KR20150011310A - Light emitting device - Google Patents

Light emitting device Download PDF

Info

Publication number
KR20150011310A
KR20150011310A KR1020140083640A KR20140083640A KR20150011310A KR 20150011310 A KR20150011310 A KR 20150011310A KR 1020140083640 A KR1020140083640 A KR 1020140083640A KR 20140083640 A KR20140083640 A KR 20140083640A KR 20150011310 A KR20150011310 A KR 20150011310A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light emitting
electrode
semiconductor layer
bridge
emitting cells
Prior art date
Application number
KR1020140083640A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102194805B1 (en
Inventor
오소영
최병연
이지환
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to US14/336,574 priority Critical patent/US9673254B2/en
Priority to EP14177818.3A priority patent/EP2830094B1/en
Priority to CN201410351833.2A priority patent/CN104332482A/en
Priority to JP2014148938A priority patent/JP6442177B2/en
Publication of KR20150011310A publication Critical patent/KR20150011310A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102194805B1 publication Critical patent/KR102194805B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/36Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
    • H01L33/38Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape
    • H01L33/382Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape the electrode extending partially in or entirely through the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/08Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a plurality of light emitting regions, e.g. laterally discontinuous light emitting layer or photoluminescent region integrated within the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/20Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
    • H01L33/22Roughened surfaces, e.g. at the interface between epitaxial layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

Disclosed is a light emitting device capable of improving reliability. The light emitting device according to one embodiment of the present invention includes a plurality of light emitting cells and a bridge electrode which electrically connects two adjacent light emitting cells. Each light emitting cell includes a light emitting structure which includes a first conductive semiconductor layer, a second conductive semiconductor layer, and an active layer which is located between the first conductive semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer, a first electrode which is formed on the first conductive semiconductor layer, and a second electrode which is formed on the second conductive semiconductor layer. The bridge electrode has a thicker part than the first electrode or the second electrode.

Description

발광소자{LIGHT EMITTING DEVICE}[0001] LIGHT EMITTING DEVICE [0002]

실시 예는 발광 소자에 관한 것이다.An embodiment relates to a light emitting element.

반도체의 3-5족 또는 2-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Light Emitting Diode)나 레이저 다이오드와 같은 발광소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 색을 구현할 수 있으며, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광선도 구현이 가능하며, 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경친화성의 장점을 가진다.BACKGROUND ART Light emitting devices such as light emitting diodes and laser diodes using semiconductor materials of Group 3-5 or 2-6 group semiconductors have been widely used for various colors such as red, green, blue, and ultraviolet And it is possible to realize white light rays with high efficiency by using fluorescent materials or colors, and it is possible to realize low energy consumption, semi-permanent life time, quick response speed, safety and environment friendliness compared to conventional light sources such as fluorescent lamps and incandescent lamps .

따라서, 광 통신 수단의 송신 모듈, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트를 구성하는 냉음극관(CCFL: Cold Cathode Fluorescence Lamp)을 대체하는 발광 다이오드 백라이트, 형광등이나 백열 전구를 대체할 수 있는 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 및 신호등에까지 응용이 확대되고 있다.Therefore, a transmission module of the optical communication means, a light emitting diode backlight replacing a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) constituting a backlight of an LCD (Liquid Crystal Display) display device, a white light emitting element capable of replacing a fluorescent lamp or an incandescent lamp Diode lighting, automotive headlights, and traffic lights.

직렬 또는 병렬 연결된 복수 개의 발광 셀을 포함하는 발광소자에는 인접한 발광 셀 사이를 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(bridge electrode)이 존재한다. 복수 개의 발광 셀을 포함하는 발광소자에서는, 발광소자의 작동시 좁은 면적의 브릿지 전극으로 전류가 집중되면서 브릿지 전극이 타버리는 등 신뢰성 문제가 초래되기도 한다.A light emitting device including a plurality of light emitting cells connected in series or parallel has a bridge electrode for electrically connecting adjacent light emitting cells. In a light emitting device including a plurality of light emitting cells, a reliability problem may be caused, for example, when current flows to a bridge electrode having a small area during operation of the light emitting device and the bridge electrode is burnt.

실시예는 신뢰성이 향상된 발광소자를 제공하고자 한다.The embodiment attempts to provide a light emitting device with improved reliability.

일 실시예에 따른 발광소자는 복수 개의 발광 셀; 및 인접한 두 개의 발광 셀을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극;을 포함하고, 상기 복수 개의 발광 셀은 제1 도전형 반도체층, 제2 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층과 상기 제2 도전형 반도체층 사이의 활성층을 포함하는 발광 구조물과, 상기 제1 도전형 반도체층 상의 제1 전극과, 상기 제2 도전형 반도체층 상의 제2 전극을 각각 포함하며, 상기 브릿지 전극은 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극보다 두꺼운 부분을 갖는다.A light emitting device according to an embodiment includes a plurality of light emitting cells; And a bridge electrode electrically connecting the two adjacent light emitting cells, wherein the plurality of light emitting cells include a first conductive semiconductor layer, a second conductive semiconductor layer, a first conductive semiconductor layer, Type semiconductor layer, a first electrode on the first conductivity type semiconductor layer, and a second electrode on the second conductivity type semiconductor layer, wherein the bridge electrode comprises a first electrode Or a portion thicker than the second electrode.

상기 브릿지 전극의 폭이 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극의 폭보다 클 수 있다.The width of the bridge electrode may be greater than the width of the first electrode or the second electrode.

상기 발광 구조물은 일부가 식각되어 상기 제1 도전형 반도체층을 노출하는 식각 영역을 포함하고, 상기 제1 전극은 노출된 상기 제1 도전형 반도체층 상에 배치될 수 있다.The light emitting structure may include an etched region partially etched to expose the first conductive type semiconductor layer, and the first electrode may be disposed on the exposed first conductive type semiconductor layer.

상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 전극과 접하는 제1 부분, 다른 하나의 발광 셀의 제2 전극과 접하는 제2 부분, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분 사이의 제3 부분을 포함할 수 있다.The bridge electrode includes a first portion in contact with a first electrode of one of two adjacent light emitting cells, a second portion in contact with a second electrode of the other light emitting cell, a second portion in contact with the first portion and the second portion, As shown in FIG.

상기 브릿지 전극은 상기 제3 부분의 두께가 가장 클 수 있다.The thickness of the third portion of the bridge electrode may be the largest.

상기 제3 부분은 인접한 두 개의 발광 셀의 사이에 배치될 수 있다.The third portion may be disposed between adjacent two light emitting cells.

상기 브릿지 전극은 상기 제1 부분 또는 상기 제2 부분에서 각각 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극과 높이가 같을 수 있다.The bridge electrode may have the same height as the first electrode or the second electrode in the first portion or the second portion, respectively.

상기 브릿지 전극은 복수 개 존재할 수 있다.A plurality of the bridge electrodes may exist.

상기 제1 부분의 일부가 상기 제1 전극의 상부에 배치되고, 상기 제2 부분의 일부가 상기 제2 전극의 상부에 배치될 수 있다.A portion of the first portion may be disposed on top of the first electrode, and a portion of the second portion may be disposed on top of the second electrode.

상기 브릿지 전극은 상기 제1 부분과 상기 제3 부분의 사이 및 상기 제2 부분과 상기 제3 부분의 사이에 배치되는 제4 부분을 더 포함하고, 상기 제4 부분의 두께가 상기 제1 부분, 상기 제2 부분 또는 상기 제3 부분 각각의 두께보다 작을 수 있다.Wherein the bridge electrode further comprises a fourth portion disposed between the first portion and the third portion and between the second portion and the third portion, the thickness of the fourth portion being greater than the thickness of the first portion, And may be less than the thickness of each of the second portion and the third portion.

다른 실시예에 따른 발광소자는 복수 개의 발광 셀; 및 인접한 두 개의 발광 셀을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극;을 포함하고, 상기 복수 개의 발광 셀은 제1 도전형 반도체층, 제2 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층과 상기 제2 도전형 반도체층 사이의 활성층을 포함하는 발광 구조물을 각각 포함하며, 상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 도전형 반도체층과 다른 하나의 발광 셀의 제2 도전형 반도체층을 전기적으로 연결하고, 상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 사이에 복수 개 존재한다.A light emitting device according to another embodiment includes a plurality of light emitting cells; And a bridge electrode electrically connecting the two adjacent light emitting cells, wherein the plurality of light emitting cells include a first conductive semiconductor layer, a second conductive semiconductor layer, a first conductive semiconductor layer, Type semiconductor layer, and the bridge electrode includes a first conductivity-type semiconductor layer of one of the two light-emitting cells adjacent to the first conductivity-type semiconductor layer, and a second conductivity-type semiconductor layer of the other light- Layer, and a plurality of bridge electrodes are present between two adjacent light-emitting cells.

상기 복수 개의 발광 셀은 제1 도전형 반도체층 상의 제1 전극 및 상기 제2 도전형 반도체층 상의 제2 전극을 각각 더 포함하고, 상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 전극과 다른 하나의 발광 셀의 제2 전극 사이에 복수 개가 이격되어 배치될 수 있다.The plurality of light emitting cells may further include a first electrode on the first conductive type semiconductor layer and a second electrode on the second conductive type semiconductor layer, respectively, and the bridge electrode may include one of two adjacent light emitting cells A plurality of the first electrodes may be spaced apart from the second electrodes of the other one of the light emitting cells.

상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 제1 방향의 길이 방향을 갖고, 상기 복수 개의 브릿지 전극은 상기 제1 방향과 같은 길이 방향을 가질 수도 있고 상기 제1 방향과 다른 제2 방향의 길이 방향을 가질 수 있다.Wherein the first electrode and the second electrode have a longitudinal direction in a first direction and the plurality of bridge electrodes may have a longitudinal direction same as the first direction and a longitudinal direction in a second direction different from the first direction Lt; / RTI >

상기 복수 개의 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 도전형 반도체층 상의 제1 부분, 다른 하나의 발광 셀의 제2 도전형 반도체층 상의 제2 부분, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분 사이의 제3 부분을 각각 포함할 수 있다.Wherein the plurality of bridge electrodes comprise a first portion on a first conductive type semiconductor layer of one of two adjacent light emitting cells, a second portion on a second conductive type semiconductor layer of another light emitting cell, And a third portion between the first and second portions.

상기 제1 부분 또는 상기 제2 부분 각각의 두께가 상기 제3 부분의 두께와 동일할 수 있다.The thickness of each of the first portion or the second portion may be the same as the thickness of the third portion.

상기 복수의 브릿지 전극들 각각의 폭은 상기 제1 전극의 폭 또는 상기 제2 전극의 폭보다 넓을 수 있다.The width of each of the plurality of bridge electrodes may be wider than the width of the first electrode or the width of the second electrode.

상기 발광 소자는 상기 복수의 발광 셀 아래에 배치되는 기판; 및 인접하는 발광 셀들 사이에 위치하는 상기 기판의 상부면의 일 영역에 형성되는 제1 요철을 더 포함할 수 있다.The light emitting device includes: a substrate disposed under the plurality of light emitting cells; And first irregularities formed in one region of the upper surface of the substrate positioned between adjacent light emitting cells.

상기 브릿지 전극의 제3 부분은 상기 인접하는 발광 셀들 사이에 위치하는 상기 기판의 상부면의 상기 일 영역 상에 배치되고, 상기 브릿지 전극의 제3 부분의 상부면에는 상기 제1 요철에 대응하는 제2 요철이 형성될 수 있다.Wherein a third portion of the bridge electrode is disposed on the one area of the upper surface of the substrate positioned between the adjacent light emitting cells and the upper surface of the third portion of the bridge electrode 2 irregularities may be formed.

상기 기판의 상부면을 기준으로 상기 브릿지 전극의 제3 부분의 상부면의 높이는 상기 브릿지 전극의 제1 부분의 상부면의 높이보다 낮거나 동일할 수 있다.The height of the top surface of the third portion of the bridge electrode relative to the top surface of the substrate may be less than or equal to the height of the top surface of the first portion of the bridge electrode.

실시예에 따르면 브릿지 전극으로 전류가 집중되는 현상을 개선함으로써 신뢰성이 향상된 발광소자를 제작할 수 있다. 또한 저항이 높은 부분에서의 저항을 감소시켜 효율을 향상시킬 수 있다.According to the embodiment, it is possible to manufacture a light emitting device having improved reliability by improving the phenomenon of current concentration at the bridge electrode. Also, it is possible to improve the efficiency by reducing the resistance at the high resistance portion.

도 1은 제1 실시예에 따른 발광소자의 평면도.
도 2는 도 1의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 3은 도 2를 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도.
도 4는 제2 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 5는 제3 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 6은 제4 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 7은 도 6을 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도.
도 8은 제5 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도.
도 9는 제6 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도.
도 10은 제7 실시예에 따른 발광소자의 평면도.
도 11은 도 9의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 12는 도 11을 BB 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도.
도 13은 제8 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도.
도 14는 제9 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도.
도 15는 제10 실시예에 따른 발광소자의 평면도.
도 16은 도 15의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 17은 도 16을 BB 방향으로 절단하여 바라본 단면도.
도 18은 제11 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도.
도 19는 제12 실시 예에 따른 발광 소자의 단면도이다.
도 20은 제13 실시 예에 따른 발광 소자의 단면도이다.
도 21은 실시예들에 따른 발광소자를 포함한 발광소자 패키지의 일실시예를 도시한 도면.
도 22는 실시예들에 따른 발광소자 또는 발광소자 패키지가 배치된 헤드램프의 일실시예를 도시한 도면.
도 23은 실시예에 따른 발광소자 패키지가 배치된 표시장치의 일실시예를 도시한 도면.
1 is a plan view of a light emitting device according to a first embodiment;
Fig. 2 is an enlarged plan view of a portion of Fig. 1; Fig.
FIG. 3 is a cross-sectional view of FIG. 2 cut in a direction AA and viewed from the front; FIG.
4 is an enlarged plan view of a portion of a light emitting device according to a second embodiment;
5 is an enlarged plan view of a part of a light emitting device according to a third embodiment.
6 is an enlarged plan view of a part of a light emitting device according to a fourth embodiment;
FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 6; FIG.
8 is a side sectional view of a part of the light emitting device according to the fifth embodiment.
9 is a side sectional view of a part of the light emitting device according to the sixth embodiment.
10 is a plan view of a light emitting device according to a seventh embodiment.
Fig. 11 is an enlarged plan view of a portion of Fig. 9; Fig.
Fig. 12 is a cross-sectional view taken from the front, in which Fig. 11 is cut in the BB direction; Fig.
13 is a side sectional view of a portion of a light emitting device according to an eighth embodiment;
14 is a side sectional view of a part of a light emitting device according to the ninth embodiment;
15 is a plan view of a light emitting device according to the tenth embodiment.
Fig. 16 is an enlarged plan view of a portion of Fig. 15; Fig.
FIG. 17 is a cross-sectional view of FIG. 16 taken along line BB; FIG.
18 is a side sectional view of a part of the light emitting device according to the eleventh embodiment.
19 is a cross-sectional view of a light emitting device according to a twelfth embodiment.
20 is a cross-sectional view of a light emitting device according to a thirteenth embodiment.
21 is a view illustrating an embodiment of a light emitting device package including the light emitting device according to the embodiments.
FIG. 22 illustrates an embodiment of a headlamp in which a light emitting device or a light emitting device package according to embodiments is disposed. FIG.
23 is a view illustrating a display device in which a light emitting device package according to an embodiment is disposed.

이하, 실시 예들은 첨부된 도면 및 실시 예들에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. 실시 예의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "상/위(on)"에 또는 "하/아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상/위(on)"와 "하/아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. In the description of the embodiments, it is to be understood that each layer (film), region, pattern or structure may be referred to as being "on" or "under" a substrate, each layer It is to be understood that the terms " on "and " under" include both " directly "or" indirectly " do. In addition, the criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer are described with reference to the drawings.

도면에서 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기는 실제크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. 또한 동일한 참조번호는 도면의 설명을 통하여 동일한 요소를 나타낸다.In the drawings, dimensions are exaggerated, omitted, or schematically illustrated for convenience and clarity of illustration. Also, the size of each component does not entirely reflect the actual size. The same reference numerals denote the same elements throughout the description of the drawings.

도 1은 제1 실시예에 따른 발광소자의 평면도이고, 도 2는 도 1의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이고, 도 3은 도 2를 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도이다.FIG. 1 is a plan view of a light emitting device according to a first embodiment, FIG. 2 is a plan view showing an enlarged part of FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 제1 실시예에 따른 발광소자(200A)는 복수 개의 발광 셀(light emitting cell, 100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(bridge electrode, 150)을 포함한다.1 to 3, the light emitting device 200A according to the first embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode (not shown) for electrically connecting two adjacent light emitting cells 100 electrode, 150).

복수 개의 발광 셀(100)은 복수의 화합물 반도체층, 예를 들어 3족-5족 또는 2족-6족 원소의 반도체층을 이용한 LED(Light Emitting Diode)를 포함하며, LED는 청색, 녹색 또는 적색 등과 같은 광을 방출하는 유색 LED이거나, 백색 LED 또는 UV LED일 수 있다. LED의 방출광은 반도체층을 이루는 물질의 종류 및 농도를 변형하여 다양하게 구현될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The plurality of light emitting cells 100 include LEDs (Light Emitting Diodes) using semiconductor layers of a plurality of compound semiconductor layers, for example, Group 3-VI-5 or Group-VI-VI elements, A colored LED that emits light such as red light, or a white LED or a UV LED. The emitted light of the LED may be variously modified by changing the type and concentration of the material forming the semiconductor layer, but the present invention is not limited thereto.

복수 개의 발광 셀(100)의 하부에 기판(110)이 배치된다. 복수 개의 발광 셀(100)은 기판(110)에 의해 지지되며, 기판(110) 상에 서로 이격되어 배치된다.A substrate 110 is disposed below the plurality of light emitting cells 100. The plurality of light emitting cells 100 are supported by the substrate 110 and are disposed on the substrate 110 so as to be spaced apart from each other.

기판(110)은 반도체 물질 성장에 적합한 재료, 열전도성이 뛰어난 물질로 형성될 수 있다. 기판(110)은 예를 들어, 사파이어(Al2O3), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge, and Ga203 중 적어도 하나를 사용할 수 있다. 기판(110)에 대해 습식세척 또는 플라즈마 처리를 하여 표면의 불순물을 제거할 수 있다.The substrate 110 may be formed of a material having excellent thermal conductivity, which is suitable for semiconductor material growth. At least one of sapphire (Al 2 O 3 ), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge, and Ga 2 O 3 may be used as the substrate 110. The substrate 110 may be subjected to wet cleaning or plasma treatment to remove impurities on the surface.

복수 개의 발광 셀(100)은 제1 도전형 반도체층(122), 제2 도전형 반도체층(126), 제1 도전형 반도체층(122)과 제2 도전형 반도체층(126) 사이의 활성층(124)을 포함하는 발광 구조물(120)과, 제1 도전형 반도체층(122) 상의 제1 전극(130)과, 제2 도전형 반도체층(126) 상의 제2 전극(140)을 각각 포함한다.The plurality of light emitting cells 100 may include a first conductive semiconductor layer 122, a second conductive semiconductor layer 126, an active layer between the first conductive semiconductor layer 122 and the second conductive semiconductor layer 126, The first electrode 130 on the first conductive type semiconductor layer 122 and the second electrode 140 on the second conductive type semiconductor layer 126 include the light emitting structure 120 including the light emitting structure 124, do.

발광 구조물(120)은 예를 들어, 유기금속 화학 증착법(MOCVD; Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 화학 증착법(CVD; Chemical Vapor Deposition), 플라즈마 화학 증착법(PECVD; Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), 분자선 성장법(MBE; Molecular Beam Epitaxy), 수소화물 기상 성장법(HVPE; Hydride Vapor Phase Epitaxy) 등의 방법을 이용하여 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The light emitting structure 120 may be formed using a metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method, (MBE), hydride vapor phase epitaxy (HVPE), or the like, but the present invention is not limited thereto.

제1 도전형 반도체층(122)은 반도체 화합물로 형성될 수 있으며, 예를 들어 3족-5족 또는 2족-6족 등의 화합물 반도체로 형성될 수 있다. 또한 제1 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층(122)이 n형 반도체층인 경우, 상기 제1 도전형 도펀트는 n형 도펀트로서 Si, Ge, Sn, Se, Te 등을 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 상기 제1 도전형 반도체층(122)이 p형 반도체층인 경우, 상기 제1 도전형 도펀트는 p형 도펀트로서 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함할 수 있으나 이에 한정하지 않는다.The first conductive semiconductor layer 122 may be formed of a semiconductor compound, for example, a compound semiconductor such as a group III-V element or a group II-VI element. The first conductive type dopant may also be doped. When the first conductivity type semiconductor layer 122 is an n-type semiconductor layer, the first conductivity type dopant may include Si, Ge, Sn, Se, and Te as an n-type dopant, but is not limited thereto. When the first conductive semiconductor layer 122 is a p-type semiconductor layer, the first conductive dopant may include Mg, Zn, Ca, Sr, and Ba as a p-type dopant, but is not limited thereto.

제1 도전형 반도체층(122)은 AlxInyGa(1-x-y)N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 제1 도전형 반도체층(122)은 Ga, N, In, Al, As, P 중 적어도 하나 이상의 원소를 포함할 수 있으며, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, InP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.The first conductive semiconductor layer 122 includes a semiconductor material having a composition formula of Al x In y Ga (1-xy) N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? 1) can do. The first conductive semiconductor layer 122 may include at least one element selected from the group consisting of Ga, N, In, Al, As and P, and may include at least one of GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, and InP.

제2 도전형 반도체층(126)은 반도체 화합물로 형성될 수 있으며, 예를 들어 3족-5족 또는 2족-6족 등의 화합물 반도체로 형성될 수 있다. 또한 제2 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(126)이 p형 반도체층인 경우, 상기 제2 도전형 도펀트는 p형 도펀트로서 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 제2 도전형 반도체층(126)이 n형 반도체층인 경우, 상기 제2 도전형 도펀트는 n형 도펀트로서 Si, Ge, Sn, Se, Te 등을 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The second conductive semiconductor layer 126 may be formed of a semiconductor compound, and may be formed of a compound semiconductor such as a Group 3-Group 5 or a Group 2-Group 6, for example. The second conductivity type dopant may also be doped. When the second conductive semiconductor layer 126 is a p-type semiconductor layer, the second conductive dopant may include Mg, Zn, Ca, Sr, and Ba as a p-type dopant, but is not limited thereto. When the second conductivity type semiconductor layer 126 is an n-type semiconductor layer, the second conductivity type dopant may include Si, Ge, Sn, Se, Te and the like as the n-type dopant, but is not limited thereto.

제2 도전형 반도체층(126)은 AlxInyGa(1-x-y)N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 제2 도전형 반도체층(126)은 Ga, N, In, Al, As, P 중 적어도 하나 이상의 원소를 포함할 수 있으며, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, InP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.The second conductive semiconductor layer 126 includes a semiconductor material having a composition formula of Al x In y Ga (1-xy) N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? can do. The second conductive semiconductor layer 126 may include at least one element selected from the group consisting of Ga, N, In, Al, As, and P, and may include at least one of GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, and InP.

이하에서는, 제1 도전형 반도체층(122)이 n형 반도체층, 제2 도전형 반도체층(126)이 p형 반도체층인 경우를 예로 들어 설명한다.Hereinafter, the case where the first conductivity type semiconductor layer 122 is an n-type semiconductor layer and the second conductivity type semiconductor layer 126 is a p-type semiconductor layer will be described as an example.

상기 제2 도전형 반도체층(126) 상에는 상기 제2 도전형과 반대의 극성을 갖는 반도체, 예컨대 상기 제2 도전형 반도체층(126)이 p형 반도체층일 경우 n형 반도체층(미도시)을 형성할 수 있다. 이에 따라 발광 구조물은 n-p 접합 구조, p-n 접합 구조, n-p-n 접합 구조, p-n-p 접합 구조 중 어느 한 구조로 구현할 수 있다.An n-type semiconductor layer (not shown) may be formed on the second conductive type semiconductor layer 126 when the semiconductor having the opposite polarity to the second conductive type, for example, the second conductive type semiconductor layer 126 is a p- . Accordingly, the light emitting structure may have any one of an n-p junction structure, a p-n junction structure, an n-p-n junction structure, and a p-n-p junction structure.

제1 도전형 반도체층(122)과 제2 도전형 반도체층(126) 사이에 활성층(124)이 배치된다.The active layer 124 is disposed between the first conductivity type semiconductor layer 122 and the second conductivity type semiconductor layer 126.

활성층(124)은 전자와 정공이 서로 만나서 활성층(발광층) 물질 고유의 에너지 밴드에 의해서 결정되는 에너지를 갖는 빛을 방출하는 층이다. 제1 도전형 반도체층(122)이 n형 반도체층이고 제2 도전형 반도체층(126)이 p형 반도체층인 경우, 상기 제1 도전형 반도체층(122)으로부터 전자가 주입되고 상기 제2 도전형 반도체층(126)으로부터 정공이 주입될 수 있다.The active layer 124 is a layer in which electrons and holes meet each other to emit light having energy determined by the energy band inherent in the active layer (light emitting layer) material. When the first conductivity type semiconductor layer 122 is an n-type semiconductor layer and the second conductivity type semiconductor layer 126 is a p-type semiconductor layer, electrons are injected from the first conductivity type semiconductor layer 122, Holes can be injected from the conductive semiconductor layer 126. [

활성층(124)은 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 양자선(Quantum-Wire) 구조, 또는 양자 점(Quantum Dot) 구조 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 활성층(124)은 트리메틸 갈륨 가스(TMGa), 암모니아 가스(NH3), 질소 가스(N2), 및 트리메틸 인듐 가스(TMIn)가 주입되어 다중 양자 우물 구조가 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The active layer 124 may be formed of at least one of a single well structure, a multi-well structure, a quantum-wire structure, or a quantum dot structure. For example, the active layer 124 may be formed with a multiple quantum well structure by injecting trimethylgallium gas (TMGa), ammonia gas (NH 3 ), nitrogen gas (N 2 ), and trimethyl indium gas (TMIn) But is not limited thereto.

활성층(124)이 다중 우물 구조로 형성되는 경우, 활성층(124)의 우물층/장벽층은 InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, GaP(InGaP)/AlGaP 중 어느 하나 이상의 페어 구조로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 상기 우물층은 상기 장벽층의 밴드 갭보다 작은 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.InGaN / InGaN, GaN / AlGaN, InAlGaN / GaN, GaAs (InGaAs) / AlGaAs, GaP (InGaP ) / AlGaP, but the present invention is not limited thereto. The well layer may be formed of a material having a band gap smaller than the band gap of the barrier layer.

발광 구조물(120)과 기판(110) 사이에는 버퍼층(112)이 배치될 수 있다. 버퍼층(112)은 발광 구조물(120)과 기판(110)의 재료의 격자 부정합 및 열팽창 계수의 차이를 완화하기 위한 목적일 수 있다. 버퍼층(112)의 재료는 3족-5족 또는 2족-6족의 화합물 반도체일 수 있으며, 예를 들어, GaN, InN, AlN, InGaN, InAlGaN, AlInN 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.A buffer layer 112 may be disposed between the light emitting structure 120 and the substrate 110. The buffer layer 112 may serve to alleviate the difference in lattice mismatch and thermal expansion coefficient of the material of the light emitting structure 120 and the substrate 110. The material of the buffer layer 112 may be a Group III-V or Group II-VI compound semiconductor, and may be formed of at least one of GaN, InN, AlN, InGaN, InAlGaN, and AlInN.

기판(110)과 제1 도전형 반도체층(122) 사이에 언도프트 반도체층(114)이 배치될 수도 있다. 언도프트 반도체층(114)은 제1 도전형 반도체층(122)의 결정성 향상을 위해 형성되는 층으로, 제1 반도체층(122)과 동일한 물질 또는 제1 반도체층(122)과 다른 물질로 형성될 수 있다. 언도프트 반도체층(114)은 제1 도전형 도펀트가 도핑되지 않아 제1 도전형 반도체층(122)에 비해 낮은 전기 전도성을 나타낸다. 언도프트 반도체층(114)은 버퍼층(112)의 상부에서 제1 도전형 반도체층(122)과 접하여 배치될 수 있다. 언도프트 반도체층(114)은 버퍼층(112)의 성장 온도보다 높은 온도에서 성장되며, 버퍼층(112)에 비해 좋은 결정성을 나타낸다.An uncut semiconductor layer 114 may be disposed between the substrate 110 and the first conductivity type semiconductor layer 122. The undoped semiconductor layer 114 is formed to improve the crystallinity of the first conductivity type semiconductor layer 122 and may be formed of the same material as the first semiconductor layer 122 or a different material from the first semiconductor layer 122 . The undoped semiconductor layer 114 exhibits lower electrical conductivity than the first conductive type semiconductor layer 122 because the first conductive type dopant is not doped. The undoped semiconductor layer 114 may be disposed in contact with the first conductivity type semiconductor layer 122 at an upper portion of the buffer layer 112. The undoped semiconductor layer 114 grows at a temperature higher than the growth temperature of the buffer layer 112 and exhibits better crystallinity than the buffer layer 112.

실시예에 따라, 발광 구조물(120)은 측면이 경사면을 포함할 수 있다. 발광 구조물(120)의 측면이 경사면을 포함하는 경우, 경사면인 측면은 기판(110)과 둔각을 이룰 수 있다.According to an embodiment, the light emitting structure 120 may include a sloped side surface. When the side surface of the light emitting structure 120 includes the inclined surface, the inclined side surface may form an obtuse angle with the substrate 110.

발광 구조물(120)은 일부가 식각되어 제1 도전형 반도체층(122)을 노출하는 식각 영역(E)을 포함한다. 즉, 발광 구조물(120)의 제2 도전형 반도체층(126), 활성층(124) 및 제1 도전형 반도체층(122)의 일부가 선택적으로 식각되어 제1 도전형 반도체층(122)의 일부가 노출된다. 제1 전극(130)은 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치되며, 제2 전극(140)은 식각되지 않은 제2 도전형 반도체층(126) 상에 배치된다. 제1 전극(122)은 제1 도전형 반도체층(122)과 전기적으로 연결되며, 제2 전극(140)은 제2 도전형 반도체층(126)과 전기적으로 연결된다.The light emitting structure 120 includes an etching region E that is partially etched to expose the first conductivity type semiconductor layer 122. That is, a part of the second conductivity type semiconductor layer 126, the active layer 124 and the first conductivity type semiconductor layer 122 of the light emitting structure 120 is selectively etched to form a part of the first conductivity type semiconductor layer 122 Is exposed. The first electrode 130 is disposed on the first conductive type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E and the second electrode 140 is disposed on the untreated second conductive type semiconductor layer 126 . The first electrode 122 is electrically connected to the first conductive semiconductor layer 122 and the second electrode 140 is electrically connected to the second conductive semiconductor layer 126.

제1 전극(130)과 제2 전극(140)은 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 금(Au), 알루미늄(Al), 타이타늄(Ti), 백금(Pt), 바나듐(V), 텅스텐(W), 납(Pd), 구리(Cu), 로듐(Rh) 또는 이리듐(Ir) 중 적어도 하나를 포함하여 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다.The first electrode 130 and the second electrode 140 may be formed of a metal such as Mo, Cr, Ni, Au, Al, Layer structure including at least one of tungsten (V), tungsten (W), lead (Pd), copper (Cu), rhodium (Rh) or iridium (Ir).

제2 전극(140)이 형성되기 전 제2 도전형 반도체층(126) 상에는 투명 전극층(142)이 배치될 수 있다.The transparent electrode layer 142 may be disposed on the second conductive semiconductor layer 126 before the second electrode 140 is formed.

실시예에 따라, 제2 도전형 반도체층(126)이 노출되도록 투명 전극층(142)의 일부가 오픈되어 제2 도전형 반도체층(126)과 제2 전극(140)이 접할 수 있다.A portion of the transparent electrode layer 142 may be partially opened to expose the second conductive semiconductor layer 126 so that the second conductive semiconductor layer 126 and the second electrode 140 may be in contact with each other.

또는, 도 3에 도시된 바와 같이, 투명 전극층(142)을 사이에 두고 제2 도전형 반도체층(126)과 제2 전극(140)이 전기적으로 연결될 수도 있다.Alternatively, as shown in FIG. 3, the second conductive semiconductor layer 126 and the second electrode 140 may be electrically connected with the transparent electrode layer 142 interposed therebetween.

투명 전극층(142)은 제2 도전형 반도체층(126)의 전기적 특성을 향상시키고 제2 전극(140)과의 전기적 접촉을 개선하기 위한 것으로, 층 또는 복수의 패턴으로 형성될 수 있다.The transparent electrode layer 142 is formed to improve the electrical characteristics of the second conductive type semiconductor layer 126 and improve electrical contact with the second electrode 140, and may be formed in a layer or a plurality of patterns.

투명 전극층(142)에는 투광성 전도층과 금속이 선택적으로 사용될 수 있으며, 예를 들어, ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO(In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 또는 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으나, 이러한 재료에 한정되지 않는다.For example, a transparent conductive layer and a metal may be used for the transparent electrode layer 142. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (IZTO) ), IGZO (indium gallium zinc oxide), IGTO (indium gallium tin oxide), AZO (aluminum zinc oxide), ATO (antimony tin oxide), GZO (gallium zinc oxide), IZON TiO 2, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, ZnO, IGZO (In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx / ITO, Ni / IrOx / Au, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, and Hf.

인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 브릿지 전극(150)이 배치된다. 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결한다. 브릿지 전극(150)은, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)을 연속되게 연결함으로써 복수 개의 발광 셀(100)을 직렬 연결할 수 있다. 또는, 브릿지 전극(150)은, 도시하지는 않았으나, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)과 다른 하나의 발광 셀(100)에서 동일한 극성의 전극(130과 130; 140과 140)을 연결함으로써 복수 개의 발광 셀(100)을 병렬 연결할 수도 있다.A bridge electrode 150 is disposed between adjacent two light emitting cells 100. The bridge electrode 150 electrically connects the adjacent two light emitting cells 100. 1 to 3, the bridge electrode 150 is connected to the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the other of the light emitting cells 100 The plurality of light emitting cells 100 may be connected in series. Alternatively, the bridge electrode 150 may be connected to one of the two adjacent light emitting cells 100 and the other one of the light emitting cells 100, And the plurality of light emitting cells 100 may be connected in parallel.

일 예로서, 도 3을 참조하면, 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 직렬 연결한다. 구체적으로, 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중에서 어느 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)에서부터 발광 셀(100)의 측면 및 다른 하나의 발광 셀(100)의 측면을 따라 상기 다른 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)까지 연장되어 배치됨으로써, 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 직렬 연결할 수 있다.As an example, referring to FIG. 3, the bridge electrode 150 connects two adjacent light emitting cells 100 in series. Specifically, the bridge electrode 150 extends from the second electrode 140 of one of the two adjacent light emitting cells 100 to the side of the light emitting cell 100 and the other side of the light emitting cell 100, The second light emitting cells 100 are connected to the first electrode 130 of the other light emitting cell 100 in series.

브릿지 전극(150)은 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)과 동일한 물질을 포함하여 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 금(Au), 알루미늄(Al), 타이타늄(Ti), 백금(Pt), 바나듐(V), 텅스텐(W), 납(Pd), 구리(Cu), 로듐(Rh) 또는 이리듐(Ir) 중 적어도 하나를 포함하여 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다.The bridge electrode 150 may include the same material as the first electrode 130 or the second electrode 140. For example, the bridge electrode 150 may include at least one of molybdenum (Mo), chromium (Cr), nickel (Ni) At least one of Au, Al, Ti, Pt, V, W, Pd, Cu, Rh, Layer structure or a multi-layer structure.

발광 구조물(120)의 측면에는 절연층(160)이 배치된다. 절연층(160)은, 브릿지 전극(150)이 존재하는 부분에서는 발광 셀(100)과 브릿지 전극(150)의 사이에 배치된다.An insulating layer 160 is disposed on a side surface of the light emitting structure 120. The insulating layer 160 is disposed between the light emitting cell 100 and the bridge electrode 150 at the portion where the bridge electrode 150 is present.

절연층(160)은 인접한 발광 셀(100) 사이 또는 브릿지 전극(150)과 발광 셀(100) 사이를 전기적으로 분리하는 역할을 한다. 절연층(160)에 의해, 이웃하는 발광 셀(100) 사이의 전기적 쇼트를 막을 수 있고, 하나의 발광 셀(100)에서는 제1 도전형 반도체층(122)과 제2 도전형 반도체층(126) 사이의 전기적 쇼트를 방지할 수 있다.The insulating layer 160 electrically separates the adjacent light emitting cells 100 or between the bridge electrode 150 and the light emitting cells 100. The first conductive semiconductor layer 122 and the second conductive semiconductor layer 126 may be formed in one light emitting cell 100. In this case, Can be prevented.

절연층(160)은 비전도성 산화물 또는 질화물로 이루어질 수 있으며, 일 예로서, 실리콘 산화물(SiO2)층, 산화 질화물층, 산화 알루미늄층으로 이루어질 수 있으나 이에 한정하지 않는다.The insulating layer 160 may be made of a non-conductive oxide or nitride, and may include, for example, a silicon oxide (SiO 2 ) layer, an oxynitride layer, and an aluminum oxide layer.

브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)보다 두꺼운 부분을 가질 수 있다.The thickness of the bridge electrode 150 may not be uniform throughout. The bridge electrode 150 may have a thicker portion than the first electrode 130 or the second electrode 140.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 that is in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion 151 of the second light emitting cell 100 A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152, And a fourth portion 154 located on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting the portion 153 or the second portion 152 and the third portion 153. [

상기 제1 부분(151)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하면서 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치되며, 상기 제2 부분(152)은 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하면서 제2 도전형 반도체층(126) 상에 배치될 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다. The first portion 151 is disposed on the first conductive semiconductor layer 122 in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100, The second portion 152 may be disposed on the second conductive semiconductor layer 126 in contact with the second electrode 140 of the other light emitting cell 100. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductive type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

또한 상기 제1 부분(151)은, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130) 상에 위치할 수 있으며, 동시에 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된다. 상기 제2 부분(152)은 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140) 상에 위치할 수 있으며 또한 제2 도전형 반도체층(126) 상에 배치될 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.The first portion 151 may be located on the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the first conductive semiconductor layer 122 . The second portion 152 may be located on the second electrode 140 of the other light emitting cell 100 and may be disposed on the second conductive semiconductor layer 126. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductive type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

상기 제3 부분(153)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)의 사이에 배치되며, 기판(110) 상에 배치된다. 즉, 상기 제3 부분(153)은, 기판(110) 상에 배치된 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이의 이격 공간에 배치될 수 있다.The third portion 153 is disposed between the adjacent two light emitting cells 100 and is disposed on the substrate 110. That is, the third portion 153 may be disposed in a space between the adjacent two light emitting cells 100 disposed on the substrate 110.

상기 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 사이 및 제2 부분(152)과 제3 부분(153) 사이의 측면에는 브릿지 전극(150)의 제4 부분(154)이 배치될 수 있다. 상기 제4 부분(154)은 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 및 제2 부분과 제3 부분을 전기적으로 연결해준다.A fourth portion 154 of the bridge electrode 150 may be disposed between the first portion 151 and the third portion 153 and between the second portion 152 and the third portion 153 . The fourth portion 154 electrically connects the first portion 151 and the third portion 153 and the second portion and the third portion.

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 제1 전극(130)의 두께(T1) 또는 제2 전극(140)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않으며, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다.The bridge electrode 150 may be greater than the thickness (T 2) of the third part 153, the thickness (T B3) is the thickness of the first electrode (130), (T 1) or second electrode (140) of. The thickness of the bridge electrode 150 is not uniform throughout and the thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152. The bridging electrode 150 may be formed such that the thickness T B4 of the fourth portion 154 is equal to the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, May be less than the thickness of the second portion 152. The thickness (T B3 ) of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may be the largest.

실시예에 따르면, 브릿지 전극(150)의 적어도 일부를 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)보다 두껍게 형성하여 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써, 발광소자의 동작 중 좁은 면적의 브릿지 전극(150)으로 전류가 집중되어 브릿지 전극(150)이 타버리는 등의 신뢰성 저하 문제를 개선할 수 있다.At least a part of the bridge electrode 150 is formed thicker than the first electrode 130 or the second electrode 140 to enlarge the area of the bridge electrode 150 so that the area of the bridge electrode 150 It is possible to solve the reliability problem such that the current is concentrated on the bridge electrode 150 and the bridge electrode 150 is burnt.

실시예에 따라, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)의 두께가 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)의 두께와 같을 수 있다.The thickness of the first portion 151 or the second portion 152 of the bridge electrode 150 may be equal to the thickness of the first electrode 130 or the second electrode 140, respectively.

또는, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)에서 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)과 높이가 같을 수 있다. 즉, 브릿지 전극(150)은 제1 부분(151)의 표면에서 제1 전극(130)과 단차를 갖지 않고 제1 전극(130)과 접하며, 제2 부분(152)의 표면에서 제2 전극(140)과 단차를 갖지 않고 제2 전극(140)과 접할 수 있다.Alternatively, the bridge electrode 150 may be the same height as the first electrode 130 or the second electrode 140 in the first portion 151 or the second portion 152, respectively. That is, the bridge electrode 150 contacts the first electrode 130 without having a step with the first electrode 130 on the surface of the first portion 151, and the second electrode 152 on the surface of the second portion 152 140 and the second electrode 140 without a step.

다시 도 1을 참조하면, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 일 단부에 배치되는 발광 셀(100Z1)은 제2 전극(140)이 제2 전극 패드(140P)를 포함하여 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다. 마찬가지로, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 다른 단부에 배치되는 발광 셀(100Z2)은 제1 전극(130)이 제1 전극 패드(130P)를 포함하여 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다.Referring to FIG. 1 again, the light emitting cells 100Z 1 disposed at one end in the array of the plurality of light emitting cells 100 include the second electrode 140 including the second electrode pad 140P, The area can be secured. Likewise, in the light emitting cell 100Z 2 disposed at the other end in the arrangement of the plurality of light emitting cells 100, the first electrode 130 includes the first electrode pad 130P to secure an area for wire bonding have.

도 4는 제2 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이다. 상술한 실시예와 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 4를 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도는 도 3과 같으므로 도 3을 같이 참조한다.4 is an enlarged plan view showing a part of the light emitting device according to the second embodiment. The contents overlapping with the above embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below. 4 is cut in the AA direction, and the cross-sectional view as viewed from the front is the same as in FIG. 3, and therefore, FIG. 3 is also referred to.

도 4를 참조하면, 제2 실시예에 따른 발광소자(200B)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 4, the light emitting device 200B according to the second embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 for electrically connecting two adjacent light emitting cells 100. FIG.

브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않다. 브릿지 전극(150)은 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)보다 두꺼운 부분을 갖는다.The thickness of the bridge electrode 150 is not uniform throughout. The bridge electrode 150 has a thicker portion than the first electrode 130 or the second electrode 140.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 that is in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion 151 of the second light emitting cell 100 A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152, And a fourth portion 154 located on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting the portion 153 or the second portion 152 and the third portion 153. [

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 제1 전극(130)의 두께(T1) 또는 제2 전극(140)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않으며, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다.The bridge electrode 150 may be greater than the thickness (T 2) of the third part 153, the thickness (T B3) is the thickness of the first electrode (130), (T 1) or second electrode (140) of. The thickness of the bridge electrode 150 is not uniform throughout and the thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152. The bridging electrode 150 may be formed such that the thickness T B4 of the fourth portion 154 is equal to the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, May be less than the thickness of the second portion 152. The thickness (T B3 ) of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may be the largest.

제2 실시예에 따른 발광소자(200B)가 제1 실시예에 따른 발광소자(200A)와 다른 점은, 브릿지 전극(150)의 폭(WB)이 제1 전극(130)의 폭(W1) 또는 제2 전극(140)의 폭(W2)보다 크다는 점이다.The light emitting device 200B according to the second embodiment is different from the light emitting device 200A according to the first embodiment in that the width W B of the bridge electrode 150 is greater than the width W of the first electrode 130 1 ) or the width (W 2 ) of the second electrode 140.

브릿지 전극(150)의 폭(WB)은 25㎛ ~ 35㎛일 수 있다. 예컨대, 브릿지 전극(50)의 폭(WB)은 30㎛일 수 있다. 또한 제1 전극(130)의 폭(W1) 또는 제2 전극(140)의 폭(W2)은 5㎛ ~ 10㎛일 수 있다. 예컨대, 제1 전극(130)의 폭(W1) 또는 제2 전극(140)의 폭(W2)은 7㎛일 수 있으며, 제1 전극(130)의 폭(W1)은 제2 전극폭(W2)보다 좁거나 동일할 수 있다.The width W B of the bridge electrode 150 may be 25 탆 to 35 탆. For example, the width W B of the bridge electrode 50 may be 30 탆. The width W 1 of the first electrode 130 or the width W 2 of the second electrode 140 may be 5 μm to 10 μm. For example, the width W 1 of the first electrode 130 or the width W 2 of the second electrode 140 may be 7 μm, and the width W 1 of the first electrode 130 may be 7 μm, narrower than the width (W 2), or may be the same.

제2 실시예에 따르면, 브릿지 전극(150)의 폭(WB)을 제1 전극(130)의 폭(W1) 또는 제2 전극(140)의 폭(W2)보다 넓혀서 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써 신뢰성을 더욱 더 향상시킬 수 있으며 브릿지 전극(150)의 단선 불량 등의 문제를 개선할 수 있다. 브릿지 전극(150)은 발광 셀(100)의 에지 부분에 배치되기 때문에 브릿지 전극(150)의 폭(WB) 증가에 의한 광 흡수를 최소화할 수 있다.According to the second embodiment, the width of the bridge electrode (150) (W B) of the width of the first electrode (130) (W 1) or the second width of the electrode (140) (W 2) than the widen bridge electrode (150 The reliability can be further improved and problems such as disconnection of the bridge electrode 150 and the like can be solved. Since the bridge electrode 150 is disposed at the edge portion of the light emitting cell 100, light absorption due to an increase in the width W B of the bridge electrode 150 can be minimized.

도 5는 제3 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 5를 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도는 도 3과 같으므로 도 3을 같이 참조한다.5 is an enlarged plan view showing a part of the light emitting device according to the third embodiment. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below. 5 is cut in the AA direction, and the cross-sectional view as seen from the front is the same as in Fig. 3, and therefore, Fig. 3 is also referred to.

도 5를 참조하면, 제3 실시예에 따른 발광소자(200C)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 5, a light emitting device 200C according to the third embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 for electrically connecting two adjacent light emitting cells 100. FIG.

제3 실시예에 따른 발광소자(200C)가 제1 실시예에 따른 발광소자(200A)와 다른 점은, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 브릿지 전극(150)이 복수 개 배치된다는 점이다.The light emitting device 200C according to the third embodiment differs from the light emitting device 200A according to the first embodiment in that a plurality of bridge electrodes 150 are disposed between adjacent two light emitting cells 100 .

예컨대, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에는 서로 이격하는 2개의 브릿지 전극들(150)이 배치될 수 있다.For example, two bridge electrodes 150 spaced apart from each other may be disposed between adjacent two light emitting cells 100.

서로 이격하는 2개의 브릿지 전극들(150) 각각의 폭은 제1 전극(130)의 폭 또는 제2 전극(140)의 폭보다 클 수 있다.The width of each of the two bridge electrodes 150 spaced apart from each other may be greater than the width of the first electrode 130 or the width of the second electrode 140.

서로 이격하는 2개의 브릿지 전극들(150) 각각의 폭은 15㎛ ~ 25㎛일 수 있다. 예컨대, 2개의 브릿지 전극들(150) 각각의 폭은 20㎛일 수 있다. 또한 제1 전극(130)의 폭 또는 제2 전극(140)의 폭은 도 4에서 설명한 바와 동일할 수 있다.The width of each of the two bridge electrodes 150 spaced apart from each other may be 15 占 퐉 to 25 占 퐉. For example, the width of each of the two bridge electrodes 150 may be 20 占 퐉. The width of the first electrode 130 or the width of the second electrode 140 may be the same as that described in FIG.

브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않다. 각각의 브릿지 전극(150)은 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)보다 두꺼운 부분을 갖는다.The thickness of the bridge electrode 150 is not uniform throughout. Each bridge electrode 150 has a thicker portion than the first electrode 130 or the second electrode 140.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 각각 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 that is in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion 151 of the second light emitting cell 100 A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152, And a fourth portion 154 located on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting the third portion 153 or the second portion 152 and the third portion 153. [

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 제1 전극(130)의 두께(T1) 또는 제2 전극(140)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않으며, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다.The bridge electrode 150 may be greater than the thickness (T 2) of the third part 153, the thickness (T B3) is the thickness of the first electrode (130), (T 1) or second electrode (140) of. The thickness of the bridge electrode 150 is not uniform throughout and the thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152. The bridging electrode 150 may be formed such that the thickness T B4 of the fourth portion 154 is equal to the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, May be less than the thickness of the second portion 152. The thickness (T B3 ) of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may be the largest.

제3 실시예에 따르면, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 브릿지 전극(150)을 복수 개 배치하여 결과적으로 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힐 수 있으며, 어느 하나의 브릿지 전극(150)이 단선되더라도 다른 브릿지 전극(150)에 의해 단선 불량을 해소할 수 있으므로 신뢰성이 향상될 수 있다. 브릿지 전극(150)은 발광 셀(100)의 에지 부분에 배치되기 때문에 브릿지 전극(150)의 개수 증가에 의한 광 흡수를 최소화할 수 있다.According to the third embodiment, a plurality of bridge electrodes 150 may be disposed between adjacent two light emitting cells 100, and as a result, the area of the bridge electrode 150 may be enlarged. It is possible to solve the disconnection fault by the other bridge electrode 150 even if it is disconnected, so that the reliability can be improved. Since the bridge electrode 150 is disposed at the edge portion of the light emitting cell 100, light absorption due to an increase in the number of the bridge electrodes 150 can be minimized.

도 6은 제4 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이고, 도 7은 도 6을 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다.FIG. 6 is an enlarged plan view of a portion of the light emitting device according to the fourth embodiment, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below.

도 6 및 도 7을 참조하면, 제4 실시예에 따른 발광소자(200D)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.6 and 7, the light emitting device 200D according to the fourth embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 for electrically connecting two adjacent light emitting cells 100 .

브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)보다 두꺼운 부분을 가질 수 있다.The thickness of the bridge electrode 150 may not be uniform throughout. The bridge electrode 150 may have a thicker portion than the first electrode 130 or the second electrode 140.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 that is in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion 151 of the second light emitting cell 100 A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152, And a fourth portion 154 located on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting the portion 153 or the second portion 152 and the third portion 153. [

상기 제1 부분(151)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)의 상면과 접한다. 즉, 상기 제1 부분(151)은, 일부는, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122)의 상부에 배치되고, 또 다른 일부는, 상기 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)의 상부에 배치된다. 또한, 상기 제2 부분(152)은 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)의 상면과 접한다. 즉, 상기 제2 부분(152)은, 일부는, 상기 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126)의 상부에 배치되고, 또 다른 일부는, 상기 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)의 상부에 배치된다.The first portion 151 is in contact with the upper surface of the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100. That is, the first part 151 is partially disposed on the upper part of the first conductivity type semiconductor layer 122 of one of the two light emitting cells 100, and the other part Is disposed on the first electrode 130 of any one of the light emitting cells 100. The second portion 152 is in contact with the upper surface of the second electrode 140 of the other light emitting cell 100. That is, the second portion 152 is partially disposed on the second conductivity type semiconductor layer 126 of the other light emitting cell 100, and another portion is disposed on the other light emitting cell 100 (140) of the first electrode (100).

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 제1 전극(130)의 두께(T1) 또는 제2 전극(140)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않으며, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다. 실시예에 따르면, 발광 셀(100)의 전극(130, 140)과 브릿지 전극(150)의 연결부와 같이 저항이 큰 부분에서 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써, 발광소자의 동작 중 좁은 면적의 브릿지 전극(150)으로 전류가 집중되어 브릿지 전극(150)이 타버리는 등의 신뢰성 저하 문제를 개선할 수 있다.The bridge electrode 150 may be greater than the thickness (T 2) of the third part 153, the thickness (T B3) is the thickness of the first electrode (130), (T 1) or second electrode (140) of. The thickness of the bridge electrode 150 is not uniform throughout and the thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152. The bridging electrode 150 may be formed such that the thickness T B4 of the fourth portion 154 is equal to the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, May be less than the thickness of the second portion 152. The thickness (T B3 ) of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may be the largest. The width of the bridge electrode 150 is increased in a portion having a large resistance such as a connection portion between the electrodes 130 and 140 of the light emitting cell 100 and the bridge electrode 150, It is possible to solve the reliability problem such that the current is concentrated in the bridge electrode 150 of the bridge electrode 150 and the bridge electrode 150 is burnt.

도 8은 제5 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 8의 평면도는 도 6과 같으므로 도 6을 같이 참조한다.8 is a side cross-sectional view of a portion of the light emitting device according to the fifth embodiment. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below. Since the plan view of FIG. 8 is the same as FIG. 6, FIG. 6 is also referred to.

도 8을 참조하면, 제5 실시예에 따른 발광소자(200E)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 8, the light emitting device 200E according to the fifth embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 for electrically connecting two adjacent light emitting cells 100. FIG.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다.상기 제1 부분(151)은 제1 전극(130)의 상면 및 적어도 일 측면과 접할 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 제1 전극(130)을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 또한, 상기 제2 부분(152)은 제2 전극(140)의 상면 및 적어도 일 측면과 접할 수 있다. 상기 제2 부분(152)은 제2 전극(140)을 둘러싸도록 배치될 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 that is in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion 151 of the second light emitting cell 100 A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152, And may include a fourth portion 154 that is located on the side surface of the light emitting cell 100 by electrically connecting the portion 153 or the second portion 152 to the third portion 153. [ The first portion 151 may be in contact with the upper surface and at least one side surface of the first electrode 130. The first portion 151 may be disposed to surround the first electrode 130. The second portion 152 may be in contact with the upper surface and at least one side surface of the second electrode 140. The second portion 152 may be disposed to surround the second electrode 140.

상기 제1 부분(151)은 제1 도전형 반도체층(122) 상에 위치하는 부분의 두께(TB11)와 제1 전극(130) 상에 위치하는 부분의 두께(TB12)가 실질적으로 동일할 수 있다. 또한, 상기 제2 부분(152)은 제2 도전형 반도체층(126) 상에 위치하는 부분의 두께(TB21)와 제2 전극(140) 상에 위치하는 부분의 두께(TB22)가 실질적으로 동일할 수 있다.The first portion 151 may be formed such that the thickness TB 11 of the portion located on the first conductivity type semiconductor layer 122 and the thickness TB 12 of the portion located on the first electrode 130 are substantially equal can do. The second portion 152 is formed such that the thickness TB 21 of the portion located on the second conductivity type semiconductor layer 126 and the thickness TB 22 of the portion located on the second electrode 140 are substantially . ≪ / RTI >

도 9는 제6 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다.9 is a side cross-sectional view of a part of the light emitting device according to the sixth embodiment. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below.

도 9를 참조하면, 제6 실시예에 따른 발광소자(200F)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 9, the light emitting device 200F according to the sixth embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 for electrically connecting two adjacent light emitting cells 100. FIG.

발광소자(200F)는 브릿지 전극(152)과 제1 전극(130)이 전기적으로 연결되는 부분 및 브릿지 전극(152)과 제2 전극(140)이 전기적으로 연결되는 부분을 제외하고, 발광소자(200F)의 표면에 패시베이션층(160)이 배치될 수 있다.The light emitting device 200F includes a light emitting element 200B except for a portion where the bridge electrode 152 and the first electrode 130 are electrically connected and a portion where the bridge electrode 152 and the second electrode 140 are electrically connected, The passivation layer 160 may be disposed on the surface of the passivation layer 200F.

도 10은 제7 실시예에 따른 발광소자의 평면도이고, 도 11은 도 9의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이고, 도 12는 도 11을 BB 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다.FIG. 10 is a plan view of the light emitting device according to the seventh embodiment, FIG. 11 is an enlarged plan view of a portion of FIG. 9, and FIG. 12 is a cross-sectional view taken along the BB direction in FIG. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below.

도 10 내지 도 12를 참조하면, 제7 실시예에 따른 발광소자(300A)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.10 to 12, a light emitting device 300A according to the seventh embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 for electrically connecting two adjacent light emitting cells 100 .

복수 개의 발광 셀(100)의 하부에 기판(110)이 배치된다. 복수 개의 발광 셀(100)은 기판(110)에 의해 지지되며, 기판(110) 상에 서로 이격되어 배치된다.A substrate 110 is disposed below the plurality of light emitting cells 100. The plurality of light emitting cells 100 are supported by the substrate 110 and are disposed on the substrate 110 so as to be spaced apart from each other.

인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 복수 개의 브릿지 전극(150)이 배치된다. 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결한다.A plurality of bridge electrodes 150 are disposed between adjacent two light emitting cells 100. The bridge electrode 150 electrically connects the adjacent two light emitting cells 100.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122)과 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126)을 전기적으로 연결할 수 있다.The bridge electrode 150 is connected to the first conductive semiconductor layer 122 of one of the two light emitting cells 100 and the second conductive semiconductor layer 122 of the other light emitting cell 100 126 can be electrically connected.

제4 실시예에 따르면, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 브릿지 전극(150)을 복수 개 배치하여 결과적으로 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힐 수 있으며, 어느 하나의 브릿지 전극(150)이 단선되더라도 다른 브릿지 전극(150)에 의해 단선 불량을 해소할 수 있으므로 신뢰성이 향상될 수 있다.According to the fourth embodiment, a plurality of bridge electrodes 150 may be disposed between adjacent two light emitting cells 100, resulting in enlargement of the area of the bridge electrode 150, and any one of the bridge electrodes 150 It is possible to solve the disconnection fault by the other bridge electrode 150 even if it is disconnected, so that the reliability can be improved.

복수 개의 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122) 상의 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126) 상의 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 각각 포함할 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.The plurality of bridge electrodes 150 are formed on the first portion 151 of the first conductivity type semiconductor layer 122 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the other portion of the light emitting cells 100 And a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152. The first portion 151 and the second portion 152 of the second conductive semiconductor layer 126 may be formed of the same material. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductive type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

상기 제3 부분(153)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)의 사이에 배치되며, 기판(110) 상에 배치된다. 즉, 상기 제3 부분(153)은, 기판(110) 상에 배치된 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이의 이격 공간에 배치될 수 있다.The third portion 153 is disposed between the adjacent two light emitting cells 100 and is disposed on the substrate 110. That is, the third portion 153 may be disposed in a space between the adjacent two light emitting cells 100 disposed on the substrate 110.

상기 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 사이의 브릿지 전극(150) 및 제2 부분(152)과 제3 부분(153) 사이의 브릿지 전극(150)은 발광 구조물(120)의 측면에 배치된 부분일 수 있다.The bridge electrode 150 between the first part 151 and the third part 153 and the bridge electrode 150 between the second part 152 and the third part 153 are formed on the side surface of the light emitting structure 120 As shown in FIG.

제7 실시예에서, 브릿지 전극(150)은 별도의 제1 전극 또는 제2 전극 없이 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122) 및 제2 도전형 반도체층(126)과 직접 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122)과 제1 부분(151)이 접하고, 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126)과 제2 부분(152)이 접할 수 있다.In the seventh embodiment, the bridge electrode 150 is directly electrically connected to the first conductivity type semiconductor layer 122 and the second conductivity type semiconductor layer 126 of the light emitting cell 100 without a separate first or second electrode. . That is, the bridge electrode 150 is formed such that the first conductive type semiconductor layer 122 and the first portion 151 of one of the adjacent two light emitting cells 100 are in contact with each other, The second conductive semiconductor layer 126 and the second portion 152 of the first conductive semiconductor layer 100 can be in contact with each other.

도 10을 참조하면, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 일 단부에 배치되는 발광 셀(100Z1)은 제2 도전형 반도체층(126) 상에 제2 전극 패드(140P)가 배치되어 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다. 마찬가지로, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 다른 단부에 배치되는 발광 셀(100Z2)은 제1 도전형 반도체층(122) 상에 제1 전극 패드(130P)가 배치되어 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다.10, the light emitting cells (100Z 1) disposed at one end in an array of a plurality of light emitting cells 100 has a second electrode pad (140P) on the conductive semiconductor layer 126 is disposed wires An area for bonding can be ensured. Similarly, the light emitting cells (100Z 2) disposed in an array to the other end of the plurality of light emitting cells 100 are disposed a first electrode pad (130P) on a first conductive type semiconductor layer 122 is an area for wire bonding .

도 13은 제8 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 13의 평면도는 도 11과 같으므로 도 11을 같이 참조한다.13 is a side cross-sectional view of a part of the light emitting device according to the eighth embodiment. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below. The plan view of FIG. 13 is the same as FIG. 11, and therefore, FIG. 11 is also referred to.

도 13을 참조하면, 제8 실시예에 따른 발광소자(300B)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 13, the light emitting device 300B according to the eighth embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 for electrically connecting two adjacent light emitting cells 100. FIG.

제8 실시예에 따른 발광소자(300B)가 제7 실시예에 따른 발광소자(300A)와 다른 점은, 브릿지 전극(150)의 두께가 전체적으로 일정하지 않다는 점이다.The light emitting device 300B according to the eighth embodiment differs from the light emitting device 300A according to the seventh embodiment in that the thickness of the bridge electrode 150 is not uniform throughout.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122) 상의 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126) 상의 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.The bridge electrode 150 is connected to the first portion 151 on the first conductive type semiconductor layer 122 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the first portion 151 of the other light emitting cell 100 A second portion 152 on the second conductive semiconductor layer 126, a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152, and a first portion 151 And a fourth portion 154 located on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting the third portion 153 or the second portion 152 and the third portion 153 have. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductive type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

상기 제3 부분(153)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)의 사이에 배치되며, 기판(110) 상에 배치된다. 즉, 상기 제3 부분(153)은, 기판(110) 상에 배치된 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이의 이격 공간에 배치될 수 있다.The third portion 153 is disposed between the adjacent two light emitting cells 100 and is disposed on the substrate 110. That is, the third portion 153 may be disposed in a space between the adjacent two light emitting cells 100 disposed on the substrate 110.

상기 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 사이 및 제2 부분(152)과 제3 부분(153) 사이의 측면에는 브릿지 전극(150)의 제4 부분(154)이 배치될 수 있다. 상기 제4 부분(154)은 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 및 제2 부분과 제3 부분을 전기적으로 연결해준다.A fourth portion 154 of the bridge electrode 150 may be disposed between the first portion 151 and the third portion 153 and between the second portion 152 and the third portion 153 . The fourth portion 154 electrically connects the first portion 151 and the third portion 153 and the second portion and the third portion.

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151)의 두께(TB1) 또는 상기 제2 부분(152)의 두께(TB2)보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다.The bridge electrode 150 may be formed such that the thickness T B3 of the third portion 153 is greater than the thickness T B1 of the first portion 151 or the thickness T B2 of the second portion 152 have. The bridging electrode 150 may be formed such that the thickness T B4 of the fourth portion 154 is equal to the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, May be less than the thickness of the second portion 152. The thickness (T B3 ) of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may be the largest.

제8 실시예에 따르면, 브릿지 전극(150)의 적어도 일부를 두껍게 형성하여 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써, 발광소자의 동작 중 좁은 면적의 브릿지 전극(150)으로 전류가 집중되어 브릿지 전극(150)이 타버리는 등의 신뢰성 저하 문제를 개선할 수 있다.According to the eighth embodiment, at least a part of the bridge electrode 150 is formed thick to widen the area of the bridge electrode 150, so that current is concentrated on the bridge electrode 150 having a small area during the operation of the light emitting device, It is possible to solve the problem of reliability degradation such as burning of the light emitting diode 150.

도 14는 제9 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 14의 평면도는 도 11과 같으므로 도 11을 같이 참조한다.14 is a side sectional view of a part of the light emitting device according to the ninth embodiment. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below. The plan view of FIG. 14 is the same as FIG. 11, and therefore, FIG. 11 is also referred to.

도 14를 참조하면, 제9 실시예에 따른 발광소자(300C)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 14, the light emitting device 300C according to the ninth embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 for electrically connecting two adjacent light emitting cells 100. FIG.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122) 상의 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126) 상의 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.The bridge electrode 150 is connected to the first portion 151 on the first conductive type semiconductor layer 122 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the first portion 151 of the other light emitting cell 100 A second portion 152 on the second conductive semiconductor layer 126, a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152, and a first portion 151 And a fourth portion 154 located on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting the third portion 153 or the second portion 152 and the third portion 153 have. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductive type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

제9 실시예에 따른 발광소자(300C)가 제8 실시예에 따른 발광소자(300B)와 다른 점은, 제1 부분(151)의 두께(TB1) 또는 제2 부분(152)의 두께(TB2)가 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)보다 크다는 것이다. 상기 제1 부분(151)의 두께(TB1) 또는 제2 부분(152)의 두께(TB2)는 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)보다 작거나, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)와 같거나 비슷할 수 있다.The light emitting device 300C according to the ninth embodiment differs from the light emitting device 300B according to the eighth embodiment in that the thickness T B1 of the first portion 151 or the thickness T H2 of the second portion 152 T B2 is greater than the thickness T B4 of the fourth portion 154. The thickness T B1 of the first portion 151 or the thickness T B2 of the second portion 152 may be less than the thickness T B3 of the third portion 153, (T B3 ) of the inner surface of the base plate.

실시예에 따르면, 발광 셀(100)의 제1,2 도전형 반도체층(122, 126)과 브릿지 전극(150)의 연결부와 같이 저항이 큰 부분에서 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써, 발광소자의 동작 중 좁은 면적의 브릿지 전극(150)으로 전류가 집중되어 브릿지 전극(150)이 타버리는 등의 신뢰성 저하 문제를 개선할 수 있다.The area of the bridge electrode 150 is widened at a portion having a large resistance such as a connection portion between the first and second conductive semiconductor layers 122 and 126 and the bridge electrode 150 of the light emitting cell 100, It is possible to solve the reliability problem such that the current is concentrated on the bridge electrode 150 having a small area during the operation of the light emitting element and the bridge electrode 150 is burnt.

도 15는 제10 실시예에 따른 발광소자의 평면도이고, 도 16은 도 15의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이고, 도 17은 도 16을 BB 방향으로 절단하여 바라본 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다.FIG. 15 is a plan view of the light emitting device according to the tenth embodiment, FIG. 16 is a plan view showing an enlarged part of FIG. 15, and FIG. 17 is a sectional view taken along line BB in FIG. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below.

도 15 내지 도 17를 참조하면, 제10 실시예에 따른 발광소자(300D)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.15 to 17, a light emitting device 300D according to the tenth embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 for electrically connecting two adjacent light emitting cells 100 .

복수 개의 발광 셀(100)의 하부에 기판(110)이 배치된다. 복수 개의 발광 셀(100)은 기판(110)에 의해 지지되며, 기판(110) 상에 서로 이격되어 배치된다.A substrate 110 is disposed below the plurality of light emitting cells 100. The plurality of light emitting cells 100 are supported by the substrate 110 and are disposed on the substrate 110 so as to be spaced apart from each other.

인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 복수 개의 브릿지 전극(150)이 배치된다. 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결한다.A plurality of bridge electrodes 150 are disposed between adjacent two light emitting cells 100. The bridge electrode 150 electrically connects the adjacent two light emitting cells 100.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140) 사이에 복수 개가 이격되어 배치된다.The bridge electrode 150 is formed between the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the second electrode 140 of the other light emitting cell 100 Respectively.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 that is in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion 151 of the second light emitting cell 100 A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152.

상기 제1 부분(151)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하면서 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치되며, 상기 제2 부분(152)은 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하면서 제2 도전형 반도체층(126) 상에 배치될 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.The first portion 151 is disposed on the first conductive semiconductor layer 122 in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100, The second portion 152 may be disposed on the second conductive semiconductor layer 126 in contact with the second electrode 140 of the other light emitting cell 100. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductive type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

상기 제3 부분(153)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)의 사이에 배치되며, 기판(110) 상에 배치된다. 즉, 상기 제3 부분(153)은, 기판(110) 상에 배치된 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이의 이격 공간에 배치될 수 있다.The third portion 153 is disposed between the adjacent two light emitting cells 100 and is disposed on the substrate 110. That is, the third portion 153 may be disposed in a space between the adjacent two light emitting cells 100 disposed on the substrate 110.

상기 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 사이의 브릿지 전극(150) 및 제2 부분(152)과 제3 부분(153) 사이의 브릿지 전극(150)은 발광 구조물(120)의 측면에 배치된 부분일 수 있다.The bridge electrode 150 between the first part 151 and the third part 153 and the bridge electrode 150 between the second part 152 and the third part 153 are formed on the side surface of the light emitting structure 120 As shown in FIG.

도 16을 참조하면, 제1 전극(130) 및 제2 전극(140)은 제1 방향의 길이 방향을 갖도록 배열될 수 있다. 복수 개의 브릿지 전극(150)은 상기 제1 방향과 다른 제2 방향의 길이 방향을 각각 가질 수 있다. 일 예로서, 제1 방향과 제2 방향은 직교할 수 있다.Referring to FIG. 16, the first electrode 130 and the second electrode 140 may be arranged to have a longitudinal direction in the first direction. The plurality of bridge electrodes 150 may have a longitudinal direction in a second direction different from the first direction. As an example, the first direction and the second direction may be orthogonal.

실시예에 따라, 브릿지 전극(150)은 제1 방향의 길이 방향을 갖도록 배열된 제1 전극(130)과 제1 방향의 길이 방향을 갖도록 배열된 제2 전극(140)의 사이에서 제2 방향의 길이 방향을 갖도록 복수 개가 이격되어 배치될 수 있다. 이때, 복수 개의 브릿지 전극(150) 각각은 제1 부분(151)이 제1 전극(130)과 접하고 제2 부분(152)이 제2 전극(130)과 접한다.According to an embodiment, the bridge electrode 150 is disposed between the first electrode 130 arranged to have a longitudinal direction in the first direction and the second electrode 140 arranged to have a longitudinal direction in the first direction, A plurality of spaced apart portions may be disposed so as to have a lengthwise direction. At this time, the first portion 151 of the plurality of bridge electrodes 150 is in contact with the first electrode 130, and the second portion 152 of the plurality of bridge electrodes 150 is in contact with the second electrode 130.

실시예에 따라, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)의 두께가 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)의 두께와 같을 수 있다.The thickness of the first portion 151 or the second portion 152 of the bridge electrode 150 may be equal to the thickness of the first electrode 130 or the second electrode 140, respectively.

또는, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)에서 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)과 높이가 같을 수 있다. 즉, 브릿지 전극(150)은 제1 부분(151)의 표면에서 제1 전극(130)과 단차를 갖지 않고 제1 전극(130)과 접하며, 제2 부분(152)의 표면에서 제2 전극(140)과 단차를 갖지 않고 제2 전극(140)과 접할 수 있다.Alternatively, the bridge electrode 150 may be the same height as the first electrode 130 or the second electrode 140 in the first portion 151 or the second portion 152, respectively. That is, the bridge electrode 150 contacts the first electrode 130 without having a step with the first electrode 130 on the surface of the first portion 151, and the second electrode 152 on the surface of the second portion 152 140 and the second electrode 140 without a step.

다시 도 15를 참조하면, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 일 단부에 배치되는 발광 셀(100Z1)은 제2 전극(140)이 제2 전극 패드(140P)를 포함하여 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다. 마찬가지로, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 다른 단부에 배치되는 발광 셀(100Z2)은 제1 전극(130)이 제1 전극 패드(130P)를 포함하여 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다.Referring back to Figure 15, the light emitting cells (100Z 1) disposed at one end in an array of a plurality of light emitting cell 100 is second electrode 140 and a second electrode pad (140P) for wire bonding The area can be secured. Likewise, in the light emitting cell 100Z 2 disposed at the other end in the arrangement of the plurality of light emitting cells 100, the first electrode 130 includes the first electrode pad 130P to secure an area for wire bonding have.

도 18은 제11 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 18의 평면도는 도 16과 같으므로 도 16을 같이 참조한다.18 is a side sectional view of a part of the light emitting device according to the eleventh embodiment. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below. The plan view of FIG. 18 is the same as FIG. 16, and therefore, FIG. 16 is also referred to.

도 18을 참조하면, 제11 실시예에 따른 발광소자(300E)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 18, the light emitting device 300E according to the eleventh embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 for electrically connecting two adjacent light emitting cells 100. FIG.

제11 실시예에 따른 발광소자(300E)가 제10 실시예에 따른 발광소자(300D)와 다른 점은, 브릿지 전극(150)의 두께가 전체적으로 일정하지 않다는 점이다.The light emitting device 300E according to the eleventh embodiment is different from the light emitting device 300D according to the tenth embodiment in that the thickness of the bridge electrode 150 is not uniform throughout.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122) 상의 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126) 상의 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.The bridge electrode 150 is connected to the first portion 151 on the first conductive type semiconductor layer 122 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the first portion 151 of the other light emitting cell 100 A second portion 152 on the second conductive semiconductor layer 126, a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152, and a first portion 151 And a fourth portion 154 located on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting the third portion 153 or the second portion 152 and the third portion 153 have. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductive type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

상기 제3 부분(153)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)의 사이에 배치되며, 기판(110) 상에 배치된다. 즉, 상기 제3 부분(153)은, 기판(110) 상에 배치된 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이의 이격 공간에 배치될 수 있다.The third portion 153 is disposed between the adjacent two light emitting cells 100 and is disposed on the substrate 110. That is, the third portion 153 may be disposed in a space between the adjacent two light emitting cells 100 disposed on the substrate 110.

상기 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 사이 및 제2 부분(152)과 제3 부분(153) 사이의 측면에는 브릿지 전극(150)의 제4 부분(154)이 배치될 수 있다. 상기 제4 부분(154)은 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 및 제2 부분과 제3 부분을 전기적으로 연결해준다.A fourth portion 154 of the bridge electrode 150 may be disposed between the first portion 151 and the third portion 153 and between the second portion 152 and the third portion 153 . The fourth portion 154 electrically connects the first portion 151 and the third portion 153 and the second portion and the third portion.

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 제1 전극(130)의 두께(T1) 또는 제2 전극(140)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않으며, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다.The bridge electrode 150 may be greater than the thickness (T 2) of the third part 153, the thickness (T B3) is the thickness of the first electrode (130), (T 1) or second electrode (140) of. The thickness of the bridge electrode 150 is not uniform throughout and the thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152. The bridging electrode 150 may be formed such that the thickness T B4 of the fourth portion 154 is equal to the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, May be less than the thickness of the second portion 152. The thickness (T B3 ) of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may be the largest.

제11 실시예에 따르면, 브릿지 전극(150)의 적어도 일부를 두껍게 형성하여 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써, 발광소자의 동작 중 좁은 면적의 브릿지 전극(150)으로 전류가 집중되어 브릿지 전극(150)이 타버리는 등의 신뢰성 저하 문제를 개선할 수 있다.According to the eleventh embodiment, at least a part of the bridge electrode 150 is thickened to widen the area of the bridge electrode 150, so that current is concentrated on the bridge electrode 150 having a small area during operation of the light emitting device, It is possible to solve the problem of reliability degradation such as burning of the light emitting diode 150.

실시예에 따라, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)의 두께가 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)의 두께와 같을 수 있다.The thickness of the first portion 151 or the second portion 152 of the bridge electrode 150 may be equal to the thickness of the first electrode 130 or the second electrode 140, respectively.

또는, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)에서 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)과 높이가 같을 수 있다. 즉, 브릿지 전극(150)은 제1 부분(151)의 표면에서 제1 전극(130)과 단차를 갖지 않고 제1 전극(130)과 접하며, 제2 부분(152)의 표면에서 제2 전극(140)과 단차를 갖지 않고 제2 전극(140)과 접할 수 있다.Alternatively, the bridge electrode 150 may be the same height as the first electrode 130 or the second electrode 140 in the first portion 151 or the second portion 152, respectively. That is, the bridge electrode 150 contacts the first electrode 130 without having a step with the first electrode 130 on the surface of the first portion 151, and the second electrode 152 on the surface of the second portion 152 140 and the second electrode 140 without a step.

도 19는 제12 실시 예에 따른 발광 소자(400A)의 단면도이다. 도 3과 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략한다.19 is a sectional view of a light emitting device 400A according to the twelfth embodiment. The same reference numerals as those in Fig. 3 denote the same components, and a description of the same components is omitted.

도 19를 참조하면, 기판(110)의 상부 표면에는 발광 구조물(120)로부터 조사되는 광을 산란시켜, 광 추출을 향상시키는 요철(110a)이 형성될 수 있다. 예컨대, 기판(110)은 PSS(Patterned Sapphire Substrate)일 수 있다.Referring to FIG. 19, irregularities 110a may be formed on the upper surface of the substrate 110 to scatter light emitted from the light emitting structure 120 to improve light extraction. For example, the substrate 110 may be a patterned sapphire substrate (PSS).

요철(110a)은 인접하는 발광 셀들 사이에 위치하는 기판(110)의 상부면의 일 영역(이하 "기판(110)의 제1 영역(S1)"이라 한다)에도 형성될 수 있다. The concavity and convexity 110a may be formed in one region (hereinafter referred to as "first region S1 of the substrate 110") of the upper surface of the substrate 110 located between adjacent light emitting cells.

기판(110)의 제1 영역(S1)에 형성되는 요철(110a) 상에 배치되는 절연층(160)의 일부는 요철(110a)에 대응하는 곡면을 가질 수 있으며, 절연층(160)의 곡면의 형상은 요철(110a)의 외주면의 형상과 동일할 수 있다.A portion of the insulating layer 160 disposed on the concave and convex portions 110a formed in the first region S1 of the substrate 110 may have a curved surface corresponding to the concave and convex portions 110a, May be the same as the shape of the outer peripheral surface of the unevenness 110a.

또한 기판(110)의 제1 영역(S1)에 위치하는 절연층(160) 상에 배치되는 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 상부면에는 기판(110)의 요철(110a)에 대응하는 요철(153a)이 형성될 수 있다. 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 요철(153a)은 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 상부면으로부터 돌출되는 복수의 돌출부들을 포함할 수 있다. The upper surface of the third portion 153 of the bridge electrode 150 disposed on the insulating layer 160 located in the first region S1 of the substrate 110 is provided with a protrusion 110a on the upper surface of the substrate 110 Corresponding unevenness 153a can be formed. The unevenness 153a of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may include a plurality of protrusions that protrude from the upper surface of the third portion 153 of the bridge electrode 150. [

브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 두께(TB3)는 브릿지 전극(150)의 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. The thickness T B3 of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152 of the bridge electrode 150.

또한 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 두께(TB3)는 브릿지 전극(150)의 제1 부분(151)의 두께와 제1 두께(T5)의 합보다 작거나 같을 수 있다. 제1 두께(T5)는 버퍼층(115), 언도프트 반도체층(114), 및 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)의 두께의 합일 수 있다.The thickness T B3 of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may be less than or equal to the sum of the thickness of the first portion 151 of the bridge electrode 150 and the first thickness T 5. The first thickness T5 may be the sum of the thickness of the buffer layer 115, the thickness of the undoped semiconductor layer 114, and the etching area E of the light emitting structure 120.

즉 기판(110)의 상부면을 기준으로 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 상부면의 높이는 브릿지 전극(150)의 제1 부분(151)의 상부면의 높이보다 낮거나 동일할 수 있다.The height of the upper surface of the third portion 153 of the bridge electrode 150 is lower than or equal to the height of the upper surface of the first portion 151 of the bridge electrode 150 .

도 20은 제13 실시 예에 따른 발광 소자(400B)의 단면도이다. 도 12와 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략한다.20 is a cross-sectional view of a light emitting device 400B according to the thirteenth embodiment. The same reference numerals as in Fig. 12 denote the same components, and a description of the same components is omitted.

도 20일 참조하면, 기판(110)의 제1 영역(S1)에 위치하는 절연층(160) 상에 배치되는 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)은 기판(110)의 요철(110a)에 대응하는 요철(153a)을 구비할 수 있다. 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 요철(153a)은 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 상부면으로부터 돌출되는 복수의 돌출부들을 포함할 수 있다. 20, the third portion 153 of the bridge electrode 150, which is disposed on the insulating layer 160 located in the first region S1 of the substrate 110, (Not shown). The unevenness 153a of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may include a plurality of protrusions that protrude from the upper surface of the third portion 153 of the bridge electrode 150. [

제12 실시 예와 비교할 때 다른 점은 제13 실시 예는 브릿지 전극(150)의 제1 부분 내지 제3 부분들(151,152,153) 각각의 두께가 모두 동일하다는 점이다.The twelfth embodiment differs from the twelfth embodiment in that the thicknesses of the first to third portions 151, 152, 153 of the bridge electrode 150 are all the same.

도 21은 실시예들에 따른 발광소자를 포함한 발광소자 패키지의 일실시예를 도시한 도면이다.FIG. 21 illustrates an embodiment of a light emitting device package including the light emitting device according to the embodiments.

일실시예에 따른 발광소자 패키지(400)는 몸체(410)와, 상기 몸체(410)에 배치된 제1 리드 프레임(421) 및 제2 리드 프레임(422)과, 상기 몸체(410)에 배치되어 상기 제1 리드 프레임(421) 및 제2 리드 프레임(422)과 전기적으로 연결되는 상술한 실시예들에 따른 발광소자(200; 300)와, 상기 캐비티에 형성된 몰딩부(440)를 포함한다. 상기 몸체(410)에는 캐비티가 형성될 수 있다. 발광소자(200; 300)는 상술한 바와 같이 직렬 또는 병렬 연결된 복수 개의 발광 셀이 하나의 칩으로 형성된 것이다.The light emitting device package 400 according to one embodiment includes a body 410, a first lead frame 421 and a second lead frame 422 disposed on the body 410, Emitting device 200 according to the above-described embodiments electrically connected to the first lead frame 421 and the second lead frame 422 and a molding part 440 formed in the cavity . A cavity may be formed in the body 410. As described above, the light emitting devices 200 and 300 include a plurality of light emitting cells connected in series or in parallel.

상기 몸체(410)는 실리콘 재질, 합성수지 재질, 또는 금속 재질을 포함하여 형성될 수 있다. 상기 몸체(410)가 금속 재질 등 도전성 물질로 이루어지면, 도시되지는 않았으나 상기 몸체(410)의 표면에 절연층이 코팅되어 상기 제1,2 리드 프레임(421, 422) 간의 전기적 단락을 방지할 수 있다.The body 410 may be formed of a silicon material, a synthetic resin material, or a metal material. If the body 410 is made of a conductive material such as a metal material, an insulating layer may be coated on the surface of the body 410 to prevent an electrical short between the first and second lead frames 421 and 422 .

상기 제1 리드 프레임(421) 및 제2 리드 프레임(422)은 서로 전기적으로 분리되며, 상기 발광소자(200; 300)에 전류를 공급한다. 또한, 상기 제1 리드 프레임(421) 및 제2 리드 프레임(422)은 상기 발광소자(200; 300)에서 발생된 광을 반사시켜 광 효율을 증가시킬 수 있으며, 상기 발광소자(200; 300)에서 발생된 열을 외부로 배출시킬 수도 있다.The first lead frame 421 and the second lead frame 422 are electrically separated from each other and supply current to the light emitting device 200 (300). The first lead frame 421 and the second lead frame 422 may increase light efficiency by reflecting the light generated from the light emitting devices 200 and 300, It is possible to discharge the generated heat to the outside.

상기 발광소자(200; 300)는 상기 몸체(410) 상에 배치되거나 상기 제1 리드 프레임(421) 또는 제2 리드 프레임(422) 상에 배치될 수 있다. 본 실시예에서는 제1 리드 프레임(421)과 발광소자(200; 300)가 직접 통전되고, 제2 리드 프레임(422)과 상기 발광소자(200; 300)는 와이어(430)를 통하여 연결되어 있다. 발광소자(200; 300)는 와이어 본딩 방식 외에 플립칩 방식 또는 다이 본딩 방식 등에 의하여 리드 프레임(421, 422)과 연결될 수 있다.The light emitting device 200 may be disposed on the body 410 or may be disposed on the first lead frame 421 or the second lead frame 422. The first lead frame 421 and the light emitting devices 200 and 300 are directly energized and the second lead frame 422 and the light emitting devices 200 and 300 are connected through the wires 430 . The light emitting devices 200 and 300 may be connected to the lead frames 421 and 422 by a flip chip method or a die bonding method in addition to the wire bonding method.

상기 몰딩부(440)는 상기 발광소자(200; 300)를 포위하여 보호할 수 있다. 또한, 상기 몰딩부(440) 상에는 형광체(450)가 포함되어, 상기 발광소자(200; 300)로부터 방출되는 빛의 파장을 변화시킬 수 있다.The molding part 440 may surround and protect the light emitting device 200 (300). In addition, the phosphor 450 may be included on the molding part 440 to change the wavelength of light emitted from the light emitting device 200 (300).

형광체(450)는 가넷(Garnet)계 형광체, 실리케이트(Silicate)계 형광체, 니트라이드(Nitride)계 형광체, 또는 옥시니트라이드(Oxynitride)계 형광체를 포함할 수 있다.The phosphor 450 may include a garnet-based phosphor, a silicate-based phosphor, a nitride-based phosphor, or an oxynitride-based phosphor.

예를 들어, 상기 가넷계 형광체는 YAG(Y3Al5O12:Ce3 +) 또는 TAG(Tb3Al5O12:Ce3 +)일 수 있고, 상기 실리케이트계 형광체는 (Sr,Ba,Mg,Ca)2SiO4:Eu2 +일 수 있고, 상기 니트라이드계 형광체는 SiN을 포함하는 CaAlSiN3:Eu2 +일 수 있고, 상기 옥시니트라이드계 형광체는 SiON을 포함하는 Si6 - xAlxOxN8 -x:Eu2 +(0<x<6)일 수 있다.For example, the garnet-base phosphor is YAG (Y 3 Al 5 O 12 : Ce 3 +) or TAG: may be a (Tb 3 Al 5 O 12 Ce 3 +), wherein the silicate-based phosphor is (Sr, Ba, Mg, Ca) 2 SiO 4 : Eu 2 + , and the nitride phosphor may be CaAlSiN 3 : Eu 2 + containing SiN, and the oxynitride phosphor may be Si 6 - x Al x O x N 8 -x: Eu 2 + (0 <x <6) can be.

상기 발광소자(200; 300)에서 방출된 제1 파장 영역의 광이 상기 형광체(350)에 의하여 여기되어 제2 파장 영역의 광으로 변환되고, 상기 제2 파장 영역의 광은 렌즈(미도시)를 통과하면서 광경로가 변경될 수 있다.The light of the first wavelength range emitted from the light emitting device 200 is excited by the phosphor 350 to be converted into the light of the second wavelength range and the light of the second wavelength range is transmitted through the lens (not shown) The light path can be changed.

실시예에 따른 발광소자 패키지는 복수 개가 기판 상에 어레이되며, 상기 발광소자 패키지의 광 경로 상에 광학 부재인 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트 등이 배치될 수 있다. 이러한 발광소자 패키지, 기판, 광학 부재는 라이트 유닛으로 기능할 수 있다. 또 다른 실시 예는 상술한 실시 예들에 기재된 반도체 발광소자 또는 발광소자 패키지를 포함하는 표시 장치, 지시 장치, 조명 시스템으로 구현될 수 있으며, 예를 들어, 조명 시스템은 램프, 가로등을 포함할 수 있다.A plurality of light emitting device packages according to embodiments may be arranged on a substrate, and a light guide plate, a prism sheet, a diffusion sheet, and the like may be disposed on the light path of the light emitting device package. Such a light emitting device package, a substrate, and an optical member can function as a light unit. Still another embodiment may be implemented as a display device, an indicating device, a lighting system including the semiconductor light emitting device or the light emitting device package described in the above embodiments, for example, the lighting system may include a lamp, a streetlight .

이하에서는 상술한 발광소자 또는 발광소자 패키지가 배치된 조명 시스템의 일실시예로서, 헤드램프와 백라이트 유닛을 설명한다.Hereinafter, the headlamp and the backlight unit will be described as an embodiment of the lighting system in which the above-described light emitting device or the light emitting device package is disposed.

도 22는 실시예들에 따른 발광소자 또는 발광소자 패키지가 배치된 헤드램프의 일실시예를 도시한 도면이다.22 is a view illustrating an embodiment of a headlamp in which a light emitting device or a light emitting device package according to embodiments is disposed.

도 22를 참조하면, 실시예들에 따른 발광소자 또는 발광소자 패키지가 배치된 발광 모듈(710)에서 방출된 빛이 리플렉터(720)와 쉐이드(730)에서 반사된 후 렌즈(740)를 투과하여 차체 전방을 향할 수 있다.22, the light emitted from the light emitting module 710 having the light emitting device or the light emitting device package according to the embodiments is reflected by the reflector 720 and the shade 730 and then transmitted through the lens 740 It can be directed toward the front of the vehicle body.

상기 발광 모듈(710)은 회로기판 상에 발광소자가 복수 개로 탑재될 수 있으며, 이에 대해 한정하지 않는다.The light emitting module 710 may include a plurality of light emitting devices on a circuit board, but the present invention is not limited thereto.

도 23은 실시예에 따른 발광소자 패키지가 배치된 표시장치의 일실시예를 도시한 도면이다.23 is a diagram illustrating a display device in which a light emitting device package according to an embodiment is disposed.

도 23을 참조하면, 실시예에 따른 표시장치(800)는 발광 모듈(830, 835)과, 바텀 커버(810) 상의 반사판(820)과, 상기 반사판(820)의 전방에 배치되며 상기 발광 모듈에서 방출되는 빛을 표시장치 전방으로 가이드하는 도광판(840)과, 상기 도광판(840)의 전방에 배치되는 제1 프리즘시트(850)와 제2 프리즘시트(860)와, 상기 제2 프리즘시트(860)의 전방에 배치되는 패널(870)과 상기 패널(870)의 전반에 배치되는 컬러필터(880)를 포함하여 이루어진다.23, the display device 800 according to the embodiment includes the light emitting modules 830 and 835, the reflection plate 820 on the bottom cover 810, and the reflection plate 820 disposed in front of the reflection plate 820, A first prism sheet 850 and a second prism sheet 860 disposed in front of the light guide plate 840 and a second prism sheet 860 disposed in front of the light guide plate 840, A panel 870 disposed in front of the panel 870 and a color filter 880 disposed in the front of the panel 870.

발광 모듈은 회로 기판(830) 상의 상술한 발광소자 패키지(835)를 포함하여 이루어진다. 여기서, 회로 기판(830)은 PCB 등이 사용될 수 있고, 발광소자 패키지(835)는 실시 예들 중 어느 하나일 수 있다.The light emitting module includes the above-described light emitting device package 835 on the circuit board 830. Here, the circuit board 830 may be a PCB or the like, and the light emitting device package 835 may be any one of the embodiments.

상기 바텀 커버(810)는 표시 장치(800) 내의 구성 요소들을 수납할 수 있다. 상기 반사판(820)은 본 도면처럼 별도의 구성요소로 마련될 수도 있고, 상기 도광판(840)의 후면이나, 상기 바텀 커버(810)의 전면에 반사도가 높은 물질로 코팅되는 형태로 마련되는 것도 가능하다.The bottom cover 810 may house the components in the display device 800. The reflection plate 820 may be formed as a separate component as shown in the drawing, or may be formed to be coated on the rear surface of the light guide plate 840 or on the front surface of the bottom cover 810 with a highly reflective material Do.

여기서, 반사판(820)은 반사율이 높고 초박형으로 사용 가능한 소재를 사용할 수 있고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PolyEthylene Terephtalate; PET)를 사용할 수 있다.Here, the reflection plate 820 can be made of a material having a high reflectance and can be used in an ultra-thin shape, and polyethylene terephthalate (PET) can be used.

도광판(840)은 발광소자 패키지 모듈에서 방출되는 빛을 산란시켜 그 빛이 액정 표시 장치의 화면 전영역에 걸쳐 균일하게 분포되도록 한다. 따라서, 도광판(830)은 굴절률과 투과율이 좋은 재료로 이루어지는데, 폴리메틸메타크릴레이트(PolyMethylMethAcrylate; PMMA), 폴리카보네이트(PolyCarbonate; PC), 또는 폴리에틸렌(PolyEthylene; PE) 등으로 형성될 수 있다. 그리고, 도광판이 생략되어 반사시트(820) 위의 공간에서 빛이 전달되는 에어 가이드 방식도 가능하다.The light guide plate 840 scatters light emitted from the light emitting device package module so that the light is uniformly distributed over the entire screen area of the LCD. Accordingly, the light guide plate 830 is made of a material having a good refractive index and transmittance. The light guide plate 830 may be formed of polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), or polyethylene (PE). An air guide system is also available in which the light guide plate is omitted and light is transmitted in a space above the reflective sheet 820.

상기 제1 프리즘 시트(850)는 지지필름의 일면에, 투광성이면서 탄성을 갖는 중합체 재료로 형성되는데, 상기 중합체는 복수 개의 입체구조가 반복적으로 형성된 프리즘층을 가질 수 있다. 여기서, 상기 복수 개의 패턴은 도시된 바와 같이 마루와 골이 반복적으로 스트라이프 타입으로 구비될 수 있다.The first prism sheet 850 is formed on one side of the support film with a transparent and elastic polymeric material, and the polymer may have a prism layer in which a plurality of steric structures are repeatedly formed. As shown in the drawings, the plurality of patterns may be repeatedly provided with a stripe pattern.

상기 제2 프리즘 시트(860)에서 지지필름 일면의 마루와 골의 방향은, 상기 제1 프리즘 시트(850) 내의 지지필름 일면의 마루와 골의 방향과 수직할 수 있다. 이는 발광 모듈과 반사시트로부터 전달된 빛을 상기 패널(870)의 전방향으로 고르게 분산하기 위함이다.In the second prism sheet 860, the edges and the valleys on one surface of the support film may be perpendicular to the edges and the valleys on one surface of the support film in the first prism sheet 850. This is to uniformly distribute the light transmitted from the light emitting module and the reflective sheet in all directions of the panel 870.

본 실시예에서 상기 제1 프리즘시트(850)과 제2 프리즘시트(860)가 광학시트를 이루는데, 상기 광학시트는 다른 조합 예를 들어, 마이크로 렌즈 어레이로 이루어지거나 확산시트와 마이크로 렌즈 어레이의 조합 또는 하나의 프리즘 시트와 마이크로 렌즈 어레이의 조합 등으로 이루어질 수 있다.In the present embodiment, the first prism sheet 850 and the second prism sheet 860 form an optical sheet, which may be formed of other combinations, for example, a microlens array or a diffusion sheet and a microlens array Or a combination of one prism sheet and a microlens array, or the like.

상기 패널(870)은 액정 표시 패널(Liquid crystal display)가 배치될 수 있는데, 액정 표시 패널(860) 외에 광원을 필요로 하는 다른 종류의 디스플레이 장치가 구비될 수 있다.A liquid crystal display (LCD) panel may be disposed on the panel 870. In addition to the liquid crystal display panel 860, other types of display devices requiring a light source may be provided.

상기 패널(870)은, 유리 바디 사이에 액정이 위치하고 빛의 편광성을 이용하기 위해 편광판을 양 유리바디에 올린 상태로 되어있다. 여기서, 액정은 액체와 고체의 중간적인 특성을 가지는데, 액체처럼 유동성을 갖는 유기분자인 액정이 결정처럼 규칙적으로 배열된 상태를 갖는 것으로, 상기 분자 배열이 외부 전계에 의해 변화되는 성질을 이용하여 화상을 표시한다.In the panel 870, the liquid crystal is positioned between the glass bodies, and the polarizing plate is placed on both glass bodies to utilize the polarization of light. Here, the liquid crystal has an intermediate property between a liquid and a solid, and liquid crystals, which are organic molecules having fluidity like a liquid, are regularly arranged like crystals. The liquid crystal has a structure in which the molecular arrangement is changed by an external electric field And displays an image.

표시장치에 사용되는 액정 표시 패널은, 액티브 매트릭스(Active Matrix) 방식으로서, 각 화소에 공급되는 전압을 조절하는 스위치로서 트랜지스터를 사용한다.A liquid crystal display panel used in a display device is an active matrix type, and a transistor is used as a switch for controlling a voltage supplied to each pixel.

상기 패널(870)의 전면에는 컬러 필터(880)가 구비되어 상기 패널(870)에서 투사된 빛을, 각각의 화소마다 적색과 녹색 및 청색의 빛만을 투과하므로 화상을 표현할 수 있다.A color filter 880 is provided on the front surface of the panel 870 so that light projected from the panel 870 transmits only red, green, and blue light for each pixel.

이상에서 실시 예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시 예에 포함되며, 반드시 하나의 실시 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시 예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시 예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The features, structures, effects and the like described in the embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. Further, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments can be combined and modified by other persons having ordinary skill in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

100: 발광 셀 110: 기판
120: 발광 구조물 122: 제1 도전형 반도체층
124: 활성층 126: 제2 도전형 반도체층
130: 제1 전극 140: 제2 전극
150: 브릿지 전극 151: 제1 부분
152: 제2 부분 153: 제3 부분
160: 절연층 200A~200C, 300A~300D: 발광소자
310: 패키지 몸체 321, 322: 제1,2 리드 프레임
330: 와이어 340: 몰딩부
350: 형광체 710: 발광 모듈
720: 리플렉터 730: 쉐이드
800: 표시장치 810: 바텀 커버
820: 반사판 840: 도광판
850: 제1 프리즘시트 860: 제2 프리즘시트
870: 패널 880: 컬러필터
100: light emitting cell 110: substrate
120: light emitting structure 122: first conductivity type semiconductor layer
124: active layer 126: second conductivity type semiconductor layer
130: first electrode 140: second electrode
150: bridge electrode 151: first part
152: second part 153: third part
160: insulating layers 200A to 200C, 300A to 300D:
310: package body 321, 322: first and second lead frames
330: wire 340: molding part
350: phosphor 710: light emitting module
720: Reflector 730: Shade
800: Display device 810: Bottom cover
820: reflector 840: light guide plate
850: first prism sheet 860: second prism sheet
870: Panel 880: Color filter

Claims (20)

복수 개의 발광 셀; 및
인접한 두 개의 발광 셀을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극;을 포함하고,
상기 복수 개의 발광 셀은 제1 도전형 반도체층, 제2 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층과 상기 제2 도전형 반도체층 사이의 활성층을 포함하는 발광 구조물과, 상기 제1 도전형 반도체층 상의 제1 전극과, 상기 제2 도전형 반도체층 상의 제2 전극을 각각 포함하며,
상기 브릿지 전극은 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극보다 두꺼운 부분을 갖는 발광소자.
A plurality of light emitting cells; And
And a bridge electrode electrically connecting two adjacent light emitting cells,
The plurality of light emitting cells may include a light emitting structure including a first conductive semiconductor layer, a second conductive semiconductor layer, and an active layer between the first conductive semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer; A first electrode on the semiconductor layer and a second electrode on the second conductivity type semiconductor layer,
Wherein the bridge electrode has a thicker portion than the first electrode or the second electrode.
제 1 항에 있어서,
상기 브릿지 전극의 폭이 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극의 폭보다 큰 발광소자.
The method according to claim 1,
Wherein a width of the bridge electrode is larger than a width of the first electrode or the second electrode.
제 1 항에 있어서,
상기 발광 구조물은 일부가 식각되어 상기 제1 도전형 반도체층을 노출하는 식각 영역을 포함하고, 상기 제1 전극은 노출된 상기 제1 도전형 반도체층 상에 배치된 발광소자.
The method according to claim 1,
Wherein the light emitting structure includes an etched region partially etched to expose the first conductive type semiconductor layer, and the first electrode is disposed on the exposed first conductive type semiconductor layer.
제 1 항에 있어서,
상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 전극과 접하는 제1 부분, 다른 하나의 발광 셀의 제2 전극과 접하는 제2 부분, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분 사이의 제3 부분을 포함하는 발광소자.
The method according to claim 1,
The bridge electrode includes a first portion in contact with a first electrode of one of two adjacent light emitting cells, a second portion in contact with a second electrode of the other light emitting cell, a second portion in contact with the first portion and the second portion, And a second portion of the light emitting device.
제 4 항에 있어서,
상기 브릿지 전극은 상기 제3 부분의 두께가 가장 큰 발광소자.
5. The method of claim 4,
Wherein the bridge electrode has the largest thickness of the third portion.
제 4 항에 있어서,
상기 제3 부분은 인접한 두 개의 발광 셀의 사이에 배치되는 발광소자.
5. The method of claim 4,
And the third portion is disposed between two adjacent light emitting cells.
제 4 항에 있어서,
상기 브릿지 전극은 상기 제1 부분 또는 상기 제2 부분에서 각각 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극과 높이가 같은 발광소자.
5. The method of claim 4,
Wherein the bridge electrode has the same height as the first electrode or the second electrode in the first portion or the second portion.
제 4 항에 있어서,
상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 사이에 복수 개 존재하는 발광소자.
5. The method of claim 4,
Wherein a plurality of bridge electrodes are present between adjacent two light emitting cells.
제 4 항에 있어서,
상기 제1 부분의 일부가 상기 제1 전극의 상부에 배치되고, 상기 제2 부분의 일부가 상기 제2 전극의 상부에 배치되는 발광소자.
5. The method of claim 4,
Wherein a portion of the first portion is disposed on the upper portion of the first electrode, and a portion of the second portion is disposed on the upper portion of the second electrode.
제 4 항에 있어서,
상기 브릿지 전극은 상기 제1 부분과 상기 제3 부분의 사이 및 상기 제2 부분과 상기 제3 부분의 사이에 배치되는 제4 부분을 더 포함하고,
상기 제4 부분의 두께가 상기 제1 부분, 상기 제2 부분 또는 상기 제3 부분 각각의 두께보다 작은 발광소자.
5. The method of claim 4,
The bridge electrode further comprises a fourth portion disposed between the first portion and the third portion and between the second portion and the third portion,
And the thickness of the fourth portion is smaller than the thickness of each of the first portion, the second portion or the third portion.
복수 개의 발광 셀; 및
인접한 두 개의 발광 셀을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극;을 포함하고,
상기 복수 개의 발광 셀은 제1 도전형 반도체층, 제2 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층과 상기 제2 도전형 반도체층 사이의 활성층을 포함하는 발광 구조물을 각각 포함하며,
상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 도전형 반도체층과 다른 하나의 발광 셀의 제2 도전형 반도체층을 전기적으로 연결하고,
상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 사이에 복수 개 존재하는 발광소자.
A plurality of light emitting cells; And
And a bridge electrode electrically connecting two adjacent light emitting cells,
The plurality of light emitting cells each include a light emitting structure including a first conductive semiconductor layer, a second conductive semiconductor layer, and an active layer between the first conductive semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer,
The bridge electrode electrically connects the first conductive semiconductor layer of one of the two light emitting cells adjacent to the second conductive semiconductor layer of the other light emitting cell,
Wherein a plurality of bridge electrodes are present between adjacent two light emitting cells.
제 11 항에 있어서,
상기 복수 개의 발광 셀은 제1 도전형 반도체층 상의 제1 전극 및 상기 제2 도전형 반도체층 상의 제2 전극을 각각 더 포함하고,
상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 전극과 다른 하나의 발광 셀의 제2 전극 사이에 복수 개가 이격되어 배치되는 발광소자.
12. The method of claim 11,
The plurality of light emitting cells further include a first electrode on the first conductive type semiconductor layer and a second electrode on the second conductive type semiconductor layer,
Wherein the bridge electrode is disposed between the first electrode of one of the two adjacent light emitting cells and the second electrode of the other light emitting cell.
제 12 항에 있어서,
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 제1 방향의 길이 방향을 갖고, 상기 복수 개의 브릿지 전극은 상기 제1 방향과 다른 제2 방향의 길이 방향을 각각 갖는 발광소자.
13. The method of claim 12,
Wherein the first electrode and the second electrode have a longitudinal direction in a first direction and the plurality of bridge electrodes each have a longitudinal direction in a second direction different from the first direction.
제 10 항에 있어서,
상기 복수 개의 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 도전형 반도체층 상의 제1 부분, 다른 하나의 발광 셀의 제2 도전형 반도체층 상의 제2 부분, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분 사이의 제3 부분을 각각 포함하는 발광소자.
11. The method of claim 10,
Wherein the plurality of bridge electrodes comprise a first portion on a first conductive type semiconductor layer of one of two adjacent light emitting cells, a second portion on a second conductive type semiconductor layer of another light emitting cell, And a third portion between the first portion and the second portion.
제 14 항에 있어서,
상기 브릿지 전극은 상기 제3 부분의 두께가 가장 큰 발광소자.
15. The method of claim 14,
Wherein the bridge electrode has the largest thickness of the third portion.
제 14 항에 있어서,
상기 제1 부분 또는 상기 제2 부분 각각의 두께가 상기 제3 부분의 두께와 동일한 발광소자.
15. The method of claim 14,
And the thickness of each of the first portion and the second portion is equal to the thickness of the third portion.
제12항에 있어서,
상기 복수의 브릿지 전극들 각각의 폭은 상기 제1 전극의 폭 또는 상기 제2 전극의 폭보다 큰 발광 소자.
13. The method of claim 12,
Wherein a width of each of the plurality of bridge electrodes is greater than a width of the first electrode or a width of the second electrode.
제14항에 있어서,
상기 복수의 발광 셀 아래에 배치되는 기판; 및
인접하는 발광 셀들 사이에 위치하는 상기 기판의 상부면의 일 영역에 형성되는 제1 요철을 더 포함하는 발광 소자.
15. The method of claim 14,
A substrate disposed below the plurality of light emitting cells; And
And a first concavo-convex portion formed in one region of an upper surface of the substrate positioned between adjacent light emitting cells.
제18항에 있어서,
상기 브릿지 전극의 제3 부분은 상기 인접하는 발광 셀들 사이에 위치하는 상기 기판의 상부면의 상기 일 영역 상에 배치되고,
상기 브릿지 전극의 제3 부분의 상부면에는 상기 제1 요철에 대응하는 제2 요철이 형성되는 발광 소자.
19. The method of claim 18,
A third portion of the bridge electrode is disposed on the one area of the upper surface of the substrate positioned between the adjacent light emitting cells,
And a second irregular portion corresponding to the first irregularities is formed on an upper surface of the third portion of the bridge electrode.
제18항에 있어서,
상기 기판의 상부면을 기준으로 상기 브릿지 전극의 제3 부분의 상부면의 높이는 상기 브릿지 전극의 제1 부분의 상부면의 높이보다 낮거나 동일한 발광 소자.
19. The method of claim 18,
The height of the upper surface of the third portion of the bridge electrode is lower than or equal to the height of the upper surface of the first portion of the bridge electrode with respect to the upper surface of the substrate.
KR1020140083640A 2013-07-22 2014-07-04 Light emitting device KR102194805B1 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/336,574 US9673254B2 (en) 2013-07-22 2014-07-21 Light emitting device
EP14177818.3A EP2830094B1 (en) 2013-07-22 2014-07-21 Light emitting device
CN201410351833.2A CN104332482A (en) 2013-07-22 2014-07-22 Light emitting device
JP2014148938A JP6442177B2 (en) 2013-07-22 2014-07-22 Light emitting element

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130085959 2013-07-22
KR20130085959 2013-07-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150011310A true KR20150011310A (en) 2015-01-30
KR102194805B1 KR102194805B1 (en) 2020-12-28

Family

ID=52482716

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140083640A KR102194805B1 (en) 2013-07-22 2014-07-04 Light emitting device

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6442177B2 (en)
KR (1) KR102194805B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180121221A (en) * 2017-04-28 2018-11-07 엘지이노텍 주식회사 Semiconductor device package
KR20200002394A (en) * 2018-06-29 2020-01-08 삼성전자주식회사 Light emitting device

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110957404A (en) * 2019-12-17 2020-04-03 佛山市国星半导体技术有限公司 High-voltage LED chip and manufacturing method thereof
US20220399397A1 (en) 2020-03-03 2022-12-15 Hcp Technology Co., Ltd. Light emitting diode and preparation method therefor

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090053435A (en) * 2007-11-23 2009-05-27 삼성전기주식회사 Monolithic light emitting diode array and method of manufacturing the same
US20100006870A1 (en) * 2005-06-22 2010-01-14 Seoul Opto Device Co., Ltd Light emitting device
KR20100028461A (en) * 2008-09-04 2010-03-12 포모사 에피택시 인코포레이션 Alternating current light emitting device
KR101014155B1 (en) * 2010-03-10 2011-02-10 엘지이노텍 주식회사 Light emitting device, method for fabricating the light emitting device and light emitting device package
JP2011171739A (en) * 2010-02-19 2011-09-01 Samsung Led Co Ltd Semiconductor light-emitting device having multi-cell array, light-emitting module, and illumination apparatus
US20120061694A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-15 Epistar Corporation Light-emitting structure

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2158618A1 (en) * 2008-05-20 2010-03-03 Panasonic Corporation Semiconductor light-emitting device as well as light source device and lighting system including the same
KR20130035658A (en) * 2011-09-30 2013-04-09 서울옵토디바이스주식회사 Method for fabricating a substrate for light emitting diode device
JP6176032B2 (en) * 2013-01-30 2017-08-09 日亜化学工業株式会社 Semiconductor light emitting device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100006870A1 (en) * 2005-06-22 2010-01-14 Seoul Opto Device Co., Ltd Light emitting device
KR20090053435A (en) * 2007-11-23 2009-05-27 삼성전기주식회사 Monolithic light emitting diode array and method of manufacturing the same
KR20100028461A (en) * 2008-09-04 2010-03-12 포모사 에피택시 인코포레이션 Alternating current light emitting device
JP2011171739A (en) * 2010-02-19 2011-09-01 Samsung Led Co Ltd Semiconductor light-emitting device having multi-cell array, light-emitting module, and illumination apparatus
KR101014155B1 (en) * 2010-03-10 2011-02-10 엘지이노텍 주식회사 Light emitting device, method for fabricating the light emitting device and light emitting device package
US20120061694A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-15 Epistar Corporation Light-emitting structure

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180121221A (en) * 2017-04-28 2018-11-07 엘지이노텍 주식회사 Semiconductor device package
KR20200002394A (en) * 2018-06-29 2020-01-08 삼성전자주식회사 Light emitting device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015023293A (en) 2015-02-02
KR102194805B1 (en) 2020-12-28
JP6442177B2 (en) 2018-12-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101941033B1 (en) Light emitting device
KR101827975B1 (en) Light emitting device
US9318662B2 (en) Light emitting device with improved current spreading performance and lighting apparatus including the same
KR20140059985A (en) Light emitting device
KR101908657B1 (en) Light emitting device
EP2696375A2 (en) Light emitting diode
KR102194805B1 (en) Light emitting device
KR101974153B1 (en) Light emitting device and lighting system including the device
KR101991032B1 (en) Light emitting device
KR101922529B1 (en) Light emitting device
KR101963220B1 (en) Light emitting device
KR101929933B1 (en) Light emitting device and lighting system including the device
KR20130138416A (en) Light emitting device
KR20140092092A (en) Light emitting device
KR20140046162A (en) Light emitting device
KR20140080992A (en) Light emitting device
KR101897003B1 (en) Light emitting device
KR20170082872A (en) Light emitting device
KR101960791B1 (en) Light emitting device
KR20140099618A (en) Light emitting device and light emitting device package including the same
KR20140056929A (en) Light emitting device
KR20130101852A (en) Light emitting device
KR20130074989A (en) Light emitting device
KR20150011118A (en) Light emitting device
KR20140092091A (en) Light emitting device

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant