質固有のエネルギーバンドによって決定されるエネルギーを有する光を放出する層である。第1導電型半導体層122がn型半導体層であり、第2導電型半導体層126がp型半導体層である場合、前記第1導電型半導体層122から電子が注入され、前記第2導電型半導体層126から正孔が注入され得る。
The
活性層124は、単一井戸構造、多重井戸構造、量子線(Quantum−Wire)構造、または量子点(Quantum Dot)構造のうち少なくともいずれか一つで形成することができる。例えば、前記活性層124は、トリメチルガリウムガス(TMGa)、アンモニアガス(NH3)、窒素ガス(N2)、及びトリメチルインジウムガス(TMIn)が注入されて、多重量子井戸構造が形成されてもよいが、これに限定されるものではない。
The
活性層124が多重井戸構造で形成される場合、活性層124の井戸層/障壁層は、InGaN/GaN、InGaN/InGaN、GaN/AlGaN、InAlGaN/GaN、GaAs(InGaAs)/AlGaAs、GaP(InGaP)/AlGaPのいずれか一つ以上のペア構造で形成されてもよいが、これに限定されない。前記井戸層は、前記障壁層のバンドギャップよりも小さいバンドギャップを有する物質で形成することができる。
When the
発光構造物120と基板110との間にはバッファ層112を配置することができる。バッファ層112は、発光構造物120と基板110の材料の格子不整合及び熱膨張係数の差を緩和するためのものである。バッファ層112の材料は、3族−5族または2族−6族の化合物半導体であってもよく、例えば、GaN、InN、AlN、InGaN、InAlGaN、AlInNのうち少なくとも一つで形成することができる。
A
基板110と第1導電型半導体層122との間にアンドープ半導体層114が配置されてもよい。アンドープ半導体層114は、第1導電型半導体層122の結晶性向上のために形成される層であって、第1半導体層122と同じ物質または第1半導体層122と異なる物質で形成することができる。アンドープ半導体層114は、第1導電型ドーパントがドープされないので、第1導電型半導体層122に比べて低い電気伝導性を示す。アンドープ半導体層114は、バッファ層112の上部において第1導電型半導体層122と接して配置されてもよい。アンドープ半導体層114は、バッファ層112の成長温度よりも高い温度で成長し、バッファ層112に比べて良い結晶性を示す。
An
実施形態によって、発光構造物120は、側面が傾斜面を含むことができる。発光構造物120の側面が傾斜面を含む場合、傾斜面である側面は、基板110と鈍角をなすことができる。
According to the embodiment, the
発光構造物120は、一部がエッチングされて、第1導電型半導体層122を露出するエッチング領域Eを含む。すなわち、発光構造物120の第2導電型半導体層126、活性層124及び第1導電型半導体層122の一部が選択的にエッチングされて、第1導電型半導体層122の一部が露出される。第1電極130は、エッチング領域Eによって露出された第1導電型半導体層122上に配置され、第2電極140は、エッチングされていない第2導電型半導体層126上に配置される。第1電極130は第1導電型半導体層122と電気的に接続され、第2電極140は第2導電型半導体層126と電気的に接続される。
The
第1電極130及び第2電極140は、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、金(Au)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、白金(Pt)、バナジウム(V)、タングステン(W)、鉛(Pd)、銅(Cu)、ロジウム(Rh)またはイリジウム(Ir)のうち少なくとも一つを含んで単層または多層構造で形成することができる。
The
第2電極140が形成される前、第2導電型半導体層126上には透明電極層142を配置することができる。
A
実施形態によって、第2導電型半導体層126が露出されるように透明電極層142の一部がオープンされて、第2導電型半導体層126と第2電極140とが接することができる。
According to the embodiment, a part of the
または、図3に示すように、透明電極層142を挟んで第2導電型半導体層126と第2電極140とが電気的に接続されてもよい。
Alternatively, as shown in FIG. 3, the second
透明電極層142は、第2導電型半導体層126の電気的特性を向上させ、第2電極140との電気的接触を改善するためのもので、層または複数のパターンで形成することができる。
The
透明電極層142には透光性伝導層と金属が選択的に使用されてもよい。例えば、ITO(indium tin oxide)、IZO(indium zinc oxide)、IZTO(indium zinc tin oxide)、IAZO(indium aluminum zinc oxide)、IGZO(indium gallium zinc oxide)、IGTO(indium gallium tin oxide)、AZO(aluminum zinc oxide)、ATO(antimony tin oxide)、GZO(gallium zinc oxide)、IZON(IZO Nitride)、AGZO(Al−Ga ZnO)、IGZO(In−Ga ZnO)、ZnO、IrOx、RuOx、NiO、RuOx/ITO、Ni/IrOx/Au、またはNi/IrOx/Au/ITO、Ag、Ni、Cr、Ti、Al、Rh、Pd、Ir、Sn、In、Ru、Mg、Zn、Pt、Au、Hfのうち少なくとも一つを含んで形成されてもよいが、これらの材料に限定されない。
A transparent conductive layer and a metal may be selectively used for the
隣接する2つの発光セル100の間にブリッジ電極150が配置される。ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続する。ブリッジ電極150は、図1乃至図3に示すように、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130と、他方の発光セル100の第2電極140とを連続するように接続することによって、複数個の発光セル100を直列接続することができる。または、ブリッジ電極150は、図示していないが、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100と他方の発光セル100において、同じ極性の電極(130と130;140と140)を接続することによって、複数個の発光セル100を並列接続してもよい。
A
一例として、図3を参照すると、ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100を直列接続する。具体的に、ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第2電極140から発光セル100の側面及び他方の発光セル100の側面に沿って前記他方の発光セル100の第1電極130まで延びて配置されることによって、隣接する2つの発光セル100を直列接続することができる。
As an example, referring to FIG. 3, the
ブリッジ電極150は、第1電極130または第2電極140と同じ物質を含んでなることができ、例えば、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、金(Au)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、白金(Pt)、バナジウム(V)、タングステン(W)、鉛(Pd)、銅(Cu)、ロジウム(Rh)またはイリジウム(Ir)のうち少なくとも一つを含んで単層または多層構造で形成することができる。
The
発光構造物120の側面には絶縁層160が配置される。絶縁層160は、ブリッジ電極150が存在する部分では発光セル100とブリッジ電極150との間に配置される。
An insulating
絶縁層160は、隣接する発光セル100の間、またはブリッジ電極150と発光セル100との間を電気的に分離する役割を果たす。絶縁層160によって、隣り合う発光セル100間の電気的ショートを防止でき、一つの発光セル100では、第1導電型半導体層122と第2導電型半導体層126間の電気的ショートを防止することができる。
The insulating
絶縁層160は、非伝導性酸化物または窒化物からなることができ、一例として、シリコン酸化物(SiO2)層、酸化窒化物層、酸化アルミニウム層からなることができるが、これに限定されない。
The insulating
ブリッジ電極150は、全体的に厚さが一定でなくてもよい。ブリッジ電極150は、第1電極130または第2電極140よりも厚い部分を有することができる。
The
ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130と接する第1部分151と、他方の発光セル100の第2電極140と接する第2部分152と、前記第1部分151と前記第2部分152との間の第3部分153と、を含むことができ、第1部分151と第3部分153との間または第2部分152と第3部分153との間を電気的に接続して発光セル100の側面上に位置する第4部分154を含むことができる。
The
前記第1部分151は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130と接しながら第1導電型半導体層122上に配置され、前記第2部分152は、他方の発光セル100の第2電極140と接しながら第2導電型半導体層126上に配置され得る。前記第1部分151は、発光構造物120のエッチング領域Eによって露出された第1導電型半導体層122上に配置された部分であり得る。
The
また、前記第1部分151は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130上に位置することができ、同時に第1導電型半導体層122上に配置される。前記第2部分152は、他方の発光セル100の第2電極140上に位置することができ、また第2導電型半導体層126上に配置され得る。前記第1部分151は、発光構造物120のエッチング領域Eによって露出された第1導電型半導体層122上に配置された部分であり得る。
In addition, the
前記第3部分153は、隣接する2つの発光セル100の間に配置され、基板110上に配置される。すなわち、前記第3部分153は、基板110上に配置された隣接する2つの発光セル100間の離隔空間に配置することができる。
The
前記第1部分151と第3部分153との間及び第2部分152と第3部分153との間の側面には、ブリッジ電極150の第4部分154を配置することができる。前記第4部分154は、第1部分151と第3部分153、及び第2部分と第3部分を電気的に接続させる。
A
ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が、第1電極130の厚さT1または第2電極140の厚さT2よりも大きくてもよい。ブリッジ電極150は、全体的に厚さが一定ではなく、前記第3部分153の厚さTB3が前記第1部分151または第2部分152の厚さよりも大きくてもよい。また、ブリッジ電極150は、前記第4部分154の厚さTB4が、前記第1部分151または第2部分152の厚さと同一であるか、又は前記第1部分151または第2部分152の厚さよりも小さくてもよい。ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が最も大きくてもよい。
In the
実施形態によれば、ブリッジ電極150の少なくとも一部を第1電極130または第2電極140よりも厚く形成して、ブリッジ電極150の面積を広げることによって、発光素子の動作中に、狭い面積のブリッジ電極150に電流が集中してブリッジ電極150が焦げてしまうなどの信頼性低下の問題を改善することができる。
According to the embodiment, by forming at least a part of the
実施形態によって、ブリッジ電極150は、前記第1部分151または前記第2部分152の厚さが、それぞれ第1電極130または第2電極140の厚さと同一であってもよい。
Depending on the embodiment, the
または、ブリッジ電極150は、前記第1部分151または前記第2部分152において、それぞれ第1電極130または第2電極140と高さが同一であってもよい。すなわち、ブリッジ電極150は、第1部分151の表面において第1電極130と段差を有さずに第1電極130と接し、第2部分152の表面において第2電極140と段差を有さずに第2電極140と接することができる。
Alternatively, the
再び図1を参照すると、複数個の発光セル100の配列において一端部に配置される発光セル100Z1は、第2電極140が第2電極パッド140Pを含むことで、ワイヤボンディングのための面積を確保することができる。同様に、複数個の発光セル100の配列において他端部に配置される発光セル100Z2は、第1電極130が第1電極パッド130Pを含むことで、ワイヤボンディングのための面積を確保することができる。
Referring again to FIG. 1, the
図4は、第2実施形態に係る発光素子の一部分を拡大して示す平面図である。上述した実施形態と重複する内容は再び説明せず、以下では、相違点を中心に説明する。図4をAA方向に切断して正面から見た断面図は図3と同一であるので、図3を共に参照する。 FIG. 4 is an enlarged plan view showing a part of the light emitting device according to the second embodiment. The content overlapping with the above-described embodiment will not be described again, and the following description will focus on the differences. 4 is the same as FIG. 3 as viewed from the front when cut in the AA direction. Therefore, FIG.
図4を参照すると、第2実施形態に係る発光素子200Bは、複数個の発光セル100と、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続するブリッジ電極150とを含む。
Referring to FIG. 4, the light emitting device 200 </ b> B according to the second embodiment includes a plurality of light emitting
ブリッジ電極150は全体的に厚さが一定ではない。ブリッジ電極150は、第1電極130または第2電極140よりも厚い部分を有する。
The thickness of the
ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130と接する第1部分151と、他方の発光セル100の第2電極140と接する第2部分152と、前記第1部分151と前記第2部分152との間の第3部分153と、を含むことができ、第1部分151と第3部分153との間または第2部分152と第3部分153との間を電気的に接続して発光セル100の側面上に位置する第4部分154を含むことができる。
The
ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が、第1電極130の厚さT1または第2電極140の厚さT2よりも大きくてもよい。ブリッジ電極150は、全体的に厚さが一定ではなく、前記第3部分153の厚さTB3が前記第1部分151または第2部分152の厚さよりも大きくてもよい。また、ブリッジ電極150は、前記第4部分154の厚さTB4が前記第1部分151または第2部分152の厚さと同一であるか、又は前記第1部分151または第2部分152の厚さよりも小さくてもよい。ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が最も大きくてもよい。
In the
第2実施形態に係る発光素子200Bが第1実施形態に係る発光素子200Aと異なる点は、ブリッジ電極150の幅WBが、第1電極130の幅W1または第2電極140の幅W2よりも大きいという点である。
The difference from the
ブリッジ電極150の幅WBは25μm〜35μmとすることができる。例えば、ブリッジ電極50の幅WBは30μmであってもよい。また、第1電極130の幅W1または第2電極140の幅W2は5μm〜10μmとすることができる。例えば、第1電極130の幅W1または第2電極140の幅W2は7μmであってもよく、第1電極130の幅W1は、第2電極幅W2よりも小さいか又は同一であってもよい。
Width W B of the
第2実施形態によれば、ブリッジ電極150の幅WBを第1電極130の幅W1または第2電極140の幅W2より広くして、ブリッジ電極150の面積を広げることによって、信頼性をより一層向上させることができ、ブリッジ電極150の断線不良などの問題を改善することができる。ブリッジ電極150は、発光セル100のエッジ部分に配置されるので、ブリッジ電極150の幅WBの増加による光吸収を最小化することができる。
According to the second embodiment, the width W B of the
図5は、第3実施形態に係る発光素子の一部分を拡大して示す平面図である。上述した実施形態と重複する内容は再び説明せず、以下では相違点を中心に説明する。図5をAA方向に切断して正面から見た断面図は図3と同一であるので、図3を共に参照する。 FIG. 5 is an enlarged plan view showing a part of the light emitting device according to the third embodiment. The content overlapping with the above-described embodiment will not be described again, and the following description will focus on the differences. 5 is the same as FIG. 3 as viewed from the front when cut in the AA direction. Therefore, FIG.
図5を参照すると、第3実施形態に係る発光素子200Cは、複数個の発光セル100と、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続するブリッジ電極150とを含む。
Referring to FIG. 5, the light emitting device 200 </ b> C according to the third embodiment includes a plurality of light emitting
第3実施形態に係る発光素子200Cが第1実施形態に係る発光素子200Aと異なる点は、隣接する2つの発光セル100の間にブリッジ電極150が複数配置されるという点である。
The
例えば、隣接する2つの発光セル100間には、互いに離隔する2つのブリッジ電極150を配置することができる。
For example, two
互いに離隔する2つのブリッジ電極150のそれぞれの幅は、第1電極130の幅または第2電極140の幅よりも大きくすることができる。
The width of each of the two
互いに離隔する2つのブリッジ電極150のそれぞれの幅は、15μm〜25μmとすることができる。例えば、2つのブリッジ電極150のそれぞれの幅は20μmであってもよい。また、第1電極130の幅または第2電極140の幅は、図4で説明したのと同一にすることができる。
Each of the two
ブリッジ電極150は全体的に厚さが一定ではない。それぞれのブリッジ電極150は、第1電極130または第2電極140よりも厚い部分を有する。
The thickness of the
ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130と接する第1部分151と、他方の発光セル100の第2電極140と接する第2部分152と、前記第1部分151と前記第2部分152との間の第3部分153とをそれぞれ含むことができ、第1部分151と第3部分153との間または第2部分152と第3部分153との間を電気的に接続して発光セル100の側面上に位置する第4部分154を含むことができる。
The
ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が、第1電極130の厚さT1または第2電極140の厚さT2よりも大きくてもよい。ブリッジ電極150は、全体的に厚さが一定ではなく、前記第3部分153の厚さTB3が前記第1部分151または第2部分152の厚さよりも大きくてもよい。また、ブリッジ電極150は、前記第4部分154の厚さTB4が、前記第1部分151または第2部分152の厚さと同一であるか、又は前記第1部分151または第2部分152の厚さよりも小さくてもよい。ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が最も大きくてもよい。
In the
第3実施形態によれば、隣接する2つの発光セル100の間にブリッジ電極150を複数配置することで、結果的にブリッジ電極150の面積を広げることができ、いずれか一つのブリッジ電極150が断線しても、他のブリッジ電極150によって断線不良を解消できるので、信頼性を向上させることができる。ブリッジ電極150は、発光セル100のエッジ部分に配置されるので、ブリッジ電極150の個数の増加による光吸収を最小化することができる。
According to the third embodiment, by arranging a plurality of
図6は、第4実施形態に係る発光素子の一部分を拡大して示す平面図であり、図7は、図6をAA方向に切断して正面から見た断面図である。上述した実施形態と重複する内容は再び説明せず、以下では相違点を中心に説明する。 FIG. 6 is an enlarged plan view showing a part of the light emitting device according to the fourth embodiment, and FIG. 7 is a cross-sectional view of FIG. The content overlapping with the above-described embodiment will not be described again, and the following description will focus on the differences.
図6及び図7を参照すると、第4実施形態に係る発光素子200Dは、複数個の発光セル100と、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続するブリッジ電極150とを含む。
Referring to FIGS. 6 and 7, the light emitting device 200 </ b> D according to the fourth embodiment includes a plurality of light emitting
ブリッジ電極150は全体的に厚さが一定でなくてもよい。ブリッジ電極150は、第1電極130または第2電極140よりも厚い部分を有することができる。
The
ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130と接する第1部分151と、他方の発光セル100の第2電極140と接する第2部分152と、前記第1部分151と前記第2部分152との間の第3部分153と、を含むことができ、第1部分151と第3部分153との間または第2部分152と第3部分153との間を電気的に接続して発光セル100の側面上に位置する第4部分154を含むことができる。
The
前記第1部分151は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130の上面と接する。すなわち、前記第1部分151において、一部は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1導電型半導体層122の上部に配置され、また他の一部は、前記いずれか一方の発光セル100の第1電極130の上部に配置される。また、前記第2部分152は、他方の発光セル100の第2電極140の上面と接する。すなわち、前記第2部分152において、一部は、前記他方の発光セル100の第2導電型半導体層126の上部に配置され、また他の一部は、前記他方の発光セル100の第2電極140の上部に配置される。
The
ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が、第1電極130の厚さT1または第2電極140の厚さT2よりも大きくてもよい。ブリッジ電極150は、全体的に厚さが一定ではなく、前記第3部分153の厚さTB3が前記第1部分151または第2部分152の厚さよりも大きくてもよい。また、ブリッジ電極150は、前記第4部分154の厚さTB4が、前記第1部分151または第2部分152の厚さと同一であるか、又は前記第1部分151または第2部分152の厚さよりも小さくてもよい。ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が最も大きくてもよい。実施形態によれば、発光セル100の電極130,140とブリッジ電極150の連結部のように抵抗が大きい部分においてブリッジ電極150の面積を広げることによって、発光素子の動作中に、狭い面積のブリッジ電極150に電流が集中してブリッジ電極150が焦げてしまうなどの信頼性低下の問題を改善することができる。
In the
図8は、第5実施形態に係る発光素子の一部分の側断面図である。上述した実施形態と重複する内容は再び説明せず、以下では相違点を中心に説明する。図8の平面図は図6と同一であるので、図6を共に参照する。 FIG. 8 is a side sectional view of a part of the light emitting device according to the fifth embodiment. The content overlapping with the above-described embodiment will not be described again, and the following description will focus on the differences. The plan view of FIG. 8 is the same as that of FIG.
図8を参照すると、第5実施形態に係る発光素子200Eは、複数個の発光セル100と、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続するブリッジ電極150とを含む。
Referring to FIG. 8, a
ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130と接する第1部分151と、他方の発光セル100の第2電極140と接する第2部分152と、前記第1部分151と前記第2部分152との間の第3部分153と、を含むことができ、第1部分151と第3部分153との間または第2部分152と第3部分153との間を電気的に接続して発光セル100の側面上に位置する第4部分154を含むことができる。前記第1部分151は、第1電極130の上面及び少なくとも一側面と接することができる。前記第1部分151は、第1電極130を取り囲むように配置することができる。また、前記第2部分152は、第2電極140の上面及び少なくとも一側面と接することができる。前記第2部分152は、第2電極140を取り囲むように配置することができる。
The
前記第1部分151は、第1導電型半導体層122上に位置する部分の厚さTB11と、第1電極130上に位置する部分の厚さTB12とが実質的に同一であってもよい。また、前記第2部分152は、第2導電型半導体層126上に位置する部分の厚さTB21と、第2電極140上に位置する部分の厚さTB22とが実質的に同一であってもよい。
The
図9は、第6実施形態に係る発光素子の一部分の側断面図である。上述した実施形態と重複する内容は再び説明せず、以下では相違点を中心に説明する。 FIG. 9 is a side sectional view of a part of the light emitting device according to the sixth embodiment. The content overlapping with the above-described embodiment will not be described again, and the following description will focus on the differences.
図9を参照すると、第6実施形態に係る発光素子200Fは、複数個の発光セル100と、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続するブリッジ電極150とを含む。
Referring to FIG. 9, the light emitting device 200 </ b> F according to the sixth embodiment includes a plurality of light emitting
発光素子200Fは、ブリッジ電極151と第1電極130が電気的に接続される部分、及びブリッジ電極152と第2電極140が電気的に接続される部分を除いて、発光素子200Fの表面にパッシベーション層160を配置することができる。
The
図10は、第7実施形態に係る発光素子の平面図であり、図11は、図9の一部分を拡大して示す平面図であり、図12は、図11をBB方向に切断して正面から見た断面図である。上述した実施形態と重複する内容は再び説明せず、以下では相違点を中心に説明する。 10 is a plan view of the light emitting device according to the seventh embodiment, FIG. 11 is a plan view showing a part of FIG. 9 in an enlarged manner, and FIG. 12 is a front view of FIG. 11 cut in the BB direction. It is sectional drawing seen from. The content overlapping with the above-described embodiment will not be described again, and the following description will focus on the differences.
図10乃至図12を参照すると、第7実施形態に係る発光素子300Aは、複数個の発光セル100と、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続するブリッジ電極150とを含む。
Referring to FIGS. 10 to 12, a light emitting device 300 </ b> A according to the seventh embodiment includes a plurality of light emitting
複数個の発光セル100の下部に基板110が配置される。複数個の発光セル100は、基板110によって支持され、基板110上に離隔して配置される。
A
隣接する2つの発光セル100の間に複数個のブリッジ電極150が配置される。ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続する。
A plurality of
ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1導電型半導体層122と、他方の発光セル100の第2導電型半導体層126とを電気的に接続することができる。
The
第4実施形態によれば、隣接する2つの発光セル100の間にブリッジ電極150を複数配置することで、結果的にブリッジ電極150の面積を広げることができ、いずれか一方のブリッジ電極150が断線しても、他のブリッジ電極150によって断線不良を解消できるので、信頼性を向上させることができる。
According to the fourth embodiment, by arranging a plurality of
複数個のブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1導電型半導体層122上の第1部分151と、他方の発光セル100の第2導電型半導体層126上の第2部分152と、前記第1部分151と前記第2部分152との間の第3部分153とをそれぞれ含むことができる。前記第1部分151は、発光構造物120のエッチング領域Eによって露出された第1導電型半導体層122上に配置された部分であり得る。
The plurality of
前記第3部分153は、隣接する2つの発光セル100の間に配置され、基板110上に配置される。すなわち、前記第3部分153は、基板110上に配置された隣接する2つの発光セル100間の離隔空間に配置することができる。
The
前記第1部分151と第3部分153との間のブリッジ電極150、及び第2部分152と第3部分153との間のブリッジ電極150は、発光構造物120の側面に配置された部分であり得る。
The
第7実施形態において、ブリッジ電極150は、別途の第1電極または第2電極なしに、発光セル100の第1導電型半導体層122及び第2導電型半導体層126と直接電気的に接続されてもよい。すなわち、ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1導電型半導体層122と第1部分151が接し、他方の発光セル100の第2導電型半導体層126と第2部分152が接することができる。
In the seventh embodiment, the
図10を参照すると、複数個の発光セル100の配列において一端部に配置される発光セル100Z1は、第2導電型半導体層126上に第2電極パッド140Pが配置されることで、ワイヤボンディングのための面積を確保することができる。同様に、複数個の発光セル100の配列において他端部に配置される発光セル100Z2は、第1導電型半導体層122上に第1電極パッド130Pが配置されることで、ワイヤボンディングのための面積を確保することができる。
Referring to FIG. 10, the
図13は、第8実施形態に係る発光素子の一部分の側断面図である。上述した実施形態と重複する内容は再び説明せず、以下では相違点を中心に説明する。図13の平面図は図11と同一であるので、図11を共に参照する。 FIG. 13 is a side sectional view of a part of the light emitting device according to the eighth embodiment. The content overlapping with the above-described embodiment will not be described again, and the following description will focus on the differences. Since the plan view of FIG. 13 is the same as FIG. 11, reference is made to FIG.
図13を参照すると、第8実施形態に係る発光素子300Bは、複数個の発光セル100と、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続するブリッジ電極150とを含む。
Referring to FIG. 13, the light emitting device 300 </ b> B according to the eighth embodiment includes a plurality of light emitting
第8実施形態に係る発光素子300Bが第7実施形態に係る発光素子300Aと異なる点は、ブリッジ電極150の厚さが全体的に一定でないという点である。
The
ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1導電型半導体層122上の第1部分151と、他方の発光セル100の第2導電型半導体層126上の第2部分152と、前記第1部分151と前記第2部分152との間の第3部分153とを含むことができ、第1部分151と第3部分153との間または第2部分152と第3部分153との間を電気的に接続して発光セル100の側面上に位置する第4部分154を含むことができる。前記第1部分151は、発光構造物120のエッチング領域Eによって露出された第1導電型半導体層122上に配置された部分であり得る。
The
前記第3部分153は、隣接する2つの発光セル100の間に配置され、基板110上に配置される。すなわち、前記第3部分153は、基板110上に配置された隣接する2つの発光セル100間の離隔空間に配置することができる。
The
前記第1部分151と第3部分153との間、及び第2部分152と第3部分153との間の側面には、ブリッジ電極150の第4部分154を配置することができる。前記第4部分154は、第1部分151と第3部分153、及び第2部分と第3部分を電気的に接続させる。
A
ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が、前記第1部分151の厚さTB1または前記第2部分152の厚さTB2よりも大きくてもよい。また、ブリッジ電極150は、前記第4部分154の厚さTB4が、前記第1部分151または第2部分152の厚さと同一であるか、又は前記第1部分151または第2部分152の厚さよりも小さくてもよい。ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が最も大きくてもよい。
The
第8実施形態によれば、ブリッジ電極150の少なくとも一部を厚く形成して、ブリッジ電極150の面積を広げることによって、発光素子の動作中に、狭い面積のブリッジ電極150に電流が集中してブリッジ電極150が焦げてしまうなどの信頼性低下の問題を改善することができる。
According to the eighth embodiment, by forming at least a part of the
図14は、第9実施形態に係る発光素子の一部分の側断面図である。上述した実施形態と重複する内容は再び説明せず、以下では相違点を中心に説明する。図14の平面図は図11と同一であるので、図11を共に参照する。 FIG. 14 is a side sectional view of a part of the light emitting device according to the ninth embodiment. The content overlapping with the above-described embodiment will not be described again, and the following description will focus on the differences. The plan view of FIG. 14 is the same as FIG.
図14を参照すると、第9実施形態に係る発光素子300Cは、複数個の発光セル100と、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続するブリッジ電極150とを含む。
Referring to FIG. 14, a light emitting device 300 </ b> C according to the ninth embodiment includes a plurality of light emitting
ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1導電型半導体層122上の第1部分151と、他方の発光セル100の第2導電型半導体層126上の第2部分152と、前記第1部分151と前記第2部分152との間の第3部分153とを含むことができ、第1部分151と第3部分153との間または第2部分152と第3部分153との間を電気的に接続して発光セル100の側面上に位置する第4部分154を含むことができる。前記第1部分151は、発光構造物120のエッチング領域Eによって露出された第1導電型半導体層122上に配置された部分であり得る。
The
第9実施形態に係る発光素子300Cが第8実施形態に係る発光素子300Bと異なる点は、第1部分151の厚さTB1または第2部分152の厚さTB2が、前記第4部分154の厚さTB4よりも大きいということである。前記第1部分151の厚さTB1または第2部分152の厚さTB2は、前記第3部分153の厚さTB3よりも小さいか、または前記第3部分153の厚さTB3と同一又はほぼ同一であってもよい。
The
実施形態によれば、発光セル100の第1、2導電型半導体層122,126とブリッジ電極150の連結部のように抵抗が大きい部分においてブリッジ電極150の面積を広げることによって、発光素子の動作中に、狭い面積のブリッジ電極150に電流が集中してブリッジ電極150が焦げてしまうなどの信頼性低下の問題を改善することができる。
According to the embodiment, by increasing the area of the
図15は、第10実施形態に係る発光素子の平面図であり、図16は、図15の一部分を拡大して示す平面図であり、図17は、図16をBB方向に切断した断面図である。上述した実施形態と重複する内容は再び説明せず、以下では、相違点を中心に説明する。 15 is a plan view of the light emitting device according to the tenth embodiment, FIG. 16 is a plan view showing a part of FIG. 15 in an enlarged manner, and FIG. 17 is a sectional view of FIG. 16 cut in the BB direction. It is. The content overlapping with the above-described embodiment will not be described again, and the following description will focus on the differences.
図15乃至図17を参照すると、第10実施形態に係る発光素子300Dは、複数個の発光セル100と、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続するブリッジ電極150とを含む。
Referring to FIGS. 15 to 17, the light emitting device 300 </ b> D according to the tenth embodiment includes a plurality of light emitting
複数個の発光セル100の下部に基板110が配置される。複数個の発光セル100は、基板110によって支持され、基板110上に離隔して配置される。
A
隣接する2つの発光セル100の間に複数個のブリッジ電極150が配置される。ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続する。
A plurality of
ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130と、他方の発光セル100の第2電極140との間に複数個が離隔して配置される。
A plurality of
ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130と接する第1部分151と、他方の発光セル100の第2電極140と接する第2部分152と、前記第1部分151と前記第2部分152との間の第3部分153とを含むことができる。
The
前記第1部分151は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1電極130と接しながら第1導電型半導体層122上に配置され、前記第2部分152は、他方の発光セル100の第2電極140と接しながら第2導電型半導体層126上に配置され得る。前記第1部分151は、発光構造物120のエッチング領域Eによって露出された第1導電型半導体層122上に配置された部分であり得る。
The
前記第3部分153は、隣接する2つの発光セル100の間に配置され、基板110上に配置される。すなわち、前記第3部分153は、基板110上に配置された隣接する2つの発光セル100間の離隔空間に配置することができる。
The
前記第1部分151と第3部分153との間のブリッジ電極150、及び第2部分152と第3部分153との間のブリッジ電極150は、発光構造物120の側面に配置された部分であり得る。
The
図16を参照すると、第1電極130及び第2電極140は、第1方向の長手方向を有するように配列することができる。複数個のブリッジ電極150は、前記第1方向と異なる第2方向の長手方向をそれぞれ有することができる。一例として、第1方向と第2方向は直交してもよい。
Referring to FIG. 16, the
実施形態によって、ブリッジ電極150は、第1方向の長手方向を有するように配列された第1電極130と、第1方向の長手方向を有するように配列された第2電極140との間で、第2方向の長手方向を有するように複数個が離隔して配置されてもよい。このとき、複数個のブリッジ電極150のそれぞれは、第1部分151が第1電極130と接し、第2部分152が第2電極140と接する。
According to the embodiment, the
実施形態によって、ブリッジ電極150は、前記第1部分151または前記第2部分152の厚さが、それぞれ、第1電極130または第2電極140の厚さと同一であってもよい。
The
または、ブリッジ電極150は、前記第1部分151または前記第2部分152において、それぞれ、第1電極130または第2電極140と高さが同一であってもよい。すなわち、ブリッジ電極150は、第1部分151の表面において第1電極130と段差を有さずに第1電極130と接し、第2部分152の表面において第2電極140と段差を有さずに第2電極140と接することができる。
Alternatively, the
再び図15を参照すると、複数個の発光セル100の配列において一端部に配置される発光セル100Z1は、第2電極140が第2電極パッド140Pを含むことで、ワイヤボンディングのための面積を確保することができる。同様に、複数個の発光セル100の配列において他端部に配置される発光セル100Z2は、第1電極130が第1電極パッド130Pを含むことで、ワイヤボンディングのための面積を確保することができる。
Referring again to Figure 15, the
図18は、第11実施形態に係る発光素子の一部分の側断面図である。上述した実施形態と重複する内容は再び説明せず、以下では相違点を中心に説明する。図18の平面図は図16と同一であるので、図16を共に参照する。 FIG. 18 is a side sectional view of a part of the light emitting device according to the eleventh embodiment. The content overlapping with the above-described embodiment will not be described again, and the following description will focus on the differences. Since the plan view of FIG. 18 is the same as FIG. 16, reference is made to FIG.
図18を参照すると、第11実施形態に係る発光素子300Eは、複数個の発光セル100と、隣接する2つの発光セル100を電気的に接続するブリッジ電極150とを含む。
Referring to FIG. 18, a
第11実施形態に係る発光素子300Eが第10実施形態に係る発光素子300Dと異なる点は、ブリッジ電極150の厚さが全体的に一定でないという点である。
The
ブリッジ電極150は、隣接する2つの発光セル100のいずれか一方の発光セル100の第1導電型半導体層122上の第1部分151と、他方の発光セル100の第2導電型半導体層126上の第2部分152と、前記第1部分151と前記第2部分152との間の第3部分153とを含むことができ、第1部分151と第3部分153との間または第2部分152と第3部分153との間を電気的に接続して発光セル100の側面上に位置する第4部分154を含むことができる。前記第1部分151は、発光構造物120のエッチング領域Eによって露出された第1導電型半導体層122上に配置された部分であり得る。
The
前記第3部分153は、隣接する2つの発光セル100の間に配置され、基板110上に配置される。すなわち、前記第3部分153は、基板110上に配置された隣接する2つの発光セル100間の離隔空間に配置することができる。
The
前記第1部分151と第3部分153との間、及び第2部分152と第3部分153との間の側面には、ブリッジ電極150の第4部分154を配置することができる。前記第4部分154は、第1部分151と第3部分153、及び第2部分と第3部分を電気的に接続させる。
A
ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が、第1電極130の厚さT1または第2電極140の厚さT2よりも大きくてもよい。ブリッジ電極150は、全体的に厚さが一定ではなく、前記第3部分153の厚さTB3が、前記第1部分151または第2部分152の厚さよりも大きくてもよい。また、ブリッジ電極150は、前記第4部分154の厚さTB4が、前記第1部分151または第2部分152の厚さと同一であるか、又は前記第1部分151または第2部分152の厚さよりも小さくてもよい。ブリッジ電極150は、前記第3部分153の厚さTB3が最も大きくてもよい。
In the
第11実施形態によれば、ブリッジ電極150の少なくとも一部を厚く形成して、ブリッジ電極150の面積を広げることによって、発光素子の動作中に、狭い面積のブリッジ電極150に電流が集中してブリッジ電極150が焦げてしまうなどの信頼性低下の問題を改善することができる。
According to the eleventh embodiment, at least a part of the
実施形態によって、ブリッジ電極150は、前記第1部分151または前記第2部分152の厚さが、それぞれ、第1電極130または第2電極140の厚さと同一であってもよい。
The
または、ブリッジ電極150は、前記第1部分151または前記第2部分152において、それぞれ、第1電極130または第2電極140と高さが同一であってもよい。すなわち、ブリッジ電極150は、第1部分151の表面において第1電極130と段差を有さずに第1電極130と接し、第2部分152の表面において第2電極140と段差を有さずに第2電極140と接することができる。
Alternatively, the
図19は、第12実施形態に係る発光素子400Aの断面図である。図3と同一の図面符号は同一の構成を示し、同一構成については説明を省略する。
FIG. 19 is a cross-sectional view of a
図19を参照すると、基板110の上部表面には、発光構造物120から照射される光を散乱させて、光抽出を向上させる凹凸110aを形成することができる。例えば、基板110は、PSS(Patterned Sapphire Substrate)であってもよい。
Referring to FIG. 19,
凹凸110aは、隣接する発光セルの間に位置する基板110の上部面の一領域(以下、“基板110の第1領域S1”という)にも形成することができる。
The
基板110の第1領域S1に形成される凹凸110a上に配置される絶縁層160の一部は、凹凸110aに対応する曲面を有することができ、絶縁層160の曲面の形状は、凹凸110aの外周面の形状と同一であってもよい。
A portion of the first region S insulating layer 160 disposed on the uneven 110a formed on the first
また、基板110の第1領域S1に位置する絶縁層160上に配置されるブリッジ電極150の第3部分153の上部面には、基板110の凹凸110aに対応する凹凸153aを形成することができる。ブリッジ電極150の第3部分153の凹凸153aは、ブリッジ電極150の第3部分153の上部面から突出する複数の突出部を含むことができる。
In addition, an
ブリッジ電極150の第3部分153の厚さTB3は、ブリッジ電極150の第1部分151または第2部分152の厚さよりも大きくてもよい。
The thickness T B3 of the
また、ブリッジ電極150の第3部分153の厚さTB3は、ブリッジ電極150の第1部分151の厚さと第1厚さT5との和よりも小さいか又は同一であってもよい。第1厚さT5は、バッファ層112、アンドープ半導体層114、及び発光構造物120のエッチング領域Eの厚さの和であり得る。
The thickness T B3 of the
すなわち、基板110の上部面を基準としてブリッジ電極150の第3部分153の上部面の高さは、ブリッジ電極150の第1部分151の上部面の高さよりも小さいか又は同一であってもよい。
That is, the height of the upper surface of the
図20は、第13実施形態に係る発光素子400Bの断面図である。図12と同一の図面符号は同一の構成を示し、同一構成については説明を省略する。
FIG. 20 is a cross-sectional view of a
図20を参照すると、基板110の第1領域S1に位置する絶縁層160上に配置されるブリッジ電極150の第3部分153は、基板110の凹凸110aに対応する凹凸153aを備えることができる。ブリッジ電極150の第3部分153の凹凸153aは、ブリッジ電極150の第3部分153の上部面から突出する複数の突出部を含むことができる。
Referring to FIG. 20, the
第12実施形態と比較するとき、第3実施形態は、ブリッジ電極150の第1部分乃至第3部分151,152,153のそれぞれの厚さが全て同一であるという点で相違する。
When compared with the twelfth embodiment, the third embodiment is different in that the thicknesses of the first to
図21は、実施形態に係る発光素子を含んだ発光素子パッケージの一実施形態を示す図である。 FIG. 21 is a view showing an embodiment of a light emitting device package including the light emitting device according to the embodiment.
一実施形態に係る発光素子パッケージ400は、ボディー310と、前記ボディー310に配置された第1リードフレーム421及び第2リードフレーム422と、前記ボディー310に配置されて、前記第1リードフレーム421及び第2リードフレーム422と電気的に接続される上述した各実施形態に係る発光素子(200;300)と、前記キャビティに形成されたモールディング部440とを含む。前記ボディー310にはキャビティを形成することができる。発光素子(200;300)は、上述したように、直列または並列接続された複数個の発光セルが一つのチップとして形成されたものである。
The light emitting
前記ボディー310は、シリコン材質、合成樹脂材質、または金属材質を含んで形成されてもよい。前記ボディー310が金属材質などの導電性物質からなると、図示していないが、前記ボディー310の表面に絶縁層がコーティングされて、前記第1、2リードフレーム421,422間の電気的短絡を防止することができる。
The
前記第1リードフレーム421及び第2リードフレーム422は互いに電気的に分離され、前記発光素子(200;300)に電流を供給する。また、前記第1リードフレーム421及び第2リードフレーム422は、前記発光素子(200;300)から発生した光を反射させて光効率を増加させることができ、前記発光素子(200;300)から発生した熱を外部に排出させることもできる。
The
前記発光素子(200;300)は、前記ボディー310上に配置されるか、又は前記第1リードフレーム421または第2リードフレーム422上に配置されてもよい。本実施形態では、第1リードフレーム421と発光素子(200;300)が直接通電され、第2リードフレーム422と前記発光素子(200;300)はワイヤ430を介して接続されている。発光素子(200;300)は、ワイヤボンディング方式以外に、フリップチップ方式またはダイボンディング方式などによりリードフレーム421,422と接続されていてもよい。
The light emitting device (200; 300) may be disposed on the
前記モールディング部440は、前記発光素子(200;300)を包囲して保護することができる。また、前記モールディング部440上には蛍光体450が含まれて、前記発光素子(200;300)から放出される光の波長を変化させることができる。
The
蛍光体450は、ガーネット(Garnet)系蛍光体、シリケート(Silicate)系蛍光体、ナイトライド(Nitride)系蛍光体、またはオキシナイトライド(Oxynitride)系蛍光体を含むことができる。
The
例えば、前記ガーネット系蛍光体は、YAG(Y3Al5O12:Ce3+)またはTAG(Tb3Al5O12:Ce3+)であってもよく、前記シリケート系蛍光体は、(Sr,Ba,Mg,Ca)2SiO4:Eu2+であってもよく、前記ナイトライド系蛍光体は、SiNを含むCaAlSiN3:Eu2+であってもよく、前記オキシナイトライド系蛍光体は、SiONを含むSi6−xAlxOxN8−x:Eu2+(0<x<6)であってもよい。
For example, the garnet phosphor may be YAG (Y 3 Al 5 O 12 : Ce 3+ ) or TAG (Tb 3 Al 5 O 12 : Ce 3+ ), and the silicate phosphor may be (Sr, Ba, Mg, Ca) 2 SiO 4 : Eu 2+ may be used, and the nitride phosphor may be CaAlSiN 3 : Eu 2+ containing SiN, and the oxynitride phosphor may be SiON. Si 6-x containing Al x O x N 8-x : may be
前記発光素子(200;300)から放出された第1波長領域の光が、前記蛍光体450によって励起されて第2波長領域の光に変換され、前記第2波長領域の光は、レンズ(図示せず)を通過しながら光経路が変更され得る。
The light in the first wavelength region emitted from the light emitting device (200; 300) is excited by the
実施形態に係る発光素子パッケージは、複数個が基板上にアレイされ、前記発光素子パッケージの光経路上に光学部材である導光板、プリズムシート、拡散シートなどを配置することができる。このような発光素子パッケージ、基板、光学部材はライトユニットとして機能することができる。更に他の実施形態は、上述した実施形態に記載された半導体発光素子または発光素子パッケージを含む表示装置、指示装置、照明システムで具現することができ、例えば、照明システムはランプ、街灯を含むことができる。 A plurality of light emitting device packages according to the embodiment may be arrayed on a substrate, and a light guide plate, a prism sheet, a diffusion sheet, or the like, which is an optical member, may be disposed on the light path of the light emitting device package. Such a light emitting device package, a substrate, and an optical member can function as a light unit. Still other embodiments may be implemented with a display device, a pointing device, and a lighting system including the semiconductor light emitting device or the light emitting device package described in the above embodiments. For example, the lighting system includes a lamp and a streetlight. Can do.
以下では、上述した発光素子または発光素子パッケージが配置された照明システムの一実施形態として、ヘッドランプ及びバックライトユニットを説明する。 Hereinafter, a headlamp and a backlight unit will be described as an embodiment of an illumination system in which the above-described light emitting element or light emitting element package is arranged.
図22は、実施形態に係る発光素子または発光素子パッケージが配置されたヘッドランプの一実施形態を示す図である。 FIG. 22 is a diagram illustrating an embodiment of a headlamp in which the light emitting device or the light emitting device package according to the embodiment is arranged.
図22を参照すると、実施形態に係る発光素子または発光素子パッケージが配置された発光モジュール710から放出された光が、リフレクタ720及びシェード730で反射された後、レンズ740を透過して車体の前方に向かうことができる。
Referring to FIG. 22, the light emitted from the
前記発光モジュール710は、回路基板上に発光素子が複数個搭載されていてもよく、これに限定されない。
The
図23は、実施形態に係る発光素子パッケージが配置された表示装置の一実施形態を示す図である。 FIG. 23 is a diagram illustrating an embodiment of a display device in which the light emitting device package according to the embodiment is arranged.
図23を参照すると、実施形態に係る表示装置800は、発光モジュール830,835と、ボトムカバー810上の反射板820と、前記反射板820の前方に配置され、前記発光モジュールから放出される光を表示装置の前方にガイドする導光板840と、前記導光板840の前方に配置される第1プリズムシート850及び第2プリズムシート860と、前記第2プリズムシート860の前方に配置されるパネル870と、前記パネル870の前方に配置されるカラーフィルター880とを含んでなる。
Referring to FIG. 23, the
発光モジュールは、回路基板830上の上述した発光素子パッケージ835を含んでなる。ここで、回路基板830としてはPCBなどを使用することができ、発光素子パッケージ835は、実施形態のいずれか一つであってもよい。
The light emitting module includes the above-described light
前記ボトムカバー810は、表示装置800内の構成要素を収納することができる。前記反射板820は、同図のように別途の構成要素として設けてもよく、前記導光板840の後面や前記ボトムカバー810の前面に反射度の高い物質でコーティングする形態で設けることも可能である。
The
ここで、反射板820は、反射率が高く、超薄型に使用可能な素材を使用することができ、ポリエチレンテレフタレート(PolyEthylene Terephtalate;PET)を使用することができる。
Here, the reflecting
導光板840は、発光素子パッケージモジュールから放出される光を散乱させて、その光が液晶表示装置の画面の全領域にわたって均一に分布するようにする。したがって、導光板840は、屈折率及び透過率の良い材料からなり、ポリメチルメタクリレート(PolyMethylMethAcrylate;PMMA)、ポリカーボネート(PolyCarbonate;PC)、またはポリエチレン(PolyEthylene;PE)などで形成することができる。そして、導光板が省略されて、反射シート820上の空間で光が伝達されるエアガイド方式も可能である。
The
前記第1プリズムシート850は、支持フィルムの一面に、透光性かつ弾性を有する重合体材料で形成され、前記重合体は、複数個の立体構造が反復して形成されたプリズム層を有することができる。ここで、前記複数個のパターンは、図示のように、山と谷が反復的にストライプ状に備えられてもよい。
The
前記第2プリズムシート860における支持フィルムの一面の山と谷の方向は、前記第1プリズムシート850内の支持フィルムの一面の山と谷の方向と垂直をなすことができる。これは、発光モジュールと反射シートから伝達された光を前記パネル870の全方向に均一に分散させるためである。
The crest and trough directions on one surface of the support film in the
本実施形態において、前記第1プリズムシート850と第2プリズムシート860が光学シートを構成するが、前記光学シートは、他の組み合わせ、例えば、マイクロレンズアレイからなってもよく、拡散シートとマイクロレンズアレイとの組み合わせ、または一つのプリズムシートとマイクロレンズアレイとの組み合わせなどからなってもよい。
In the present embodiment, the
前記パネル870としては液晶表示パネル(Liquid crystal display)を配置してもよいが、液晶表示パネル以外に、光源を必要とする他の種類のディスプレイ装置を備えてもよい。
Although the liquid crystal display panel (Liquid crystal display) may be arranged as the
前記パネル870は、ガラスボディー同士間に液晶が位置し、光の偏光性を用いるために偏光板を両ガラスボディーに載せた状態となっている。ここで、液晶は、液体と固体の中間的な特性を有するもので、液体のように流動性を有する有機分子である液晶が、結晶のように規則的に配列された状態を有し、前記分子配列が外部電界によって変化する性質を用いて画像を表示する。
In the
表示装置に使用される液晶表示パネルは、アクティブマトリックス(Active Matrix)方式であって、各画素に供給される電圧を調節するスイッチとしてトランジスタを使用する。 A liquid crystal display panel used for a display device is an active matrix system, and a transistor is used as a switch for adjusting a voltage supplied to each pixel.
前記パネル870の前にはカラーフィルター880が備えられて、前記パネル870から投射された光を、それぞれの画素ごとに赤色、緑色及び青色の光のみを透過することで画像を表現することができる。
A
以上で各実施形態に説明された特徴、構造、効果などは、本発明の少なくとも一つの実施形態に含まれ、必ずしも一つの実施形態にのみ限定されるものではない。さらに、各実施形態で例示された特徴、構造、効果などは、本発明の属する分野における通常の知識を有する者によって、他の実施形態に対しても組み合わせ又は変形して実施可能である。したがって、このような組み合わせと変形に関する内容は、本発明の範囲に含まれるものと解釈しなければならない。 The features, structures, effects, and the like described in the above embodiments are included in at least one embodiment of the present invention, and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects, and the like exemplified in each embodiment can be implemented by combining or modifying other embodiments by those having ordinary knowledge in the field to which the present invention belongs. Therefore, contents relating to such combinations and modifications should be construed as being included in the scope of the present invention.
100 発光セル
110 基板
120 発光構造物
122 第1導電型半導体層
124 活性層
126 第2導電型半導体層
130 第1電極
140 第2電極
150 ブリッジ電極
151 第1部分
152 第2部分
153 第3部分
160 絶縁層
200A〜200C、300A〜300D 発光素子
310 パッケージボディー
421、422 第1、2リードフレーム
430 ワイヤ
440 モールディング部
450 蛍光体
710 発光モジュール
720 リフレクタ
730 シェード
800 表示装置
810 ボトムカバー
820 反射板
840 導光板
850 第1プリズムシート
860 第2プリズムシート
870 パネル
880 カラーフィルター
100
Claims (10)
前記基板上に配置される複数個の発光セルと、
隣接する2つの発光セルを電気的に接続するブリッジ電極と、
前記発光セルと前記ブリッジ電極との間に配置される絶縁層とを含み、
前記複数個の発光セルは、第1導電型半導体層、第2導電型半導体層、前記第1導電型半導体層と前記第2導電型半導体層との間の活性層を含む発光構造物と、前記第1導電型半導体層上の第1電極と、前記第2導電型半導体層上の第2電極とをそれぞれ含み、
前記ブリッジ電極は、
前記第1導電型半導体層の上面上に配置され、前記隣接する2つの発光セルのいずれか一方の第1電極に接する第1部分と、
前記第2導電型半導体層の上面上に配置され、前記隣接する2つの発光セルのいずれか他方の第2電極に接する第2部分と、
前記第1部分と前記第2部分との間に配置される第3部分と、
前記第1部分と前記第3部分との間及び前記第2部分と前記第3部分との間に配置される第4部分とを含み、
前記第3部分の厚さは、前記第1部分の厚さ、前記第2部分の厚さ、及び前記第4部分の厚さよりも大きく、
前記ブリッジ電極の前記第3部分の厚さは、前記第1電極の厚さ、及び前記第2電極の厚さよりも大きく、
前記基板は、前記隣接する2つの発光セルの間に位置する前記基板の上面の第1領域に形成される第1凹凸を含み、
前記ブリッジ電極の前記第3部分は、前記基板の前記第1領域上に配置され、
前記ブリッジ電極は、前記ブリッジ電極の前記第3部分の上面に形成される第2凹凸を含む、発光素子。 A substrate,
A plurality of light emitting cells disposed on the substrate;
A bridge electrode that electrically connects two adjacent light emitting cells;
An insulating layer disposed between the light emitting cell and the bridge electrode;
The plurality of light emitting cells includes a first conductive semiconductor layer, a second conductive semiconductor layer, a light emitting structure including an active layer between the first conductive semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer; A first electrode on the first conductivity type semiconductor layer and a second electrode on the second conductivity type semiconductor layer,
The bridge electrode is
A first portion disposed on an upper surface of the first conductive type semiconductor layer and in contact with a first electrode of one of the two adjacent light emitting cells;
A second portion disposed on the upper surface of the second conductive semiconductor layer and in contact with the other second electrode of the two adjacent light emitting cells;
A third portion disposed between the first portion and the second portion;
A fourth portion disposed between the first portion and the third portion and between the second portion and the third portion ;
The thickness of the third part is greater than the thickness of the first part, the thickness of the second part, and the thickness of the fourth part,
The thickness of the third portion of the bridge electrode is greater than the thickness of the first electrode and the thickness of the second electrode,
The substrate includes a first uneven that will be formed in the first region of the upper surface of the substrate located between the two adjacent light emitting cells,
The third portion of the bridge electrode is disposed on the first region of the substrate ;
The bridge electrode includes a second unevenness formed on an upper surface of the third portion of the bridge electrode.
前記曲面の形状は、前記第1凹凸の形状と同一である、請求項1ないし3のいずれかに記載の発光素子。 A portion of the insulating layer disposed on the first region has a curved surface,
Wherein the shape of the curved surface, the first an uneven same shape of light-emitting element according to any one of claims 1 to 3.
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