JP6402079B2 - β−Ga2O3系単結晶基板の製造方法 - Google Patents
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本実施の形態によれば、β−Ga2O3系単結晶23を育成する際の雰囲気ガス中の酸素流量を制御することにより、線状ピットの密度の平均値が1000個/cm2以下である酸化ガリウム基板を得ることができる。
Claims (5)
- 不活性ガスと、前記不活性ガスに対する流量比が0〜2%の酸素を含む雰囲気下において、線状ピットの密度の平均値が1000個/cm2以下のβ−Ga2O3系単結晶を、EFG法により育成する工程と、
前記β−Ga2O3系単結晶からβ−Ga2O3系単結晶基板を切り出す工程と、
を含み、
前記β−Ga 2 O 3 系単結晶を育成する工程において、前記β−Ga 2 O 3 系単結晶中の実効キャリア濃度に応じて前記流量比を0〜2%の範囲内で所定の値に設定する、
β−Ga2O3系単結晶基板の製造方法。 - 前記不活性ガスが窒素である、
請求項1に記載のβ−Ga2O3系単結晶基板の製造方法。 - 前記β−Ga 2 O 3 系単結晶中の実効キャリア濃度が、2.05×10 17 [/cm 3 ]〜5.96×10 17 [/cm 3 ]、4.2×10 18 [/cm 3 ]〜1.15×10 19 [/cm 3 ]、又は1.17×10 19 [/cm 3 ]〜2.23×10 19 [/cm 3 ]の範囲内にある場合、前記不活性ガスに対する酸素の流量比を1%以下に設定する、
請求項1又は2に記載のβ−Ga2O3系単結晶基板の製造方法。 - 前記β−Ga2O3系単結晶中の実効キャリア濃度が、2.05×10 17 [/cm 3 ]〜5.96×10 17 [/cm 3 ]、1.28×10 18 [/cm 3 ]〜1.15×10 19 [/cm 3 ]、又は1.17×10 19 [/cm 3 ]〜2.23×10 19 [/cm 3 ]の範囲内にある場合、前記不活性ガスに対する酸素の流量比を0%に設定する、
請求項1又は2に記載のβ−Ga2O3系単結晶基板の製造方法。 - 前記β−Ga2O3系単結晶中の実効キャリア濃度が、2.05×1017[/cm3]〜5.96×10 17 [/cm 3 ]、又は1.17×10 19 [/cm 3 ]〜2.23×1019[/cm3]の範囲内にある、
請求項1又は2に記載のβ−Ga2O3系単結晶基板の製造方法。
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