JP6422791B2 - X線分析装置 - Google Patents
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Description
上記EDSは、検出器に取り込まれたX線のエネルギーを検出器内で電気信号に変換し、その電気信号の大きさによってエネルギーを算出するタイプのX線検出器である。また、WDSはX線を分光器で単色化(エネルギー弁別)し、単色化されたX線を比例計数管などで検出するタイプのX線検出器である。
走査電子顕微鏡や透過電子顕微鏡にTESを取り付けた場合、電子線が照射されたサンプルから発生する特性X線をTESで取得することで、半導体型X線検出器では分離不可能な特性X線(例えば、Si−Kα、W−Mα、W−Mβなど)のエネルギースペクトルのピークを容易に分離することができる。
TESはSDDに比べ動作温度が低く、TESを安定的に動作させるために熱シールドとしてX線窓をSDDに比べ余分に設ける必要がある。そのため1keV以下の特性X線の取得効率を上げつつ、かつTESを安定動作させることが必要である。
このように外部からの熱侵入があるとTESに流れる電流が変化することになり、エネルギー分解能の劣化を引き起こす。TESを安定して動作させるためにはTESの電流を一定にさせ、外部からの侵入熱Pexの影響が無視できるように熱設計する必要がある。
(1)本発明の一態様に係るX線分析装置は、分析対象である試料を励起して特性X線を放出させる励起源と、前記特性X線を検出するX線検出器と、前記X線検出器に入射する前記特性X線の範囲を規制するコリメータと、前記試料と前記X線検出器との間において、前記特性X線を透過させる少なくとも1つの窓部と、前記窓部の温度を雰囲気温度よりも低くするように前記窓部を冷却する冷却部と、を備え、前記窓部は、積層されたアルミニウム膜および絶縁膜を備え、前記少なくとも1つの窓部における全ての前記アルミニウム膜の累積した膜厚は、150nm以上かつ300nm未満に形成され、前記コリメータの大きさは、前記X線検出器への熱輻射量を10μW以下にする大きさに形成されている。
なお、アルミニウム膜の累積した膜厚が150nm未満に薄くなると、外部からの黒体輻射を十分低下させることができないという問題が生じる。また、アルミニウム膜の累積した膜厚が300nm以上に厚くなると、1keV以下のX線の透過減衰が増大して効率が低下するという問題が生じる。
また、コリメータの大きさが、窓部が存在しない場合での雰囲気温度のX線検出器への熱輻射量を10μW以下にすることができない大きさであると、外部からの黒体輻射を十分低下させることができないという問題が生じる。
なお、第1窓部の温度が50Kよりも高くなると、雰囲気温度からX線検出器に向かって段階的な温度低下を適切に達成することができなくなるという問題が生じる。また、第1窓部の温度を20K未満にするためには第1冷却部に必要とされる出力が過大になるという問題が生じる。
なお、第2窓部の温度が5Kよりも高くなるとX線検出器に付与される輻射熱量を十分に小さくすることができないという問題が生じる。また、第2窓部の温度を1K未満にするためには第2冷却部に必要とされる出力が過大になるという問題が生じる。
上記(3)に記載の態様に係るX線分析装置によれば、雰囲気温度からX線検出器に向かって段階的な温度低下を適切に達成することができる。
なお、第1窓部のアルミニウム膜の膜厚が100nm未満になると、段階的な温度低下を適切に達成することができないという問題が生じる。
なお、第3窓部の温度が0.3Kよりも高くなるとX線検出器の動作安定性を向上させることができないという問題が生じる。
上記(5)に記載の態様に係るX線分析装置によれば、5K以下の黒体輻射の影響を、より遮蔽することが可能となる。
なお、コリメータの大きさが300μmよりも大きくなると、5K以下の黒体輻射の影響を有効に遮蔽することができないという問題が生じる。
上記(6)に記載の態様に係るX線分析装置によれば、特性X線の透過減衰が増大することを抑制しつつ、アルミニウム膜を適切に保持することができる。
なお、絶縁膜の膜厚が100nmよりも大きくなると、特性X線の透過減衰が増大して、効率が低下するという問題が生じる。
上記(7)に記載の態様に係るX線分析装置によれば、特性X線の透過減衰が増大することを抑制しつつ、アルミニウム膜を適切に保持することができる。
上記(8)に記載の態様に係るX線分析装置によれば、1keV以下の特性X線の取得効率が低下することを抑制しつつ、アルミニウム膜を適切に保持することができる。また、シリコン窒化膜によれば、膜中に酸素もしくは炭素を含まないので、酸素および炭素の各々の分析を適正に行なうことができる。
上記(9)に記載の態様に係るX線分析装置によれば、雰囲気温度(例えば、室温である27℃など)の黒体輻射の波長が10um程度であることから、複数の貫通孔の各々の大きさが5um以下であれば、黒体輻射をより一層、効果的に遮蔽することができる。
なお、複数の貫通孔の各々の大きさが5umよりも大きくなると、黒体輻射を効果的に遮蔽することができないという問題が生じる。
上記(10)に記載の態様に係るX線分析装置によれば、試料を収容するチャンバーと収容部に収容されたX線検出器との間に圧力差が生じても、X線検出器を安定して動作させることができる。
本実施形態のX線分析装置10は、例えば、電子顕微鏡、イオン顕微鏡、X線顕微鏡、および蛍光X線分析装置などの組成分析装置として利用可能である。
X線分析装置10は、図1に示すように、分析対象である試料11に電子線12を照射することによって試料11を励起して、試料11から特性X線13を放出させる電子銃14と、試料11から放出される特性X線13を検出するX線検出器としての超伝導転移端センサ(Transition Edge Sensor、TES)15と、を備えている。
冷却部16は、冷凍機本体16aと、冷凍機本体16aにおいて最も冷却される箇所に接続されたコールドヘッド16bと、を備えている。TES15は、冷凍機本体16aに装着された断熱構造を有するスノート17の内部に配置されたコールドヘッド16bの先端に設置されている。
なお、試料11、電子銃14、およびスノート17の先端部は、チャンバー18の内部に配置され、スノート17およびチャンバー18の各々の内部は、ターボ分子ポンプまたは拡散ポンプなどにより真空排気され、真空度は10−3〜10−5Pa程度である。
外囲シールド20、第1熱シールド21、および第2熱シールド22の各々の一部は、コールドヘッド16bを覆うように伸びる形状に形成されることによって、スノート17を構成している。
外囲シールド20は、第1熱シールド21を内部に収容している。第1熱シールド21は、第2熱シールド22を内部に収容している。
ガス循環器27は、外囲シールド20の外部に配置されている。ガス循環器27は、外囲シールド20の内部に配置されるガス循環流路27aに接続され、ガス循環流路27aにおいて3Heを循環させる。ガス循環流路27aには、第1ポット23、第2ポット24、分溜器25、および混合器26が接続されている。
予備冷却器28は、外囲シールド20の外部に配置されている。予備冷却器28は、第1ポット23および第2ポット24に接続されている。予備冷却器28は、例えば、GM冷凍機などの機械式冷凍機である。
第2ポット24は、予備冷却器28によって、例えば1K程度までに冷却される。第2ポット24は、第2熱シールド22を冷却する。
第1ポット23および第2ポット24は、ガス循環流路27aの3Heを液化する。
分溜器25は、希薄相にある3Heを蒸発(分溜)させる。分溜器25は、例えば1K未満の0.7K程度に保たれる。
混合器26は、3Heを濃厚相から希薄相へ移動させる。混合器26は、例えば100mK程度に保たれる。混合器26は、コールドヘッド16bを100mK近傍まで冷却する。
なお、外囲シールド20の温度は、雰囲気温度(例えば、室温である27℃など)である。
スノート17において、第1熱シールド21は、外囲シールド20と第2熱シールド22との間に設置されている。第1熱シールド21は、試料11から放出された特性X線13をTES15に到達させるための第1X線窓31を備えている。第1X線窓31は、積層されたアルミニウム膜31aおよび絶縁膜31bを備えている。
スノート17において、第2熱シールド22は、第1熱シールド21とコールドヘッド16bとの間に設置されている。第2熱シールド22は、試料11から放出された特性X線13をTES15に到達させるための第2X線窓32を備えている。第2X線窓32は、積層されたアルミニウム膜32aおよび絶縁膜32bを備えている。
スノート17において、第1熱シールド21および第2熱シールド22は、コールドヘッド16bに対して、試料11から放出された特性X線13を透過させるとともに、外囲シールド20からの熱輻射を遮蔽する。
また、試料11からTES15に向かう方向(例えば、Z方向)においてTES15の手前の位置には、コリメータ33が設けられている。コリメータ33は、外部からTES15への侵入熱を制限するとともに、TES15の一部の領域にのみ特性X線13を照射する。
第1X線窓31および第2X線窓32が存在しない場合、室温からの黒体輻射による電磁波がコリメータ33を通過してTES15に侵入する。TES15は、上記数式(1)に示す熱バランスで動作点が保持されるが、外部からの侵入熱PexはTES15の発熱量より十分小さくなくてはならない。例としてTES15の電流を50μA、動作抵抗を30mΩとしたときの自己発熱量は75pWである。TES15の動作点が、外部からの侵入熱Pexの変動によって変化するとエネルギー分解能劣化の原因となるため、外部からの侵入熱Pexは0.1pW以下とすることが望ましい。第1X線窓31および第2X線窓32が存在しないときTES15は外囲シールド20を直接見ることになる。コリメータ33の開口のサイズ(例えば、直径)を0.2mmとし、コリメータ33とTES15の距離を0.3mmとしたとき、TES15から外囲シールド20を見たときの外囲シールド20のエリアのサイズ(例えば、直径)は6.6mmとなる。
TES15を安定動作させるためには外部からの侵入熱Pexは0.1pW以下とすることが望ましいため、第1X線窓31および第2X線窓32により7桁以上、外囲シールド20からの黒体輻射を減少させる必要がある。
図4は、第1X線窓31および第2X線窓32における全てのアルミニウム膜31a,32aの累積した膜厚を其々150nm、200nm、および300nmとしたときのX線の透過特性を示す図である。
雰囲気温度(例えば、室温である27℃など)の黒体輻射を波長に換算すると、約10um程度になる。なお、プランク定数h、光速c、波長λ、ボルツマン定数kB、および温度Tに対して、hc/λ=kB・Tの関係がある。そのため波長10um近傍の透過特性が7桁以上小さくなるためには、少なくともアルミニウムの膜厚が200nm以上必要であることがわかる。
なお、雰囲気温度として適宜の温度範囲を用いることによって、必要となるアルミニウムの膜厚は、150nm以上かつ300nm未満となる。
第2X線窓32は第2熱シールド22と同じ温度まで冷却されるため、第2熱シールド22の温度をT2としたとき、第2X線窓32は温度T2の黒体輻射を及ぼす。第2X線窓32の温度T2を1K〜5Kとしたときの黒体輻射は、0.0002pW〜0.14pW(波長:600um〜3mm)となる。第2X線窓32は、温度T2の黒体輻射をTES15に及ぼすので、目的の輻射熱を得ることが可能となる。
なお、第1X線窓31のアルミニウム膜31aの厚さを、100nm以上にすることによって、第2X線窓32に必要とされる黒体輻射の低減量を小さくすることができ、TES15の動作安定性を向上させることができる。
さらに、コリメータ33の開口のサイズを75umとすれば、50Kからの黒体輻射を遮蔽することが可能となり、よりTES15を熱的に安定動作させることが可能となる。
なお、アルミニウム膜31a、32aの累積した膜厚が150nm未満に薄くなると、外部からの黒体輻射を十分低下させることができないという問題が生じる。また、アルミニウム膜31a、32aの累積した膜厚が300nm以上に厚くなると、1keV以下の特性X線13の透過減衰が増大して効率が低下するという問題が生じる。
また、コリメータ33の大きさが、第1X線窓31および第2X線窓32が存在しない場合での雰囲気温度のTES15への熱輻射量を10μW以下にすることができない大きさであると、外部からの黒体輻射を十分低下させることができないという問題が生じる。
なお、第1X線窓31の温度が50Kよりも高くなると、雰囲気温度からTES15に向かって段階的な温度低下を適切に達成することができなくなるという問題が生じる。また、第1X線窓31の温度を20K未満にするためには第1ポット23に必要とされる出力が過大になるという問題が生じる。
なお、第2X線窓32の温度が5Kよりも高くなるとTES15に付与される輻射熱量を十分に小さくすることができないという問題が生じる。また、第2X線窓32の温度を1K未満にするためには第2ポット24に必要とされる出力が過大になるという問題が生じる。
なお、コリメータ33の大きさが300μmよりも大きくなると、5K以下の黒体輻射の影響を有効に遮蔽することができないという問題が生じる。
なお、各絶縁膜31b,32bの膜厚が100nmよりも大きくなると、特性X線の透過減衰が増大して、効率が低下するという問題が生じる。
さらに、各絶縁膜31b,32bが、窒化シリコンまたはシリコンを含むシリコン材料により形成されている場合には、1keV以下の特性X線の取得効率が低下することを抑制しつつ、アルミニウム膜31a,32aを適切に保持することができる。また、シリコン窒化膜によれば、膜中に酸素もしくは炭素を含まないので、酸素および炭素の各々の分析を適正に行なうことができる。
上述した実施形態においてX線分析装置10は、2つの第1X線窓31および第2X線窓32を備えるとしたが、これに限定されない。
上述した実施形態の第1変形例に係るX線分析装置10は、図5および図6に示すように、上述した実施形態のX線分析装置10における第1X線窓31が省略されている。
第1変形例に係るX線分析装置10の構成が、上述した実施形態のX線分析装置10の構成と異なる点は、第1変形例に係るX線分析装置10が、第1熱シールド21、第1ポット23、および第1X線窓31を備えていない点である。
第1変形例に係るX線分析装置10において、第2X線窓32のアルミニウム膜32aの膜厚は、150nm以上かつ300nm未満である。第2X線窓32のアルミニウム膜32aの膜厚は、より好ましくは、200nmである。第2X線窓32の絶縁膜32bの厚みは100nm以下とするのが好ましい。
第2熱シールド22と同じ温度まで冷却される第2X線窓32の温度T2は1K〜5Kである。
上述した実施形態においてX線分析装置10は、2つの第1X線窓31および第2X線窓32を備えるとしたが、これに限定されない。2つよりも多い数(例えば、3つなど)のX線窓を備えてもよい。
上述した実施形態の第2変形例に係るX線分析装置10は、図7に示すように、上述した実施形態のX線分析装置10における第1X線窓31および第2X線窓32に加えて、第3X線窓50を備えている。
第2変形例に係るX線分析装置10の構成が、上述した実施形態のX線分析装置10の構成と異なる点は、第2変形例に係るX線分析装置10が、第3X線窓50を備える点である。
雰囲気温度の外囲シールド20からTES15までの間にアルミニウムの膜厚が、好ましくは200nm以上あればよいため、第1X線窓31、第2X線窓32、および第3X線窓50の各々のアルミニウム膜31a、32a、50aの累積した膜厚は、150nm以上かつ300nm未満、より好ましくは200nm、に形成されている。
コールドヘッド16bにより冷却される第3X線窓50の温度は、0.3K以下に設定されている。
上述した実施形態においてX線分析装置10は、試料11とTES15との間において、複数の貫通孔が設けられた金属メッシュを備えてもよい。
雰囲気温度(例えば、室温である27℃など)の黒体輻射の波長が10um程度であることから、複数の貫通孔の各々の大きさが5um以下であれば、黒体輻射をより一層、効果的に遮蔽することができる。
また、上述した実施形態において、図8に示すように、貫通孔30に耐圧性のあるX線窓60を備えてもよい。耐圧性のあるX線窓60としては、例えば、ポリイミドおよびパラキシレン系ポリマーの少なくとも何れか1つを含む有機材料を用いてもよい。これにより、試料11を収容するチャンバー18とスノート17に収容されたTES15との間に圧力差が生じてもTES15を安定して動作させることが可能である。
Claims (10)
- 分析対象である試料を励起して特性X線を放出させる励起源と、
前記特性X線を検出するX線検出器と、
前記X線検出器に入射する前記特性X線の範囲を規制するコリメータと、
前記試料と前記X線検出器との間において、前記特性X線を透過させる少なくとも1つの窓部と、
前記窓部の温度を雰囲気温度よりも低くするように前記窓部を冷却する冷却部と、
を備え、
前記窓部は、積層されたアルミニウム膜および絶縁膜を備え、
前記少なくとも1つの窓部における全ての前記アルミニウム膜の累積した膜厚は、150nm以上かつ300nm未満に形成され、
前記コリメータの大きさは、前記窓部が存在しない場合での前記雰囲気温度の前記X線検出器への熱輻射量を10μW以下にする大きさに形成されている、
ことを特徴とするX線分析装置。 - 前記少なくとも1つの窓部は、第1窓部および第2窓部を備え、
前記第1窓部の温度を20K以上かつ50K以下にするように前記第1窓部を冷却する第1冷却部と、
前記第2窓部の温度を1K以上かつ5K以下にするように前記第2窓部を冷却する第2冷却部と、
を備える、
ことを特徴とする請求項1に記載のX線分析装置。 - 前記第1窓部の前記アルミニウム膜の膜厚は、100nm以上に形成されている、
ことを特徴とする請求項2に記載のX線分析装置。 - 前記少なくとも1つの窓部は、前記第1窓部、前記第2窓部、および第3窓部を備え、
前記第3窓部の温度を0.3K以下にするように前記第3窓部を冷却する第3冷却部を備える、
ことを特徴とする請求項2または請求項3に記載のX線分析装置。 - 前記コリメータの大きさは、300μm以下に形成されている、
ことを特徴とする請求項1から請求項4の何れか1つに記載のX線分析装置。 - 前記絶縁膜の膜厚は、100nm以下に形成されている、
ことを特徴とする請求項1から請求項5の何れか1つに記載のX線分析装置。 - 前記絶縁膜は、ポリイミドおよびパラキシレン系ポリマーの少なくとも何れか1つを含む有機材料により形成されている、
ことを特徴とする請求項1から請求項6の何れか1つに記載のX線分析装置。 - 前記絶縁膜は、窒化シリコンまたはシリコンを含むシリコン材料により形成されている、
ことを特徴とする請求項1から請求項6の何れか1つに記載のX線分析装置。 - 前記試料と前記X線検出器との間において、複数の貫通孔が設けられた貫通孔形成部を備え、
前記複数の貫通孔の各々の大きさは、5μm以下に形成されている、
ことを特徴とする請求項1から請求項8の何れか1つに記載のX線分析装置。 - 前記少なくとも1つの窓部および前記X線検出器を収容する収容部において前記試料と前記X線検出器との間に設けられた貫通孔に装着される耐圧力性のX線窓を備える、
ことを特徴とする請求項1から請求項9の何れか1つに記載のX線分析装置。
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