JP6413790B2 - カルボニル誘導体、これらの化合物を含有する液晶組成物および液晶表示素子 - Google Patents

Description

本発明は、カルボニル誘導体である液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子に関する。さらに詳しくは、アルキルオキシまたはアルキレンオキシ骨格を有する誘電率異方性が負である化合物、この化合物を含有する液晶組成物、およびこの組成物を含む液晶表示素子に関する。

液晶表示素子は、パソコン、テレビなどのディスプレイに広く利用されている。この素子は、液晶性化合物の光学的異方性、誘電率異方性などを利用したものである。液晶表示素子の動作モードとしては、ＰＣ（phase change）モード、ＴＮ（twisted nematic）モード、ＳＴＮ（super twisted nematic）モード、ＢＴＮ（bistable twisted nematic）モード、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）モード、ＯＣＢ（optically compensated bend）モード、ＩＰＳ（in-plane switching）モード、ＶＡ（vertical alignment）モード、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）モード、ＰＳＡ（Polymer sustained alignment）などのモードが知られている。

これらのうち、ＩＰＳモード、ＦＦＳモードおよびＶＡモードは、ＴＮモード、ＳＴＮモードなどの動作モードの欠点である視野角の狭さを改善できることが知られている。この種のモードを有する液晶表示素子では、負の誘電率異方性を有する液晶組成物が主に使われている。液晶表示素子の特性をさらに向上させるには、この組成物に含まれる液晶性化合物が、下記の（１）〜（８）で示す物性を有することが好ましい。
（１）熱、光などに対する高い安定性、
（２）高い透明点、
（３）液晶相の低い下限温度、
（４）小さな粘度（η）、
（５）適切な光学的異方性（Δｎ）、
（６）大きな負の誘電率異方性（Δε）、
（７）適切な弾性定数（Ｋ_３３：ベンド弾性定数）、
（８）他の液晶性化合物との優れた相溶性。

液晶性化合物の物性が素子の特性に及ぼす効果は、次のとおりである。（１）のように、熱、光などに対する高い安定性を有する化合物は、素子の電圧保持率を大きくする。これによって、素子の寿命が長くなる。（２）のように、高い透明点を有する化合物は、素子の使用可能な温度範囲を広げる。（３）のように、ネマチック相、スメクチック相などのような液晶相の低い下限温度、特にネマチック相の低い下限温度を有する化合物も、素子の使用可能な温度範囲を広げる。（４）のように、粘度の小さな化合物は、素子の応答時間を短くする。

（５）のように、適切な光学的異方性を有する化合物は、素子のコントラストを向上する。素子の設計に応じて、大きな光学的異方性または小さな光学的異方性、すなわち適切な光学的異方性を有する化合物が必要である。素子のセルギャップを小さくすることにより応答時間を短くする場合には、大きな光学的異方性を有する化合物が適している。（６）のように大きな負の誘電率異方性を有する化合物は、素子のしきい値電圧を下げる。これによって、素子の消費電力が小さくなる。

（７）に関しては、大きな弾性定数を有する化合物は、素子の応答時間を短くする。小さな弾性定数を有する化合物は、素子のしきい値電圧を下げる。したがって、向上させたい特性に応じて適切な弾性定数が必要になる。（８）のように他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する化合物が好ましい。これは、異なった物性を有する液晶性化合物を混合して、組成物の物性を調節するからである。

従来から、負の誘電率異方性（Δε）を有する液晶組成物の成分として、ベンゼン環のラテラル位の水素がフッ素で置き換えられた液晶性化合物が数多く検討されてきている。例えば化合物（ａ）および（ｂ）が報告されている。しかし、化合物（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、負の誘電率異方性（Δε）を有するものの、必ずしもその値が大きくない場合もあり、ＶＡモード、ＩＰＳモードなどの液晶表示素子の駆動電圧を低下させるためには十分ではない場合もあった。

このような状況から、上記の物性（１）〜（８）に関して優れた物性と適切なバランスを有する化合物の開発が望まれている。特に、負の大きな誘電率異方性を有した化合物が求められている。

国際公開２０００／０３９０６３号 国際公開２００５／０９５３１１号

本発明の第一の課題は、熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性などの物性の少なくとも１つを充足する液晶性化合物を提供することである。特に大きな負の誘電率異方性を有する化合物を提供することである。第二の課題は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、および適切な弾性定数などの物性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を提供することである。この課題は、少なくとも２つの物性に関して適切なバランスを有する液晶組成物を提供することである。第三の課題は、この組成物を含み、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、および長い寿命を有する液晶表示素子を提供することである。

本発明は、式（１）で表される化合物、この化合物を含有する液晶組成物、およびこの組成物を含む液晶表示素子に関する。式（１）で表される化合物。

［式（１）において、
ＲａおよびＲｂは独立して、水素、ハロゲン、または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも一つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも一つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ａ¹、Ａ²およびＡ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの基において、一つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝Ｎ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも一つの水素は、ハロゲン、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、または−ＯＣＨ₂Ｆで置き換えられてもよく；
Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも一つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもく、これらの基において、少なくとも一つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３であり、Ｙ^２は、水素、ハロゲン、−ＣＦＨ_２、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３であり；
ａ、ｂ、およびｄは、０、１、２、または３であり、ａ、ｂ、およびｄの和は４以下であり、ａ、ｂ、またはｄが、２以上のとき、２以上から選ばれる２つの環Ａ^１、２以上から選ばれる２つの環Ａ^２、２以上から選ばれる２つの環Ａ^３、２以上から選ばれる２つのＺ^１、または２以上から選ばれるＺ^２は、同一であっても、異なっていてもよく；
ｃは、０、１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０である。］

本発明の第一の長所は、熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性などの物性の少なくとも１つを充足する液晶性化合物を提供することである。この長所は、特に大きな負の誘電率異方性を有する化合物を提供することである。第二の長所は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、および適切な弾性定数などの物性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を提供することである。この長所は、少なくとも２つの物性に関して適切なバランスを有する液晶組成物を提供することである。第三の長所は、この組成物を含み、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、および長い寿命を有する液晶表示素子を提供することである。

この明細書における用語の使い方は次のとおりである。液晶性化合物は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物、および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。液晶性化合物、液晶組成物、液晶表示素子をそれぞれ化合物、組成物、素子と略すことがある。液晶表示素子は、液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。透明点は、液晶性化合物における液晶相−等方相の転移温度である。液晶相の下限温度は、液晶性化合物における固体−液晶相（スメクチック相、ネマチック相など）の転移温度である。ネマチック相の上限温度は、液晶組成物におけるネマチック相−等方相の転移温度であり、上限温度と略すことがある。ネマチック相の下限温度を下限温度と略すことがある。式（１）で表わされる化合物を化合物（１）と略すことがある。式（１）で表わされる化合物を含有する組成物を組成物（１）と略すことがある。この略記は式（２）などで表される化合物にも適用することがある。式（１）、式（２）などにおいて、六角形で囲んだＡ^１、Ｄ^１などの記号はそれぞれ環Ａ^１、環Ｄ^１などに対応する。複数の環Ａ^１を１つの式または異なった式に記載した。これらの化合物において、任意の２つの環Ａ^１が表わす２つの基は、同一であってもよいし、異なってもよい。このルールは、環Ａ^２、Ｚ^２などの記号にも適用される。また、ｌが２のときに２つとなる環Ａ^１にも適用される。百分率で表した化合物の量は、組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。

「少なくとも１つの“Ａ”は、“Ｂ”で置き換えられてもよい」の表現は、“Ａ”が１つのとき、“Ａ”の位置は任意であり、“Ａ”の数が２つ以上のときも、それらの位置は制限なく選択できることを意味する。「少なくとも１つのＡが、Ｂ、ＣまたはＤで置き換えられてもよい」という表現は、任意のＡがＢで置き換えられる場合、任意のＡがＣで置き換えられる場合、および任意のＡがＤで置き換えられる場合、さらに複数のＡがＢ、Ｃ、Ｄの少なくとも２つで置き換えられる場合を含むことを意味する。例えば、少なくとも１つの−ＣＨ_２−が−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよいアルキルには、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルケニル、およびアルケニルオキシアルキルが含まれる。なお、連続する２つの−ＣＨ_２−が−Ｏ−で置き換えられて、−Ｏ−Ｏ−のようになることは好ましくない。アルキルなどにおいて、メチル部分（−ＣＨ_２−Ｈ）の−ＣＨ_２−が−Ｏ−で置き換えられて−Ｏ−Ｈになることも好ましくない。

２−フルオロ−１，４−フェニレンは、下記の２つの二価基を意味する。化学式において、フッ素は左向き（Ｌ）であってもよいし、右向き（Ｒ）であってもよい。このルールは、テトラヒドロピラン−２，５−ジイルのような、非対称の二価の環にも適用される。

本発明は、下記の項１〜１５に記載された内容を包含する。

項１．式（１）で表される化合物。

［式（１）において、
ＲａおよびＲｂは独立して、水素、ハロゲン、または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも一つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも一つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ａ¹、Ａ²およびＡ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの基において、一つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝Ｎ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも一つの水素は、ハロゲン、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、または−ＯＣＨ₂Ｆで置き換えられてもよく；
Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも一つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも一つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３であり、Ｙ^２は、水素、ハロゲン、−ＣＦＨ_２、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３であり；
ａ、ｂ、およびｄは独立して、０、１、２、または３であり、ａ、ｂ、およびｄの和は４以下であり、ａ、ｂ、またはｄが、２以上のとき、２以上から選ばれる２つの環Ａ^１、２以上から選ばれる２つの環Ａ^２、２以上から選ばれる２つの環Ａ^３、２以上から選ばれる２つのＺ^１、または２以上から選ばれる２つのＺ^２は、同一であっても、異なっていてもよく；
ｃは、０、１、２、３、４、５、６、７、８、９、または１０である。］

項２． 式（１−０）で表される、項１に記載の化合物。

［式（１−０）において、
ＲａおよびＲｂは独立して、水素、ハロゲン、または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも一つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも一つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ａ¹、Ａ²およびＡ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの基において、一つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝Ｎ−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの水素は、ハロゲン、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、または−ＯＣＨ₂Ｆで置き換えられてもよく；
Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも一つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもく、これらの基において、少なくとも一つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３であり、Ｙ^２は、水素、ハロゲン、−ＣＦＨ_２、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３であり；
ａ、ｂ、およびｄは独立して、０、１、２、または３であり、ａ、ｂ、およびｄの和は４以下であり、ａ、ｂ、またはｄが、２以上のとき、２以上から選ばれる２つの環Ａ^１、２以上から選ばれる２つの環Ａ^２、２以上から選ばれる２つの環Ａ^３、２以上から選ばれる２つのＺ^１、または２以上から選ばれる２つのＺ^２は、同一であっても、異なっていてもよく；
ｃは、０、１、２、３、４、５、または６である。］

項３． 式（１−１）〜（１−１０）のいずれか１つで表される項１に記載の化合物。

［式（１−１）〜（１−１０）において、
ＲａおよびＲｂは独立して、フッ素、塩素、または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも一つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−ＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも一つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ａ¹、Ａ²およびＡ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２オン−３，６−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジンー２，５−ジイル、２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの基において、少なくとも一つの水素は、ハロゲン、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、または−ＯＣＨ₂Ｆで置き換えられてもよく；
Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ₂ＣＯ−、−ＣＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＳｉＨ₂−、−ＳｉＨ₂ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₂ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₃Ｏ−、または−Ｏ（ＣＨ₂）₃−であり；
Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３であり、Ｙ^２は、水素、ハロゲン、−ＣＦＨ_２、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３であり；
ｃは、０、１、２、３、４、５、または６である。］

項４． 式（１−１１）〜（１−２０）のいずれか１つで表される項１に記載の化合物。

［式（１−１１）〜（１−２０）において、
ＲａおよびＲｂは独立して、フッ素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数３〜９のアルケニルオキシ、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた炭素数１〜９のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた炭素数２〜１０のアルケニルであり；
Ａ¹、Ａ²およびＡ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり；
Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ₂）₂ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₂ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₃Ｏ−、または−Ｏ（ＣＨ₂）₃−であり；
Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３であり；
ｃは、０、１、２、３、４、５、または６である。］

項５． 式（１−２１）〜（１−２７）のいずれかで１つ表される項１に記載の化合物。

［式（１−２１）〜（１−２７）において、
ＲａおよびＲｂは独立して、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数１〜１０のフッ素化アルキル、または炭素数１〜９のフッ素化アルコキシであり；
Ａ¹およびＡ^２は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり；
Ｚ^１は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；
Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３である。］

項６． 項５に記載の式（１−２１）〜（１−２７）において、ＲａおよびＲｂが独立して、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、または炭素数１〜９のアルコキシであり；
Ａ¹およびＡ^２が独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり；
Ｚ^１が単結合であり；
Ｙ^１が−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３である、項５に記載の化合物。

項７． 項５に記載の式（１−２１）〜（１−２７）において、ＲａおよびＲｂが独立して、炭素数１〜１０のアルキル、または炭素数１〜９のアルコキシであり；
Ａ¹およびＡ^２が独立して、１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
Ｚ^１が単結合であり；
Ｙ^１がＣＦ_２Ｈである、項５に記載の化合物。

項８． 項５に記載の式（１−２１）〜（１−２７）において、ＲａおよびＲｂが独立して、炭素数１〜１０のアルキル、または炭素数１〜９のアルコキシであり；
Ａ¹、Ａ²およびＡ^３が独立して、１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
Ｚ^１およびＺ^２が単結合であり；
Ｙ^１が−ＣＦ_３である、項５に記載の化合物。

項９．項１〜８のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１つ含有する液晶組成物。

項１０． 式（６）〜（１２）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項９に記載の液晶組成物。

［式（６）〜（１２）において、
Ｒ^１３は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ^１４は、炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ^１５は、水素、フッ素、炭素数１〜１０のアルキル、または炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｓ^１１は、水素またはメチルであり；
Ｘは、−ＣＦ_２−、−Ｏ−、または−ＣＨＦ−であり；
環Ｄ^１、環Ｄ^２、環Ｄ^３、および環Ｄ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
環Ｄ^５および環Ｄ^６は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
Ｚ^１５、Ｚ^１６、Ｚ^１７、およびＺ^１８は独立して、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、または−ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり；
Ｌ^１５およびＬ^１６は独立して、フッ素または塩素であり；
ｊ、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒおよびｓは独立して、０または１であり、ｋ、ｍ、ｎおよびｐの和は、１または２であり、ｑ、ｒおよびｓの和は、０、１、２または３であり、ｔは、１、２または３である。」

項１１． 式（１３）〜（１５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項９または項１０に記載の液晶組成物。

［式（１３）〜（１５）において、
Ｒ^１６およびＲ^１７は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
環Ｅ^１、環Ｅ^２、環Ｅ^３、および環Ｅ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ^１９、Ｚ^２０、およびＺ^２１は独立して、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−ＣＯＯ−である。］

項１２． 式（２）〜（４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項９〜１１のいずれか１項に記載の液晶組成物。

［式（２）〜（３）において、
Ｒ^１１は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ^１１は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₂ＣＨＦ₂、または−ＯＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃であり；
環Ｂ^１、環Ｂ^２、および環Ｂ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ^１１、Ｚ^１２、およびＺ^１３は独立して、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、または−（ＣＨ_２）_４−であり；
Ｌ^１１およびＬ^１２は独立して、水素またはフッ素である。］

項１３． 式（５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項９〜１２のいずれか１項に記載の液晶組成物。

［式（５）において、
Ｒ^１２は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ^１２は、−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｃ^１は、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ^１４は、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、または−ＣＨ_２Ｏ−であり；
Ｌ^１３およびＬ^１４は独立して、水素またはフッ素であり；
ｉは、１、２、３、または４である。］

項１４． 少なくとも１つの光学活性化合物および／または少なくとも１つの重合可能な化合物をさらに含有する、項９〜１３のいずれか１項に記載の液晶組成物。

項１５． 少なくとも１つの酸化防止剤および／または少なくとも１つの紫外線吸収剤をさらに含有する、項９〜１４のいずれか１項に記載の液晶組成物。

項１６． 項９〜１５のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。

本発明の化合物、液晶組成物、液晶表示素子について、順に説明する。
１−１．化合物（１）
本発明の化合物（１）について説明をする。化合物（１）における末端基、環構造、結合基などの好ましい例、およびそれらの基が物性に及ぼす効果は、化合物（１）の下位式にも適用される。

式（１）において、ＲａおよびＲｂは独立して、水素、ハロゲン、または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも一つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも一つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。これらの基は、直鎖または分岐鎖であり、シクロヘキシルのような環状基を含まない。これらの基において分岐鎖よりも直鎖の方が好ましい。

アルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３、−ＣＨ＝ＣＨＣ_２Ｈ_５、−ＣＨ＝ＣＨＣ_３Ｈ_７、−ＣＨ＝ＣＨＣ_４Ｈ_９、−Ｃ_２Ｈ_４ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３、または−Ｃ_２Ｈ_４ＣＨ＝ＣＨＣ_２Ｈ_５のような奇数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはトランス配置が好ましい。−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣ_２Ｈ_５、または−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣ_３Ｈ_７のような偶数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはシス配置が好ましい。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、高い透明点または液晶相の広い温度範囲を有する。Mol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 109およびMol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 327、に詳細な説明がある。

ＲａまたはＲｂの好ましい例は、アルキル、アルコキシ、アルケニル、およびアルケニルオキシである。ＲａまたはＲｂのさらに好ましい例は、アルキル、アルコキシ、およびアルケニルである。

アルキルの例は、−ＣＨ_３、−Ｃ_２Ｈ_５、−Ｃ_３Ｈ_７、−Ｃ_４Ｈ_９、−Ｃ_５Ｈ_１１、−Ｃ_６Ｈ_１３、−Ｃ_７Ｈ_１５、−Ｃ_８Ｈ_１７、−Ｃ_９Ｈ_１９、−Ｃ_１０Ｈ_２１、−Ｃ_１１Ｈ_２３、−Ｃ_１２Ｈ_２５、−Ｃ_１３Ｈ_２７、−Ｃ_１４Ｈ_２９、および−Ｃ_１５Ｈ_３１である。

アルコキシの例は、−ＯＣＨ_３、−ＯＣ_２Ｈ_５、−ＯＣ_３Ｈ_７、−ＯＣ_４Ｈ_９、−ＯＣ_５Ｈ_１１、−ＯＣ_６Ｈ_１３、−ＯＣ_７Ｈ_１５、−ＯＣ_８Ｈ_１７、−ＯＣ_９Ｈ_１９、−ＯＣ_１０Ｈ_２１、−ＯＣ_１１Ｈ_２３、−ＯＣ_１２Ｈ_２５、−ＯＣ_１３Ｈ_２７、および−ＯＣ_１４Ｈ_２９である。

アルコキシアルキルの例は、−ＣＨ_２ＯＣＨ_３、−ＣＨ_２ＯＣ_２Ｈ_５、−ＣＨ_２ＯＣ_３Ｈ_７、−（ＣＨ_２）_２−ＯＣＨ_３、−（ＣＨ_２）_２−ＯＣ_２Ｈ_５、−（ＣＨ_２）_２−ＯＣ_３Ｈ_７、−（ＣＨ_２）_３−ＯＣＨ_３、−（ＣＨ_２）_４−ＯＣＨ_３、および−（ＣＨ_２）_５−ＯＣＨ_３である。

アルケニルの例は、−ＣＨ＝ＣＨ_２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２、−ＣＨ＝ＣＨＣ_２Ｈ_５、−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３、−（ＣＨ_２）_２−ＣＨ＝ＣＨ_２、−ＣＨ＝ＣＨＣ_３Ｈ_７、−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣ_２Ｈ_５、−（ＣＨ_２）_２−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３、および−（ＣＨ_２）_３−ＣＨ＝ＣＨ_２である。

アルケニルオキシの例は、−ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２、−ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３、および−ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣ_２Ｈ_５である。

少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられたアルキルの例は、−ＣＨ_２Ｆ、−ＣＨＦ_２、−ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_２−Ｆ、−ＣＦ_２ＣＨ_３、−ＣＦ_２ＣＨ_２Ｆ、−ＣＦ_２ＣＨＦ_２、−ＣＨ_２ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_３−Ｆ、−ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＨＦＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨ_３、−（ＣＦ_２）_３−Ｆ、−ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_３、−ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_４−Ｆ、−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_２ＣＨ_３、−（ＣＦ_２）_４−Ｆ、−（ＣＨ_２）_５−Ｆ、−（ＣＦ_２）_５−Ｆ、−ＣＨ_２Ｃｌ、−ＣＨＣｌ_２、−ＣＣｌ_３、−（ＣＨ_２）_２−Ｃｌ、−ＣＣｌ_２ＣＨ_３、−ＣＣｌ_２ＣＨ_２Ｃｌ、−ＣＣｌ_２ＣＨＣｌ_２、−ＣＨ_２ＣＣｌ_３、−ＣＣｌ_２ＣＣｌ_３、−（ＣＨ_２）_３−Ｃｌ、−ＣＣｌ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−（ＣＣｌ_２）_３−Ｃｌ、−ＣＣｌ_２ＣＨＣｌＣＣｌ_３、−ＣＨＣｌＣＣｌ_２ＣＣｌ_３、−（ＣＨ_２）_４−Ｃｌ、−（ＣＣｌ_２）_４−Ｃｌ、−ＣＣｌ_２（ＣＨ_２）_２ＣＨ_３、−（ＣＨ_２）_５−Ｃｌ、および−（ＣＣｌ_２）_５−Ｃｌである。

少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられたアルコキシの例は、−ＯＣＨ_２Ｆ、−ＯＣＨＦ_２、−ＯＣＦ_３、−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−Ｆ、−ＯＣＦ_２ＣＨ_２Ｆ、−ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、−ＯＣＨ_２ＣＦ_３、−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｆ、−Ｏ−（ＣＦ_２）_３−Ｆ、−ＯＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_３、−ＯＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_３、−Ｏ（ＣＨ_２）_４−Ｆ、−Ｏ−（ＣＦ_２）_４−Ｆ、−Ｏ−（ＣＨ_２）_５−Ｆ、−Ｏ−（ＣＦ_２）_５−Ｆ、−ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＨ_２ＣＨ_３、−ＯＣＨ_２Ｃｌ、−ＯＣＨＣｌ_２、−ＯＣＣｌ_３、−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−Ｃｌ、−ＯＣＣｌ_２ＣＨ_２Ｃｌ、−ＯＣＣｌ_２ＣＨＣｌ_２、−ＯＣＨ_２ＣＣｌ_３、−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｃｌ、−Ｏ−（ＣＣｌ_２）_３−Ｃｌ、−ＯＣＣｌ_２ＣＨＣｌＣＣｌ_３、−ＯＣＨＣｌＣＣｌ_２ＣＣｌ_３、−Ｏ（ＣＨ_２）_４−Ｃｌ、−Ｏ−（ＣＣｌ_２）_４−Ｃｌ、−Ｏ−（ＣＨ_２）_５−Ｃｌ、および−Ｏ−（ＣＣｌ_２）_５−Ｃｌである。

少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられたアルケニルの例は、−ＣＨ＝ＣＨＦ、−ＣＨ＝ＣＦ_２、−ＣＦ＝ＣＨＦ、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_２Ｆ、−ＣＨ＝ＣＨＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_２−ＣＨ＝ＣＦ_２、−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣＦ_３、−ＣＨ＝ＣＨＣＦ_２ＣＦ_３、−ＣＨ＝ＣＨＣｌ、−ＣＨ＝ＣＣｌ_２、−ＣＣｌ＝ＣＨＣｌ、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_２Ｃｌ、−ＣＨ＝ＣＨＣＣｌ_３、−（ＣＨ_２）_２−ＣＨ＝ＣＣｌ_２、−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣＣｌ_３、および−ＣＨ＝ＣＨＣＣｌ_２ＣＣｌ_３である。

式（１）において、Ａ¹、Ａ²およびＡ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの基において、一つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝Ｎ−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの水素は、ハロゲン、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂または−ＯＣＨ₂Ｆで置き換えられてもよい。

少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンの好ましい例は、式（Ａ−１）〜（Ａ−１７）で表される基である。負の大きな誘電率異方性を有するためには、式（Ａ−１）、（Ａ−５）、（Ａ−６）、（Ａ−７）、（Ａ−８）、（Ａ−９）、（Ａ−１０）、または（Ａ−１１）で表される基がより好ましい。

Ａ¹、Ａ²またはＡ^３の好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルである。より好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、およびテトラヒドロピラン−２，５−ジイルである。さらに好ましい例は、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレンである。１，４−シクロへキシレンには、シスおよびトランスの立体配置が存在する。高い上限温度の観点から、トランス配置が好ましい。

Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも一つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ₂−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも一つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。

Ｚ^１またはＺ^２の好ましい例は、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−（ＣＨ_２）_２ＣＦ_２Ｏ−、−（ＣＨ_２）_２ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、−ＯＣＦ_２（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ_２）_２−、および−（ＣＨ_２）_２−ＣＨ＝ＣＨ−である。より好ましい例は、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、および−ＯＣＨ_２−である。さらに好ましい例は、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、および−ＯＣＨ_２−である。

Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３であり、Ｙ^２は、水素、ハロゲン、−ＣＦＨ_２、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３である。Ｙ^２の好ましい例は、水素またはハロゲンである。Ｙ^２のより好ましい例はフッ素である。

ａ、ｂ、およびｄは独立して、０、１、２、または３であり、ａ、ｂ、およびｄの和は４以下であり、ａ、ｂ、またはｄが２以上のとき、２以上から選べれる２つの環Ａ^１、２以上から選べれる２つの環Ａ^２、２以上から選べれる２つの環Ａ^３、２以上から選べれる２つのＺ^１、または２以上から選べれる２つのＺ^２は、同一であっても、異なっていてもよい。ａ、ｂ、およびｄの好ましい組合せは、（ａ＝０、ｂ＝０、ｄ＝０）、（ａ＝０、ｂ＝１、ｄ＝０）、（ａ＝１、ｂ＝０、ｄ＝０）、（ａ＝１、ｂ＝1、ｄ＝０）、（ａ＝２、ｂ＝０、ｄ＝０）、（ａ＝０、ｂ＝０、ｄ＝１）、または（ａ＝０、ｂ＝０、ｄ＝２）である。

ｃは、０、１、２、３、４、５、６、７、８、９、または１０である。好ましいｃは、１、３、または５であり、より好ましいｃは１または３である。

１−２．化合物（１）の物性
化合物（１）において、Ｒａ、Ｒｂ、環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^２、Ｚ^１、Ｚ^２、ａ、ｂ、ｃおよびｄの組合せを適切に選択することによって、透明点、光学的異方性、誘電率異方性などの物性を任意に調整することが可能である。化合物の物性に大きな差異がないので、化合物（１）は、^２Ｈ（重水素）、^１３Ｃなどの同位体を天然存在比の量より多く含んでもよい。Ｒａなどの種類が化合物（１）の物性に及ぼす主要な効果を以下に説明する。

ＲａまたはＲｂが直鎖であるときは、液晶相の温度範囲が広く、そして粘度が小さい。ＲａまたはＲｂが分岐鎖であるときは、他の液晶性化合物との相溶性がよい。ＲａまたはＲｂが光学活性である化合物は、キラルドーパントとして有用である。この化合物を組成物に添加することによって、液晶表示素子に発生するリバース・ツイスト・ドメイン（reverse twisted domain）を防止することができる。ＲａまたはＲｂが共に光学活性でない化合物は、組成物の成分として有用である。ＲａまたはＲｂがアルケニルであるとき、好ましい立体配置は二重結合の位置に依存する。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、小さい粘度、高い上限温度、または液晶相の広い温度範囲を有する。ＲａまたはＲｂがアルコキシであるときは、高い上限温度を有する。

環Ａ^１、環Ａ^２および環Ａ^３が共に１，４−シクロヘキシレンであるときは、透明点が高く、粘度が小さい。環Ａ^１、環Ａ^２または環Ａ^３の少なくとも１つが、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであるときは、光学的異方性が比較的大きく、そして配向秩序パラメーター（orientational order parameter）が比較的大きい。環Ａ^１、環Ａ^２および環Ａ^３が共に１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、またはこれらの組み合わせであるときは、光学的異方性が特に大きい。環Ａ^１、環Ａ^２または環Ａ^３の少なくとも１つが、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジクロロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−３−フルオロ−１，４−フェニレン、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであるときは、負の誘電率異方性が特に大きい。

Ｚ^１またはＺ^２の少なくとも１つが、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−であるときは、粘度が小さい。Ｚ^１またはＺ^２の少なくとも１つが、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２Ｏ−、または−ＯＣＨ_２−であるときは、液晶相の温度範囲が広く、そして弾性定数（Ｋ）が大きい。Ｚ^１またはＺ^２の少なくとも１つが、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であるときは、透明点が高い。Ｚ^１またはＺ^２の少なくとも１つが、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であるときは、光学的異方性が大きい。Ｚ^１またはＺ^２の少なくとも１つが、−ＣＨ_２Ｏ−、または−ＯＣＨ_２−であるときは、負の誘電率異方性が大きい。Ｚ^１およびＺ^２が、すべて、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、または−ＯＣＨ_２−であるときは、化学的安定性が高い。Ｚ^１およびＺ^２の少なくとも１つが、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、または−ＯＣＨ_２−であるときは、他の液晶性化合物との相溶性がよい。

化合物（１）は、構造内にカルボニル基および隣接する位置に、フェニレン環に結合した−ＣＦ_２Ｈ基または−ＣＦ_３基を有する持つ。このような構造の効果により、大きな負の誘電率異方性を有する。

１−３．好ましい化合物
化合物（１）の好ましい例として、項２に記載した化合物（１−１）〜（１−１０）が挙げられる。

［式（１−１）〜（１−１０）において、
ＲａおよびＲｂは独立して、フッ素、塩素、または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも一つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−または−ＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも一つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ａ¹、Ａ²およびＡ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２オン−３，６−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジンー２，５−ジイル、２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの基において、少なくとも一つの水素は、ハロゲン、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、または−ＯＣＨ₂Ｆで置き換えられてもよく；
Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ₂ＣＯ−、−ＣＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＳｉＨ₂−、−ＳｉＨ₂ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₂ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₃Ｏ−、または−Ｏ（ＣＨ₂）₃−であり；
Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３であり、Ｙ^２は、水素、ハロゲン、−ＣＦＨ_２、−ＣＦ_２Ｈ、またはＣＦ_３であり；
ｃは、０、１、２、３、４、５、または６である。］

化合物（１）のより好ましい例として、項３に記載した化合物（１−１１）〜（１−２０）が挙げられる。

［式（１−１１）〜（１−２０）において、
ＲａおよびＲｂは独立して、フッ素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数３〜９のアルケニルオキシ、少なくとも１つの水素がフッ素に置き換えられた炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がフッ素に置き換えられた炭素数１〜９のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素に置き換えられた炭素数２〜１０のアルケニルであり；
Ａ¹、Ａ²およびＡ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはシクロヘキセン−１，４−ジイルであり；
Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ₂）₂ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₂ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₃Ｏ−、または−Ｏ（ＣＨ₂）₃−であり；
Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３であり；
ｃは、０、１、２、３、４、５、または６である。］

化合物（１）のさらに好ましい例として、項４に記載の式（１−２１）〜（１−２７）で表される化合物が挙げられる。

［式（１−２１）〜（１−２７）において、
ＲａおよびＲｂは独立して、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜９のアルコキシ、少なくとも１つの水素がフッ素に置き換えられた炭素数１〜１０のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素に置き換えられた炭素数１〜９のアルコキシであり；
Ａ¹およびＡ^２は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはシクロヘキセン−１，４−ジイルであり；
Ｚ^１は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；
Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３である。］

化合物（１）の好ましい例として、式（１−２８）〜（１−８３）で表される化合物も挙げることができる。

［式（１−２８）〜（１−８３）において、ＲａおよびＲｂは独立して、フッ素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数３〜９のアルケニルオキシ、少なくとも１つの水素がフッ素に置き換えられた炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がフッ素に置き換えられた炭素数１〜９のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素に置き換えられた炭素数２〜１０のアルケニルであり；
Ｚ^１は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、またＨ−Ｃ≡Ｃ−であり；
Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３であり、Ｙ^２は、水素、ハロゲン、ＣＦＨ_２、ＣＦ_２Ｈ、またはＣＦ_３である。］

１−４．化合物（１）の合成
化合物（１）の合成法について説明する。化合物（１）は、有機合成化学の方法を適切に組み合わせることにより合成できる。出発物に目的の末端基、環、または結合基を導入する方法は、「オーガニックシンセシス」（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc.）、「オーガニック・リアクションズ」（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc.）、「コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス」（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、「新実験化学講座」（丸善）などの成書に記載されている。

１−４−１．結合基の生成
化合物（１）における結合基を生成する方法の例は、下記のスキームのとおりである。このスキームにおいて、ＭＳＧ^１（またはＭＳＧ^２）は、少なくとも１つの環を有する一価の有機基である。複数のＭＳＧ^１（またはＭＳＧ^２）が表す一価の有機基は、同一であってもよいし、異なってもよい。化合物（１Ａ）〜（１Ｇ）は、化合物（１）または化合物（１）の中間体に相当する。

（Ｉ）単結合の生成
アリールホウ酸（２１）と化合物（２２）を、炭酸塩、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触媒の存在下で反応させ、化合物（１Ａ）を合成する。この化合物（１Ａ）は、化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触媒の存在下で化合物（２２）を反応させても合成される。

（ＩＩ）−ＣＯＯ−と−ＯＣＯ−の生成
化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで二酸化炭素を反応させ、カルボン酸（２４）を得る。このカルボン酸（２４）と、化合物（２１）から誘導したフェノール（２５）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）とＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させて−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｂ）を合成する。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成する。

（ＩＩＩ）−ＣＦ_２Ｏ−と−ＯＣＦ_２−の生成
化合物（１Ｂ）をローソン試薬で硫黄化し、化合物（２６）を得る。化合物（２６）をフッ化水素ピリジン錯体とＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）でフッ素化し、−ＣＦ_２Ｏ−を有する化合物（１Ｃ）を合成する。M. Kuroboshi et al., Chem. Lett., 1992，827.を参照。化合物（１Ｃ）は化合物（２６）をＤＡＳＴ（（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド）でフッ素化しても合成される。W. H. Bunnelle et al., J. Org. Chem. 1990, 55, 768.を参照。この方法によって−ＯＣＦ_２−を有する化合物も合成する。

（ＩＶ）−ＣＨ＝ＣＨ−の生成
化合物（２２）をｎ−ブチルリチウム、次いでＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）と反応させてアルデヒド（２７）を得る。ホスホニウム塩（２８）とカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドを反応させて発生させたリンイリドを、アルデヒド（２７）と反応させて化合物（１Ｄ）を合成する。反応条件によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。

（Ｖ）−ＣＨ_２ＣＨ_２−の生成
化合物（１Ｄ）をパラジウム炭素触媒の存在下で水素化し、化合物（１Ｅ）を合成する。

（ＶＩ）−Ｃ≡Ｃ−の生成
ジクロロパラジウムとヨウ化銅の触媒存在下で、化合物（２３）に２−メチル−３−ブチン−２−オールを反応させたのち、塩基性条件下で脱保護して化合物（２９）を得る。ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下、化合物（２９）を化合物（２２）と反応させて、化合物（１Ｆ）を合成する。

（ＶＩＩ）−ＣＨ_２Ｏ−と−ＯＣＨ_２−の生成
化合物（２７）を水素化ホウ素ナトリウムで還元して化合物（３０）を得る。これを臭化水素酸で臭素化して化合物（３１）を得る。炭酸カリウムの存在下、化合物（３２）と化合物（３１）を反応させて、化合物（１Ｇ）を合成する。この方法によって−ＯＣＨ_２−を有する化合物も合成する。

（ＶＩＩＩ）−ＣＦ＝ＣＦ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（３３）を得る。化合物（２２）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと化合物（３３）と反応させて、化合物（１Ｈ）を合成する。

１−４−２．環Ａ^１および環Ａ^２の生成
１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルなどの環に関しては出発物が市販されているか、または合成法がよく知られている。

１−４−３．合成例
化合物（１）を合成する方法の例は、次のとおりである。
はじめに化合物（１）のＹ^１が−ＣＦ_２Ｈである化合物（１−ａ）について説明する。

公知の方法にて得られる化合物（ｓ−１）をリチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）にて処理したのち、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を加えることによってアルデヒド（ｓ−２）を得る。次に、化合物（ｓ−２）をジエチルアミノサルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）などのフッ素化剤にて処理し（ｓ−３）を得る。次に（ｓ−３）を臭化イソプロピルマグネシウム・塩化リチウムのＴＨＦ溶液にて処理したのち、アルデヒド（ｓ−４）を加えることによって、アルコール（ｓ−５）を得たのち、デスマーチンペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いて酸化することによって（１−ａ）を得ることができる。これらの化合物において、Ｒａ、Ｒｂ、環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^３、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｙ^２、ａ、ｂ、ｃ、およびｄの定義は、項１と同一である。

次に化合物（１）のＹ^１が−ＣＦ_３である化合物（１−ｂ）について説明する。

公知の方法にて得られる化合物（ｓ−６）を、触媒量の１，１０−フェナントロリン、触媒量のヨウ化銅、およびフッ化カリウム存在下、トリフルオロメチルトリエチルシランにて処理することによって、化合物（ｓ−７）を得る。テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）存在下、ｓ−ブチルリチウムにて処理したのち、アルデヒド（ｓ−４）を加えることによって、アルコール（ｓ−８）を得たのち、デスマーチンペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いて酸化することによって（１−ｂ）を得ることができる。これらの化合物において、Ｒａ、Ｒｂ、環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^３、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｙ^２、ａ、ｂ、ｃ、およびｄの定義は、項１と同一である。

２．組成物（１）
本発明の液晶組成物（１）について説明をする。この組成物（１）は、少なくとも１つの化合物（１）を成分Ａとして含む。組成物（１）は、２つ以上の化合物（１）を含んでいてもよい。液晶性化合物の成分が化合物（１）のみであってもよい。組成物（１）は、化合物（１）の少なくとも１つを１〜９９重量％の範囲で含有することが、優良な物性を発現させるために好ましい。誘電率異方性が正である組成物において、化合物（１）の好ましい含有量は５〜６０重量％の範囲である。誘電率異方性が負である組成物において、化合物（１）の好ましい含有量は３０重量％以下である。組成物（１）は、化合物（１）と、本明細書中に記載しなかった種々の液晶性化合物とを含んでもよい。

好ましい組成物は、以下に示す成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥから選択された化合物を含む。組成物（１）を調製するときには、例えば、化合物（１）の誘電率異方性を考慮して成分を選択することもできる。成分を適切に選択した組成物は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、および適切な弾性定数を有する。

成分Ｂは、化合物（２）〜（４）である。成分Ｃは化合物（５）である。成分Ｄは、化合物（６）〜（１２）である。成分Ｅは、化合物（１３）〜（１５）である。これらの成分について、順に説明する。

成分Ｂは、右末端にハロゲンまたはフッ素含有基を有する化合物である。成分Ｂの好ましい例として、化合物（２−１）〜（２−１６）、化合物（３−１）〜（３−１１３）、または化合物（４−１）〜（４−５７）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｂ）において、Ｒ^１１およびＸ^１１の定義は、項１２記載の式（２）〜（４）と同じである。

成分Ｂは、誘電率異方性が正であり、熱、光などに対する安定性が非常に優れているので、ＴＦＴモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合に用いられる。成分Ｂの含有量は、組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲が適するが、好ましくは１０〜９７重量％の範囲、より好ましくは４０〜９５重量％の範囲である。この組成物は、化合物（１２）〜（１４）（成分Ｅ）をさらに添加することにより粘度を調整することができる。

成分Ｃは、右末端基が−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎである化合物（５）である。成分Ｃの好ましい例として、化合物（５−１）〜（５−６４）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｃ）において、Ｒ^１２およびＸ^１２の定義は、項１３に記載の式（５）と同じである。

成分Ｃは、誘電率異方性が正であり、その値が大きいのでＳＴＮモード用、ＴＮモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合に主として用いられる。この成分Ｃを添加することにより、組成物の誘電率異方性を大きくすることができる。成分Ｃは、液晶相の温度範囲を広げる、粘度を調整する、または光学的異方性を調整する、という効果がある。成分Ｃは、素子の電圧−透過率曲線の調整にも有用である。

ＳＴＮモード用またはＴＮモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｃの含有量は、組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲が適しているが、好ましくは１０〜９７重量％の範囲であり、より好ましくは４０〜９５重量％の範囲である。この組成物は、成分Ｅを添加することにより液晶相の温度範囲、粘度、光学的異方性、誘電率異方性などを調整できる

成分Ｄは、化合物（６）〜（１２）である。これらの化合物は、２、３−ジフルオロ−１，４−フェニレンのように、ラテラル位が２つのハロゲンで置換されたベンゼン環を有する。成分Ｄの好ましい例として、化合物（６−１）〜（６−８）、化合物（７−１）〜（７−１７）、化合物（８−１）、化合物（９−１）〜（９−３）、化合物（１０−１）〜（１０−１１）、化合物（１１−１）〜（１１−３）、または化合物（１２−１）〜（１２−３）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｄ）において、Ｒ^１３、Ｒ^１４、およびＲ^１５の定義は、項９記載の式（６）〜（１２）と同じである。

成分Ｄは、誘電率異方性が負の化合物である。成分Ｄは、主としてＶＡモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合に用いられる。成分Ｄのうち、化合物（６）は２環化合物であるので、主として、粘度の調整、光学的異方性の調整、または誘電率異方性の調整の効果がある。化合物（７）および（８）は３環化合物であるので、上限温度を高くする、光学的異方性を大きくする、または誘電率異方性を大きくするという効果がある。化合物（９）〜（１２）は、誘電率異方性を大きくするという効果がある。

ＶＡモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｄの含有量は、組成物の全重量に対して、好ましくは４０重量％以上であり、より好ましくは５０〜９５重量％の範囲である。成分Ｄを誘電率異方性が正である組成物に添加する場合は、成分Ｄの含有量が組成物の全重量に対して３０重量％以下が好ましい。成分Ｄを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。

成分Ｅは、２つの末端基がアルキルなどである化合物である。成分Ｅの好ましい例として、化合物（１３−１）〜（１３−１１）、化合物（１４−１）〜（１４−１９）、または化合物（１５−１）〜（１５−７）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｅ）において、Ｒ^１６およびＲ^１７の定義は、項１０記載の式（１３）〜（１５）と同じである。

成分Ｅは、誘電率異方性の絶対値が小さいので、中性に近い化合物である。化合物（１３）は、主として粘度の調整または光学的異方性の調整の効果がある。化合物（１４）および（１５）は、上限温度を高くすることによってネマチック相の温度範囲を広げる効果、または光学的異方性の調整の効果がある。

成分Ｅの含有量を増加させると組成物の粘度が小さくなるが、誘電率異方性が小さくなる。そこで、素子のしきい値電圧の要求値を満たす限り、含有量は多いほうが好ましい。したがって、ＶＡモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｅの含有量は、組成物の全重量に対して、好ましくは３０重量％以上であり、より好ましくは４０重量％以上である。

組成物（１）の調製は、必要な成分を高い温度で溶解させるなどの方法により行われる。用途に応じて、この組成物に添加物を添加してよい。添加物の例は、光学活性化合物、重合可能な化合物、重合開始剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、泡消剤などである。このような添加物は当業者によく知られており、文献に記載されている。

組成物（１）は、少なくとも１つの光学活性化合物をさらに含有してもよい。光学活性化合物として、公知のキラルド−プ剤を添加することができる。このキラルド−プ剤は液晶分子にらせん構造を誘起して必要なねじれ角を与えることによって逆ねじれを防ぐ、という効果を有する。キラルド−プ剤の好ましい例として、下記の化合物（Ｏｐ−１）〜（Ｏｐ−１８）を挙げることができる。化合物（Ｏｐ−１８）において、環Ｊは１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、Ｒ^２４は炭素数１〜１０のアルキルである。

組成物（１）は、このような光学活性化合物を添加して、らせんピッチを調整する。らせんピッチは、ＴＦＴモード用およびＴＮモード用の組成物であれば４０〜２００μｍの範囲に調整するのが好ましい。ＳＴＮモード用の組成物であれば６〜２０μｍの範囲に調整するのが好ましい。ＢＴＮモード用の組成物の場合は、１．５〜４μｍの範囲に調整するのが好ましい。らせんピッチの温度依存性を調整する目的で２つ以上の光学活性化合物を添加してもよい。

組成物（１）は、重合可能な化合物を添加することによってＰＳＡモード用に使用することもできる。重合可能な化合物の例は、アクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、ビニルオキシ化合物、プロペニルエーテル、エポキシ化合物（オキシラン、オキセタン）、ビニルケトンなどであり、好ましい例として、下記の化合物（Ｍ−１）〜（Ｍ−１６）を挙げることができる。重合可能な化合物は、紫外線照射などにより重合する。光重合開始剤などの適切な開始剤の存在下で重合せさてもよい。重合のための適切な条件、開始剤の適切なタイプ、および適切な量は、当業者には既知であり、文献に記載されている。

化合物（Ｍ−１）〜（Ｍ−１６）において、Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７、およびＲ^２８は独立して、水素またはメチルであり；ｓ、ｖおよびｘは独立して、０または１であり；ｔおよびｕは独立して、１〜１０の整数である。Ｌ^２１、Ｌ^２２、Ｌ^２３、Ｌ^２４、Ｌ^２５、およびＬ^２６は独立して、水素またはフッ素である。

酸化防止剤は、大きな電圧保持率を維持するために有効である。酸化防止剤の好ましい例として、下記の化合物（ＡＯ−１）または（ＡＯ−２）；または、ＩＲＧＡＮＯＸ ４１５、ＩＲＧＡＮＯＸ ５６５、ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ １０３５、ＩＲＧＡＮＯＸ ３１１４、またはＩＲＧＡＮＯＸ １０９８（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。紫外線吸収剤は、上限温度の低下を防ぐために有効である。紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などである。具体例として下記の化合物（ＡＯ−３）または（ＡＯ−４）；ＴＩＮＵＶＩＮ ３２９、ＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ ４００、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２８、またはＴＩＮＵＶＩＮ ９９−２（商品名：ＢＡＳＦ社）；および１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）を挙げることができる。

立体障害のあるアミンのような光安定剤は、大きな電圧保持率を維持するために好ましい。光安定剤の好ましい例として、下記の化合物（ＡＯ−５）または（ＡＯ−６）；ＴＩＮＵＶＩＮ １４４、ＴＩＮＵＶＩＮ ７６５、またはＴＩＮＵＶＩＮ ７７０ＤＦ（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。熱安定剤も大きな電圧保持率を維持するために有効であり、好ましい例としてＩＲＧＡＦＯＳ １６８（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。消泡剤は、泡立ちを防ぐために有効である。消泡剤の好ましい例は、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどである。

化合物（ＡＯ−１）において、Ｒ^３０は炭素数１〜２０のアルキル、炭素数１〜２０のアルコキシ、−ＣＯＯＲ^３１または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯＲ^３１であり、Ｒ^３１は炭素数１〜２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−２）において、Ｒ^３２は炭素数１〜２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−５）において、Ｒ^３２は炭素数１〜２０のアルキルであり；Ｒ^３３は水素、メチルまたはＯ^・（酸素ラジカル）であり；環Ｇは１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；ｚは１、２または３である。

組成物（１）は、メロシアニン系、スチリル系、アゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキノン系、テトラジン系などの二色性色素を添加すれば、ＧＨ（guest host）モード用に使用することもできる。

組成物（１）では、成分化合物の種類と割合とを適切に調整することによって上限温度を７０℃以上とすること、下限温度を−１０℃以下とすることができるので、ネマチック相の温度範囲が広い。したがって、この組成物を含む液晶表示素子は広い温度範囲で使用することが可能である。

組成物（１）では、成分化合物の種類と割合とを適切に調整することによって、光学異方性を０．１０〜０．１３の範囲、または０．０５〜０．１８の範囲とすることができる。同様にして、誘電率異方性を−５．０〜−２．０の範囲に調整することができる。好ましい誘電率異方性は、−４．５〜−２．５の範囲である。この範囲の誘電率異方性を有する組成物（１）は、ＩＰＳモード、ＶＡモード、またはＰＳＡモードで動作する液晶表示素子に好適に使用することができる。

３．液晶表示素子
組成物（１）は、ＡＭ素子への使用が可能である。さらにＰＭ素子への使用も可能である。この組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＶＡ、ＰＳＡ、ＦＰＡなどのモードを有するＡＭ素子およびＰＭ素子への使用が可能である。ＴＮ、ＯＣＢ、ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードを有するＡＭ素子への使用は特に好ましい。ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードを有するＡＭ素子において、電圧が無印加状態での液晶分子の配列がパネル基板に対して並行あるいは垂直であってもよい。これらの素子が反射型、透過型または半透過型であってもよい。透過型の素子への使用は好ましい。非結晶シリコン−ＴＦＴ素子または多結晶シリコン−ＴＦＴ素子への使用も可能である。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）型の素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）型の素子にも使用できる。

組成物（１）は、負の誘電率異方性を有するので、ＶＡモード、ＩＰＳモード、またはＰＳＡモードなどの動作モードを有し、ＡＭ方式で駆動する液晶表示素子に好適に用いることができる。この組成物は、ＶＡモードを有し、ＡＭ方式で駆動する液晶表示素子に、特に好適に用いることができる。

ＴＮモード、ＶＡモードなどで動作する液晶表示素子においては、電場の方向は、液晶層に対して垂直である。一方、ＩＰＳモードなどで動作する液晶表示素子においては、電場の方向は、液晶層に対して平行である。ＶＡモードで動作する液晶表示素子の構造は、K. Ohmuro, S. Kataoka, T. Sasaki and Y. Koike, SID ’97 Digest of Technical Papers, 28, 845 (1997) に報告されている。ＩＰＳモードで動作する液晶表示素子の構造は、国際公開９１／１０９３６号パンフレット（ファミリー：米国特許第５５７６８６７明細書）に報告されている。

実施例により本発明をさらに詳しく説明する。本発明はこれら実施例によっては制限されない。

ＮＭＲ分析
測定装置は、ＤＲＸ−５００（ブルカーバイオスピン（株）社製）を用いた。^１Ｈ−ＮＭＲの測定では、試料をＣＤＣｌ_３などの重水素化溶媒に溶解させ、測定は、室温で、５００ＭＨｚ、積算回数１６回の条件で行った。テトラメチルシランを内部標準として用いた。^１９Ｆ−ＮＭＲの測定では、ＣＦＣｌ_３を内部標準として用い、積算回数２４回で行った。核磁気共鳴スペクトルの説明において、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｑｕｉｎはクインテット、ｓｅｘはセクステット、ｍはマルチプレット、ｂｒはブロードであることを意味する。

測定試料
相構造および転移温度を測定するときには、液晶性化合物そのものを試料として用いた。ネマチック相の上限温度、粘度、光学的異方性、誘電率異方性などの物性を測定するときには、化合物を母液晶に混合して調製した組成物を試料として用いた。

化合物を母液晶と混合した試料を用いる場合には、次の方法で測定を行った。化合物１５重量％と母液晶８５重量％とを混合して試料を調製した。この試料の測定値から、次の式で表わされる外挿法にしたがって、外挿値を計算し、この値を記載した。〈外挿値〉＝（１００×〈試料の測定値〉−〈母液晶の重量％〉×〈母液晶の測定値〉）／〈化合物の重量％〉

化合物と母液晶との割合がこの割合であっても、結晶（または、スメクチック相）が２５℃で析出する場合には、化合物と母液晶との割合を１０重量％：９０重量％、５重量％：９５重量％、１重量％：９９重量％の順に変更をしていき、結晶（または、スメクチック相）が２５℃で析出しなくなった割合で試料の物性を測定した。なお、特に断りのない限り、化合物と母液晶との割合は、１５重量％：８５重量％である。

母液晶としては、下記の母液晶（ｉ）を用いた。母液晶（ｉ）の成分の割合を重量％で示す。

測定方法
物性の測定は下記の方法で行った。これらの多くは、社団法人電子情報技術産業協会（Japan Electronics and Information Technology Industries Association；以下、ＪＥＩＴＡと略す）で審議制定されるＪＥＩＴＡ規格（ＪＥＩＴＡ・ＥＤ−２５２１Ａ）に記載された方法、またはこれを修飾した方法であった。測定に用いたＴＮ素子には、ＴＦＴを取り付けなかった。

（１）相構造
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート（メトラー社ＦＰ−５２型ホットステージ）に試料を置き、３℃／分の速度で加熱しながら相状態とその変化を偏光顕微鏡で観察し、相の種類を特定した。

（２）転移温度（℃）
パーキンエルマー社製走査熱量計ＤＳＣ−７システム、またはＤｉａｍｏｎｄ ＤＳＣシステムを用いて、３℃／分速度で昇降温し、試料の相変化に伴う吸熱ピーク、または発熱ピークの開始点を外挿により求め、転移温度を決定した。化合物が固体からスメクチック相、ネマチック相などの液晶相に転移する温度を「液晶相の下限温度」と略すことがある。化合物が液晶相から液体に転移する温度を「透明点」と略すことがある。

結晶はＣと表した。結晶の種類の区別がつく場合は、それぞれＣ_１またはＣ_２と表した。スメクチック相はＳ、ネマチック相はＮと表した。スメクチック相の中で、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＣ相、またはスメクチックＦ相の区別がつく場合は、それぞれＳ_Ａ、Ｓ_Ｂ、Ｓ_Ｃ、またはＳ_Ｆと表した。液体（アイソトロピック）はＩと表した。転移温度は、例えば、「Ｃ ５０．０ Ｎ １００．０ Ｉ」のように表記した。これは、結晶からネマチック相への転移温度が５０．０℃であり、ネマチック相から液体への転移温度が１００．０℃であることを示す。

（３）低温相溶性
化合物の割合が、２０重量％、１５重量％、１０重量％、５重量％、３重量％、および１重量％となるように母液晶と化合物とを混合した試料を調製し、試料をガラス瓶に入れた。このガラス瓶を、−１０℃または−２０℃のフリーザー中に一定期間保管したあと、結晶（または、スメクチック相）が析出しているかどうか観察をした。

（４）ネマチック相の上限温度（Ｔ_ＮＩまたはＮＩ；℃）
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。試料が化合物と母液晶との混合物であるときは、Ｔ_ＮＩの記号で示した。試料が化合物と成分Ｂなどとの混合物であるときは、ＮＩの記号で示した。

（５）ネマチック相の下限温度（Ｔ_Ｃ；℃）
ネマチック相を有する試料を０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、Ｔ_Ｃを≦−２０℃と記載した。

（６）粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
Ｅ型回転粘度計を用いて測定した。

（７）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
測定は、M. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍのＶＡ素子に試料を入れた。この素子に３０ボルト〜５０ボルトの範囲で１ボルト毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とＭ．Ｉｍａｉらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算に必要な誘電率異方性は、下記の誘電率異方性の項で測定した値を用いた。

（８）光学的異方性（屈折率異方性；２５℃で測定；Δｎ）
測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率（ｎ‖）は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率（ｎ⊥）は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学的異方性（Δｎ）の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。

（９）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）
誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。誘電率（ε‖およびε⊥）は次のように測定した。
１）誘電率（ε‖）の測定：よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン（０．１６ｍｌ）のエタノール（２０ｍｌ）溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、１５０℃で１時間加熱した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであるＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。
２）誘電率（ε⊥）の測定：よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、ツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。

（１０）弾性定数（Ｋ_１１およびＫ_３３；２５℃で測定；ｐＮ）
測定には株式会社東陽テクニカ製のＥＣ−１型弾性定数測定器を用いた。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍである垂直配向素子に試料を入れた。この素子に２０ボルトから０ボルト電荷を印加し、静電容量および印加電圧を測定した。静電容量（Ｃ）と印加電圧（Ｖ）の値を、「液晶デバイスハンドブック」（日刊工業新聞社）、７５頁にある式（２．９８）、式（２．１０１）を用いてフィッティングし、式（２．１００）から弾性定数の値を得た。

（１１）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）
測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に印加する電圧（６０Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから２０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が１０％になったときの電圧である。

（１２）電圧保持率（ＶＨＲ−１；２５℃で測定；％）
測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。

（１３）電圧保持率（ＶＨＲ−２；８０℃で測定；％）
測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。

１−１．化合物（１）の実施例
化合物（１）は、下記の手順により合成した。合成した化合物は、ＮＭＲ分析などの方法により同定した。化合物の物性は、前述の方法により測定した。

化合物（１−１−２）の合成

第１工程
反応器へ４−ブロモ−２−フルオロフェノール（ｔ−１）（４８ｇ，２５２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（６９．６ｇ，５０４ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ；４．０７ｇ，１２．６ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ；４００ｍｌ）を入れた。ヨウ化エチル（７８．６ｇ，５０４ｍｍｏｌ）を室温でゆっくりと滴下し、次に室温にて５時間攪拌した。反応混合物を飽和食塩水に注ぎ込み、ヘキサンで抽出した。一緒にした有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣を減圧蒸留にて精製して、化合物（ｔ−２）（４９．６ｇ，２２６ｍｍｏｌ；８９．７％）を得た。

第２工程
窒素雰囲気下、反応器へ第１工程にて得られた化合物（ｔ−２）（４０ｇ，１８２．６ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（６００ｍｌ）を加えたのち、−７０℃以下に冷却した。次にリチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）のＴＨＦ溶液（１．０９Ｍ，１６７．５ｍｌ，１８２．６ｍｍｏｌ）を−７０℃以下にて滴下した。−７０℃以下にて１時間撹拌したのちＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ；１４．７ｇ，２００．８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３０ｍｌ）溶液を−７０℃以下にて滴下した。−７０℃以下にて２時間撹拌したのち、反応混合物を氷を加えた塩化アンモニウム水溶液へ注ぎ込み、１５分間撹拌した。有機層と水層を分離したのち、水層を酢酸エチルにて抽出した。一緒にした有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー（充填剤：シリカゲル、溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）にて精製したのち、ヘプタンから再結晶することによって、化合物（ｔ−３）（３０．５ｇ，１２３．４ｍｍｏｌ；６７．６％）を得た。

第３工程
窒素雰囲気下、反応器へ第２工程にて得られた化合物（ｔ−３）（３０．０ｇ，１２１．４ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（３００ｍｌ）を入れたのち、氷冷した。次にジエチルアミノサルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ；４１．１ｇ，２５５ｍｍｏｌ）を滴下したのち、室温にて１２時間攪拌した。反応混合物を、氷を加えた飽和重曹水へ注ぎ込み、３０分間撹拌した。有機層と水層を分離したのち、水層を酢酸エチルにて抽出した。一緒にした有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー（充填剤：シリカゲル、溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）にて精製することによって、化合物（ｔ−４）（２９．２ｇ，１０８．５ｍｍｏｌ；８９．４％）を得た。

第４工程
窒素雰囲気下、反応器へ第３工程にて得られた化合物（ｔ−４）（３．６５ｇ，１３．５６ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（５５ｍｌ）を入れたのち、−３０℃以下に冷却した。次に臭化イソプロピルマグネシウム・塩化リチウムのＴＨＦ溶液（１．３Ｍ，１０．４ｍｌ，１３．５２ｍｍｏｌ）を−３０℃以下にて滴下したのち室温にて１時間攪拌した。反応液を再び−３０℃以下に冷却したのち、１−ヘプタナール（１．８６ｇ，１６．２７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液を滴下した。室温にて２時間撹拌したのち、反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液へ注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出した。抽出した有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー（充填剤：シリカゲル、溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）にて精製することによって、化合物（ｔ−５）（３．９２ｇ，１２．８８ｍｍｏｌ；９５％）を得た。

第５工程
窒素雰囲気下、反応器へ第４工程にて得られた化合物（ｔ−５）（３．９２ｇ，１２．８８ｍｍｏｌ）およびジクロロメタン（６０ｍｌ）を入れたのち氷冷し、デスマーチンペルヨージナン（ＤＭＰ；８．１９ｇ，１９．３２ｍｍｏｌ）を３回に分けて加えた。室温に戻しながらさらに２時間攪拌した。反応混合物を飽和重曹水へ注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水、亜硫酸ナトリウム水溶液、水、および飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、ヘプタン：酢酸エチル＝９：１）で精製したのち、再結晶（ヘプタン／エタノール）することによって、目的とする化合物（１−１−２）（２．３１ｇ，７．６４ｍｍｏｌ；５９．３％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ７．４３（ｄ，１Ｈ）、７．３８（ｔ，１Ｈ；ＣＦ_２Ｈ、Ｊ＝５３．４）、７．０４（ｔ，１Ｈ）、４．１７（ｑ，２Ｈ）、２．７３（ｔ，２Ｈ）、１．５２（ｔ，３Ｈ）、１．２７−１．１１（ｍ，４Ｈ）、０．９９−０．９１（ｍ，４Ｈ）、０．８７（ｔ，３Ｈ）．

化合物（１−１−２）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ ４７．１ Ｉ．
上限温度（ＮＩ）＝−１５４．１℃；誘電率異方性（Δε）＝−８．０３；光学的異方性（Δｎ）＝−０．０５９７．

化合物（１−２−１）の合成

第１工程
実施例１の第３工程にて得られた化合物（ｔ−４）（ｇ，ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（５５ｍｌ）、臭化イソプロピルマグネシウム・塩化リチウムのＴＨＦ溶液（１．３Ｍ，ｍｌ，ｍｍｏｌ）、およびアルデヒド（ｔ−６）（ｇ，ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第４工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−７）（ｇ，ｍｍｏｌ；％）を得た。

第２工程
第１工程にて得られた化合物（ｔ−７）（ｇ，ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（６０ｍｌ）、およびデスマーチンペルヨージナン（ＤＭＰ；ｇ，ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第５工程と同様の操作を行なうことによって、目的とする化合物（１−２−１）（ｇ，ｍｍｏｌ；％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ７．４２（ｄ，１Ｈ）、７．２５（ｔ，１Ｈ；ＣＦ_２Ｈ、Ｊ＝５３．３）、７．０４（ｔ，１Ｈ）、４．１７（ｑ，２Ｈ）、２．７５（ｄ，２Ｈ）、１．９１−１．７２（ｍ，５Ｈ）、１．５１（ｔ，３Ｈ）、１．３７−１．１２（ｍ，４Ｈ）、１．０２−０．９１（ｍ，４Ｈ）、０．８６（ｔ，３Ｈ）．

化合物（１−２−１）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ ６１．０ Ｉ．
上限温度（ＮＩ）＝−７３．４℃；誘電率異方性（Δε）＝−１２．４３；光学的異方性（Δｎ）＝０．０２４３．

化合物（１−４−１）の合成

第１工程
実施例１の第３工程にて得られた化合物（ｔ−４）（４．７８ｇ，１７．７４ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（８０ｍｌ）、臭化イソプロピルマグネシウム・塩化リチウムのＴＨＦ溶液（１．３Ｍ，１３．６４ｍｌ，１７．７４ｍｍｏｌ）、および公知の方法にて合成したアルデヒド（ｔ−１０）（３．８ｇ，１３．６４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第４工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−１１）（２．１２ｇ，４．５２ｍｍｏｌ；３３．１％）を得た。

第２工程
第１工程にて得られた化合物（ｔ−１１）（１．０６ｇ，２．２６ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（１５ｍｌ）、およびデスマーチンペルヨージナン（ＤＭＰ；１．４４ｇ，３．３９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第５工程と同様の操作を行なうことによって、目的とする化合物（１−４−１）（０．７４ｇ，１．５９ｍｍｏｌ；７０．１％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ７．４３（ｄ，１Ｈ）、７．３９（ｔ，１Ｈ；ＣＦ_２Ｈ、Ｊ＝５３．３）、７．０４（ｔ，１Ｈ）、４．１６（ｑ，２Ｈ）、２．８６（ｔ，２Ｈ）、１．７６−１．６６（ｍ，６Ｈ）、１．５１（ｔ，３Ｈ）、１．２８−１．１１（ｍ，８Ｈ）、１．０１−０．８２（ｍ，１３Ｈ）．

化合物（１−４−１）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ １０２．３ Ｉ．
上限温度（ＮＩ）＝５２．６℃；誘電率異方性（Δε）＝−１３．２６；光学的異方性（Δｎ）＝０．０７９．

化合物（１−４−２０）の合成

第１工程
実施例１の第３工程にて得られた化合物（ｔ−４）（２．３９ｇ，８．８７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（５５ｍｌ）、臭化イソプロピルマグネシウム・塩化リチウムのＴＨＦ溶液（１．３Ｍ，６．８２ｍｌ，８．８７ｍｍｏｌ）、およびアルデヒド（ｔ−１２）（１．９ｇ，６．８２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第４工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−１３）（１．０６ｇ，２．２６ｍｍｏｌ；３３．１％）を得た。

第２工程
第１工程にて得られた化合物（ｔ−１３）（１．０６ｇ，２．２６ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（１５ｍｌ）、およびデスマーチンペルヨージナン（ＤＭＰ；１．４４ｇ，３．３９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第５工程と同様の操作を行なうことによって、目的とする化合物（１−４−２０）（０．７４ｇ，１．５９ｍｍｏｌ；７０．１％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ７．４３（ｄ，１Ｈ）、７．３８（ｔ，１Ｈ；ＣＦ_２Ｈ、Ｊ＝５３．５）、７．０４（ｔ，１Ｈ）、４．１７（ｑ，２Ｈ）、２．８６（ｔ，２Ｈ）、１．７６−１．６６（ｍ，１０Ｈ）、１．５１（ｔ，３Ｈ）、１．３０−１．１１（ｍ，８Ｈ）、１．００−０．８１（ｍ，１３Ｈ）．

化合物（１−４−２０）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ １２１．５ Ｉ．
上限温度（ＮＩ）＝８４．６℃；誘電率異方性（Δε）＝−１１．２３；光学的異方性（Δｎ）＝０．１０７．

化合物（１−６−２）の合成

第１工程
窒素雰囲気下、反応器へ３−フルオロ−４−ヨードブロモベンゼン（ｔ−１４）（１０．１７ｇ，３３．８５ｍｍｏｌ）、公知の方法にて合成した化合物（ｔ−１５）（１０ｇ，４０．６３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（９．３６ｇ，６７．７１ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ；２．１８ｇ，６．７７ｍｍｏｌ）、トルエン（５０ｍｌ）、イソプロパノール（５０ｍｌ）、および水（５０ｍｌ）を入れた。次にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０．３９ｇ，０．３４ｍｍｏｌ）を室温にて加えたのち、１０時間加熱還流した。室温まで冷却した反応混合物を水に注ぎ込み、トルエンで抽出した。一緒にした有機層を水、および飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、ヘプタン：酢酸エチル＝９：１）で精製したのち、再結晶（ヘプタン／エタノール）することによって、目的とする化合物（ｔ−１６）（１１．１ｇ，２９．５７ｍｍｏｌ；８７．４％）を得た。

第２工程
第１工程にて得られた化合物（ｔ−１６）（１１．１ｇ，２９．５７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（２４０ｍｌ）、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）のＴＨＦ溶液（１．０９Ｍ，２７．１３ｍｌ，２９．５７ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ；２．３８ｇ，３２．５３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第２工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−１７）（９．４ｇ，２３．３１ｍｍｏｌ；７８．８％）を得た。

第３工程
第２工程にて得られた化合物（ｔ−１７）（９．４ｇ，２３．３１ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）、およびジエチルアミノサルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ；７．８９ｇ，４８．９４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第３工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−１８）（９．９ｇ，２３．３ｍｍｏｌ；９９％）を得た。

第４工程
第３工程にて得られた化合物（ｔ−１８）（８．５７ｇ，２０．１５ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１４０ｍｌ）、臭化イソプロピルマグネシウム・塩化リチウムのＴＨＦ溶液（１．３Ｍ，１８．６ｍｌ，２４．１８ｍｍｏｌ）、および１−プロパナール（１．６４ｇ，２８．２１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第４工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−１９）（６ｇ，１４．８３ｍｍｏｌ；７３．６％）を得た。

第５工程
第４工程にて得られた化合物（ｔ−１９）（３．５ｇ，８．６５ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（５０ｍｌ）、およびデスマーチンペルヨージナン（ＤＭＰ；５．５ｇ，１２．９８２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第５工程と同様の操作を行なうことによって、目的とする化合物（１−６−２）（３．３ｇ，８．２ｍｍｏｌ；９４．８％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ７．６０（ｔ，１Ｈ）、７．４８（ｄｄ，２Ｈ）、７．３９（ｄ，１Ｈ）、７．３２（ｄ，２Ｈ）、７．１６（ｔ，１Ｈ；ＣＦ_２Ｈ、Ｊ＝５３．５）、２．９７（ｑ，２Ｈ）、２．５３（ｔｔ，１Ｈ）、１．９０（ｔ，４Ｈ）、１．５２（ｑ，２Ｈ）、１．４１−１．２３（ｍ，８Ｈ）、１．１４−１．０５（ｍ，２Ｈ）、０．９１（ｔ，３Ｈ）．

化合物（１−６−２）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ ６７．１ Ｉ．
上限温度（ＮＩ）＝７１．９℃；誘電率異方性（Δε）＝−６．５２；光学的異方性（Δｎ）＝０．１３７７．

化合物（１−４−２９）の合成

第１工程
窒素雰囲気下、反応器へ化合物（ｔ−２０）（２４．５ｇ，１４９．３０ｍｍｏｌ）とＴＨＦ（３００ｍｌ）を入れて、−７０℃以下に冷却した。そこへ、ｎ−ブチルリチウム（１．６０Ｍ；ｎ−ヘキサン溶液；１１１．９７ｍｌ，１７９．１６ｍｍｏｌ）を−７５℃から−７０℃の温度範囲で滴下し、さらに１時間攪拌した。ホウ酸トリメチル（１８．６２ｇ，１７９．１６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍｌ）溶液を−７５℃から−７０℃の温度範囲で滴下し、室温に戻しつつ３時間攪拌した。そこへ、酢酸（１２．８２ｍｌ，２２３．９５ｍｍｏｌ）を２０℃から２５℃の温度範囲で滴下した。３０分後、過酸化水素（３０％水溶液、３３．８６ｇ，２９８．６０ｍｍｏｌ）を２５℃から３５℃の温度範囲で滴下し、さらに１０時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水、亜硫酸ナトリウム水溶液、水、および飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、化合物（ｔ−２１）（２６．８９ｇ，１４９．３０ｍｏｌ；９９％）を得た。化合物（ｔ−２１）は精製せずに次の反応に用いた。

第２工程
第１工程にて得られた化合物（ｔ−２１）（２６．８９ｇ，１４９．３０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４１．２７ｇ，２９８．６ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ；２．４１ｇ，７．４７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ；２５０ｍｌ）、およびヨウ化エチル（４６．５７ｇ，２９８．６１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第２工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−２２）（２１．１ｇ，１０１．３７ｍｍｏｌ；６７．９％）を得た。

第３工程
窒素雰囲気下、反応器へ第２工程にて得られた化合物（ｔ−２２）（１６．７３ｇ，８０．３７ｍｍｏｌ）とＴＨＦ（１７０ｍｌ）を入れて、−７０℃以下に冷却した。そこへ、ｓｅｃ−ブチルリチウム（１．００Ｍ；ｎ−ヘキサン溶液；９６．０ｍｌ，９６．０ｍｍｏｌ）を−７５℃から−７０℃の温度範囲で滴下し、さらに１時間攪拌した。トリメチルシリルクロリド（１０．７２ｍｌ，９８．６７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）溶液を−７５℃から−７０℃の温度範囲で滴下し、室温に戻しつつ４時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水、および飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン）で精製することによって、化合物（ｔ−２３）（２１．１４ｇ，７５．４１ｍｍｏｌ；９３．８％）を得た。

第４工程
窒素雰囲気下、反応器へ第３工程にて得られた化合物（ｔ−２３）（５．０ｇ，１５．６１ｍｍｏｌ）、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド（１．９４ｇ，１７．２９ｍｍｏｌ）、およびＴＨＦ（３０ｍｌ）を入れて−７０℃以下に冷却した。そこへ、ｎ−ブチルリチウム（１．６０Ｍ；ｎ−ヘキサン溶液；１０．７ｍｌ，１７．１２ｍｍｏｌ）を−７５℃から−７０℃の温度範囲で滴下し、さらに２時間攪拌した。化合物（ｔ−１０）（８．６０ｇ，１７．１７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）溶液を−７５℃から−７０℃の温度範囲で滴下し、室温に戻しつつ４時間攪拌した。一緒にした有機層を水、および飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、ヘプタン：酢酸エチル＝９：１）で精製することによって、化合物（ｔ−２４）（２．７３ｇ，５．１４ｍｍｏｌ；３２．９％）を得た。

第５工程
第４工程にて得られた化合物（ｔ−２４）（２．７３ｇ，５．１４ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（５０ｍｌ）、およびデスマーチンペルヨージナン（ＤＭＰ；３．２７ｇ，７．７１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第５工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−２５）（０．８４ｇ，１．５９ｍｍｏｌ；５６．２％）を得た。

第６工程
窒素雰囲気下、反応器へ第５工程にて得られた化合物（ｔ−２５）（０．８４ｇ，１．５９ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（１５ｍｌ）を入れたのち、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ，１．０Ｍ；ＴＨＦ溶液；１．７ｍｌ，１．７ｍｍｏｌ））を滴下したのち、２時間攪拌した。反応混合物を水へ注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水、および飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン）で精製したのち、再結晶（ヘプタン／エタノール）することによって、目的とする化合物（１−４−２９）（０．４６ｇ，１．０１ｍｍｏｌ；６３．４％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ７．１０（ｔ，１Ｈ）、７．０１（ｄ，１Ｈ）、４．１４（ｑ，２Ｈ）、２．６３（ｄ，２Ｈ）、１．８６−１．７９（ｄ，３Ｈ）、１．７１（ｑ，６Ｈ）、１．４８（ｔ，３Ｈ）、１．３３−１．２６（ｍ，２Ｈ）、１．１３−０．９０（ｍ，１３Ｈ）、０．８６（ｔ，３Ｈ）．

化合物（１−４−２９）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ ９０．０ Ｎ ９２．０ Ｉ．
上限温度（ＮＩ）＝８５．３℃；誘電率異方性（Δε）＝−８．８；光学的異方性（Δｎ）＝０・０８７．

化合物（１−６−９）の合成

第１工程
窒素雰囲気下、反応器へ化合物（ｔ−２０）（２５ｇ，１５２．３５ｍｍｏｌ）とＴＨＦ（３００ｍｌ）を入れて、−７０℃以下に冷却した。そこへ、ｎ−ブチルリチウム（１．６０Ｍ；ｎ−ヘキサン溶液；１０５ｍｌ，１６８ｍｍｏｌ）を−７５℃から−７０℃の温度範囲で滴下し、さらに１時間攪拌した。ホウ酸トリメチル（１９．０６ｇ，１８３．４７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍｌ）溶液を−７５℃から−７０℃の温度範囲で滴下し、室温に戻しつつ３時間攪拌した。反応混合物を１Ｎ−塩酸（３００ｍｌ）へ注ぎこみ、さらに１時間撹拌したのち、酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水、および飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮したのち、残渣をヘプタンにて洗浄することによって、化合物（ｔ−２６）（２７．８２ｇ，１３３．８ｍｍｏｌ；９９８７．８％）を得た。

第２工程
第１工程にて得られた化合物（ｔ−２６）（７．３５ｇ，３５．３５ｍｍｏｌ）、公知の方法にて合成した化合物（ｔ−２７）（１０．６０ｇ，３７．９０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１２．２５ｇ，８８．６４ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ；３．２２ｇ，９．９９ｍｍｏｌ）、トルエン（３５ｍｌ）、エタノール（３５ｍｌ）、水（１４ｍｌ）、およびテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０．３９ｇ，０．３４ｍｍｏｌ）を用い、実施例５の第１工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−２８）（１１．１６ｇ，３０．６ｍｍｏｌ；８６．６％）を得た。

第３工程
窒素雰囲気下、反応器へ第２工程にて得られた化合物（ｔ−２８）（１．８６ｇ，５．１０ｍｍｏｌ）、テトラメチルエチレンジアミン（０．６８ｇ，５．８５ｍｍｏｌ）、およびヘキサン（５０ｍｌ）を入れて１０℃以下に冷却した。そこへ、ｎ−ブチルリチウム（１．６０Ｍ；ｎ−ヘキサン溶液；３．５１ｍｌ，５．６２ｍｍｏｌ）を０℃から１０℃の温度範囲で滴下し、さらに２時間攪拌した。プロピオンアルデヒド（０．３５ｇ，６．０３ｍｍｏｌ）のヘキサン（３ｍｌ）溶液を０℃から１０℃の温度範囲で滴下し、室温に戻しつつ２時間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水、および飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、ヘプタン：酢酸エチル＝４：１）で精製することによって、化合物（ｔ−２９）（０．６４ｇ，１．５１ｍｍｏｌ；２９．７％）を得た。

第４工程
第３工程にて得られた化合物（ｔ−２９）（０．６４ｇ，１．５１ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（１０ｍｌ）、およびデスマーチンペルヨージナン（ＤＭＰ；０．６６ｇ，１．５６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第５工程と同様の操作を行なうことによって、目的とする化合物（１−６−９）（０．４０ｇ，０．９５ｍｍｏｌ；６２．９％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ７．６４（ｔ，１Ｈ）、７．４５（ｄｄ，２Ｈ）、７．３１（ｄ，２Ｈ）、７．０９（ｄ，１Ｈ）、２．８２（ｑ，２Ｈ）、２．５２（ｔｔ，１Ｈ）、１．９１（ｔ，４Ｈ）、１．５５−１．０３（ｍ，１２Ｈ）、０．９１（ｔ，３Ｈ）．

化合物（１−６−９）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ ７４．５ Ｉ．

化合物（１−８−３）の合成

第１工程
反応器へ４−ブロモ−２−フルオロフェノール（ｔ−１）（１０ｇ，５２．３６ｍｍｏｌ）、化合物（ｔ−３０）（１０．９８ｇ，６２．８３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１４．４７ｇ，１０４．７１ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ；１．６８ｇ，５．２４ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ；１５０ｍｌ）を入れたのち、この反応混合物を８０℃にて２０時間攪拌した。室温まで冷却した反応混合物を飽和食塩水に注ぎ込み、トルエンで抽出した。一緒にした有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー（充填剤：シリカゲル、溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）にて精製することによって、化合物（ｔ−３１）（１３．１８ｇ，４０．０ｍｍｏｌ；７６．４％）を得た。

第２工程
第１工程にて得られた化合物（ｔ−３１）（７ｇ，２１．２６ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１４０ｍｌ）、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）のＴＨＦ溶液（１．０９Ｍ，２２．４ｍｌ，２４．４ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ；１．８６ｇ，２５．５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第２工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−３２）（７．５ｇ，２０．９９ｍｍｏｌ；９３．６％）を得た。

第３工程
第２工程にて得られた化合物（ｔ−３２）（７．５ｇ，２０．９９ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（８０ｍｌ）、およびジエチルアミノサルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ；７．１ｇ，４４．０９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第３工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−３３）（５．９６ｇ，１５．７ｍｍｏｌ；７４．８％）を得た。

第４工程
第３工程にて得られた化合物（ｔ−３３）（５．４４ｇ，１４．３４ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１００ｍｌ）、塩化イソプロピルマグネシウム・塩化リチウムのＴＨＦ溶液（１．３Ｍ，１１．０ｍｌ，１４．３４ｍｍｏｌ）、および化合物（ｔ−１０）（２．９９ｇ，１１．９５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第４工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−３４）（６．５４ｇ，１１．８７ｍｍｏｌ；７７．２％）を得た。

第５工程
第４工程にて得られた化合物（ｔ−３４）（２．０ｇ，３．６３ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（６０ｍｌ）、およびデスマーチンペルヨージナン（ＤＭＰ；１．８４ｇ，４．３６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第５工程と同様の操作を行なうことによって、目的とする化合物（１−８−３）（０．７５ｇ，１．３７ｍｍｏｌ；３８．０％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ７．４２（ｄ，１Ｈ），７．２５（ｔ，１Ｈ；ＣＦ_２Ｈ，Ｊ＝５３．６），７．０２（ｔ，１Ｈ），３．８７（ｄ，２Ｈ），２．７４（ｄ，２Ｈ），１．９１−１．６６（ｍ，１４Ｈ），１．３５−０．８１（ｍ，３０Ｈ）．

化合物（１−８−３）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ ７７．８ Ｓ_Ｂ ９７．２ Ｓ_Ａ １０９．５ Ｎ １２７．９ Ｉ．
上限温度（ＮＩ）＝１２１．６℃；誘電率異方性（Δε）＝−１２．６；光学的異方性（Δｎ）＝０．１００．

既に記載した化合物（１）の合成法および実施例１〜５に記載した合成手順に従って以下に示す化合物（１−１−１）〜（１−１−１４）、化合物（１−２−１）〜（１−２−５９）、化合物（１−３−１）〜（１−３−３０）、化合物（１−４−１）〜（１−４−５８）、化合物（１−５−１）〜（１−５−１５）、化合物（１−６−１）〜（１−６−１４）、化合物（１−７−１）〜（１−７−３０）、化合物（１−８−１）〜（１−８−１５）、化合物（１−９−１）〜（１−９−１５）、化合物（１−１０−１）〜（１−１０−１５）、および化合物（１−Ａ）〜（１−Ｄ）を合成できる。

［比較例１］化合物（ＣＯ−１）の合成

第１工程
反応器へ２，３−ジフルオロフェノール（ｔ−２０）（１９．５ｇ，１５０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４１．４６ｇ，３００ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ；２．４２ｇ，７．５ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ；２００ｍｌ）、ヨウ化エチル（４６．８ｇ，ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第１工程と同様の操作を行なうことによって、化合物（ｔ−２１）（２１．５９ｇ，１３６．５ｍｍｏｌ；９１％）を得た。

第２工程
窒素雰囲気下、反応器へ第１工程にて得られた化合物（ｔ−２１）（５．６ｇ，３５．４ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（１００ｍｌ）を入れて−７０℃以下に冷却し、ｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ；１．６０Ｍ，２４．３ｍｌ，３８．９ｍｍｏｌ）を−７０℃以下にて滴下したのち１時間攪拌した。次に化合物（ｔ−６）（５．９６ｇ，３５．４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍｌ）溶液を滴下した。−７０℃にて２時間撹拌したのち、反応混合物を氷を加えた塩化アンモニウム水溶液へ注ぎ込み、１５分間撹拌した。有機層と水層を分離したのち、水層を酢酸エチルにて抽出した。一緒にした有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー（充填剤：シリカゲル、溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）にて精製することによって、化合物（ｔ−２２）（９．３８ｇ，２８．７４ｍｍｏｌ；８１．２％）を得た。

第３工程
第２工程にて得られた化合物（ｔ−２２）（９．３８ｇ，２８．７４ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）、およびデスマーチンペルヨージナン（ＤＭＰ；１４．６ｇ，３４．５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１の第５工程と同様の操作を行なうことによって、目的とする化合物（ＣＯ−１）（６．５７ｇ，２０．２６ｍｍｏｌ；７０．５％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ７．１０（ｔｄ，１Ｈ）、６．７２（ｔｄ，１Ｈ）、４．１８（ｑ，２Ｈ）、２．７０（ｄ，２Ｈ）、１．８５−１．７０（ｍ，５Ｈ）、１．５１（ｔ，３Ｈ）、１．３５−１．１２（ｍ，４Ｈ）、１．０２−０．９０（ｍ，４Ｈ）、０．８６（ｔ，３Ｈ）．

化合物（ＣＯ−１）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ ８６．７ Ｉ．
上限温度（ＮＩ）＝２７．６℃；誘電率異方性（Δε）＝１．１９；光学的異方性（Δｎ）＝０．１０７．

よって、本願化合物（１−２−１）は、化合物（ＣＯ−１）と比較して誘電率異方性が負に大きいことがわかった。

［比較例２］化合物（ｔ−１１）の物性
実施例３の第１工程にて得られた化合物（ｔ−１１）の物性を以下に記す。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ７．４５（ｄ，１Ｈ）、７．１２（ｔ，１Ｈ；ＣＦ_２Ｈ、Ｊ＝５３．５）、７．０６（ｔ，１Ｈ）、５．２７（ｄ，１Ｈ）、４．１２（ｑ，２Ｈ）、１．８０−１．６５（ｍ，６Ｈ）、１．５１（ｔ，３Ｈ）、１．３２−１．１１（ｍ，１０Ｈ）、１．０１−０．８２（ｍ，１３Ｈ）．

化合物（ｔ−１１）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ １３２．４ Ｉ．
上限温度（ＮＩ）＝９２．６℃；誘電率異方性（Δε）＝−１．３９；光学的異方性（Δｎ）＝０．０９３．

よって、本願化合物（１−４−１）は、化合物（ｔ−１１）と比較して負の誘電率異方性が大きいことがわかった。

［比較例３］化合物（ＣＯ−３）の合成

第１工程
実施例３の第１工程にて得られた化合物（ｔ−１１）（１．０ｇ，２．２７ｍｍｏｌ）およびｐ−トルエンスルホン酸（６０ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）をトルエン（２０ｍｌ）中にて１時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却したのち、飽和重曹水、水、および飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１）および再結晶（溶媒；ヘプタン）にて精製することによって、化合物（ｔ−２７）（０．８１５ｇ，１．９３ｍｍｏｌ；８５％）を得た。

第２工程
化合物（ｔ−２７）（０．８１５ｇ，１．９３ｍｍｏｌ）および５％パラジウム−炭素（５０ｍｇ）をトルエン（５ｍｌ）およびイソプロパノール（５ｍｌ）中に混合したのち、水素雰囲気下にて３時間攪拌した。反応液を濾過したのち濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１）および再結晶（溶媒；ヘプタン）にて精製することによって、化合物（ＣＯ−３）（０．５４ｇ，１．２７ｍｍｏｌ；６６％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ７．４２（ｄ，１Ｈ）、７．０５（ｔ，１Ｈ；ＣＦ_２Ｈ、Ｊ＝５３．３）、７．０４（ｔ，１Ｈ）、４．０５（ｑ，２Ｈ）、２．５８（ｔ，２Ｈ）、１．８５−１．６６（ｍ，６Ｈ）、１．４８−１．１０（ｍ，１０Ｈ）、１．０５−０．８２（ｍ，１６Ｈ）．

化合物（ＣＯ−３）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ ６８．０ Ｎ １１２．８ Ｉ．
上限温度（ＮＩ）＝１１０．６℃；誘電率異方性（Δε）＝−６．８６；光学的異方性（Δｎ）＝０．０７８．

よって、本願化合物（１−４−１）は、化合物（ＣＯ−３）と比較して負の誘電率異方性が大きいことがわかった。

１−２．組成物（１）の実施例
実施例により本発明の液晶組成物（１）を詳細に説明する。実施例における化合物は、下記の表１の定義に基づいて記号により表した。表において、１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。実施例において記号の後にあるかっこ内の番号は化合物の番号に対応する。（−）の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合（百分率）は、液晶組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。最後に、組成物の物性値をまとめた。物性は、先に記載した方法にしたがって測定し、測定値を外挿することなくそのまま記載した。

［使用例１］
６Ｋ−Ｂ（２ＣＦ２Ｈ，３Ｆ）−Ｏ２ （１−１−２） ５％
３−ＨＢ−Ｏ１ （１３−５） １５％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−１） １２％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−１） １２％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１ （７−１） １２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１ （７−１） １２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−１） １３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−１） １３％
３−ＨＨＢ−１ （１４−１） ６％
ＮＩ＝７５．８℃；Δｎ＝０．０８６；Δε＝−３．８；η＝４０．５ｍＰａ・ｓ．

［使用例２］
３−Ｈ１ＫＢ（２ＣＦ２Ｈ，３Ｆ）−Ｏ２ （１−２−１） ３％
５−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） ９％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−４） ２０％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−４） ２０％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ３％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ２％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ２％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ９％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ９％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （１４−１） ６％
３−ＨＨＢ−３ （１４−１） ６％
３−ＨＨＥＢＨ−３ （１５−６） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （１５−６） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−５ （１５−６） ３％
ＮＩ＝９１．９℃；Δｎ＝０．１００；Δε＝−４．３；η＝３３．４ｍＰａ・ｓ．

［使用例３］
３−ＨＨ１ＫＢ（２ＣＦ２Ｈ，３Ｆ）−Ｏ２ （１−４−１） ５％
３−ＨＢ−Ｏ１ （１３−５） １５％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−１） １２％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−１） １２％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１ （７−１） １２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１ （７−１） １２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−１） １３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−１） １３％
６−ＨＥＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−６） ６％
ＮＩ＝８１．３℃；Δｎ＝０．０９０；Δε＝−４．４；η＝４１．７ｍＰａ・ｓ．

［使用例４］
３−ＨＨ３ＫＢ（２ＣＦ２Ｈ，３Ｆ）−Ｏ２ （１−４−２０） ５％
３−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） １５％
５−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） ４％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−４） ２０％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−４） ２０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ５％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ９％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ９％
３−ＨＨＢ−１ （１４−１） ３％
３−ＨＨＢ−３ （１４−１） ４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （１４−１） ３％
ＮＩ＝７０．８℃；Δｎ＝０．１０５；Δε＝−５．２；η＝２８．３ｍＰａ・ｓ．

［使用例５］
２Ｋ−Ｂ（２ＣＦ２Ｈ，３Ｆ）ＢＨ−３ （１−６−２） ５％
１−ＢＢ−３ （１３−８） １４％
３−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） ７％
５−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） ５％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−３） ９％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−３） ６％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−５） １５％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−５） ２０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ９％
３−ＨＨＢ−１ （１４−１） ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （１４−１） ３％
２−ＢＢＢ（２Ｆ）−５ （１４−８） ２％
ＮＩ＝８５．３℃；Δｎ＝０．１３２；Δε＝−４．３；η＝３０．０ｍＰａ・ｓ．

［使用例６］
３−ＨＨ１ＫＢ（２ＣＦ３，３Ｆ）−Ｏ２ （１−４−３０） ４％
７−ＨＢ−１ （１３−５） １３％
５−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） １１％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−１） ２０％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−１） １９％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ３％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ２％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５ （１０−６） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （１５−５） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （１５−５） １０％

［使用例７］
２Ｋ−Ｂ（２ＣＦ３，３Ｆ）ＢＨ−３ （１−６−９） ５％
１−ＢＢ−３ （１３−８） １３％
３−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） ４％
５−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） ４％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−３） １８％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−５） ２０％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−５） １４％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ８％
３−ＨＨＢ−１ （１４−１） ８％
２−ＢＢＢ（２Ｆ）−５ （１４−８） ６％

［使用例８］
３−ＨＢ１ＫＢ（２ＣＦ２Ｈ，３Ｆ）−Ｏ２ （１−４−１１） ５％
３−ＨＢ−Ｏ１ （１３−５） １５％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−１） １２％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−１） １２％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１ （７−１） １２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１ （７−１） １２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−１） １３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−１） １３％
３−ＨＨＢ−１ （１４−１） ６％

［使用例９］
３−ＨＢ３ＫＢ（２ＣＦ２Ｈ，３Ｆ）−Ｏ２ （１−４−２１） ３％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−４） ２０％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−４） ２０％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−１） ９％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ３％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ２％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ２％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ９％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ９％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （１４−１） ６％
３−ＨＨＢ−３ （１４−１） ６％
３−ＨＨＥＢＨ−３ （１５−６） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （１５−６） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−５ （１５−６） ３％

［使用例１０］
２Ｋ−Ｂ（２ＣＦ２Ｈ，３Ｆ）ＢＢ−３ （１−６−３） ５％
３−ＨＢ−Ｏ１ （１３−５） １５％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−１） １２％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−１） １２％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１ （７−１） １２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１ （７−１） １２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−１） １３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−１） １３％
６−ＨＥＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−６） ６％

［使用例１１］
３−ＨＨ１ＫＢ（２ＣＦ２Ｈ，３ＣＦ２Ｈ）−Ｏ２（１−４−１６） ５％
３−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） １５％
５−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） ４％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−４） ２０％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−４） ２０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２ （７−１２） ５％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ９％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ９％
３−ＨＨＢ−１ （１４−１） ３％
３−ＨＨＢ−３ （１４−１） ４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （１４−１） ３％

［使用例１２］
３−ＨＢ１ＫＢ（２ＣＦ２Ｈ，３ＣＦ２Ｈ）−Ｏ２（１−４−１７） ５％
１−ＢＢ−３ （１３−８） １４％
３−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） ７％
５−ＨＢ−Ｏ２ （１３−５） ５％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−３） ９％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （６−３） ６％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−５） １５％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−５） ２０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （７−７） ９％
３−ＨＨＢ−１ （１４−１） ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （１４−１） ３％
２−ＢＢＢ（２Ｆ）−５ （１４−８） ２％

本発明の液晶性化合物は、熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶化合物との優れた相溶性を有する。本発明の液晶組成物は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、および適切な弾性定数を有する。この組成物は、少なくとも２つの物性に関して適切なバランスを有する。本発明の液晶表示素子は、この組成物を含み、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、および長い寿命を有する。したがって、この素子は、パソコン、テレビなどのディスプレイに広く利用できる。

Claims (14)

1. 式（１−１）〜（１−１０）のいずれか１つで表される化合物。
   

   

   
   ［式（１−１）〜（１−１０）において、
   ＲａおよびＲｂは独立して、フッ素、塩素、または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも一つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−または−ＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの−（ＣＨ_２）_２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも一つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
   Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２オン−３，６−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの基において、少なくとも一つの水素は、ハロゲン、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ_３、−ＣＨＦ_２、−ＣＨ_２Ｆ、−ＯＣＦ_３、−ＯＣＨＦ_２、または−ＯＣＨ_２Ｆで置き換えられてもよく；
   Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２ＣＯ−、−ＣＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＳｉＨ_２−、−ＳｉＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_３Ｏ−、または−Ｏ（ＣＨ_２）_３−であり；
   Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３であり、Ｙ^２は、水素、ハロゲン、−ＣＦＨ_２、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３であり、ただし、式（１−１）および式（１−２）においては、Ｙ ^２ は、ハロゲン、−ＣＦＨ _２ 、−ＣＦ _２ Ｈ、または−ＣＦ _３ であり；
   ｃは、０、１、２、３、４、５、または６である。］
2. 式（１−１１）〜（１−２０）のいずれか１つで表される請求項１に記載の化合物。
   

   

   
   ［式（１−１１）〜（１−２０）において、
   ＲａおよびＲｂは独立して、フッ素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数３〜９のアルケニルオキシ、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた炭素数１〜９のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた炭素数２〜１０のアルケニルであり；
   Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり；
   Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_３Ｏ−、または−Ｏ（ＣＨ_２）_３−であり；
   Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３であり；
   ｃは、０、１、２、３、４、５、または６である。］
3. 式（１−２１）〜（１−２７）のいずれか一つで表される請求項１に記載の化合物。
   

   

   
   ［式（１−２１）〜（１−２７）において、
   ＲａおよびＲｂは独立して、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数１〜１０のフッ素化アルキル、または炭素数１〜９のフッ素化アルコキシであり；
   Ａ^１およびＡ^２は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、シクロヘキセン−１，４−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり；
   Ｚ^１は独立して、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；
   Ｙ^１は−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３である］
4. 請求項３に記載の式（１−２１）〜（１−２７）において、ＲａおよびＲｂが独立して、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、または炭素数１〜９のアルコキシであり；
   Ａ^１およびＡ^２が独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり；
   Ｚ^１が単結合であり；
   Ｙ^１が−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３である、請求項３に記載の化合物。
5. 請求項３に記載の式（１−２１）〜（１−２７）において、ＲａおよびＲｂが独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数１〜９のアルコキシであり；
   Ａ^１およびＡ^２が独立して、１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
   Ｚ^１が単結合であり；
   Ｙ^１が−ＣＦ_２Ｈである、請求項３に記載の化合物。
6. 請求項３に記載の式（１−２１）〜（１−２７）において、ＲａおよびＲｂが独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数１〜９のアルコキシであり；
   Ａ ^１ およびＡ ^２ が独立して、１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
   Ｚ ^１ が単結合であり；
   Ｙ^１が−ＣＦ_３である、請求項３に記載の化合物。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１つ含有する液晶組成物。
8. 式（６）〜（１２）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項７に記載の液晶組成物。
   

   

   
   ［式（６）〜（１２）において、
   Ｒ^１３は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
   Ｒ^１４は、炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
   Ｒ^１５は、水素、フッ素、炭素数１〜１０のアルキル、または炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
   Ｓ^１１は、水素またはメチルであり；
   Ｘは、−ＣＦ_２−、−Ｏ−、または−ＣＨＦ−であり；
   環Ｄ^１、環Ｄ^２、環Ｄ^３、および環Ｄ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
   環Ｄ^５および環Ｄ^６は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
   Ｚ^１５、Ｚ^１６、Ｚ^１７、およびＺ^１８は独立して、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、または−ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり；
   Ｌ^１５およびＬ^１６は独立して、フッ素または塩素であり；
   ｊ、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒおよびｓは独立して、０または１であり、ｋ、ｍ、ｎおよびｐの和は、１または２であり、ｑ、ｒおよびｓの和は、０、１、２または３であり、ｔは、１、２または３である。〕
9. 式（１３）〜（１５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物（ただし、式（１３−１）で表される化合物は除く。）をさらに含有する、請求項７または８に記載の液晶組成物。
   

   

   
   ［式（１３）〜（１５）において、
   Ｒ^１６およびＲ^１７は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
   環Ｅ^１、環Ｅ^２、環Ｅ^３、および環Ｅ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
   Ｚ^１９、Ｚ^２０、およびＺ^２１は独立して、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−ＣＯＯ−である。］
   
   

   

   
   ［式（１３−１）において、Ｒ ^１６ およびＲ ^１７ は前記と同義である。］
10. 式（２）〜（４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項７〜９のいずれか１項に記載の液晶組成物。
    

    

    
    ［式（２）〜（４）において、
    Ｒ^１１は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
    Ｘ^１１は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ_３、−ＯＣＨＦ_２、−ＣＦ_３、−ＣＨＦ_２、−ＣＨ_２Ｆ、−ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、または−ＯＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_３であり；
    環Ｂ^１、環Ｂ^２、および環Ｂ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
    Ｚ^１１、Ｚ^１２、およびＺ^１３は独立して、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、または−（ＣＨ_２）_４−であり；
    Ｌ^１１およびＬ^１２は独立して、水素またはフッ素である。］
11. 式（５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項７〜１０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
    

    

    
    ［式（５）において、
    Ｒ^１２は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
    Ｘ^１２は、−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
    環Ｃ^１は、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
    Ｚ^１４は、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、または−ＣＨ_２Ｏ−であり；
    Ｌ^１３およびＬ^１４は独立して、水素またはフッ素であり；
    ｉは、１、２、３、または４である。］
12. 少なくとも１つの光学活性化合物および／または少なくとも１つの重合可能な化合物をさらに含有する、請求項７〜１１のいずれか１項に記載の液晶組成物。
13. 少なくとも１つの酸化防止剤および／または少なくとも１つの紫外線吸収剤をさらに含有する、請求項７〜１２のいずれか１項に記載の液晶組成物。
14. 請求項７〜１３のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。