JP6437446B2 - インプリント用光硬化性樹脂組成物、反射防止フィルム - Google Patents

Description

本発明は、インプリント用光硬化性樹脂組成物及び反射防止フィルムに関する。

インプリント技術とは、微細パターンを有するモールドを、基板上の液状樹脂等の樹脂層へ押し付け、これによりモールドのパターンを樹脂層に転写する微細加工技術である。微細パターンとしては、１０ｎｍレベルのナノスケールのものから、１００μｍ程度のものまで存在し、半導体材料、光学材料、記憶メディア、マイクロマシン、バイオ、環境等、様々な分野で用いられている。

インプリントの方法としては、ガラス転移温度以上で溶融した熱可塑性樹脂に表面に所定の形状が形成されているモールドを圧接して、該モールドの表面形状を熱可塑性樹脂に熱インプリントし、冷却後モールドを取り外す熱インプリントと、光硬化性樹脂に同様のモールドを押しつけ、紫外線照射により光硬化性樹脂を硬化させた後、モールドを取り外す光インプリントなどが挙げられる。

上記光インプリントにおいては、樹脂が硬化する際に硬化収縮して、原版のモールドのパターンの形状が正確に反映されていない構造体が製造されるとの問題があった。ナノまたはミクロンスケールの微細構造の転写を対象とする光インプリントにおいては、ナノまたはミクロンスケールの寸法の相違でも問題となる。

特許文献１では、２層以上の硬化性組成物を用い、基板に隣接する側とモールドに隣接する側で、硬化性組成物中の硬化性官能基当量の含量を変えることにより、基板との密着性を維持しつつモールドとの離型性を高めることによって、構造体に形成されるパターンの精度を高めている。

特開２０１１−１６８００３号公報

ところで、モールドパターンを構造体に転写した後に、イソプロピルアルコールなどの有機溶剤と接触するプロセス（例えば脱脂工程や、溶剤を含んだ樹脂のオーバーコート等）があり、このプロセスにおいて、構造体に転写したパターンの形状精度が低下してしまう場合がある。従って、最終的に得られる構造体の形状精度を高めるには、インプリント時のパターンの転写性及び構造体に転写されたパターンの耐溶剤性の両方が優れていることが必要である。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、インプリント時のパターンの転写性及び構造体に転写されたパターンの耐溶剤性の両方に優れる、インプリント用光硬化性樹脂組成物を提供するものである。

本発明によれば、光重合性の（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）および光開始剤（Ｂ）を少なくとも含むインプリント用光硬化性樹脂組成物であって、前記（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）の配合比率が、
（ａ−１）３官能（メタ）アクリレート化合物 ６０〜９７質量％
（ａ−２）４官能以上の（メタ）アクリレート化合物 ３〜４０質量％
（ａ−３）２官能以下の（メタ）アクリレート化合物 ０〜３７質量％
（ただし、（ａ−１）〜（ａ−３）の合計が１００質量％とする）
である、インプリント用光硬化性樹脂組成物が提供される。

本発明者は転写性と耐溶剤性を両立させるべく鋭意研究を行ったところ、硬化性樹脂組成物が３官能（メタ）アクリレート化合物と４官能以上の（メタ）アクリレート化合物とを特定比率で配合することによって転写性と耐溶剤性の両方において優れた結果が得られることを見出し、本発明の完成に到った。

以下、本発明の種々の実施形態を例示する。以下に示す実施形態は、互いに組み合わせ可能である。
好ましくは、前記光開始剤は、アルキルフェノン系光開始剤（Ｂ１）およびアシルフォスフィンオキサイド系光開始剤（Ｂ２）の組み合わせからなる。
好ましくは、前記アルキルフェノン系光開始剤（Ｂ１）と前記アシルフォスフィンオキサイド系光開始剤（Ｂ２）との配合重量比（Ｂ１：Ｂ２）が１：９９〜９０：１０の範囲内にある。
好ましくは、積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２での微細パターンの転写性が９７％以上であり、且つ前記微細パターンの耐溶剤性が２％未満である。 本発明の別の観点によれば、上記記載のインプリント用光硬化性樹脂組成物からなる樹脂層に微細パターンが形成されてなる反射防止フィルムが提供される。

以下、本発明について具体的に説明する。
本発明は、光重合性の（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）および光開始剤（Ｂ）を少なくとも含むインプリント用光硬化性樹脂組成物であって、前記（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）が複数種類の（メタ）アクリレート化合物を特定の配合比率で含有する。

本明細書において、（メタ）アクリルは、メタクリルおよび／またはアクリルを意味し、（メタ）アクリレートは、メタクリレートおよび／またはアクリレートを意味する。

＜インプリント用光硬化性樹脂組成物＞
１．（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）
本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物に含有される（メタ）アクリル系モノマーは、複数種類の（メタ）アクリレート化合物を以下の配合比率で含有する。
（ａ−１）３官能（メタ）アクリレート化合物 ６０〜９７質量％
（ａ−２）４官能以上の（メタ）アクリレート化合物 ３〜４０質量％
（ａ−３）２官能以下の（メタ）アクリレート化合物 ０〜３７質量％
（ただし、（ａ−１）〜（ａ−３）の合計が１００質量％とする）

（ａ−１）の配合量は、好ましくは、６５〜９５質量％であり、具体的には例えば、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、９７質量％であり、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。（ａ−２）の配合量は、好ましくは、３〜３０質量％であり、具体的には例えば、３，５、１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０質量％であり、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。

３官能（メタ）アクリレート化合物は、（メタ）アクリレート基を３個有する（メタ）アクリレート化合物であり、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどがあげられる。

４官能以上の（メタ）アクリレート化合物は、（メタ）アクリレート基を４個以上有する（メタ）アクリレート化合物であり、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、テトラメチロールエタンテトラ（メタ）アクリレート、オリゴエステルテトラ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

２官能以下の（メタ）アクリレート化合物は、（メタ）アクリレート基を２個以上有する（メタ）アクリレート化合物であり、２官能（メタ）アクリレート化合物と単官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
２官能（メタ）アクリレート化合物としては、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、１，４‐ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１ ,６‐へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,９‐ノナンジオールジ（メタ）アクリレ一ト、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコ一ルジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ (メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
単官能（メタ）アクリレート化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ‐プロピル(メタ)アクリレート、ｎ‐ブチル(メタ)アクリレート、ｎ‐ペンチル(メタ)アクリレート、ｎ‐ヘキシル(メタ)アクリレート、ｎ‐オクチル(メタ)アクリレート、ｎ‐ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレートおよびステアリル(メタ)アクリレートなどの直鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリレート；
iso-プロピル(メタ)アクリレート、iso-ブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、２-エチルヘキシル（メタ）アクリレートおよびイソオクチル（メタ）アクリレートなどの分岐状アルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル；
イソボルニル(メタ)アクリレートおよびシクロへキシル（メタ）アクリレートなどの環状アルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル；
ベンジル（メタ）アクリレートおよびフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの芳香環基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどを挙げることができる。

また、上記の（ａ−１）〜（ａ−３）は、官能基含有モノマーであってもよい。官能基含有モノマーとしては、水酸基含有モノマー、酸基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、アミド基含有モノマーおよびシアノ基含有モノマーを挙げることができる。
ここで水酸基含有モノマーの例としては、（メタ）アクリル酸-２-ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸-２-ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸-４-ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸とポリプロピレングリコールまたはポリエチレングリコールとのモノエステルおよびラクトン類と（メタ）アクリル酸-２-ヒドロキシエチルとの付加物のようなヒドロキシル基含有（メタ）アクリル系モノマーなどの水酸基含有化合物を挙げることができる。

また、酸基含有モノマーの例としては、（メタ）アクリル酸のようなカルボキシル基含有(メタ)アクリル系モノマー、酸無水物基含有(メタ)アクリル系モノマー、リン酸基含有(メタ)アクリル系モノマーおよび硫酸基含有(メタ)アクリル系モノマーを挙げることができる。

さらに、アミノ基含有モノマーあるいはアミド基含有モノマーの例としては、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートなどのアミノ基含有(メタ)アクリル系モノマーならびに（メタ）アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド、N-エチル（メタ）アクリルアミド、N-プロピル（メタ）アクリルアミドおよびＮ−ヘキシル（メタ）アクリルアミドなどのアミド基含有(メタ)アクリル系モノマーを挙げることができる。

またさらにシアノ基含有モノマーの例としては、シアノ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
さらに、（メタ）アクリル系モノマーとしては、上記のような（メタ）アクリル系モノマーの他に、以下に記載するような上記（メタ）アクリル系モノマーと共重合可能な他の（メタ）アクリル系モノマーが挙げられる。

このような共重合可能な他の（メタ）アクリル系モノマーの例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、4-ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテルなどのエポキシ基含有（メタ）アクリレート、アルコキシ（メタ）アクリレートおよびアリル（メタ）アクリレートを挙げることができる。

上記（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）の中でも、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートのモノマーが好ましい。

本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物は、（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）以外に、本発明の特性を損なわない範囲で他の光重合性モノマーを含んでいてもよい。他の光重合性モノマーとしては、スチレン系モノマー、ビニル系モノマーが挙げられる。

ここでスチレン系モノマーの例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレンおよびオクチルスチレン等のアルキルスチレン；フロロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレンおよびヨードスチレンなどのハロゲン化スチレン；ニトロスチレン、アセチルスチレンおよびメトキシスチレンなどを挙げることができる。

ビニル系モノマーの例としては、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール、ジビニルベンゼン、酢酸ビニルおよびアクリロニトリル；ブタジエン、イソプレンおよびクロロプレン等の共役ジエンモノマー；塩化ビニルおよび臭化ビニル等のハロゲン化ビニル；塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニリデンなどを挙げることができる。

本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物中の（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）以外の上記他の光重合性モノマーの使用量は、前記インプリント用光硬化性樹脂組成物中の（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）１００質量部に対して、０〜３０質量部が好ましく、０〜１０質量部がより好ましい。（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）以外の光重合性モノマーの使用量が、上記範囲であると堅牢でかつ精度のよい構造体を形成することができる。

上記例示した（メタ）アクリル系モノマーおよび他の光重合性モノマーは単独であるいは組み合わせて使用することができる。

２．光開始剤（Ｂ）
光開始剤は、モノマーの重合を促進するために添加される成分であり、前記モノマー１００質量部に対して例えば０．１質量部以上含有される。光開始剤の含有量の上限は、特に規定されないが、例えば前記モノマー１００質量部に対して２０質量部である。光開始剤の含有量は、具体的には例えば、前記モノマー１００質量部に対して０．１、０．５、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１５、２０質量部であり、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。光開始剤の種類は特に限定されないが、アルキルフェノン系光開始剤（Ｂ１）およびアシルフォスフィンオキサイド系光開始剤（Ｂ２）を組み合わせて用いることが好ましい。

光開始剤としてアルキルフェノン系光開始剤（Ｂ１）およびアシルフォスフィンオキサイド系光開始剤（Ｂ２）を組み合わせて用いることで、重合速度が適度に低くなり、重合して収縮した樹脂とマスターモールドとの間に未重合の樹脂組成物が入り重合していくため、本発明の組成物を光硬化して得られる構造体の硬化収縮を低減することができるとともに、後から重合した樹脂は表面で充分に架橋構造を形成するため、先に重合した樹脂より硬度が高く、その表面硬度を高くすることができると考えられる。

本発明において、インプリント用光硬化性樹脂組成物中の両光開始剤の使用量は、インプリント用光硬化性樹脂組成物中の（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）１００質量部に対して、前記アルキルフェノン系光開始剤（Ｂ１）を好ましくは０．０１〜２０質量部、より好ましくは０．１〜１５質量部、さらに好ましくは０．５〜１０質量部用いて、前記アシルフォスフィンオキサイド系光開始剤（Ｂ２）を好ましくは０．０１〜２０質量部、より好ましくは０．１〜１５質量部、さらに好ましくは０．５〜１０質量部用いる。

アルキルフェノン系光開始剤（Ｂ１）およびアシルフォスフィンオキサイド系光開始剤（Ｂ２）を上記範囲で使用すると、ラジカルの発生量をコントロールすることができる。
また、前記アルキルフェノン系光開始剤（Ｂ１）と前記アシルフォスフィンオキサイド系光開始剤（Ｂ２）との重量比（Ｂ１：Ｂ２）は、１：９９〜９０：１０であり、５：９５〜８０：２０が好ましく、１０：９０〜７０：３０がより好ましく、１０：９０〜４０：６０が最も好ましい。

アルキルフェノン系光開始剤（Ｂ１）およびアシルフォスフィンオキサイド系光開始剤（Ｂ２）を上記重量比で使用すると、比較的硬質の重合体を適度に重合速度を落として形成することができると共に、得られる重合体の黄変を抑制することができる。

アルキルフェノン系光開始剤としては、窒素を含まない化合物が好ましく、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−1−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロパン−１−オンおよび２−ヒドロキシ−１−｛［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル-プロパン−１−オンからなる群から選ばれる少なくとも１種であることがより好ましく、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが最も好ましい。

アルキルフェノン系光開始剤の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（いずれもＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１１７３（チバ・ジャパン株式会社製）が挙げられる。

アシルフォスフィンオキサイド系光開始剤としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイドおよびビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドからなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドが最も好ましい。

アシルフォスフィンオキサイド系光開始剤の市販品としては、ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（いずれもＢＡＳＦ社製）が挙げられる。
３．その他
本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物は、溶剤、連鎖移動剤、酸化防止剤、光増感剤、充填剤、レベリング剤等の成分をインプリント用光硬化性樹脂組成物の性質に影響を与えない範囲で含んでいてもよい。

本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物は、上記成分を公知の方法で混合することにより製造することができる。
＜インプリント用光硬化性樹脂組成物の使用方法＞
本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物は、マスターモールド等の表面に微細パターンが形成された構造体を製造するための光インプリントに使用される。

光インプリントは、
（Ｉ−１）本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物を基板上に塗布する工程、
（ＩＩ−１）前記基板上のインプリント用光硬化性樹脂組成物に、表面に微細パターンの形成されたマスターモールドを当接する工程、
（ＩＩＩ）前記基板と前記マスターモールドとの間の前記インプリント用光硬化性樹脂組成物に光を照射して、インプリント用光硬化性樹脂組成物を硬化させる工程、および
（ＩＶ）前記硬化したインプリント用光硬化性樹脂組成物から前記マスターモールドを剥離する工程を含む。

上記工程（Ｉ）および（ＩＩ）は、
（Ｉ−２）本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物を表面に微細パターンの形成されたマスターモールド上に滴下する工程、
（ＩＩ−２）前記インプリント用光硬化性樹脂組成物の表面に基板を被せる工程としてもよい。
その結果、表面にマスターモールドの表面の微細パターンが転写された構造体が製造される。

工程（Ｉ−１）および（ＩＩ−２）における基板としては、樹脂、ガラス、シリコン、サファイア、窒化ガリウム、カーボンおよび炭化ケイ素などを挙げることができる。
上記基板に用いられる樹脂としては、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリイミド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォンおよびポリエチレンナフタレート等を挙げることができる。

また、上記基板に用いられる樹脂の形態としては、上記樹脂が板状である形態とフィルム状である形態が挙げられる。これらの形態は、インプリントの方式に合わせ選択される。

工程（Ｉ−１）における本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物の上記基板上への塗布方法としては、スピンコート、スプレーコート、バーコート、ディップコート、ダイコートおよびスリットコート等が挙げられる。

本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物の工程（Ｉ−１）における上記基板上への塗布量および工程（Ｉ−２）におけるマスターモールドへの滴下量としては、１×１０^-4〜１×１０^-1g/cm²が好ましく、１×１０^-3〜１×１０^-2g/cm²がより好ましい。

工程（ＩＩ−１）および（Ｉ−２）におけるマスターモールドの表面に形成されている微細パターンとは、通常、凹凸であり、一定の周期で繰り返すパターンである。すなわち微細パターンであり、好ましくは、周期１０ｎｍ〜５０μｍ、深さ１０ｎｍ〜１００μｍ、転写面１．０〜１．０×１０⁶ｍｍ²の微細パターンである。

凹凸の具体的な形状としては、モスアイ、線、円柱、モノリス、円錐、多角錐およびマイクロレンズアレイが挙げられる。
工程（ＩＩ−１）では、マスターモールドを通常１．０×１０^-3〜１．０ＭＰａの強さで、本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物に当接し、通常１〜３００秒間保持する。

工程（ＩＩＩ）における光としては、紫外線、可視光線、赤外線および電子線のような活性エネルギー線が挙げられる。光の照射条件としては、通常１００〜１８，０００ｍＪ／ｃｍ²である。

工程（ＩＶ）において、マスターモールドと硬化した樹脂とを引き離す操作を行う。
上記光インプリントにより、本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物は、表面にマスターモールドの微細パターンが転写された構造体となる。

＜インプリント用光硬化性樹脂組成物から得られる構造体＞
１．構造体の物性
本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物を光インプリントして得られた表面にマスターモールドの微細パターンが転写された前記構造体は、以下の物性を有する。

前記構造体の表面に形成された微細パターンの転写性は、９７％以上であることが好ましく、９９％以上であることがさらに好ましい。また、前記微細パターンの耐溶剤性は、２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。転写性及び耐溶剤性の具体的な評価方法は、実施例において説明する。

このような転写性及び耐溶剤性となるのは、本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物が３官能（メタ）アクリレート化合物と４官能以上の（メタ）アクリレート化合物を特定の配合比率で含有しているからである。

２．構造体の用途
本発明のインプリント用光硬化性樹脂組成物からなる樹脂層に微細パターンが形成されてなる構造体の用途は、特に限定されないが、例えば、反射防止フィルムとして用いられる。この場合、構造体の表面に形成される微細パターンは、モスアイの形状であることが好ましい。

以下、本発明の実施例及び比較例を示す。
まず、ニッケル製のマスターモールドの微細パターン（形状高さ３３９ｎｍ、周期３５０ｎｍモスアイパターン）をフッ素系離型剤（ダイキン工業社製、オプツール ＨＤ−２１００）で剥離処理を施した。
次に、上記マスターモールドに表１に示す組成の光硬化性樹脂組成物を滴下し、樹脂組成物上にＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基板を被せた後、基板上にローラーを転がして樹脂液を均一に伸ばした（２．５×１０^-3ｇ／ｃｍ²）。その後、ＵＶ照射装置（テクノビジョン社製、型式： ＵＶＣ−４０８）にて積算光量２００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ光を照射し、樹脂を硬化させた後、ＰＥＴ／硬化させた樹脂の積層体をマスターモールドより離型して試料を得た。このようにして得られた試料は、以下「構造体」という。

（転写性の評価）
この構造体について、走査型プローブ顕微鏡（日立ハイテクサイエンス社製、商品名：Ｌ−ｔｒａｃｅ）を用いて、微細パターンの形状高さを測定し、以下の式１に従って転写性を算出し、以下の基準で評価した。
転写性（％）＝｛（構造体の微細パターンの形状高さ）／（マスターモールドの微細パターンの形状高さ）｝×１００ （式１）
◎：転写性が９９％以上
○：転写性が９７％以上９９％未満
×：転写性が９７％未満

（耐溶剤性の評価）
次に、得られた構造体を有機溶剤（イソプロピルアルコール）に三分間浸漬し、上記の転写性の評価と同様に、構造体の微細パターンの形状高さを測定し、以下の式２〜式３に従って耐溶剤性を算出し、以下の基準で評価した。
耐溶剤性（％）＝（１−形状高さ減少率）×１００（式２）
形状高さ減少率＝｛（有機溶剤への浸漬後の構造体の微細パターンの形状高さ）／（有機溶剤への浸漬前の構造体の微細パターンの形状高さ）｝（式３）

◎：耐溶剤性が１％未満
○：耐溶剤性が１％以上２％未満
×：耐溶剤性が２％以上

表１中の略号の意味は、以下の通りである。
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＥＯ変性ＴＭＰＴＡ：エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
ＤＰＨＡ： ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
Ｍ−２１１Ｂ：ビスフェノールAエチレンオキサイド変性ジアクリレート（東亞合成社製）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４：１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦ社製）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７：２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦ社製）
ＴＰＯ−Ｌ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−エトキシフェニル−ホスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製）

（考察）
比較例１〜比較例３に示すように、４官能以上の（メタ）アクリレート化合物を含まない光硬化性樹脂組成物を用いた場合、転写性は良好であったが、耐溶剤性が悪かった。また、比較例４に示すように、４官能の（メタ）アクリレート化合物を過剰に含む光硬化性樹脂組成物を用いた場合、耐溶剤性は良好であったが、転写性が悪かった。
一方、実施例１〜実施例４に示すように、３官能（メタ）アクリレート化合物と４官能以上の（メタ）アクリレート化合物とを特定の配合比率で含有する光硬化性樹脂組成物を用いた場合、転写性と耐溶剤性の両方について良好な結果が得られた。
また、光開始剤については、実施例２〜実施例４に示すように、アルキルフェノン系光開始剤とアシルフォスフィンオキサイド系光開始剤を組み合わせて用いることによって、転写性について、特に良好な結果が得られた。

Claims (3)

1. 基板と樹脂層を含む構造体であって、
   前記樹脂層は、前記基板上に形成され、
   前記樹脂層には、微細パターンが形成されており、
   前記樹脂層は、光重合性の（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）および光開始剤（Ｂ）を少なくとも含むインプリント用光硬化性樹脂組成物を用いて形成され、
   前記（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）の配合比率が、
   （ａ−１）３官能（メタ）アクリレート化合物 ６０〜９０質量％
   （ａ−２）４官能以上の（メタ）アクリレート化合物 １０〜３５質量％
   （ａ−３）２官能以下の（メタ）アクリレート化合物 ０〜３７質量％
   （ただし、（ａ−１）〜（ａ−３）の合計が１００質量％とする）
   であり、積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２である場合の微細パターンの転写性が９７％以上であり、且つ前記微細パターンが溶剤にさらされた際の前記微細パターンの溶解の度合いを示す耐溶剤性が１％未満である、構造体。
2. 前記光開始剤は、アルキルフェノン系光開始剤（Ｂ１）およびアシルフォスフィンオキサイド系光開始剤（Ｂ２）の組み合わせからなる、請求項１に記載の構造体。
3. 反射防止フィルムとして用いられる請求項１又は請求項２に記載の構造体。