JP6396815B2 - 入力装置 - Google Patents

Description

本発明は、透光性の基板に複数の透光性の電極層が形成された入力装置に関する。

携帯用電子機器などには、静電容量を検知する入力装置が設けられており、この入力装置は、カラー液晶パネルなどの表示パネルの前方に重ねられて配置されている。

入力装置は、透光性の基板に複数の透光性の電極層が形成されており、電極層は、第１の方向に接続されている第１の電極層と第２の方向に接続されている第２の電極層とを有している。第１の電極層と第２の電極層の一方の電極層に駆動電力が与えられると、他方の電極層から検知出力が得られ、指などが入力装置のどの箇所に接近しているのかを検知できるようになる。

この種の入力装置には、１つの基板の同じ表面に、第１の電極層と第２の電極層の双方が形成されて、基板数を減らして薄型化できるようにしたものがある。

この入力装置では、前記基板の表面に、第１の電極層に接続される第１の配線層（リード層）と、第２の電極層に接続される第２の配線層（リード層）とを形成することが必要になるが、第１の電極層が第１の方向で接続され、第２の電極層が第２の方向で接続されているため、第１の配線層を基板の第１の方向の縁部で引き回し、第２の配線層を基板の第２の方向の縁部で引き回すことが必要になる。基板の互いに直交する２つの辺に配線領域を形成すると、この配線領域が検知領域として機能しないデッド領域となる。また、表面パネルに入力装置が取り付けられる場合に、配線領域を加飾層で覆うことが必要になり、この加飾層を設ける分だけ表示パネルの表示領域が狭くなる課題があった。

特許文献１に記載されたタッチスクリーンパネルでは、Ｙ方向に連続する第２感知電極と、第２感知電極どうしをＹ方向へ連結する第２接続パターンが一体に形成され、第２接続パターンの両側にＸ方向に並ぶ第１感知電極が互いに独立して形成されている。また、駆動パターンが、第１感知電極と第２感知電極との間を通過してＹ方向へ連続して延びている。第２接続パターンと駆動パターンは絶縁層で覆われており、絶縁層の上に形成された第１接続パターンによって、Ｘ方向に隣接する第１感知電極どうしが互いに接続されている。

このタッチスクリーンパネルは、駆動パターンが第１接続パターンの下側を通過することで、第２感知電極に接続される駆動配線と、駆動パターンを介して第１感知電極に接続される駆動配線とを、基板のＹ方向に向く縁部にのみに引き出すことができる。

特許文献２に記載されたタッチパネルは、基板の表面に、Ｘ方向に並ぶ複数の第１の電極と第１の電極どうしを連結する第１の導線が一体に形成されている。それぞれの第１の電極に開口部が形成されており、開口部の内部に第２の電極が互いに独立して形成されている。第１の電極の上には絶縁層が形成され、この絶縁層の上に第２の導線が形成され、第２の導線によってＹ方向で隣り合う第２の電極層どうしが接続されている。

基板の表面には、Ｙ方向に延びる導電セグメントが設けられて、それぞれの導電セグメントが第１の導線に接続されているが、接続すべきでない第１の導線と導電セグメントとの交差部では、第１の導線の表面に前記絶縁層が形成され、この絶縁層の上に形成された第３の導線を介して導電セグメントどうしが接続されている。

このタッチパネルでは、Ｘ方向に導通している第１の電極に接続された導電セグメントがＹ方向に延びているため、第１の電極に接続されるリード線と、第２の電極に接続されるリード線を、基板のＹ方向の縁部にのみ引き回すことができる。

特開２０１２−１５０７８２号公報 特開２０１３−１４３１３１号公報

特許文献１に記載されたタッチスクリーンパネルでは、第１感知電極に導通する駆動パターンが、第２感知電極の側方に近接した位置を通過している。そのため、駆動パターンと第２感知電極との間で静電容量が形成され、駆動パターンと第２感知電極との対向部が感度領域となる。指などが接近すると、駆動パターンと第２感知電極との間に検知出力が発生し、この出力が、第１感知電極と第２感知電極との静電容量の変化を検知する本来の検知出力に対して検出ノイズとして重畳することになる。

特許文献２に記載されたタッチパネルは、いずれかの第１の電極に導通する導電セグメントが、他の第１の電極を乗り越えるようにしてＹ方向に延びているため、第１の電極に導通する導電セグメントが第２の電極から比較的離れており、特許文献１に記載のような本来感度を持つべきでない領域が感度領域となる課題は生じにくい。

しかし、特許文献２に記載されたタッチパネルでは、第１の電極に形成された開口部の中に第２の電極を配置するという特殊な構造を有しているため、第２の電極どうしを接続している第２の導線の数を、１つの第１の電極に対して２箇所ずつ設けることが必要になる。よって、電極数を多くすると第２の導線の数および第２の導線の下に形成される絶縁ブロックの数が多くなり、背後に設けられる表示パネルを表示したときに、多くの第２の導線と絶縁ブロックが目視されやすくなり、表示品質を損いやすい。

本発明は上記従来の課題を解決するものであり、基板の縁部での配線領域を減らして表示領域（入力領域）の面積を拡大できるようにし、しかも配線層と電極層との間に不要な感度が形成される現象を抑制でき、さらに表示品質も良好に保つことができる入力装置を提供することを目的としている。

本発明は、透光性の基板に、透光性の導電材料で形成された第１の電極層と第２の電極層とが設けられ、複数の前記第１の電極層が第１の方向に並んで第１の電極列が形成され、複数の前記第２の電極層が第１の方向と交差する第２の方向に並んで第２の電極列が形成されている入力装置において、
前記第１の電極列と前記第２の電極列との交差部では、前記第１の電極層と前記第２の電極層のいずれか一方の電極層どうしを連結する連結部が前記透光性の導電材料で一体に形成され、前記連結部の上に第１の絶縁層と第１のブリッジ接続層が重ねて形成されて、前記第１のブリッジ接続層によって他方の電極層どうしが導通されており、
前記第１の電極列は第２の方向に列間隙部を空けて配置され、前記列間隙部内に、配線層と前記配線層の側方に位置するガード層とが第１の方向に延びて形成され、
隣り合う前記第２の電極層の間に、前記第１の電極層と前記第２の電極層の双方と独立して導電材料で形成された中間層が設けられて、前記列間隙部内に延びるいずれかの前記配線層が前記中間層と導通され、前記中間層と前記第２の電極層との間を、その中間層とは導通されていない他の配線層と前記ガード層が通過しており、
前記中間層とその両側に位置するそれぞれの前記第２の電極層との間に、第２の絶縁層と第２のブリッジ接続層とが重ねて形成されて、前記第２のブリッジ接続層が、前記配線層ならびに前記ガード層と絶縁され、前記第２のブリッジ接続層によって、前記中間層と、その両側に位置するそれぞれの前記第２の電極層とが接続されていることを特徴とするものである。

本発明の入力装置では、第１の電極列の列間隙部内に、第２の電極層に接続される配線層とガード層とを形成することで、基板の表面で電極層と配線層を形成しやすい。また、配線層の側方にガード層を配置することで、配線層と第１の電極層との間に不要な感度領域が形成されるのを防止できるようになる。

本発明の入力装置は、前記配線層と前記ガード層が、前記第１の電極層および前記第２の電極層と同じ透光性の導電材料で形成されていることが好ましい。

例えば、前記ガード層は、前記配線層の両側に形成されており、前記第２の絶縁層と前記第２のブリッジ接続層が、両側の前記配線層のそれぞれの上に形成されている。

前記のように、配線層とガード層とを第１の電極層および第２の電極層と同じ導電材料で同一面に形成することで、配線層とガード層を別途形成する必要がない。また、第２のブリッジ接続層は主にガード層を覆う部分に限定的に形成すればよいため、絶縁層とブリッジ接続層の形成箇所と形成面積を小さくでき、表示品質を損ないにくいものとなる。

本発明は、さらに前記中間層とその一方の側で隣り合う前記第２の電極層とを接続する前記第２のブリッジ接続層と、前記中間層とその他方の側で隣り合う前記第２の電極層とを接続する前記第２のブリッジ接続層とが、第１の方向に間隔を空けて形成されているものが好ましい。

上記構成では、第２のブリッジ接続層を第１の方向に離して配置できるため、第２のブリッジ接続層がさらに目視されにくくなる。

本発明の入力装置は、前記第１の絶縁層と前記第２の絶縁層は同じ材料で同じ工程で形成され、前記第１のブリッジ接続層と前記第２のブリッジ接続層は、同じ材料で同じ工程で形成されているものとすることができる。

本発明の入力装置は、第１の電極層に接続される配線層と第２の電極層に接続される配線層とを、第１の方向でのみ引き回すことができるため、基板の第２の方向の縁部に配線領域を設ける必要がなくなる。

また、第１の電極列と第１の電極列との列間隙部に、第２の電極層に接続される配線層とガード層を形成しているため、配線層と第１の電極層との間で感度領域が形成されるのを防止できる。また、絶縁層とブリッジ接続層の大きさと数を少なくでき、表示品質を損ないにくくなる。

本発明の実施の形態の入力装置を使用したタッチパネルの分解斜視図、 本発明の第１の実施の形態の入力装置の平面図、 図２に示す入力装置のＩＩＩ矢視部分を拡大して示す平面図、 図３に示すＩＩＩ矢視部分をＩＶ−ＩＶ線で切断した拡大断面図、 図２に示す入力装置のＶ矢視部分を拡大して示す平面図、 図５に示す矢視部分ＶをＶＩ−ＶＩ線で切断した拡大断面図、 図２に示す入力装置のＶＩＩ矢視部分を拡大して示す平面図、 図７に示すＶＩＩ矢視部分をＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線で切断した拡大断面図、 本発明の第２の実施の形態の入力装置の部分拡大平面図、 本発明の第３の実施の形態の入力装置の部分拡大平面図、 図１０に示す入力装置をＸＩ−ＸＩで切断した拡大断面図、

図１にタッチパネル１が示されている。タッチパネル１は、表面パネル２とその下に位置する本発明の第１の実施の形態の入力装置１０とから構成されている。

表面パネル２は、携帯用電話機、ナビゲーション装置、ゲーム装置、通信装置などの各種電子機器のケースの一部を構成している。

表面パネル２はアクリル系などの透光性の合成樹脂材料やガラスで形成されており、四角形の表示部３と、表示部３を囲む加飾部４とを有している。表示部３は表面パネル２の外部から機器内部を透視できるようになっている。加飾部４は、前記合成樹脂材料やガラスの内面に印刷層が設けられ、または着色シートが重ねられるなどして、各種色相に着色されて、機器内部を透視できないようになっている。

入力装置１０は、透光性の基板１１を有している。基板１１はＰＥＴ（ポリエチレン・テレフタレート）などの樹脂シートまたは樹脂パネルあるいはガラス基板である。表面パネル２と入力装置１０は、ＯＣＡ（透明粘着材層）を介して接着される。電子機器のケース内には、カラー液晶パネルなどの表示パネル５が収納されている。表示パネル５の表示画面は、表面パネル２の表示部３に対向するように配置される。

図２ないし図８には、本発明の第１の実施の形態の入力装置１０が示されている。各図では、Ｙ方向が第１の方向で、Ｘ方向が第２の方向である。

図２に示すように、入力装置１０は、第１の方向の一方の縁部にのみ配線領域Ｈが形成されており、それ以外の３辺の縁部には配線領域が設けられていない。したがって、図１に示す表面パネル２の加飾部４のＸ方向の幅寸法を小さくでき、表示部３の面積を相対的に広げることが可能になる。

基板１１の表面には、第１の方向（Ｙ方向）に延びる第１の電極列２０と、第２の方向（Ｘ方向）に延びる第２の電極列３０が形成されている。

第１の電極列２０は、複数の第１の電極層２１と、第１の電極層２１をＹ方向に連結する（接続する）連結部２２とが一体に形成されている。第１の電極列２０はｙ１，ｙ２，ｙ３，ｙ４の４列設けられているが、この数は入力装置１０の面積に応じて選択される。

第１の電極層２１は、矩形状であり、連結部２２は、Ｙ方向に隣接する第１の電極層２１のＸ方向の中央部どうしを連結している。それぞれの第１の電極列２０では、前記連結部２２のＸ方向の両側に、Ｙ方向に隣り合う第１の電極層２１と第１の電極層２１との間に形成された隣接空間部２３が設けられている。また、Ｘ方向に隣り合う第１の電極列２０と第１の電極列２０との間に、列間隙部２４ａ，２４ｂ，２４ｃが形成されている。列間隙部２４ａ，２４ｂ，２４ｃは第１の方向（Ｙ方向）に連続して形成されている。

第２の電極列３０は、ｘ１〜ｘ６の６列設けられているが、この数は入力装置１０の面積に応じて選択される。

それぞれの第２の電極列３０は、複数の独立した第２の電極層３１で構成されている。第２の電極層３１はＸ方向に細長形状であり、長手方向がＸ方向に向けられている。第２の電極層３１は、主に第１の電極列２０において、Ｙ方向で隣り合う第１の電極層２１の間に形成された前記隣接空間部２３の内部を通過するように形成されている。

第１の電極層２１と連結部２２および第２の電極層３１は、同じ透光性の導電材料で形成されている。透光性の導電材料は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層、銀ナノワイヤやカーボンナノワイヤなどで形成された導電性ナノワイヤ層、メッシュ状に形成された薄い金属層、あるいは導電性ポリマー層などで形成されている。

図２では、第１の電極列２０と第２の電極列３０との交差部の１つがＩＩＩ矢視部とされ、図３と図４に、ＩＩＩ矢視部の交差部の詳細が示されている。この交差部では、第１の電極列２０の連結部２２を覆う透光性の第１の絶縁層３２が形成されている。第１の絶縁層３２の上に第１のブリッジ接続層３３が形成されており、この第１のブリッジ接続層３３によって、Ｘ方向に隣接する第２の電極層３１どうしが接続されて導通されている。

透光性の第１の絶縁層３２はノボラック樹脂またはノボラック樹脂とアクリル樹脂とで構成されている。第１のブリッジ接続層３３は、アモルファスのＩＴＯ層の下地層の上に、Ａｕ（金）、Ａｕ合金、ＣｕＮｉ合金（銅・ニッケル合金）、Ｎｉ（ニッケル）などの導電性金属材料が重ねられ、さらに好ましくはアモルファスのＩＴＯ層の保護層で覆われている。

第１の電極層２１と連結部２２および第２の電極層３１がＩＴＯ層で形成される場合には、これらを結晶性のＩＴＯで形成することで、第１の電極層２１と連結部２２および第２の電極層３１と、第１の絶縁層３２とを選択してエッチングすることが可能になる。

なお、第１の電極列２０と第２の電極列３０との交差部において、第２の電極層３１（３１Ａ）が連結部を有してＸ方向に連続して形成され、第１の電極層２１が連結部の両側に独立して形成されており、第２の電極層３１（３１Ａ）を連結する連結部の上に第１の絶縁層４１と第１のブリッジ接続層４２が形成されて、第１のブリッジ接続層４２によって、Ｙ方向に隣接する第１の電極層２１どうしが接続されていてもよい。

図２に示すように、基板１１のＹ方向の一端に形成された配線領域Ｈには、ｙ１列の第１の電極層２１と一体に形成された第１の配線層２５ａと、ｙ２，ｙ３，ｙ４列の第１の電極層２１のそれぞれと一体に形成された第１の配線層２５ｂ，２５ｃ，２５ｄが形成されている。

配線領域Ｈには、第２の電極列３０のそれぞれに導通する第２の配線層３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ，３５ｅ，３５ｆが形成されている。

第２の配線層３５ａ，３５ｂは、ｙ１列の第１の電極列２０とｙ２列の第１の電極列２０との間の列間隙部２４ａ内でＹ方向に延びている。第２の配線層３５ａはｘ１列の第２の電極列３０に接続され、第２の配線層３５ｂはｘ２列の第２の電極列３０に接続されている。第２の配線層３５ｃ，３５ｄは、ｙ２列の第１の電極列２０とｙ３列の第１の電極列２０との間の列間隙部２４ｂ内でＹ方向に延びている。第２の配線層３５ｃはｘ３列の第２の電極列３０に接続され、第２の配線層３５ｄはｘ４列の第２の電極列３０に接続されている。第２の配線層３５ｅ，３５ｆは、ｙ３列の第１の電極列２０とｙ４列の第１の電極列２０との間の列間隙部２４ｃ内でＹ方向に延びている。第２の配線層３５ｅはｘ５列の第２の電極列３０に接続され、第２の配線層３５ｆはｘ６列の第２の電極列３０に接続されている。

図２に示す入力装置１０は、表面パネル２の内面に設置される。表示パネル５の表示画像は、入力装置１０と表示部３を通して外部から目視できる。この表示を見ながら表示部３に指を触れることで、入力装置１０を操作することができる。

この入力装置１０は、第１の電極列２０と第２の電極列３０との間に静電容量が形成されている。第１の電極列２０または第２の電極列３０の一方の電極列に順番にパルス状の駆動電力が与えられ、駆動電力が与えられたときに他方の電極列に流れる検知電流が検出される。指が接近すると、指と電極層との間に静電容量が形成されるため、前記検出電流が変化する。この検出電流の変化を検知することで、表示部３のどの箇所に指が接近しているかを検出することができる。

前記配線層３５ａ〜３５ｆの引き回し構造は、以下の実施の形態ごとに相違している。
図５は、第１の実施の形態の入力装置１０における図２のＶ矢視部分の拡大平面図である。

図５に示すように、ｙ１列の第１の電極列２０とｙ２列の第１の電極列２０と間の列間隙部２４ａ内に、第２の配線層３５ａ，３５ｂが形成され、さらに第２の配線層３５ａ，３５ｂをＸ方向で挟むようにしてガード層３６ａ，３６ｂが形成されている。第２の配線層３５ａ，３５ｂとガード層３６ａ，３６ｂは互いに平行にＹ方向に連続して延びている。

第２の配線層３５ａ，３５ｂとガード層３６ａ，３６ｂは、第１の電極層２１と連結部２２および第２電極層３１と同じ透光性の導電材料で形成されている。

図５に示すように、列間隙部２４ａとｘ１列の隣接空間部２３との交差部に中間層３７ａが形成されている。中間層３７ａは、第２の配線層３５ａと一体に形成されている。
第２の配線層３５ｂは、ｘ１列の隣接空間部２３を超えてさらにＹ方向に延びて、ｘ２列の第２の電極層３１と一体に連結されているとなっている。

図６の断面図にも示すように、列間隙部２４ａとｘ１列の隣接空間部２３との交差部では、ガード層３６ａを覆う第２の絶縁層４１ａと、第２の配線層３５ｂならびにガード層３６ｂを覆う第２の絶縁層４１ｂが形成され、第２の絶縁層４１ａの上に第２のブリッジ接続層４２ａが形成され、第２の絶縁層４１ｂの上に第２のブリッジ接続層４２ｂが形成されている。第２のブリッジ接続層４２ａによって、中間層３７ａとこれに隣接するｙ１列の第２の電極層３１とが接続されて導通され、第２のブリッジ接続層４２ｂによって、中間層３７ａとこれに隣接するｙ２列の第２の電極層３１とが接続されて導通されている。

また、列間隙部２４ｂとｘ３列の第２の電極層３１との交差部、ならびに列間隙部２４ｃとｘ５列の第２の電極層３１との交差部の構造も、図５と図６に示すものと同じである。

図２に示すＶＩＩ矢視部は、列間隙部２４ｂとｘ２列の隣接空間部２３との交差部であり、図７と図８にその構造が示されている。

ここでは、ｙ２列の第１の電極列２０とｙ３列の第１の電極列２０との間の列間隙部２４ｂを、第２の配線層３５ｃ，３５ｄとガード層３６ａ，３６ｂが連続して通過している。ここでは、第２の配線層３５ｃ，３５ｄとガード層３６ａ，３６ｂを覆う絶縁層４３が形成され、その上に第３のブリッジ接続層４４が形成されており、第３のブリッジ接続層４４によって、Ｘ方向に隣接する第２の電極層３１どうしが接続されて導通されている。

図５および図６に示す第２の絶縁層４１ａ，４１ｂと、図７と図８に示す絶縁層４３は、図３および図４に示す第１の絶縁層３２と同じ材料で同じ工程で形成される。図５および図６に示す第２のブリッジ接続層４２ａ，４２ｂと図７および図８に示す第３のブリッジ接続層４４は、図３および図４に示す第１のブリッジ接続層３３と同じ材料で同じ工程で形成されている。

入力装置１０の製造工程は、基板１１の表面にＩＴＯなどの透光性の導電材料が形成された素材が使用されて、第１の電極列２０、第２の電極列３０、第１の配線層２５ａ〜２５ｄ、第２の配線層３５ａ〜３５ｆと中間層３７ａおよびガード層３６ａ，３６ｂがエッチング工程などで形成される。

その後に、基板１１上にノボラック樹脂とアクリル樹脂との樹脂層が形成され、フォトリソ工程で、第１の絶縁層３２と第２の絶縁層４１ａ，４１ｂおよび絶縁層４３が同時にパターニングされる。さらにブリッジ接続層用の積層体が形成され、エッチング工程によって、第１のブリッジ接続層３３と第２のブリッジ接続層４２ａ，４２ｂおよび第３のブリッジ接続層４４が同時に形成される。

第１の実施の形態の入力装置１０は、第２の配線層３５ａ〜３５ｆとガード層３６ａ，３６ｂと、第１の電極列２０および第２の電極列３０とが、基板１１の同じ表面の同じ階層に形成されるため、全体として段差が少なくなる。そのため、透光性の絶縁層とブリッジ接続層は、図３に示す第１の電極列２０と第２の電極列３０との交差部と、図５に示すガード層３６ａ，３６ｂを覆う箇所と、図７に示すように、第２の配線層とガード層とを覆う領域にのみ限定的に設ければよい。そのため、絶縁層とブリッジ接続層の数を少なくでき、それぞれの絶縁層とブリッジ接続層の面積も小さくできるため、絶縁層とブリッジ接続層が目視されにくくなり、表示画面の表示品質を高めることができる。

第２の配線層３５ａ〜３５ｆは、隣り合う第１の電極列２０の間の列間隙部２４ａ，２４ｂ，２４ｃ内を通過しているが、第２の配線層の左右両側がガード層３６ａ，３６ｂで挟まれているため、ガード層３６ａ，３６ｂを接地電位としておくことにより、列間隙部２４ａ，２４ｂ，２４ｃで、第２の配線層３５ａ〜３５ｆと第１の電極層２１との間に感度領域が形成されるのを防止できるようになる。

なお、ガード層３６ａ，３６ｂを接地電位以外の所定の電位に設定してもよい。この場合でも、ガード層３６ａ，３６ｂの存在により、第２の配線層３５ａ〜３５ｆと第１の電極層２１との間の相互の寄生容量を低減でき、第２の配線層３５ａ〜３５ｆと、第１の電極層２１との間に不要な感度領域が形成されるのを低減できる。

第２の配線層３５ａ〜３５ｆおよびガード層３６ａ，３６ｂは、Ｘ方向に隣接する第１の電極列２０の間の列間隙部２４ａ，２４ｂ，２４ｃを通過するように、Ｙ方向へ直線的に形成された構造であるため、各層の配置構成を簡素化でき、製造しやすくなる。

図９は、本発明の入力装置１０の第２の実施の形態を示しており、列間隙部２４ａとｘ１列の隣接空間部２３との交差部の構造を示している。この交差部以外の構成は、図２ないし図８に示した第１の実施の形態の入力装置１０と同じである。

図９に示す交差部では、第２の配線層３５ａと一体の中間層３７ｂがやや広い面積で形成されている。

中間層３７ｂと図示右側の第２の電極層３１との間には、第２の絶縁層４１ａと第２のブリッジ接続層４２ａが形成されており、中間層３７ｂと図示左側の第２の電極層３１との間には、第２の絶縁層４１ｂと第２のブリッジ接続層４２ｂが形成されている。

第２の絶縁層４１ａおよび第２のブリッジ接続層４２ａと、第２の絶縁層４１ｂおよび第２のブリッジ接続層４２ｂは、Ｙ方向に位置ずれしており、Ｙ方向に間隔を空けて形成されている。

第２の実施の形態では、列間隙部２４ａと隣接空間部２３との交差部において、第２の絶縁層４１ａ，４１ｂと第２のブリッジ接続層４２ａ，４２ｂがＹ方向に離れて配置されているため、これら絶縁層４１ａ，４１ｂとブリッジ接続層４２ａ，４２ｂがＸ方向に連続してあたかも一体のものとして目視されるのを防止できるようになり、背部から表示光が与えられたときに、第２の絶縁層４１ａ，４１ｂと第２のブリッジ接続層４２ａ，４２ｂが目立たなくなる。

図１０と図１１は、本発明の入力装置１０の第３の実施の形態を示しており、列間隙部２４ａとｘ１列の隣接空間部２３との交差部の構造を示している。第３の実施の形態は参考例である。

第３の実施の形態の入力装置１０では、ＩＴＯなどで形成された第２の電極層３１が前記交差部で途切れておらず、列間隙部２４ａを横断して形成されている。第２の配線層３５ａ，３５ｂとガード層３６ａ，３６ｂは、図３と図４に示した第１のブリッジ接続層３３と同じ材料で同じ工程で形成されている。

交差部では、第２の配線層３５ａが第２の電極層３１の上に重ねられて、第２の配線層３５ａと第２の電極層３１とが接続されて導通されている。また、第２の電極層３１の上に第３の絶縁層５１ａ，５１ｂがＸ方向に分割されて形成されている。ガード層３６ａは右側の第３の絶縁層５１ａの上を通過し、第２の配線層３５ｂとガード層３６ｂは、左側の第３の絶縁層５１ｂの上を通過している。

右側の第３の絶縁層５１ａと左側の第３の絶縁層５１ｂは連続して形成されていてもよいが、Ｘ方向に分割して形成することで、背部から表示パネル５の表示光が与えられたときに目立たなくなる。

この第３の実施の形態においても、第２の配線層３５ａ〜３５ｆとガード層３６ａ，３６ｂが、第１の電極列２０および第２の電極列３０と、同じ平面に形成されているため、段差が少なくなり、絶縁層とブリッジ接続層の数を減らすこことができ、絶縁層とブリッジ接続層の面積も小さくできる。また、第２の配線層３５ａ〜３５ｆとガード層３６ａ，３６ｂが、列間隙部２４ａ，２４ｂ，２４ｃ内でＹ方向に直線的に延びて形成されているため、各層の形状と構造を簡素に構成できるようになる。

１ タッチパネル
２ 表面パネル
３ 表示部
４ 加飾部
５ 表示パネル
１０ 入力装置
１１ 基板
２０ 第１の電極列
２１ 第１の電極層
２２ 連結部
２３ 隣接空間部
２４ａ，２４ｂ，２４ｃ 列間隙部
２５ａ〜２５ｄ 第１の配線層
３０ 第２の電極列
３２ 第１の絶縁層
３３ 第１のブリッジ接続層
３５ａ〜３５ｆ 第２の配線層
３６ａ，３６ｂ ガード層
３７ａ，３７ｂ 中間層
４１ａ，４１ｂ 第２の絶縁層
４２ａ，４２ｂ 第２のブリッジ接続層
４３ 絶縁層
４４ 第３のブリッジ接続層
５１ａ，５１ｂ 第３の絶縁層

Claims (6)

1. 透光性の基板に、透光性の導電材料で形成された第１の電極層と第２の電極層とが設けられ、複数の前記第１の電極層が第１の方向に並んで第１の電極列が形成され、複数の前記第２の電極層が第１の方向と交差する第２の方向に並んで第２の電極列が形成されている入力装置において、
   前記第１の電極列と前記第２の電極列との交差部では、前記第１の電極層と前記第２の電極層のいずれか一方の電極層どうしを連結する連結部が前記透光性の導電材料で一体に形成され、前記連結部の上に第１の絶縁層と第１のブリッジ接続層が重ねて形成されて、前記第１のブリッジ接続層によって他方の電極層どうしが導通されており、
   前記第１の電極列は第２の方向に列間隙部を空けて配置され、前記列間隙部内に、配線層と前記配線層の側方に位置するガード層とが第１の方向に延びて形成され、
   隣り合う前記第２の電極層の間に、前記第１の電極層と前記第２の電極層の双方と独立して導電材料で形成された中間層が設けられて、前記列間隙部内に延びるいずれかの前記配線層が前記中間層と導通され、前記中間層と前記第２の電極層との間を、その中間層とは導通されていない他の配線層と前記ガード層が通過しており、
   前記中間層とその両側に位置するそれぞれの前記第２の電極層との間に、第２の絶縁層と第２のブリッジ接続層とが重ねて形成されて、前記第２のブリッジ接続層が、前記配線層ならびに前記ガード層と絶縁され、前記第２のブリッジ接続層によって、前記中間層と、その両側に位置するそれぞれの前記第２の電極層とが接続されていることを特徴とする入力装置。
2. 前記配線層と前記ガード層が、前記第１の電極層および前記第２の電極層と同じ透光性の導電材料で形成されている請求項１記載の入力装置。
3. 前記ガード層は、前記配線層の両側に形成されており、前記中間層とその一方の側で隣り合う前記第２の電極層との間、および前記中間層とその他方の側で隣り合う前記第２の電極層との間のそれぞれを、前記ガード層が通過している請求項１または２記載の入力装置。
4. 前記第１の電極列と前記第２の電極列および前記配線層と前記ガード層が、前記基板の表面の同じ階層に形成されている請求項１ないし３のいずれかに記載の入力装置。
5. 前記中間層とその一方の側で隣り合う前記第２の電極層とを接続する前記第２のブリッジ接続層と、前記中間層とその他方の側で隣り合う前記第２の電極層とを接続する前記第２のブリッジ接続層とが、第１の方向に間隔を空けて形成されている請求項１ないし４のいずれかに記載の入力装置。
6. 前記第１の絶縁層と前記第２の絶縁層は同じ材料で同じ工程で形成され、前記第１のブリッジ接続層と前記第２のブリッジ接続層は、同じ材料で同じ工程で形成されている請求項１ないし５のいずれかに記載の入力装置。

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