JP6413261B2 - Icp発光分析装置用高周波電源装置 - Google Patents
Icp発光分析装置用高周波電源装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6413261B2 JP6413261B2 JP2014040543A JP2014040543A JP6413261B2 JP 6413261 B2 JP6413261 B2 JP 6413261B2 JP 2014040543 A JP2014040543 A JP 2014040543A JP 2014040543 A JP2014040543 A JP 2014040543A JP 6413261 B2 JP6413261 B2 JP 6413261B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- power supply
- capacitor
- circuit
- frequency power
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
- H01J37/32183—Matching circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32091—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being capacitively coupled to the plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/38—Impedance-matching networks
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/38—Impedance-matching networks
- H03H7/40—Automatic matching of load impedance to source impedance
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
- H05H1/4645—Radiofrequency discharges
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H2242/00—Auxiliary systems
- H05H2242/20—Power circuits
Description
a)前記スイッチング回路と前記LC共振回路との間に介挿され、インダクタと、並列接続された複数のコンデンサと、該複数のコンデンサの一部をその並列接続から切り離すスイッチング素子と、を含み、該スイッチング素子により前記複数のコンデンサの接続を切り替えてコンデンサの容量を変化させることでインピーダンス変換率を複数段階に切り替え可能であるとともに、前記スイッチング素子の切替えを制御する信号の変化を鈍化させる時定数回路を含むインピーダンス変換部と、
b)プラズマ点灯開始前とその点灯開始後の定常的な点灯時とで前記インピーダンス変換率を切り替えるように前記インピーダンス変換部を動作させる制御部であり、プラズマが消灯している状態から点灯を開始させるときには前記インピーダンス変換部におけるコンデンサの容量を相対的に大きくして前記LC共振回路へ相対的に大きな電流を供給し、プラズマが点灯して定常的な状態になるとコンデンサの容量を相対的に小さく切り替える制御部と、
を備えることを特徴としている。
11…直流電源
12、18a、18b、18c、20、233…コンデンサ
13…フルブリッジ駆動回路
141〜144、238…MOSFET
151〜154…MOSFET駆動回路
16…インピーダンス変換回路
17…第1リアクタンス素子(インダクタ)
17a…第1インダクタ
17b…第2インダクタ
18…第2リアクタンス素子(コンデンサ)
18d…PINダイオード
19…LC共振回路
21…誘導コイル
22…1次巻線
23…切替駆動部
231、232…インダクタ
234、236…抵抗
241…フォトカプラ
24…制御部
Claims (3)
- 直流電圧源と、プラズマ生成用の誘導コイルとコンデンサとを含むLC共振回路と、前記直流電圧源から供給される直流電力をスイッチングして前記LC共振回路に与える半導体スイッチング素子を含むスイッチング回路と、を具備し、前記誘導コイルに高周波電力を投入することで大気圧雰囲気の下でプラズマを生成するICP発光分析装置用高周波電源装置において、
a)前記スイッチング回路と前記LC共振回路との間に介挿され、インダクタと、並列接続された複数のコンデンサと、該複数のコンデンサの一部をその並列接続から切り離すスイッチング素子と、を含み、該スイッチング素子により前記複数のコンデンサの接続を切り替えてコンデンサの容量を変化させることでインピーダンス変換率を複数段階に切り替え可能であるとともに、前記スイッチング素子の切替えを制御する信号の変化を鈍化させる時定数回路を含むインピーダンス変換部と、
b)プラズマ点灯開始前とその点灯開始後の定常的な点灯時とで前記インピーダンス変換率を切り替えるように前記インピーダンス変換部を動作させる制御部であり、プラズマが消灯している状態から点灯を開始させるときには前記インピーダンス変換部におけるコンデンサの容量を相対的に大きくして前記LC共振回路へ相対的に大きな電流を供給し、プラズマが点灯して定常的な状態になるとコンデンサの容量を相対的に小さく切り替える制御部と、
を備えることを特徴とするICP発光分析装置用高周波電源装置。 - 請求項1に記載のICP発光分析装置用高周波電源装置であって、
前記制御部は、プラズマが定常的な状態になり前記コンデンサの容量を相対的に小さく切り替える際に、プラズマ生成における電力効率が最大となるようにインピーダンス変換率を設定して誘導コイルに対するインピーダンスを整合させることを特徴とするICP発光分析装置用高周波電源装置。 - 請求項1又は2に記載のICP発光分析装置用高周波電源装置であって、
前記制御部は、プラズマが点灯してから所定時間が経過したときに前記コンデンサの容量を相対的に小さく切り替えることを特徴とするICP発光分析装置用高周波電源装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014040543A JP6413261B2 (ja) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | Icp発光分析装置用高周波電源装置 |
US14/635,152 US10327322B2 (en) | 2014-03-03 | 2015-03-02 | Radio-frequency power unit |
CN201510094746.8A CN104901580B (zh) | 2014-03-03 | 2015-03-03 | 高频电源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014040543A JP6413261B2 (ja) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | Icp発光分析装置用高周波電源装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015167070A JP2015167070A (ja) | 2015-09-24 |
JP6413261B2 true JP6413261B2 (ja) | 2018-10-31 |
Family
ID=54007410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014040543A Active JP6413261B2 (ja) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | Icp発光分析装置用高周波電源装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10327322B2 (ja) |
JP (1) | JP6413261B2 (ja) |
CN (1) | CN104901580B (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11615943B2 (en) | 2017-07-07 | 2023-03-28 | Advanced Energy Industries, Inc. | Inter-period control for passive power distribution of multiple electrode inductive plasma source |
CN115662868A (zh) | 2017-07-07 | 2023-01-31 | 先进能源工业公司 | 等离子体功率输送系统的周期间控制系统及其操作方法 |
US11651939B2 (en) | 2017-07-07 | 2023-05-16 | Advanced Energy Industries, Inc. | Inter-period control system for plasma power delivery system and method of operating same |
WO2020185353A1 (en) * | 2019-03-13 | 2020-09-17 | Applied Materials, Inc. | Plasma ignition circuit |
KR102242234B1 (ko) * | 2019-05-08 | 2021-04-20 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 고주파 제너레이터 및 그의 동작 방법 |
JP7465657B2 (ja) | 2019-12-27 | 2024-04-11 | 株式会社ダイヘン | インピーダンス調整装置 |
JP7450387B2 (ja) * | 2019-12-27 | 2024-03-15 | 株式会社ダイヘン | インピーダンス調整装置 |
DE102020104090A1 (de) * | 2020-02-17 | 2021-08-19 | Comet Ag | Hochfrequenzverstärker-Anordnung für einen Hochfrequenzgenerator |
WO2022173629A1 (en) * | 2021-02-12 | 2022-08-18 | Advanced Energy Industries, Inc. | Inter-period control for passive power distribution of multiple electrode inductive plasma source |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5815047A (en) * | 1993-10-29 | 1998-09-29 | Applied Materials, Inc. | Fast transition RF impedance matching network for plasma reactor ignition |
JPH1019782A (ja) * | 1996-07-03 | 1998-01-23 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
US5945785A (en) * | 1996-08-27 | 1999-08-31 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Power source device with minimized variation in circuit efficiency due to variation in applied voltage to driving transformer |
US6424232B1 (en) | 1999-11-30 | 2002-07-23 | Advanced Energy's Voorhees Operations | Method and apparatus for matching a variable load impedance with an RF power generator impedance |
US6472822B1 (en) * | 2000-04-28 | 2002-10-29 | Applied Materials, Inc. | Pulsed RF power delivery for plasma processing |
JP2002184598A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-28 | Shimadzu Corp | Icp用高周波電源装置 |
JP4772232B2 (ja) * | 2001-08-29 | 2011-09-14 | アジレント・テクノロジーズ・インク | 高周波増幅回路及び高周波増幅回路の駆動方法 |
US7764140B2 (en) * | 2005-10-31 | 2010-07-27 | Mks Instruments, Inc. | Radio frequency power delivery system |
JP5174013B2 (ja) * | 2006-05-22 | 2013-04-03 | アジレント・テクノロジーズ・オーストラリア(エム)プロプライエタリー・リミテッド | 分光分析用の発電機 |
US20080003702A1 (en) * | 2006-06-28 | 2008-01-03 | Cruse James P | Low Power RF Tuning Using Optical and Non-Reflected Power Methods |
JP2008202990A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Shimadzu Corp | Icp用高周波電源装置 |
WO2009078456A1 (ja) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Soshin Electric Co., Ltd. | 高周波スイッチ |
US8692466B2 (en) * | 2009-02-27 | 2014-04-08 | Mks Instruments Inc. | Method and apparatus of providing power to ignite and sustain a plasma in a reactive gas generator |
JP5241578B2 (ja) * | 2009-03-19 | 2013-07-17 | 株式会社日清製粉グループ本社 | 誘導熱プラズマ発生方法及び装置 |
JP5429391B2 (ja) * | 2010-09-22 | 2014-02-26 | 株式会社島津製作所 | 高周波電源 |
US8436643B2 (en) * | 2010-11-04 | 2013-05-07 | Advanced Energy Industries, Inc. | High frequency solid state switching for impedance matching |
TWI455172B (zh) * | 2010-12-30 | 2014-10-01 | Semes Co Ltd | 基板處理設備、電漿阻抗匹配裝置及可變電容器 |
US8416008B2 (en) * | 2011-01-20 | 2013-04-09 | Advanced Energy Industries, Inc. | Impedance-matching network using BJT switches in variable-reactance circuits |
JP2013098177A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Semes Co Ltd | 基板処理装置及びインピーダンスマッチング方法 |
JP5534366B2 (ja) * | 2012-06-18 | 2014-06-25 | 株式会社京三製作所 | 高周波電力供給装置、及びイグニッション電圧選定方法 |
JP6353223B2 (ja) * | 2013-12-20 | 2018-07-04 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
US10699880B2 (en) * | 2015-06-29 | 2020-06-30 | Reno Technologies, Inc. | Voltage reduction circuit |
-
2014
- 2014-03-03 JP JP2014040543A patent/JP6413261B2/ja active Active
-
2015
- 2015-03-02 US US14/635,152 patent/US10327322B2/en active Active
- 2015-03-03 CN CN201510094746.8A patent/CN104901580B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10327322B2 (en) | 2019-06-18 |
US20150250046A1 (en) | 2015-09-03 |
JP2015167070A (ja) | 2015-09-24 |
CN104901580B (zh) | 2018-11-27 |
CN104901580A (zh) | 2015-09-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6413261B2 (ja) | Icp発光分析装置用高周波電源装置 | |
JP5174013B2 (ja) | 分光分析用の発電機 | |
US10923952B2 (en) | Secondary-side output boost technique in power converters and wireless power transfer systems | |
US11069499B2 (en) | Power-saving circuit for contactor | |
CN103222344A (zh) | 高频电源 | |
CN109842973B (zh) | 电力分配系统 | |
JP2010114001A (ja) | プラズマ発生用電源装置 | |
US9232627B2 (en) | Radio-frequency oscillation circuit | |
CN110708779A (zh) | 一种双频感应加热电源及其控制方法 | |
JP4434204B2 (ja) | 電源装置 | |
KR100639483B1 (ko) | 무전극 방전램프의 전원장치 | |
JP2005050661A (ja) | 高圧放電灯点灯装置 | |
JP2017192282A (ja) | 電源装置 | |
JP6341182B2 (ja) | 電源装置 | |
JP6782474B2 (ja) | 熱電変換素子出力制御装置 | |
JP6041532B2 (ja) | 電子負荷装置 | |
KR20200100811A (ko) | 공진정합회로 | |
KR100356270B1 (ko) | 초절전형 중앙집중식 전자안정기 | |
JP4723343B2 (ja) | 放電灯点灯装置 | |
JP4949285B2 (ja) | プラズマ放電装置 | |
JPWO2009025129A1 (ja) | 直流低電圧電源装置 | |
JP2016067122A (ja) | 非接触電力伝送装置 | |
JP2014099309A (ja) | 点灯装置及び照明器具 | |
JPH07194121A (ja) | 放電灯点灯装置 | |
GB2472038A (en) | Power adaptor for discharge light source |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160701 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170628 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170704 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170904 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180130 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180330 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180904 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180917 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6413261 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |