JP6384372B2 - 湿式処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、湿式処理装置に関する。

半導体デバイスや液晶表示デバイス等の製造には、基板の表面に塗布された感光層に光パターンを露光する露光装置が用いられる。この露光装置において、解像度を向上するとともに、焦点深度を拡大するために、例えば、下記特許文献１に示すように、投影光学系と感光基板との間に満たした純水等の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が開示されている。この液浸露光装置においては、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージおよび基板ステージを逐次平面上で移動しながらマスクのパターンを投影光学系と液体を介して基板に転写するものである。

一方、下記特許文献２に示すように、長尺のフレキシブルなシート基板を長尺方向に搬送し、搬送されたシート基板に対してパターンを露光するロール・ツー・ロール方式の露光装置が知られている。このロール・ツー・ロール方式の露光装置においては、円筒状の回転ドラムにシート基板を巻き付けてシート基板を搬送するとともに、回転ドラムに巻き付けられたシート基板に対してパターンを描画露光している。

特開２０１４−１４００５９号公報 国際公開第２０１３／１４６１８４号パンフレット

ここで、ロール・ツー・ロール方式の露光装置においても、解像度や焦点深度を上げるために、液体を介して露光光で基板を露光することが考えられる。しかしながら、上記特許文献１では、平面状の基板に対して露光を行うのに対し、上記特許文献２では、回転ドラムの外周面に倣って湾曲したシート基板に対して露光を行うため、露光方式が全く異なる。したがって、上記特許文献１の液浸露光法を上記特許文献２の露光装置に適用する場合、湾曲したシート基板の表面と露光用光学系の先端光学素子との間に液体を良好に保持するために、液体を満たした容器中に回転ドラム全体を設置することも考えられるが、大量の液体を必要とし、効率よく露光を行うことができない。したがって、回転ドラム等の湾曲した表面に倣って支持されるシート基板の表面に、湿式処理のための液体を如何に効率的に接触させるかが課題となる。

本発明の第１の態様は、可撓性を有する長尺のシート基板の一部を、回転ドラムの円筒状の外周面に倣って前記長尺の方向に湾曲させて支持しつつ、前記シート基板の表面の被処理領域を液体に浸して処理する湿式処理装置であって、前記回転ドラムによって前記シート基板が湾曲して支持される領域に配置されて、前記シート基板上の前記被処理領域を含む特定範囲内で前記シート基板の表面が所定の厚みを保った前記液体に浸されるように、前記回転ドラムの外周面から所定の隙間を持って周方向に円筒面状、多角面状、または多面体状に湾曲した内面を有する液体保持部と、前記液体の前記特定範囲外への遺漏を防止するために、前記シート基板の表面または前記回転ドラムの外周面と前記液体保持部との間に設けられるシール部と、を備える。

本発明の第２の態様は、可撓性を有する長尺のシート基板の一部を処理液に浸しながら、前記シート基板を長尺の方向に搬送することにより、前記シート基板を連続的に湿式処理する湿式処理装置であって、中心軸から第１の半径で円筒面状に湾曲した外周面を有し、該外周面の周方向の一部で前記シート基板の一部を長尺方向に円筒状に湾曲させて支持しつつ、前記中心軸を中心に回転して前記シート基板を長尺の方向に搬送する回転ドラムと、前記回転ドラムの外周面で支持される前記シート基板の部分と対向して配置されて、前記中心軸から前記第１の半径よりも大きな第２の半径で円筒面状に湾曲した内側の円筒面と、該内側の円筒面を挟んで前記回転ドラムの外周面の周方向に離れた端部の各々に前記中心軸の方向に延びて配置される第１のシール部と、前記内側の円筒面を挟んで前記中心軸の方向の端部の各々に前記シート基板の曲率又は前記回転ドラムの外周面の曲率とほぼ同じ曲率で周方向に円弧状に湾曲して配置される第２のシール部とを有し、前記第１のシール部と前記第２のシール部によって遺漏を防止した状態で、前記シート基板の表面と前記内側の円筒面との間の隙間に前記処理液を満たす液体保持部と、を備える。

第１の実施の形態の基板に露光処理を施す露光装置を含むデバイス製造システムの概略構成を示す図である。 図１の露光ヘッドによって基板上で走査されるスポット光の走査ラインおよび基板上に形成されたアライメントマークを検出するアライメント顕微鏡を示す図である。 図１の液体保持部の構成を示す断面斜視図である。 図１の液体保持部の一部断面図である。 第２の実施の形態における露光装置の構成を示す図である。 図５の液体保持部の構成を示す断面図である。 第３の実施の形態における露光装置の構成を示す図である。 図７の液体保持部と回収パレット部の外観斜視図である。 図７の液体保持部を回転ドラム側（−Ｘ方向側）から見た外観斜視図である。 図７の液体保持部の一部断面図である。 図７の回収パレット部の外観斜視図である。 回転ドラムの周りに、第１の実施の形態で説明した液体保持部を複数設けた場合の一例を示す図である。 第４の実施の形態による液体保持部の構成の斜視断面図である。

本発明の態様に係る湿式処理装置および湿式処理方法について、好適な実施の形態を掲げ、添付の図面を参照しながら以下、詳細に説明する。なお、本発明の態様は、これらの実施の形態に限定されるものではなく、多様な変更または改良を加えたものも含まれる。つまり、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれ、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換または変更を行うことができる。

［第１の実施の形態］
図１は、第１の実施の形態の基板（被露光体）Ｐに露光処理を施す露光装置ＥＸを含むデバイス製造システム１０の概略構成を示す図である。なお、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、図に示す矢印にしたがって、Ｘ方向、Ｙ方向、およびＺ方向を説明する。

デバイス製造システム１０は、例えば、電子デバイスとしてのフレキシブル・ディスプレイを製造する製造ラインが構築された製造システムである。フレキシブル・ディスプレイとしては、例えば、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ等がある。デバイス製造システム１０は、フレキシブルのシート状の基板（シート基板）Ｐをロール状に巻いた図示しない供給ロールから基板Ｐが送出され、送出された基板Ｐに対して各種処理を連続的に施した後、各種処理後の基板Ｐを図示しない回収ロールで巻き取る、いわゆる、ロール・ツー・ロール（Ｒｏｌｌ Ｔｏ Ｒｏｌｌ）方式の構造を有する。そのため、各種処理後の基板Ｐは、複数の電子デバイスが連なった状態となっており、多面取り用の基板となっている。前記供給ロールから送られた基板Ｐは、順次、プロセス装置ＰＲ１、露光装置（描画装置）ＥＸ、および、プロセス装置ＰＲ２等で各種処理が施され、前記回収ロールで巻き取られる。この基板Ｐは、基板Ｐの移動方向が長手方向（長尺）となり、幅方向が短手方向（短尺）となる帯状の形状を有する。

なお、Ｘ方向は、水平面内において、プロセス装置ＰＲ１から露光装置ＥＸを経てプロセス装置ＰＲ２に向かう方向（搬送方向）である。Ｙ方向は、水平面内においてＸ方向に直交する方向であり、基板Ｐの幅方向である。Ｚ方向は、Ｘ方向とＹ方向とに直交する方向（上方向）である。なお、−Ｚ方向は、重力が働く方向とし、＋Ｚ方向は、重力が働く方向とは逆の方向とする。

基板Ｐは、例えば、樹脂フィルム、ステンレス鋼等の金属または合金からなる箔（フォイル）等が用いられる。樹脂フィルムの材質としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、および酢酸ビニル樹脂のうち、少なくとも１つ以上を含んだものを用いてもよい。また、基板Ｐの厚みや剛性（ヤング率）は、露光装置ＥＸの搬送路を通る際に、基板Ｐに座屈による折れ目や非可逆的なシワが生じないような範囲であればよい。基板Ｐの母材として、厚みが１０μｍ〜２００μｍ程度のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）やＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等のフィルムは、好適なシート基板の典型である。

基板Ｐは、プロセス装置ＰＲ１、露光装置ＥＸ、および、プロセス装置ＰＲ２等で施される各処理において熱を受ける場合があるため、熱膨張係数が顕著に大きくない材質の基板Ｐを選定することが好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合することによって熱膨張係数を抑えることができる。無機フィラーは、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、または、酸化ケイ素等でもよい。また、基板Ｐは、フロート法等で製造された厚さ１００μｍ程度の極薄ガラスの単層体であってもよいし、この極薄ガラスに上記の樹脂フィルム、箔等を貼り合わせた積層体であってもよい。

ところで、基板Ｐの可撓性とは、基板Ｐに自重程度の力を加えてもせん断したり破断したりすることはなく、その基板Ｐを撓めることが可能な性質をいう。また、自重程度の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、基板Ｐの材質、大きさ、厚さ、基板Ｐ上に成膜される層構造、温度、湿度等の環境等に応じて、可撓性の程度は変わる。いずれにしろ、本第１の実施の形態によるデバイス製造システム１０内の搬送路に設けられる各種の搬送用ローラ、回転ドラム等の搬送方向転換用の部材に基板Ｐを正しく巻き付けた場合に、座屈して折り目がついたり、破損（破れや割れが発生）したりせずに、基板Ｐを滑らかに搬送できれば、可撓性の範囲と言える。

プロセス装置ＰＲ１は、露光装置ＥＸで露光処理される基板Ｐに対して前工程の処理を行う。プロセス装置ＰＲ１は、前工程の処理を行った基板Ｐを露光装置ＥＸへ向けて送る。この前工程の処理により、露光装置ＥＸへ送られる基板Ｐは、その表面に感光性機能層（光感応層）が形成された基板（感光基板）Ｐとなっている。

この感光性機能層は、溶液として基板Ｐ上に塗布され、乾燥することによって層（膜）となる。感光性機能層の典型的なものはフォトレジストであるが、現像処理が不要な材料として、紫外線の照射を受けた部分の親撥液性が改質される感光性シランカップリング剤（ＳＡＭ）、或いは紫外線の照射を受けた部分にメッキ還元基が露呈する感光性還元剤等がある。感光性機能層として感光性シランカップリング剤を用いる場合は、基板Ｐ上の紫外線で露光された部分が撥液性から親液性に改質される。そのため、親液性となった部分の上に導電性インク（銀や銅等の導電性ナノ粒子を含有するインク）や半導体材料を含有した液体等を選択塗布することで、パターン層を形成することができる。感光性機能層として、感光性還元剤を用いる場合は、基板Ｐ上の紫外線で露光された部分にメッキ還元基が露呈する。そのため、露光後、基板Ｐを直ちにパラジウムイオン等を含むメッキ液中に一定時間浸漬することで、パラジウムによるパターン層が形成（析出）される。このようなメッキ処理はアディティブ（additive）なプロセスであるが、その他、サブトラクティブ(subtractive)なプロセスとしてのエッチング処理を前提にする場合、露光装置ＥＸへ送られる基板Ｐは、母材をＰＥＴやＰＥＮとし、その表面にアルミニウム（Ａｌ）や銅（Ｃｕ）等の金属性薄膜を全面または選択的に蒸着し、さらにその上にフォトレジスト層を積層したものであってもよい。

本第１の実施の形態においては、描画装置としての露光装置ＥＸは、マスクを用いない直描方式の露光装置、いわゆるラスタースキャン方式の露光装置であり、プロセス装置ＰＲ１から供給された基板Ｐに対して、ディスプレイ用の回路または配線等の所定のパターンを描画する。露光装置ＥＸは、基板Ｐを＋Ｘ方向に搬送しながら、露光用のレーザ光（露光ビーム）ＬＢのスポット光ＳＰを基板Ｐ上で所定の走査方向（Ｙ方向）に１次元の方向に走査しつつ、スポット光ＳＰの強度をパターンデータ（描画データ）に応じて高速に変調（ｏｎ／ｏｆｆ）することによって、基板Ｐの表面（感光面）に所定のパターンを描画露光している。つまり、基板Ｐの＋Ｘ方向への搬送と、スポット光ＳＰの走査方向への走査とで、スポット光ＳＰが基板Ｐ上で相対的に２次元走査されて、基板Ｐに所定のパターンが描画露光される。

プロセス装置ＰＲ２は、露光装置ＥＸで露光処理された基板Ｐに対しての後工程の処理（例えば、メッキ処理、現像・エッチング処理、洗浄、乾燥等）を行う。この後工程の処理により、基板Ｐ上に電子デバイスのパターン層が形成される。

次に、露光装置ＥＸについて詳しく説明する。露光装置ＥＸは、温調チャンバーＥＣＶ内に格納されている。この温調チャンバーＥＣＶは、内部を所定の温度に保つことで、内部において搬送される基板Ｐの温度による形状変化を抑制する。温調チャンバーＥＣＶは、パッシブまたはアクティブな防振ユニットＳＵ１、ＳＵ２を介して製造工場の設置面Ｅに配置される。防振ユニットＳＵ１、ＳＵ２は、設置面Ｅからの振動を低減する。この設置面Ｅは、設置土台上の面であってもよく、床であってもよい。露光装置ＥＸは、基板搬送機構１２、光源装置（パルス光源装置）１４、光導入光学系１６、露光ヘッド１８、制御装置２０、および、アライメント顕微鏡ＡＭ（ＡＭ１〜ＡＭ３）を備えている。

基板搬送機構１２は、プロセス装置ＰＲ１から搬送される基板Ｐを、プロセス装置ＰＲ２に所定の速度で搬送する。基板搬送機構１２は、基板Ｐの搬送方向の上流側（−Ｘ方向側）から順に、駆動ローラＮＲ１、エッジポジションコントローラＥＰＣ、案内ローラＲ１、テンション調整ローラＲＴ１、回転ドラム（円筒ドラム）ＤＲ、テンション調整ローラＲＴ２、および、案内ローラＲ２を有している。

駆動ローラＮＲ１は、プロセス装置ＰＲ１から搬送される基板ＰをエッジポジションコントローラＥＰＣに搬送する。エッジポジションコントローラＥＰＣは、搬送されてきた基板Ｐの幅方向（Ｙ方向であって基板Ｐの短尺方向）における位置を調整する。つまり、エッジポジションコントローラＥＰＣは、所定のテンションが掛けられた状態で搬送されている基板Ｐの幅方向の端部（エッジ）における位置が、目標位置に対して±十数μｍ〜数十μｍ程度の範囲（許容範囲）に収まるように、搬送ローラや基板Ｐの供給ロールをＹ方向にシフトさせることで基板Ｐを幅方向に移動させて、基板Ｐの幅方向における位置を調整する。エッジポジションコントローラＥＰＣは、基板Ｐの幅方向の端部（エッジ）の位置を検出する図示しないエッジセンサを有する。エッジポジションコントローラＥＰＣは、駆動ローラＮＲ２を有し、駆動ローラＮＲ１、ＮＲ２は、基板Ｐに弛み（あそび）を与えている。駆動ローラＮＲ１、ＮＲ２は、基板Ｐの表裏両面を挟持しながら回転し、基板Ｐを回転ドラムＤＲ側に向けて搬送する。エッジポジションコントローラＥＰＣから搬出された基板Ｐは、案内ローラＲ１、テンション調整ローラＲＴ１の順に長尺方向に沿って掛け渡された後、回転ドラムＤＲに搬送される。この駆動ローラＮＲ１、ＮＲ２は、制御装置２０の制御にしたがって回転する。

回転ドラムＤＲは、Ｙ方向（基板Ｐの幅方向）に延びる中心軸（回転軸）ＡＸと、中心軸ＡＸから一定半径の円筒状の外周面とを有し、外周面（円筒面）に倣って基板Ｐの一部を長尺方向に湾曲させて支持しつつ、中心軸ＡＸを中心に回転して基板Ｐを＋Ｘ方向に搬送する。これにより、回転ドラムＤＲは、基板Ｐを露光ヘッド１８に対してスポット光ＳＰの走査方向（Ｙ方向）とは直交した＋Ｘ方向に相対移動させることができる。回転ドラムＤＲは、＋Ｚ方向側で前記外周面の約半周面に亘って基板Ｐを支持する。回転ドラムＤＲは、基板Ｐ上で所定のパターンが露光される領域（部分）、および、アライメント顕微鏡ＡＭ（ＡＭ１〜ＡＭ３）によって撮像される基板Ｐ上の領域（部分）をその円周面で支持する。この中心軸ＡＸには、制御装置２０によって制御されて駆動する図示しない回転駆動源（例えば、モータや減速機構等）からの回転トルクが与えられる。なお、便宜的に、中心軸ＡＸを通り、Ｚ方向と平行な面を中心面Ｃと呼ぶ。

回転ドラムＤＲから搬出された基板Ｐは、テンション調整ローラＲＴ２、案内ローラＲ２の順に長尺方向に沿って掛け渡された後、プロセス装置ＰＲ２に送られる。テンション調整ローラＲＴ１、ＲＴ２は、回転ドラムＤＲに巻き付けられて支持されている基板Ｐに、所定のテンションを与えている。このテンション調整ローラＲＴ１、ＲＴ２は、−Ｚ方向に付勢されている。

光源装置１４は、光源（パルス光源）１４ａを有し、パルス状のレーザ光（パルス光）ＬＢを射出するものである。このレーザ光ＬＢは、３７０ｎｍ以下の波長帯域にピーク波長を有する紫外線光であり、レーザ光ＬＢの発振周波数をＦｅ（Ｈｚ）とする。この発振周波数Ｆｅは、スポット光ＳＰの基板Ｐ上での実効的なサイズＤｓ（μｍ）と走査速度Ｖｓ（μｍ／秒）により、Ｆｅ＞Ｖｓ／Ｄｓとなるように設定され、好ましくはＦｅ≧２Ｖｓ／Ｄｓ（Ｈｚ）となるように設定される。さらに、１パルス光の実効的な発光時間Ｔｓ（秒）が、Ｔｓ＜１／２Ｆｅとなるようなパルス光源、例えば波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍ程度の半導体レーザを周波数Ｆｅでパルス発振させて得られるパルス光を種光（シード光）として、光ファイバーアンプで増幅した後、波長変換素子（高調波変換素子）によって波長３７０ｎｍ以下で発光時間が数十ピコ秒〜数ピコ秒のパルス光をレーザ光ＬＢとして出力するファイバーレーザ光源としてもよい。光源装置１４が射出したレーザ光ＬＢは、光導入光学系１６に導かれて露光ヘッド１８に入射する。

露光ヘッド１８は、レーザ光ＬＢがそれぞれ入射する複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）を備え、回転ドラムＤＲの上方（＋Ｚ方向）に設けられている。光源装置１４からのレーザ光ＬＢは、反射ミラーやビームスプリッタ等を有する光導入光学系１６に導かれて露光ヘッド１８の複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）に入射する。露光ヘッド１８は、回転ドラムＤＲの円周面で支持されている基板Ｐの一部分に、複数の描画ユニットＵ１〜Ｕ６によって、所定のパターンを描画する。露光ヘッド１８は、構成が同一の複数の描画ユニットＵ１〜Ｕ６を有することで、いわゆるマルチビーム型の露光ヘッドとなっている。奇数番の描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５は、中心面Ｃに対して基板Ｐの搬送方向の上流側（−Ｘ方向側）に配置され、偶数番の描画ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６は、中心面Ｃに対して基板Ｐの搬送方向の下流側（＋Ｘ方向側）に配置されている。これにより、最初に奇数番の描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５によって描画露光が行われ、その後、偶数番の描画ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６によって描画露光が行われる。なお、描画ユニットＵの数を６つとしたが、描画ユニットＵの数は、１つであってもよいし、３つであってもよく、その数は任意に変更可能である。

描画ユニットＵは、入射したレーザ光ＬＢを基板Ｐ上で収斂させてスポット光ＳＰにし、且つ、そのスポット光ＳＰを、基板Ｐの表面に設定された所定の走査ライン（描画ライン、描画領域）Ｌに沿って走査させつつ、パターンデータに応じて基板Ｐ上に照射されるスポット光ＳＰの強度をオン（高レベル）／オフ（低レベルまたは０レベル）に変調させる。これにより、走査ラインＬ内に線状のパターンが描画される。このスポット光ＳＰの走査は、例えば、制御装置２０の制御にしたがって回転するポリゴンミラーによって行われ、スポット光ＳＰの強度変調は、例えば、制御装置２０の制御にしたがって光路を切り換える音響光学素子（ＡＯＭ）によって行われる。また、基板Ｐは、＋Ｘ方向に搬送されているので、スポット光ＳＰの走査を複数回行うことで、２次元のパターンを基板Ｐに描画露光することができる。各描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）から基板Ｐに照射されるスポット光ＳＰの進行方向は、ＸＺ平面において、回転ドラムＤＲの中心軸ＡＸに向かって直線状に進む方向となっている。各描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）は、各描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の終端光学素子の射出面２２から中心軸ＡＸまでの長さが同一の距離となるように設定されている。なお、射出面２２とは、レーザ光ＬＢが射出する終端光学素子の面のことをいう。

各描画ユニットＵの走査ラインＬは、図２に示すように、Ｙ方向（基板Ｐの幅方向、走査方向）に関して互いに分離することなく、繋ぎ合わされるように設定されている。図２では、描画ユニットＵ１の走査ラインＬをＬ１、描画ユニットＵ２の走査ラインＬをＬ２で表している。同様に、描画ユニットＵ３、Ｕ４、Ｕ５、Ｕ６の走査ラインＬをＬ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６で表している。このように、描画ユニットＵ１〜Ｕ６全部で、基板Ｐの表面に設定された露光領域Ｗの幅方向の全てをカバーするように、各描画ユニットＵは走査領域を分担している。なお、例えば、１つの描画ユニットＵによるＹ方向の走査幅（走査ラインＬの長さ）を２０〜５０ｍｍ程度とすると、奇数番の描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５の３個と、偶数番の描画ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６の３個との計６個の描画ユニットＵをＹ方向に配置することによって、描画可能なＹ方向の幅を１２０〜３００ｍｍ程度に広げている。この走査ラインＬの幅（周方向）は、スポット光ＳＰのサイズＤｓ（μｍ）に応じた太さとなる。例えば、スポット光ＳＰのサイズＤｓ（直径）が、最大光強度値（ピーク値）に対して半値となる幅、または１／ｅ²のレベルとなる幅で３μｍの場合は、走査ラインＬの周方向の幅も３μｍとなる。

奇数番の走査ラインＬ１、Ｌ３、Ｌ５の各々に沿って走査されるレーザ光ＬＢのスポット光ＳＰの走査方向は、一次元の方向となっており、同じ方向となっている。偶数番の走査ラインＬ２、Ｌ４、Ｌ６の各々に沿って走査されるレーザ光ＬＢのスポット光ＳＰの走査方向は、一次元の方向となっており、同じ方向となっている。この走査ラインＬ１、Ｌ３、Ｌ５に沿って走査されるレーザ光ＬＢのスポット光ＳＰの走査方向と、走査ラインＬ２、Ｌ４、Ｌ６に沿って走査されるレーザ光ＬＢのスポット光ＳＰの走査方向とは互いに逆方向となっている。詳しくは、この走査ラインＬ１、Ｌ３、Ｌ５に沿って走査されるレーザ光ＬＢのスポット光ＳＰの走査方向は＋Ｙ方向であり、走査ラインＬ２、Ｌ４、Ｌ６に沿って走査されるレーザ光ＬＢのスポット光ＳＰの走査方向は−Ｙ方向である。これにより、走査ラインＬ３、Ｌ５の描画開始位置と、走査ラインＬ２、Ｌ４の描画開始位置とはＹ方向に関して隣接する。また、走査ラインＬ１、Ｌ３、Ｌ５の描画終了位置と、走査ラインＬ２、Ｌ４、Ｌ６の描画終了位置とはＹ方向に関して隣接する。走査ラインＬ１〜Ｌ６の長さ、つまり、描画ユニットＵ１〜Ｕ６のスポット光ＳＰの走査距離の長さは、同一とする。

この描画ユニットＵは、国際公開第２０１３／１４６１８４号パンフレット（図３６参照）に開示されているように公知技術であるので、その具体的な構成の説明を割愛する。なお、描画ユニットＵは、マスクを用いてパターンを描画するものであってもよい。その場合、マスクは、透過型と反射型のいずれでもよく、さらに平面状と円筒状のいずれであってもよい。さらにマスクは、母材となる平面状の基板（または円筒状の版胴）上にパターンを固定的に形成したもの以外に、一定ピッチで２次元配列される多数のマイクロミラー（ＤＭＤ；デジタルマイクロミラーデバイス）やマイクロシャッター（ＬＣＤ、ＭＥＭＳ）の各々を制御して、基板Ｐ上に描画されるパターンを動的に変化させるものであってもよい。マイクロシャッターとしては、例えば、特開平６−１２０１０９号公報に開示されたものが利用可能である。

アライメント顕微鏡ＡＭ（ＡＭ１〜ＡＭ３）は、図２に示すように、基板Ｐ上に形成されたアライメントマークＫｓ（Ｋｓ１〜Ｋｓ３）を検出するためのものであり、Ｙ方向に沿って３つ設けられている。このアライメント顕微鏡ＡＭ（ＡＭ１〜ＡＭ３）の基板Ｐ上の検出領域Ｖｗ（Ｖｗ１〜Ｖｗ３）は、回転ドラムＤＲの円周面上にある。このアライメントマークＫｓは、基板Ｐ上の露光領域Ｗに描画されるパターンと基板Ｐとを相対的に位置合わせする（アライメントする）ための基準マークである。つまり、アライメントマークＫｓ（Ｋｓ１〜Ｋｓ３）を検出することで基板Ｐの位置を検出することができる。このアライメントマークＫｓは、図２に示すように、基板Ｐの幅方向の両端側に、基板Ｐの長尺方向に沿って一定間隔で形成されているとともに、基板Ｐの長尺方向に沿って並んだ矩形状の露光領域Ｗと露光領域Ｗとの間で、且つ、基板Ｐの幅方向中央にも形成されている。なお、露光ヘッド１８は、基板Ｐに対して電子デバイス用のパターン露光を繰り返し行うことから、基板Ｐの長尺方向に沿って所定の間隔をあけて露光領域Ｗが複数設けられている。

アライメント顕微鏡ＡＭ（ＡＭ１〜ＡＭ３）は、アライメント用の照明光を基板Ｐに投影して、ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の撮像素子でその反射光を撮像する。基板位置検出部としてのアライメント顕微鏡ＡＭ（ＡＭ１〜ＡＭ３）は、露光ヘッド１８から照射されるスポット光ＳＰよりも基板Ｐの搬送方向の上流側（−Ｘ方向側）に設けられている。アライメント顕微鏡ＡＭ１は、検出領域（検出視野）Ｖｗ１内に存在する基板Ｐの＋Ｙ方向側の端部に形成されたアライメントマークＫｓ１を撮像し、アライメント顕微鏡ＡＭ２は、検出領域Ｖｗ２内に存在する基板Ｐの−Ｙ方向側の端部に形成されたアライメントマークＫｓ２を撮像する。アライメント顕微鏡ＡＭ３は、検出領域Ｖｗ３内に存在する基板Ｐの幅方向中央に形成されたアライメントマークＫｓ３を撮像する。アライメント顕微鏡ＡＭ（ＡＭ１〜ＡＭ３）が撮像した撮像信号は、制御装置２０に送られる。制御装置２０は、送られてきた撮像信号（画像データ）に基づいて画像認識処理を行うことで、アライメントマークＫｓ（Ｋｓ１〜Ｋｓ３）の位置を検出する。なお、アライメント用の照明光は、基板Ｐ上の感光性機能層に対してほとんど感度を持たない波長域の光、例えば、波長５００〜８００ｎｍ程度の光である。また、検出領域Ｖｗ（Ｖｗ１〜Ｖｗ３）の基板Ｐ上の大きさは、アライメントマークＫｓ（Ｋｓ１〜Ｋｓ３）の大きさやアライメント精度（位置計測精度）に応じて設定されるが、１００〜５００μｍ角程度の大きさである。

回転ドラムＤＲの両端部には、スケール部ＥＳ１、ＥＳ２が設けられている。スケール部ＥＳ１は、回転ドラムＤＲの＋Ｙ方向の端部側に設けられ、スケール部ＥＳ２は、回転ドラムＤＲの−Ｙ方向の端部側に設けられている。スケール部ＥＳ１、ＥＳ２は、回転ドラムＤＲの外周面の周方向に沿って一定のピッチ（例えば、２０μｍ）で凹状または凸状の格子線を刻設した回折格子であり、インクリメンタル型スケールとして構成される。このスケール部ＥＳ１、ＥＳ２は、中心軸ＡＸ周りに回転ドラムＤＲと一体に回転する。

回転ドラムＤＲの回転位置を光学的に検出する図示しないエンコーダヘッドがスケール部ＥＳ１、ＥＳ２と対向するように配置されている。このエンコーダヘッドは、スケール部ＥＳ１、ＥＳ２に向けて計測用の光ビームを照射し、その反射光速（回折光）を光電検出することにより、スケール部ＥＳ１、ＥＳ２の周方向の回転位置に応じた検出信号を制御装置２０に出力する。これにより、エンコーダヘッドは、回転ドラムＤＲの回転角度（回転位置）を検出することができる。

基板Ｐは、回転ドラムＤＲの両端のスケール部ＥＳ１、ＥＳ２より内側に巻き付けられ、スケール部ＥＳ１、ＥＳ２の外周面と、回転ドラムＤＲに巻き付けられた基板Ｐの外周面とが同一面（中心軸ＡＸから同一半径）となるように設定されている。これにより、エンコーダヘッドは、回転ドラムＤＲに巻き付いた基板Ｐ上の描画面と同じ径方向位置でスケール部ＥＳ１、ＥＳ２を検出することができ、計測位置と処理位置（スポット光ＳＰの走査位置等）とが回転ドラムＤＲの径方向に異なることで生じるアッベ誤差を小さくすることができる。

露光装置ＥＸは、図１に示すように、回転ドラムＤＲの上方の約半周面に巻き付けられた基板Ｐに対して液中露光を行うために、回転ドラムＤＲの上側で液体ＬＱを保持する液体保持部ＬＱＰを備える。この液体保持部ＬＱＰは、回転ドラムＤＲの上方（＋Ｚ方向）に設けられており、回転ドラムＤＲによって支持される基板Ｐの一部の表面が第１の液体ＬＱ１に浸るように第１の液体ＬＱ１を保持する。液体保持部ＬＱＰは、少なくとも複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）によって描画される領域（描画領域）の基板Ｐの表面を第１の液体ＬＱ１に浸す。なお、回転ドラムＤＲとテンション調整ローラＲＴ２との間には、乾燥用のエアーを基板Ｐに吹き付けることで基板Ｐに付着した液体ＬＱを除去して乾燥させるための乾燥ユニット２４が設けられている。

図３は、液体保持部ＬＱＰの構成を示す断面斜視図である。基板Ｐは、回転ドラムＤＲの＋Ｚ方向側（上側）の外周面の約半周面に亘って密着して支持されつつ、回転ドラムＤＲの回転によって＋Ｘ方向に搬送される。この液体保持部ＬＱＰは、底部に設けられた静圧気体軸受け（エアベアリング）方式またはベルヌイチャック方式のシール部ＳＥＰによって、基板Ｐの上方で支持される。なお、シール部ＳＥＰによって液体保持部ＬＱＰを基板Ｐの上方で支持したが、液体保持部ＬＱＰと回転ドラムＤＲとの３次元的な位置関係を精度よく保つための図示しない支持機構によって液体保持部ＬＱＰを基板Ｐ（回転ドラムＤＲ）の上方で支持してもよい。

液体保持部ＬＱＰの底部には、回転ドラムＤＲによって支持されて円筒状に湾曲した基板Ｐの表面（または回転ドラムＤＲの外周面）に対して一定の隙間（ギャップ）ＷＳ１が形成されるように円筒面ＣＵ１が設けられている。したがって、円筒状に湾曲した基板Ｐの曲率半径（回転ドラムＤＲの外周面の曲率半径）に対して、円筒面（液体保持部ＬＱＰの底面）ＣＵ１の曲率半径は、隙間ＷＳ１分だけ大きく設定される。この円筒面ＣＵ１が形成された範囲（特定範囲）は、複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）によってスポット光ＳＰが走査される基板Ｐ上の走査領域（走査ラインＬ１〜Ｌ６）を全て覆うように設定されている。つまり、回転ドラムＤＲの外周面に沿った円筒面ＣＵ１の範囲（特定範囲）内に、複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）によってスポット光ＳＰが走査される走査ラインＬ（描画領域）が含まれている。

液体保持部ＬＱＰは、円筒面ＣＵ１と基板Ｐとの隙間ＷＳ１で第１の液体ＬＱ１を保持する。これにより、第１の液体ＬＱ１は、円筒面ＣＵ１が形成された範囲（特定範囲）で保持されるので、この特定範囲内で基板Ｐの表面が第１の液体ＬＱ１に浸される。したがって、走査ラインＬ（Ｌ１〜Ｌ６）に沿ってスポット光ＳＰが走査される基板Ｐ上の表面は第１の液体ＬＱ１に浸された状態となる。また、第１の液体ＬＱ１は、円筒面ＣＵ１と基板Ｐとの隙間ＷＳ１で保持されるので、液体保持部ＬＱＰは、円筒状に湾曲した基板Ｐの表面（または回転ドラムＤＲの外周面）から径方向に所定の厚み（一定）となるように第１の液体ＬＱ１を保持することができる。これにより、回転ドラムＤＲの回転方向に沿って描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５と描画ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６とを設けた場合であっても、描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５から射出されたレーザ光ＬＢが第１の液体ＬＱ１を通る距離と、描画ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６から射出されたレーザ光ＬＢが第１の液体ＬＱ１を通る距離とを等しくすることができ、パターンの描画精度を向上（一様に安定）させることができる。隙間ＷＳ１は、基板Ｐの表面や円筒面ＣＵ１の親撥液性、保持する第１の液体ＬＱ１の種類、濃度、粘性等によって異なるが、例えば、数１０μｍ〜数ｍｍの範囲に設定される。第１の液体ＬＱ１が水性か油性（有機溶剤系）かによって異なるが、第１の液体ＬＱ１が水性の場合、隙間ＷＳ１が１ｍｍ以下になると、第１の液体ＬＱ１は重力の作用を受けても毛細管現象（或いは表面張力）によってその微小な隙間ＷＳ１内に留まろうとする。そのため、隙間ＷＳ１を微小にした場合は、隙間ＷＳ１内に満たされる第１の液体ＬＱ１を所定の状態で流すための調節（制御）が容易になるといった利点もある。

また、シール部ＳＥＰは、液体保持部ＬＱＰが第１の液体ＬＱ１を保持する領域、つまり、円筒面ＣＵ１が形成された特定範囲を囲むように液体保持部ＬＱＰの底部に設けられている。このシール部ＳＥＰによって、保持された第１の液体ＬＱ１が液体保持部ＬＱＰから漏れないようにシールすることができる。つまり、シール部ＳＥＰは、特定範囲外への第１の液体ＬＱ１の遺漏を防止する。詳しく説明すると、液体保持部ＬＱＰの回転ドラムＤＲの周方向の両端部においては、シール部ＳＥＰは、Ｙ方向に延びるように液体保持部ＬＱＰの底部に設けられている。また、図示していないが、液体保持部ＬＱＰのＹ方向の両端部においては、シール部ＳＥＰは、円筒状に湾曲した基板Ｐ（回転ドラムＤＲの外周面）の曲率と同じ曲率で周方向に円弧状となるように液体保持部ＬＱＰの底部に設けられている。

液体保持部ＬＱＰには、露光ヘッド１８の複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の終端光学素子の射出面２２から射出されるレーザ光ＬＢが基板Ｐ上に照射されるように形成された複数の開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）が設けられている。つまり、描画ユニットＵ６から射出されたレーザ光ＬＢは、開口部ＡＨ６を通って基板Ｐに到達し、描画ユニットＵ５から射出されたレーザ光ＬＢは、開口部ＡＨ５を通って基板Ｐに到達する。同様に、描画ユニットＵ１〜Ｕ４から射出されたレーザ光ＬＢは、開口部ＡＨ１〜ＡＨ４を通って基板Ｐに到達する。なお、図３においては、開口部ＡＨ５、ＡＨ６のみが図示されている。複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）は、中心面Ｃ（中心軸ＡＸ）に対して基板Ｐの搬送方向の上流側（−Ｘ方向側）と下流側（＋Ｘ方向側）とで２列に千鳥配列で配置されているので、それに対応して開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）も、中心面Ｃ（中心軸ＡＸ）に対して基板Ｐの搬送方向の上流側（−Ｘ方向側）と下流側（＋Ｘ方向側）とで２列に千鳥配列で配置されている。

開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）は、液体保持部ＬＱＰを貫通するように形成されており、円筒面ＣＵ１側には、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）の開口を塞ぐための透明材料で形成されたシール板ＧＳ（ＧＳ１〜ＧＳ６）が設けられている。シール板ＧＳ６は、開口部ＡＨ６の開口を塞ぎ、シール板ＧＳ５は、開口部ＡＨ５の開口を塞ぐ。同様に、図示しないがシール板ＧＳ１〜ＧＳ４は、開口部ＡＨ１〜ＡＨ４の開口を塞ぐ。なお、このシール板ＧＳは、全ての開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）の開口を塞ぐ一枚の板であってもよい。シール板ＧＳ（ＧＳ１〜ＧＳ６）の底面（下面）は、円筒面（曲面）ＣＵ１を構成する。つまり、シール板ＧＳの回転ドラムＤＲと対向する面が、円筒面ＣＵ１と揃った面（フラッシュサーフェス）となるように、シール板ＧＳをその厚さ分だけ円筒面ＣＵ１に埋め込まれている。なお、単にシール板ＧＳを埋め込まずに、開口部ＡＨを塞ぐように円筒面ＣＵ１上に配置してもよい。このシール板ＧＳは、描画ユニットＵから射出したレーザ光ＬＢを透過させるとともに、隙間ＷＳ１に保持された第１の液体ＬＱ１が開口部ＡＨに浸入しないようにシールする。シール板ＧＳは、露光用の紫外線（レーザ光ＬＢ）の波長域において、９０％以上の透過率を有し、厚みが１００〜５０μｍ程度で湾曲可能な最小曲率半径が１０ｃｍ程度のものであってもよい。シール板ＧＳは、例えば、円筒面ＣＵ１の曲率以下まで湾曲可能な薄いガラス板であってもよい。

開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）には、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の先端部分（終端光学素子を含む）Ｕａが上方から下方に向かって挿入されてもよい。このとき、シール板ＧＳ（ＧＳ１〜ＧＳ６）と接触しないように先端部分Ｕａは開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）に挿入される。また、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）は、第２の液体ＬＱ２を保持してもよい。具体的には、第２の液体ＬＱ２は、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）とシール板ＧＳとで保持される。この場合は、第１の液体ＬＱ１と第２の液体ＬＱ２とはシール板ＧＳによって仕切られている。描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の先端部分Ｕａが開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）に挿入される場合は、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）は、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の終端光学素子の射出面２２が第２の液体ＬＱ２に浸るように第２の液体ＬＱ２を保持してもよい。これにより、終端光学素子から射出されるレーザ光ＬＢは、空気中を通らずに、第２の液体ＬＱ２、シール板ＧＳ、および、第１の液体ＬＱ１を通って基板Ｐに到達するので、液体ＬＱ１、ＬＱ２を脱気した超純水等にした場合、解像度の向上（スポット光ＳＰのサイズ微細化）や、焦点深度を拡大することができる、といった利点がある。

回転ドラムＤＲの周方向に沿って（基板Ｐの搬送方向に沿って）、液体保持部ＬＱＰの開口部ＡＨ１、ＡＨ３、ＡＨ５と開口部ＡＨ２、ＡＨ４、ＡＨ６との間には、隙間ＷＳ１に第１の液体ＬＱ１を供給するポートとしての液体供給部ＳＵＰが設けられている。この液体供給部ＳＵＰは、液体保持部ＬＱＰの上部に設けられ、液体保持部ＬＱＰによって保持される第１の液体ＬＱ１を所定の流量で供給する。この液体供給部ＳＵＰは、ＸＹ平面において回転ドラムＤＲの中心軸ＡＸ上、つまり、中心面Ｃ上に設けられている。これにより、回転ドラムＤＲの最も上方の位置から第１の液体ＬＱ１を供給することができる。この液体供給部ＳＵＰは、Ｙ方向に沿って複数設けられている。なお、液体供給部ＳＵＰは、第１の液体ＬＱ１を出力するポンプ等の図示しない液体供給装置に接続されている。

液体保持部ＬＱＰの回転ドラムＤＲの周方向の両端部には、隙間ＷＳ１に存在する第１の液体ＬＱ１、つまり、液体保持部ＬＱＰによって保持されている第１の液体ＬＱ１を回収するポートとして液体回収部ＤＲＰが設けられている。この液体回収部ＤＲＰは、Ｙ方向に沿って複数設けられている。円筒面ＣＵ１には、回転ドラムＤＲの周方向の両端部側であって、シール部ＳＥＰに隣接する位置に、Ｙ方向に延びた溝部ＤＲＣが設けられている。この溝部ＤＲＣには、液体回収部ＤＲＰが接続されている。なお、基板Ｐの搬送方向側（＋Ｘ方向側）の溝部ＤＲＣをＤＲＣ１とし、基板Ｐの搬送方向とは逆方向側（−Ｘ方向側）の溝部ＤＲＣをＤＲＣ２とする。なお、液体回収部ＤＲＰは、第１の液体ＬＱ１を吸引する図示しない液体吸引装置に接続されている。

液体供給部ＳＵＰによって、回転ドラムＤＲの最上位の位置から隙間ＷＳ１に供給された第１の液体ＬＱ１は、重力にしたがって回転ドラムＤＲの回転方向（＋Ｘ方向）に沿って隙間ＷＳ１内を流れるとともに、回転ドラムＤＲの回転方向とは逆方向（−Ｘ方向）に沿って隙間ＷＳ１内を流れる。回転ドラムＤＲの回転方向に沿って流れた第１の液体ＬＱ１は、開口部ＡＨ２、ＡＨ４、ＡＨ６（シール板ＧＳ２、ＧＳ４、ＧＳ６）の下方を通って溝部ＤＲＣ１に到達し、回転ドラムＤＲの回転方向とは逆方向に沿って流れた第１の液体ＬＱ１は、開口部ＡＨ１、ＡＨ３、ＡＨ５（シール板ＧＳ１、ＧＳ３、ＧＳ５）の下方を通って溝部ＤＲＣ２に到達する。溝部ＤＲＣ１、ＤＲＣ２に到達した第１の液体ＬＱ１は、液体回収部ＤＲＰによって液体保持部ＬＱＰの外部に所定の流量で放出される。

このような構成を有することで、液体供給部ＳＵＰから供給される第１の液体ＬＱ１、および、液体回収部ＤＲＰによって回収される第１の液体ＬＱ１の流量、タイミング、インターバル等を制御することで、シール部ＳＥＰで囲まれた隙間ＷＳ１内を第１の液体ＬＱ１で満たした状態を作ることができ、また、所定の流れを作ることもできる。また、シール板ＧＳによって第１の液体ＬＱ１と第２の液体ＬＱ２とが仕切られているので、第１の液体ＬＱ１の流れが第２の液体ＬＱ２に影響を与えることがなく、第１の液体ＬＱ１の流れによって描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の終端光学素子の位置がずれたり振動したりすることを防止することができる。同様に、何らかの理由によって発生した第２の液体ＬＱ２の流動が第１の液体ＬＱ１に与える影響を防止することもできる。

なお、液体回収部ＤＲＰを介して回収される第１の液体ＬＱ１は、その濃度が変化したり、不純成分（ゴミ等）が混入している可能性があるため、不純物の除去と濃度回復を行う液体再生（リフレッシュ）処理部に送られる。再生処理部で所定の状態にリフレッシュされた第１の液体ＬＱ１は、再び液体供給部ＳＵＰに送られる。このような循環系を設けることによって、廃液として処理される液体を少なくすることができる。

図４は、液体保持部ＬＱＰの一部断面図である。シール部ＳＥＰは、基板Ｐの表面と対向する面（パッド面、パッド部）ＣＵ２と、面ＣＵ２と基板Ｐとの間に静圧気体層（気体層）を生成するための気体を供給する気体供給部ＡＲＢとを有する。シール部ＳＥＰの内側の端部ＥＧは、ナイフエッジのように鋭利なフィン状に形成される。シール部ＳＥＰの面（円筒面）ＣＵ２と基板Ｐとは、一定の隙間（ギャップ）ＷＳ２を有する。つまり、シール部ＳＥＰの面（曲面）ＣＵ２の曲率は、円筒状に湾曲した基板Ｐの曲率（回転ドラムＤＲの外周面の曲率）と同一となる。隙間ＷＳ２は、隙間ＷＳ１に比べ極めて小さく、例えば、数μｍ〜十数μｍ程度に設定されている。したがって、気体供給部ＡＲＢが隙間ＷＳ２に気体を供給することで、隙間ＷＳ２内では気体の圧力が高くなり、端部ＥＧ側から隙間ＷＳ２への第１の液体ＬＱ１の浸入が防止される。これにより、シール部ＳＥＰは、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式によって、第１の液体ＬＱ１が液体保持部ＬＱＰから漏れることを防止することができ、且つ、回転ドラムＤＲ上で液体保持部ＬＱＰを支持することができる。また、基板Ｐの搬送速度は、５〜１０ｍｍ／秒、早くても数十ｍｍ／ｓｅｃであるため、基板Ｐの表面の濡れ性が上がった場合（撥液性が低下した場合）であっても、シール部ＳＥＰの面ＣＵ２を第１の液体ＬＱ１に対して高い撥液性にしておけば、第１の液体ＬＱ１の隙間ＷＳ２への浸入を抑えることができる。これにより、シール部ＳＥＰによって第１の液体ＬＱ１を隙間ＷＳ１内に補足し続けることができる。なお、気体供給部ＡＲＢは、気体（例えば、圧縮気体）を出力するポンプ等の図示しない気体供給装置に接続されている。また、シール部ＳＥＰは、静圧気体層を生成することで、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式によって第１の液体ＬＱ１が漏れることを防止したが、シール部ＳＥＰは、磁性流体シールであってもよい。

基板Ｐの表面の第１の液体ＬＱ１に対する撥液性の程度は、基板Ｐの表面に形成された被膜層によっても異なる。感光性の被膜層（感光性機能層）として典型的なフォトレジストを使い、第１の液体ＬＱ１として純水を使う場合は、液体保持部ＬＱＰの底部で基板Ｐの表面と対向する円筒面ＣＵ１や溝部ＤＲＣ１、ＤＲＣ２内の表面を、水との親液性が高い金属面（例えば、チタン）等にするとよい。併せて、シール板ＧＳの第１の液体ＬＱ１との接触面側も親液性となるように表面加工しておくのがよい。

ここで、感光性の被膜層としてフォトレジストを使用する場合は、隙間ＷＳ１には第１の液体ＬＱ１として純水（電解処理と脱気処理とが施された純水、以下同様）が保持されるとともに、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）によって第２の液体ＬＱ２として純水が保持されるようにしてもよい。この場合は、少なくとも描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の終端光学素子の射出面２２は第２の液体ＬＱ２に浸されている。これにより、基板Ｐに照射するスポット光ＳＰのＮＡ（開口数）が高くなることで解像度が向上するとともに、焦点深度が拡大する。感光性の被膜層として、高ＮＡで集光した紫外線が照射された部分が除去される被膜層を用いた場合も同様に、液体保持部ＬＱＰが純水の第１および第２の液体ＬＱ１、ＬＱ２を保持することで、レーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）が照射された部分を除去することができる。この場合は、液体保持部ＬＱＰが保持している第１の液体ＬＱ１は液体供給部ＳＵＰから供給されて液体回収部ＤＲＰによって回収されているので、レーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）の照射によって除去された被膜層の除去物を液体回収部ＤＲＰによって回収することができる。したがって、液体保持部ＬＱＰが保持する第１の液体ＬＱ１を綺麗な状態に保つことができる。なお、解像度を向上し、焦点深度の拡大を図るために保持する第１および第２の液体ＬＱ１、ＬＱ２の露光光（レーザ光ＬＢ）の波長における屈折率およびシール板ＧＳ（ＧＳ１〜ＧＳ６）の屈折率は、描画ユニットＵの終端光学素子の屈折率と同一または一定の許容範囲内（例えば±２０％以内）に揃っている必要がある。

感光性の被膜層としてポジ型のフォトレジストを使用する場合は、隙間ＷＳ１には第１の液体ＬＱ１として現像液が保持されてもよい。これにより、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）によってレーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）が照射された部分は現像液（処理液）によって直ちに溶解するので、基板Ｐの露光とフォトレジストのパターンの形成を略同時期に行うことができる。また、レーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）の照射時からの経過時間に応じて、フォトレジストのパターンの形成精度が悪化するが、露光とフォトレジストのパターンの形成とが略同時期に行われるので、精度よくフォトレストのパターンの形成を行うことができる。なお、現像液によるフォトレジストのパターンの形成を行う場合は、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）による第２の液体ＬＱ２の保持を行わなくてもよい。すなわち、シール板ＧＳ（ＧＳ１〜ＧＳ６）と描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の各終端光学素子との間は大気（または窒素ガス）のままでもよい。

感光性の被膜層としてメッキ還元基を有するシランカップリング剤を使用する場合は、隙間ＷＳ１には第１の液体ＬＱ１としてパラジウムイオン（Ｐｄ⁺）等を含むメッキ核析出液（メッキ液、処理液）が保持されてもよい。これにより、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）によってレーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）が照射された部分には、パラジウムが析出するので、基板Ｐの露光とメッキ（パターンの析出）とを略同時期に行うことができる。また、レーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）の照射時からの経過時間に応じて、パラジウムの析出精度が悪化するが、露光とメッキとが略同時期に行われるので、効率的に精度よくパターンを析出することができる。なお、メッキ液によるパターンの析出を行う場合は、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）による第２の液体ＬＱ２の保持を行わなくてもよい。なお、感光性の被膜層としてメッキ還元基を有するシランカップリング剤を用いる場合は、被膜層の露光光（レーザ光ＬＢ）が照射されない部分は、第１の液体ＬＱ１に対して撥液性が比較的高い状態となる。

このように、第１の実施の形態においては、液体保持部ＬＱＰは、回転ドラムＤＲの外周面によって支持された円筒状に湾曲した基板Ｐの表面から径方向に所定の厚みとなるように第１の液体ＬＱ１を保持している。これにより、回転ドラムＤＲの回転方向（基板Ｐの搬送方向）に沿って配置された複数の描画ユニットＵから基板Ｐに射出されるレーザ光ＬＢが第１の液体ＬＱ１を通る距離を等しくすることができ、パターンの描画精度を向上させることができる。その結果、効率よく液中露光を行うことができる。

また、液体保持部ＬＱＰは、保持した第１の液体ＬＱ１が漏れないようにシールするシール部ＳＥＰを有するので、回転ドラムＤＲの上方（＋Ｚ方向）において、第１の液体ＬＱ１を保持することができる。このシール部ＳＥＰは、基板Ｐとシール部ＳＥＰの底面ＣＵ２との間に静圧気体層を生成する気体供給部ＡＲＢを有するので、シール部ＳＥＰは、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式によって、第１の液体ＬＱ１が液体保持部ＬＱＰから漏れることを防止することができ、効率的に回転ドラムＤＲの上方で液中露光を行うことができる。

露光装置ＥＸは、液体保持部ＬＱＰに第１の液体ＬＱ１を供給する液体供給部ＳＵＰと、液体保持部ＬＱＰが保持している第１の液体ＬＱ１を回収する液体回収部ＤＲＰとを備えるので、液体保持部ＬＱＰが保持する第１の液体ＬＱ１を綺麗な状態に保つことができる。液体保持部ＬＱＰは、描画ユニットＵの終端光学素子の射出面２２が浸される第２の液体ＬＱ２を保持する場合は、第１の液体ＬＱ１と第２の液体ＬＱ２とはシール板ＧＳによって仕切られている。その結果、射出面２２から射出されたレーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）は、空気中を通ることなく基板Ｐに照射されるので、解像度が向上し、焦点深度を拡大することが可能となる。そして、第１の液体ＬＱ１、第２の液体ＬＱ２、および、シール板ＧＳの屈折率を、終端光学素子の屈折率と同一または一定の許容範囲内にすることで、解像度が向上し、焦点深度が拡大する。液体保持部ＬＱＰは、第２の液体ＬＱ２を保持しない場合であっても、第１の液体ＬＱ１として現像液またはメッキ液を保持することで、露光と現像またはメッキとを略同時に行うことができる。

なお、液体保持部ＬＱＰの液体供給部ＳＵＰによって回転ドラムＤＲの最上位の位置から供給された第１の液体ＬＱ１が隙間ＷＳ１内を重力にしたがって基板Ｐ上を＋Ｘ方向側と−Ｘ方向側とに進み、液体供給部ＳＵＰよりも下側に位置する溝部ＤＲＣ１、ＤＲＣ２を介して液体回収部ＤＲＰで回収される流れとしたが、これに限られない。例えば、基板Ｐの搬送方向と同じ方向に第１の液体ＬＱ１を流すように、溝部ＤＲＣ２側から第１の液体ＬＱ１を供給し、溝部ＤＲＣ１側で第１の液体ＬＱ１を回収してもよい。この場合には、開口部ＡＨ１、ＡＨ３、ＡＨ５と開口部ＡＨ２、ＡＨ４、ＡＨ６との間に設けられた液体供給部ＳＵＰは不要となり、その代わりに、溝部ＤＲＣ２に第１の液体ＬＱ１を供給するポートとしての液体供給部ＳＵＰが設けられる。溝部ＤＲＣ１にはそのまま第１の液体ＬＱ１を回収するポートとしての液体回収部ＤＲＰが設けられている。このように、溝部ＤＲＣ２から溝部ＤＲＣ１に向けて第１の液体ＬＱ１を一方向に流す場合は、その流速を基板Ｐの搬送速度に対して変えることで、例えば、メッキ析出の状態を調整することも可能である。

また、第１の液体ＬＱ１は、溝部ＤＲＣ１、ＤＲＣ２の両方から供給され、液体供給部ＳＵＰで回収されるという、逆の流れであってもよい。この場合は、溝部ＤＲＣ１、ＤＲＣ２から供給される第１の液体ＬＱ１中にマイクロバブル（極小の気泡）が混じった場合は、それが隙間ＷＳ１内に留まらないように、上部の液体供給部ＳＵＰから速やかに排出させることができる。なお、この場合は、液体供給部ＳＵＰであるポートは、液体回収部として機能する。また、露光ヘッド１８を回転ドラムＤＲの下側に配置して、下側から基板Ｐに対してパターンの描画露光を行う場合は、液体保持部ＬＱＰの上下を逆さまにして回転ドラムＤＲの下側に配置すればよい。

さらに、第１の実施の形態では、特に図４に示すように、基板Ｐの表面に接触する第１の液体ＬＱ１を、液体保持部ＬＱＰの内側の円筒面ＣＵ１と基板Ｐの表面（円筒面状）との隙間ＷＳ１の厚みに規定された液体層として安定に保持可能であるとともに、基板Ｐの搬送速度に依存することなく、比較的広い範囲の流速に設定することができる。また、第１の液体ＬＱ１を現像液やメッキ液とした場合は、従来のシャワー方式や浴槽（パット）方式の現像処理やメッキ処理に比べて、その使用量を大幅低減することができ、さらに液体の再生処理部と併用することによって、廃液処理の設備を小型化することも可能である。

［第２の実施の形態］
第２の実施の形態においては、回転ドラムＤＲの下側に露光ヘッド１８を設けることで、下側から基板Ｐに対してパターンの描画露光を行う露光装置ＥＸについて説明する。図５は、第２の実施の形態における露光装置ＥＸの構成を示す図である。なお、上記第１の実施の形態と同様の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。また、上記第２の実施の形態を説明する上で必要のない構成についてはその図示を省略しているものもある。

基板搬送機構１２は、駆動ローラＮＲ１、エッジポジションコントローラＥＰＣ、案内ローラＲ１１〜Ｒ１７、および、回転ドラムＤＲを有する。エッジポジションコントローラＥＰＣから搬出された基板Ｐは、案内ローラＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４の順に長尺方向に沿って掛け渡されることで、回転ドラムＤＲの下方（−Ｚ方向）を通って＋Ｘ方向に進んだ後、戻るように−Ｘ方向に進みつつ回転ドラムＤＲより＋Ｚ方向の位置まで搬送されて、回転ドラムＤＲに搬送される。基板Ｐは、回転ドラムＤＲの＋Ｘ方向且つ＋Ｚ方向側から回転ドラムＤＲに搬入される。これにより、感光面（感光性機能層が形成された側の基板Ｐの表面）が上側となるようにプロセス装置ＰＲ１から搬送されてきた基板Ｐは、回転ドラムＤＲ上においては感光面は下側となる。回転ドラムＤＲは、−Ｚ方向側（露光ヘッド１８側）で外周面の約半周面に亘って基板Ｐを支持しつつ、中心軸ＡＸを中心に回転して基板Ｐを−Ｘ方向に搬送する。回転ドラムＤＲは、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）によって所定のパターンが露光される基板Ｐ上の領域（部分）、および、アライメント顕微鏡ＡＭ（ＡＭ１〜ＡＭ３）によって撮像される基板Ｐ上の領域（部分）をその円周面で支持する。回転ドラムＤＲから搬出された基板Ｐは、案内ローラＲ１５、Ｒ１６、Ｒ１７の順に長尺方向に沿って掛け渡されることで、回転ドラムＤＲの上方（＋Ｚ方向）を通って＋Ｘ方向に進み、プロセス装置ＰＲ２に搬送される。これにより、感光面が上側となるように基板Ｐをプロセス装置ＰＲ２に搬入することができる。したがって、デバイス製造システム１０のプロセス装置ＰＲ１、ＰＲ２等は、基板Ｐの上側（＋Ｚ方向側）から基板Ｐに対して処理を施せばよいので、プロセス装置ＰＲ１、ＰＲ２等での各処理がしやすくなる。

露光ヘッド１８は、回転ドラムＤＲの下方（−Ｚ方向）に設けられており、露光ヘッド１８の各描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）は、下方から基板Ｐに向かってレーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）を照射する。奇数番の描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５は、中心面Ｃに対して＋Ｘ方向側に配置され、偶数番の描画ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６は、中心面Ｃに対して−Ｘ方向側に配置されている。これにより、最初に奇数番の描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５によって描画露光が行われ、その後、偶数番の描画ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６によって描画露光が行われる。なお、描画ユニットＵの数を６つとしたが、描画ユニットＵの数は、１つであってもよいし、３つであってもよく、その数は任意に変更可能である。上記第１の実施の形態と同様に、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）から基板Ｐに照射されるスポット光ＳＰの進行方向は、ＸＺ平面において、回転ドラムＤＲの中心軸ＡＸに向かって直線状に進む方向となっている。また、各描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）は、各描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の終端光学素子の射出面２２から中心軸ＡＸまでの長さが同一の距離となるように設定されている。アライメント顕微鏡ＡＭ（ＡＭ１〜ＡＭ３）は、描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５よりも基板Ｐの搬送方向の上流側に配置されている。

本第２の実施の形態においても、露光装置ＥＸは、液体ＬＱを保持する液体保持部ＬＱＰａを備える。第２の実施の形態の液体保持部ＬＱＰａは、回転ドラムＤＲの下方の約半周面に巻き付けられた基板Ｐに対して液中露光を行うために、回転ドラムＤＲの下側で液体ＬＱを保持する。液体保持部ＬＱＰａは、回転ドラムＤＲの下方（−Ｚ方向）に設けられており、回転ドラムＤＲによって支持される基板Ｐの一部の表面を浸すための第１の液体ＬＱ１を保持する。この液体保持部ＬＱＰａは、回転ドラムＤＲの下部全体を覆う箱状の形状、例えば、円筒状のドラム缶等を中心軸と平行な平面で切断して得られる略半円筒の形状を有する。乾燥ユニット２４は、案内ローラＲ１５、Ｒ１６の間に設けられている。

図６は、第２の実施の形態の液体保持部ＬＱＰａの構成を示す断面図である。液体保持部ＬＱＰａは、液体保持部ＬＱＰａと回転ドラムＤＲとの３次元的な位置関係を精度よく保つための図示しない支持機構によって、基板Ｐ（回転ドラムＤＲ）の下方で固定支持されている。基板Ｐは、回転ドラムＤＲの−Ｚ方向側（下側）の外周面の約半周面に亘って密着して支持されつつ、回転ドラムＤＲの回転によって回転ドラムＤＲの＋Ｘ方向側から−Ｘ方向に向かって搬送される。液体保持部ＬＱＰａは、基板Ｐを支持する回転ドラムＤＲの約半周分の外周面に倣って対向するように、ＸＺ面内で円弧状（円筒の一部）に湾曲して形成されている。液体保持部ＬＱＰａの上部には、回転ドラムＤＲによって支持されて円筒状に湾曲した基板Ｐの表面（感光面側）に対して一定の隙間（ギャップ）ＷＳ１ａが形成されるように円筒面ＣＵ１ａが設けられている。したがって、円筒状に湾曲した基板Ｐの曲率（回転ドラムＤＲの外周面の曲率）と、円筒面（液体保持部ＬＱＰａの上面）ＣＵ１ａとの曲率とは同一となる。円筒面ＣＵ１ａが形成された範囲（特定範囲）は、複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）によってスポット光ＳＰが走査される基板Ｐ上の走査領域（走査ラインＬ１〜Ｌ６）を全て覆うように設定されている。つまり、回転ドラムＤＲの外周面に沿った円筒面ＣＵ１ａの範囲（特定範囲）内に、複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）によってスポット光ＳＰが走査される走査ラインＬ（描画領域）が含まれている。

液体保持部ＬＱＰａは、円筒面ＣＵ１ａと基板Ｐとの隙間ＷＳ１ａで第１の液体ＬＱ１を保持する。これにより、液体保持部ＬＱＰａは、円筒状に湾曲した基板Ｐの表面（または回転ドラムＤＲの外周面）から径方向に所定の厚み（一定の厚み）となるように第１の液体ＬＱ１を保持することができる。したがって、回転ドラムＤＲの回転方向に沿って描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５と描画ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６とを設けた場合であっても、描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５から射出されたレーザ光ＬＢが第１の液体ＬＱ１を通る距離と、描画ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６から射出されたレーザ光ＬＢが第１の液体ＬＱ１を通る距離とを等しくすることができ、パターンの描画精度を向上させることができる。また、液体保持部ＬＱＰａは、回転ドラムＤＲの下方（−Ｚ方向）に設けられているので、上記第１の実施の形態のようにシール部ＳＥＰを設けなくても、第１の液体ＬＱ１が液体保持部ＬＱＰａから漏れることはない。

液体保持部ＬＱＰａには、露光ヘッド１８の複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の終端光学素子の射出面２２から射出されるレーザ光ＬＢが基板Ｐ上に照射されるように形成された複数の開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）が設けられている。複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）は、中心面Ｃ（中心軸ＡＸ）に対して基板Ｐの搬送方向の上流側と下流側とで２列に千鳥配列で配置されているので、それに対応して開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）も、中心面Ｃ（中心軸ＡＸ）に対して基板Ｐの搬送方向の上流側と下流側とで２列に千鳥配列で配置されている。開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）は、液体保持部ＬＱＰａを貫通するように形成されており、円筒面ＣＵ１ａ側には、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）の開口を塞ぐための透明材料で形成されたシール板ＧＳ（ＧＳ１〜ＧＳ６）が設けられている。このシール板ＧＳは、回転ドラムＤＲと対向する面が、円筒面ＣＵ１ａと揃った面（フラッシュサーフェス）となるように、シール板ＧＳをその厚さ分だけ円筒面ＣＵ１ａに埋め込んでもよい。なお、このシール板ＧＳは、全ての開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）の開口を塞ぐ一枚の板であってもよい。

開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）には、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の先端部分（終端光学素子を含む）Ｕａが下方から上方に向かって挿入されてもよい。このとき、シール板ＧＳ（ＧＳ１〜ＧＳ６）と接触しないように先端部分Ｕａが挿入される。また、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）は、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）が挿入された状態で、終端光学素子の射出面２２が浸されるように第２の液体ＬＱ２を保持してもよい。この場合は、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）から第２の液体ＬＱ２が漏れないように、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）と描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の先端部分Ｕａとの間には、可撓性の樹脂等（例えば、ゴム）で形成されたＯリングや磁性流体シール等のシール部ＲＳが設けられている。

液体保持部ＬＱＰａには、描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５よりも＋Ｘ方向側に、隙間ＷＳ１ａに存在する第１の液体ＬＱ１、つまり、液体保持部ＬＱＰａによって保持される第１の液体ＬＱ１を所定の流量で供給するポートとしての液体供給部ＳＵＰが設けられている。また、液体保持部ＬＱＰａには、描画ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６よりも−Ｘ方向側に、液体保持部ＬＱＰａによって保持される第１の液体ＬＱ１を所定の流量で回収するポートとしての液体回収部ＤＲＰが設けられている。このように、液体保持部ＬＱＰａの複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）より回転ドラムＤＲの周方向の両側の位置に、液体供給部ＳＵＰおよび液体回収部ＤＲＰを設けることで、少なくとも複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）によってスポット光ＳＰが照射される基板Ｐの表面を第１の液体ＬＱ１に浸すことができる。この液体供給部ＳＵＰおよび液体回収部ＤＲＰは、Ｙ方向に沿って複数設けられている。

液体供給部ＳＵＰによって描画ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５より＋Ｘ方向側から供給された第１の液体ＬＱ１は、基板Ｐの搬送方向（−Ｘ方向）に沿って流れて、複数のシール板ＧＳ（ＧＳ１〜ＧＳ６）の上方を通って、液体回収部ＤＲＰから回収され、液体保持部ＬＱＰａの外部に放出される。このような構成を有することで、液体供給部ＳＵＰから供給される第１の液体ＬＱ１、および、液体回収部ＤＲＰによって回収される第１の液体ＬＱ１の流量、タイミング、インターバル等を制御することで、少なくとも液体供給部ＳＵＰから液体回収部ＤＲＰまでの隙間ＷＳ１ａ内を第１の液体ＬＱ１で満たした状態を作ることができる。

開口部ＡＨ１、ＡＨ３、ＡＨ５と開口部ＡＨ２、ＡＨ４、ＡＨ６との間であって、液体保持部ＬＱＰａの中心面Ｃ上には、第１の液体ＬＱ１の混在した塵を収集するための塵収集部ＧＡが設けられている。この塵収集部ＧＡは、円筒面ＣＵ１ａに対して−Ｚ方向に凹んだ形状を有している。この塵収集部ＧＡは、中心面Ｃ上に設けられているので、回転ドラムＤＲの最下位の位置より下方に設けられている。したがって、第１の液体ＬＱ１に含まれる塵であって、液体回収部ＤＲＰによって回収されない塵は、その自重により重力にしたがって塵収集部ＧＡに溜まることになる。この塵収集部ＧＡの底面ＧＡａは、開閉可能となっており、塵収集部ＧＡに溜まった塵は定期的に底面ＧＡａから排出される。

液体保持部ＬＱＰａの液体供給部ＳＵＰおよび液体回収部ＤＲＰより回転ドラムＤＲの周方向の両側の位置には、気体（圧縮空気）を供給する供給ポートＡＰ１と気体を排出する排出ポートＡＰ２とが近接して設けられている。この供給ポートＡＰ１は、気体を基板Ｐに吹き付けることで、基板Ｐに付着した塵や液体（例えば、第１の液体ＬＱ１）を吹き飛ばし、排出ポートＡＰ２は、吹き飛ばされたゴミや液体を気体とともに外部に排出する。これにより、基板Ｐに付着した塵や液体を除去することができ、基板Ｐの表面を綺麗にすることができる。

上記第１の実施の形態と同様に、感光性の被膜層としてフォトレジストを使用する場合は、隙間ＷＳ１ａには第１の液体ＬＱ１として純水が保持されるとともに、開口部ＡＨ（ＡＨ１〜ＡＨ６）によって第２の液体ＬＱ２としての純水が保持され、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）の終端光学素子の射出面２２が第２の液体ＬＱ２に浸るようにしてもよい。感光性の被膜層として、高ＮＡで集光した紫外線が照射された部分が除去される被膜層を用いた場合も同様に、液体保持部ＬＱＰａが純水の第１および第２の液体ＬＱ１、ＬＱ２を保持することで、レーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）が照射された部分を除去することができる。感光性の被膜層としてフォトレジストを使用する場合は、隙間ＷＳ１ａには第１の液体ＬＱ１として現像液が保持されてもよい。感光性の被膜層をメッキ還元基を有する感光性シランカップリング剤で形成し、第１の液体ＬＱ１としてパラジウムイオン（Ｐｄ⁺）等を含むメッキ核析出液（メッキ液）を用いてもよい。液体保持部ＬＱＰａは、現像液やメッキ液を保持する場合は、第２の液体ＬＱ２を保持しなくてもよい。

このように、第２の実施の形態においては、液体保持部ＬＱＰａは、回転ドラムＤＲの外周面によって支持された円筒状に湾曲した基板Ｐの表面から径方向に所定の厚みとなるように第１の液体ＬＱ１を保持するので、回転ドラムＤＲの回転方向（基板Ｐの搬送方向）に沿って配置された複数の描画ユニットＵから基板Ｐに射出されるレーザ光ＬＢの距離を等しくすることができ、パターンの描画精度を向上させることができる。その結果、効率よく液中露光を行うことができる。

また、第２の実施の形態においては、液体保持部ＬＱＰａを回転ドラムＤＲの下方に設け、液体保持部ＬＱＰａは、回転ドラムＤＲの下部を覆う箱状の形状を有するので、上記第１の実施の形態で説明したシール部ＳＥＰを設けなくても、保持している第１の液体ＬＱ１が液体保持部ＬＱＰａから漏れることはない。

露光装置ＥＸは、液体保持部ＬＱＰａに第１の液体ＬＱ１を供給する液体供給部ＳＵＰと、液体保持部ＬＱＰａが保持している第１の液体ＬＱ１を回収する液体回収部ＤＲＰとを備えるので、液体保持部ＬＱＰａが保持する第１の液体ＬＱ１を綺麗な状態に保つことができる。液体保持部ＬＱＰａは、描画ユニットＵの終端光学素子の射出面２２が浸される第２の液体ＬＱ２を保持する場合は、第１の液体ＬＱ１と第２の液体ＬＱ２とはシール板ＧＳによって仕切られている。その結果、射出面２２から射出されたレーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）は、空気中を通ることなく基板Ｐに照射されるので、解像度が向上し、焦点深度を拡大することが可能となる。そして、第１の液体ＬＱ１、第２の液体ＬＱ２、および、シール板ＧＳの屈折率を、終端光学素子の屈折率と同一または一定の範囲内にすることで、解像度が向上し、焦点深度が拡大する。液体保持部ＬＱＰａは、第２の液体ＬＱ２を保持しない場合であっても、第１の液体ＬＱ１として現像液またはメッキ液を保持することで、露光と現像またはメッキとを略同時に行うことができる。

以上の第２の実施の形態も、第１の実施の形態と同様に、特に図６に示すように、基板Ｐの表面に接触する第１の液体ＬＱ１を、液体保持部ＬＱＰａの内側の円筒面ＣＵ１ａと基板Ｐの表面（円筒面状）との隙間ＷＳ１ａの厚みに規定された液体層として安定に保持可能であるとともに、基板Ｐの搬送速度に依存することなく、比較的広い範囲の流速に設定することができる。さらに、第１の液体ＬＱ１を現像液やメッキ液とした場合は、従来のシャワー方式や浴槽（パット）方式の現像処理やメッキ処理に比べて、その使用量を大幅低減することができ、さらに液体の再生処理部と併用することによって、廃液処理の設備を小型化することも可能である。

［第３の実施の形態］
第３の実施の形態においては、回転ドラムＤＲの側方（Ｘ方向）に露光ヘッド１８を設けることで、側方から基板Ｐに対してパターンの描画露光を行う露光装置ＥＸについて説明する。図７は、第３の実施の形態における露光装置ＥＸの構成を示す図である。なお、上記第１の実施の形態と同様の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。また、上記第３の実施の形態を説明する上で必要のない構成についてはその図示を省略しているものもある。

基板搬送機構１２は、ＮＲ１、エッジポジションコントローラＥＰＣ、案内ローラＲ２１〜Ｒ２６、および、回転ドラムＤＲを有する。エッジポジションコントローラＥＰＣから搬出された基板Ｐは、案内ローラＲ２１、Ｒ２２の順に長尺方向に沿って掛け渡されることで、Ｘ方向と平行に−Ｘ方向側から回転ドラムＤＲの上部に搬入される。回転ドラムＤＲは、＋Ｘ方向側（露光ヘッド１８側）で外周面の約半周面に亘って基板Ｐを支持しつつ、中心軸ＡＸを中心に回転して基板Ｐを回転ドラムＤＲの下部からＸ方向と平行に−Ｘ方向側に搬送する。回転ドラムＤＲは、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）によって所定のパターンが露光される基板Ｐ上の領域（部分）、および、アライメント顕微鏡ＡＭ（ＡＭ１〜ＡＭ３）によって撮像される基板Ｐ上の領域（部分）をその円周面で支持する。回転ドラムＤＲから搬出された基板Ｐは、案内ローラＲ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６の順に長尺方向に沿って掛け渡されることで、回転ドラムＤＲの下方（−Ｚ方向）を通って＋Ｘ方向に進み、プロセス装置ＰＲ２に搬送される。

露光ヘッド１８は、回転ドラムＤＲの右側（＋Ｘ方向側）に設けられており、露光ヘッド１８の各描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）は、右側（＋Ｘ方向側）から基板Ｐに向かってレーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）を照射する。本第３の実施の形態においては、露光ヘッド１８は、３つの描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）を有するものとする。この複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）は、２列に千鳥配列で配置されており、偶数番の描画ユニットＵ２は、奇数番の描画ユニットＵ１、Ｕ３に対して＋Ｚ方向側に配置されている。これにより、最初に偶数番の描画ユニットＵ２によって描画露光が行われ、その後、奇数番の描画ユニットＵ１、Ｕ３によって描画露光が行われる。この複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）は、ＹＺ平面において、中心軸ＡＸより＋Ｚ方向側に配置しておくのが好ましい。なお、描画ユニットＵの数を３つとしたが、描画ユニットＵの数は、１つであってもよいし、６つであってもよく、その数は任意に変更可能である。各描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）は、各描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）の終端光学素子の射出面２２から中心軸ＡＸまでの長さが同一の距離となるように設定されている。描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ６）から基板Ｐに照射されるスポット光ＳＰの進行方向は、ＸＺ平面において、回転ドラムＤＲの中心軸ＡＸに向かって直線状に進む方向となっている。

本第３の実施の形態においても、露光装置ＥＸは、液体ＬＱを保持する液体保持部ＬＱＰｂを備える。第３の実施の形態の液体保持部ＬＱＰｂは、回転ドラムＤＲの右側（＋Ｘ方向側）の約半周面に巻き付けられた基板Ｐに対して液中露光を行うために、回転ドラムＤＲの右側で液体ＬＱを保持するためのものである。液体保持部ＬＱＰｂは、回転ドラムＤＲの右側（＋Ｘ方向側）に設けられており、回転ドラムＤＲによって支持される基板Ｐの一部の表面を浸すための第１の液体ＬＱ１を保持する。液体保持部ＬＱＰｂから排出された第１の液体ＬＱ１は、回収パレット部ＬＱＥによって回収される。なお、乾燥ユニット２４は、案内ローラＲ２４、Ｒ２５の間に設けられている。

図８は、第３の実施の形態の液体保持部ＬＱＰｂと回収パレット部ＬＱＥの外観斜視図、図９は、液体保持部ＬＱＰｂを回転ドラムＤＲ側（−Ｘ方向側）から見た外観斜視図、図１０は、液体保持部ＬＱＰｂの一部断面図、図１１は、回収パレット部ＬＱＥの外観斜視図である。原則として、図８を用いて説明するが、図８では説明できない構成要素については、図９〜図１１を参照する。

液体保持部ＬＱＰｂと回転ドラムＤＲとは、液体保持部ＬＱＰｂと回転ドラムＤＲとの３次元的な位置関係を精度よく保つための図示しない支持機構によって支持され、回収パレット部ＬＱＥも該支持機構によって支持されている。基板Ｐは、＋Ｘ方向に水平に搬送され回転ドラムＤＲの上側から外周面に沿って約半周分密着して巻き付けられ、回転ドラムＤＲの下側から−Ｘ方向に搬送される。回転ドラムＤＲのＹ方向の両側には、中心軸ＡＸの周りを回転するようにベアリングで支持されたシャフトＳｆを有する。なお、上記第１および第２の実施の形態においても、同様に、回転ドラムＤＲはこのシャフトＳｆを有する。回転ドラムＤＲの外周面のＹ方向の両端側には、基板Ｐを支持する外周面よりも径が大きいフランジ部ＦＲが全周に亘って設けられている。フランジ部ＦＲは、第１の液体ＬＱ１がＹ方向に漏れ出すことを防止する土手（シール部材）として機能する。

液体保持部ＬＱＰｂは、基板Ｐを支持する回転ドラムＤＲの約半周分の外周面に倣って対向するように、ＸＺ面内で円弧状（円筒の一部）に湾曲して形成されている。図９、図１０に示すように、液体保持部ＬＱＰｂの回転ドラムＤＲと対向する面（−Ｘ方向側の面）は、回転ドラムＤＲによって支持されて円筒状に湾曲した基板Ｐの表面（感光面側）に対して一定の隙間（ギャップ）ＷＳ１ｂが形成されるように形成された円筒面（曲面）ＣＵ１ｂとなっている。したがって、円筒状に湾曲した基板Ｐの曲率（回転ドラムＤＲの外周面の曲率）と、円筒面ＣＵ１ｂとの曲率とは同一となる。円筒面ＣＵ１ｂが形成された範囲（特定範囲）は、複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）によってスポット光ＳＰが走査される基板Ｐ上の走査領域（走査ラインＬ１〜Ｌ３）を全て覆うように設定されている。つまり、回転ドラムＤＲの外周面に沿った円筒面ＣＵ１ｂの範囲（特定範囲）内に、複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）によってスポット光ＳＰが走査される走査ラインＬ（描画領域）が含まれている。

液体保持部ＬＱＰｂは、円筒面ＣＵ１ｂと基板Ｐとの隙間ＷＳ１ｂで液体供給部ＳＵＰから供給される第１の液体ＬＱ１を保持する。これにより、液体保持部ＬＱＰｂは、円筒面に湾曲した基板Ｐの表面（または回転ドラムＤＲの外周面）から径方向に所定の厚み（一定の厚み）となるように第１の液体ＬＱ１を保持することができる。これにより、回転ドラムＤＲの回転方向に沿って描画ユニットＵ１、Ｕ３と描画ユニットＵ２とを設けた場合であっても、描画ユニットＵ１、Ｕ３から射出されたレーザ光ＬＢが第１の液体ＬＱ１を通る距離と描画ユニットＵ２から射出されたレーザ光ＬＢが第１の液体ＬＱ１を通る距離とを等しくすることができ、パターンの描画精度を向上させることができる。液体保持部ＬＱＰｂで保持される液体ＬＱの使用量（体積）を少なくすることと、描画ユニットＵの作動距離（ワーキングディスタンス）が小さい場合も考慮して、この隙間ＷＳ１ｂは、なるべく狭くすることが好ましく、例えば、１０ｍｍ以下、好ましくは、５ｍｍ以下に設定される。なお、作動距離は、描画ユニットＵの先端部分Ｕａに設けられた先端光学素子の射出面２２から射出したレーザ光ＬＢが基板Ｐに到達する距離である。

装置の設計上は、液体保持部ＬＱＰｂの内側の円筒面ＣＵ１ｂと回転ドラムＤＲの外周面との径方向の間隔が一定値（ＷＳｄとする）になるように設定されるため、隙間ＷＳ１ｂは、基板Ｐの厚みをＴｐとして、ＷＳ１ｂ＝ＷＳｄ−Ｔｐとなる。隙間ＷＳ１ｂを狭くすればするほど、第１の液体ＬＱ１の使用量（実質的な体積）が減って経済的であるが、極端に狭くすると、基板Ｐの厚みＴｐの平均値、厚み公差ΔＴｐによっては、液体層が極端に薄くなって、隙間ＷＳ１ｂの空間内での第１の液体ＬＱ１の自由な流れを阻害することもある。したがって、処理すべき基板Ｐの厚みＴｐの最大値や厚み公差ΔＴｐを考慮して、隙間ＷＳ１ｂの空間内で第１の液体ＬＱ１が重力の影響を受けて自由に流れる程度に間隔ＷＳｄを設定するのがよい。

そのような考え方とは逆に、隙間ＷＳ１ｂの空間内での第１の液体ＬＱ１の自由な流れをある程度制限する構成であってもよい。液体保持部ＬＱＰｂの内側の円筒面ＣＵ１ｂ、基板Ｐの表面の各々の撥液性（または親液性）の程度、第１の液体ＬＱ１の種類や粘性によって異なるが、図８、図９で示した液体保持部ＬＱＰｂの場合、隙間ＷＳ１ｂが、例えば１ｍｍ以下になると、隙間ＷＳ１ｂの空間内の第１の液体ＬＱ１は重力の影響を受けても、毛細管現象（表面張力）によってその空間内に留まろうとする。そのような場合であっても、本実施の形態では、液体供給部ＳＵＰから所定圧で第１の液体ＬＱ１を供給できるので、隙間ＷＳ１ｂの空間内で第１の液体ＬＱ１の制御された流れを起こすことが可能である。以上のように、第１の液体ＬＱ１が重力の影響によって隙間ＷＳ１ｂの空間内を自由に流れる程度の隙間にするか、或いは重力の影響を受けても隙間ＷＳ１ｂの空間内に留まる程度の隙間にするかは、先の第１の実施の形態の図４で示した液体保持部ＬＱＰによる隙間ＷＳ１の設定、または第２の実施の形態の図６で示した液体保持部ＬＱＰａによる隙間ＷＳ１ａの設定においても同様に適用でき、いずれの場合であってもよい。

さて、液体保持部ＬＱＰｂのＹ方向の両端部の内側（回転ドラムＤＲ側）には、フランジ部ＦＲの外周面（円筒状）ＦＲａに倣って対向するように、ＸＺ面内で円弧状に形成されたシール部ＳＥＰｂが設けられる。シール部ＳＥＰｂは、液体保持部ＬＱＰｂによって保持された第１の液体ＬＱ１が、液体保持部ＬＱＰｂのＹ方向の両端部から漏れないようにシールする。つまり、シール部ＳＥＰｂは、Ｙ方向における特定範囲外への第１の液体ＬＱ１の遺漏を防止する。

図９、図１０に示すように、シール部ＳＥＰｂは、フランジ部ＦＲの外周面ＦＲａに対向する円筒状の曲面（以下、円筒面）ＣＵ２ｂを有し、該円筒面（パッド面、パッド部）ＣＵ２ｂとフランジ部ＦＲの外周面ＦＲａとは、一定の隙間（ギャップ）ＷＳ２ｂを有する。つまり、シール部ＳＥＰｂの円筒面ＣＵ２ｂの曲率は、フランジ部ＦＲの外周面ＦＲａの曲率（回転ドラムＤＲの外周面の曲率）と同一となる。図１０に示すように、この円筒面ＣＵ２ｂは、フランジ部ＦＲの外周面ＦＲａを覆うように形成されている。隙間ＷＳ２ｂは、隙間ＷＳ１ｂに比べ極めて小さく、例えば、数μｍ〜数十μｍ程度に設定されている。

そして、シール部ＳＥＰｂには、円筒面ＣＵ２ｂとフランジ部ＦＲの外周面ＦＲａとの間に、静圧気体層（気体層）が生成されるように、気体（圧縮気体）を供給する噴出口（気体供給部）ＡＳと、供給された気体を吸引する吸引口ＶＡとが周方向に複数形成されている。したがって、この噴出口ＡＳと吸引口ＶＡとによって隙間ＷＳ２ｂ内では気体の圧力が高くなり、フランジ部ＦＲとシール部ＳＥＰｂとの隙間ＷＳ２ｂから第１の液体ＬＱ１が漏れないようにシールすることができる。これにより、シール部ＳＥＰｂは、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式によって、第１の液体ＬＱ１が液体保持部ＬＱＰｂのＹ方向の両端部から漏れることを防止することができる。また、図１０に示すように、シール部ＳＥＰｂに、フランジ部ＦＲよりＹ方向内側の円筒面ＣＵ１ｂに向けて高圧な気体（圧縮気体）を噴出する噴出口ＡＳ１を周方向に複数設けてもよい。この噴出口ＡＳ１により、さらにフランジ部ＦＲとシール部ＳＥＰｂとの隙間ＷＳ２ｂから第１の液体ＬＱ１が漏れないようにシールすることができる。噴出口ＡＳ、ＡＳ１は、気体を出力するポンプ等の図示しない気体供給装置が接続されており、吸引口ＶＡは、気体を吸引する真空発生装置等の図示しない気体吸引装置に接続されている。

なお、シール部ＳＥＰｂによる静圧気体層は、フランジ部ＦＲの側壁面（ＸＺ面と平行な面）に形成されるようにしてもよい。さらに、フランジ部ＦＲの代わりに回転ドラムＤＲの外周面の全周に亘って一定の深さの溝部を形成し、シール部ＳＥＰｂは、この溝部内に静圧気体層を形成してもよい。また、シール部ＳＥＰｂは、磁性流体シールであってもよい。

液体保持部ＬＱＰｂには、露光ヘッド１８の複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）の終端光学素子の射出面２２から射出されるレーザ光ＬＢが基板Ｐ上に照射されるように形成された複数の開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）が設けられている。つまり、描画ユニットＵ１から射出されたレーザ光ＬＢは、開口部ＡＨｂ１を通って基板Ｐに到達する。同様に、描画ユニットＵ２、Ｕ３から射出されたレーザ光ＬＢは、開口部ＡＨｂ２、ＡＨｂ３を通って基板Ｐに到達する。複数の描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）は、２列に千鳥配列で配置されているので、それに対応して開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）も、２列に千鳥配列で配置されている。なお、開口部ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３の各々の中心を通る中心線ＬＡＸ１、ＬＡＸ２、ＬＡＸ３は、描画ユニットＵ１〜Ｕ３から射出されるレーザ光ＬＢの光軸または描画領域の中心を通る主光線を示す。なお、図１０は、開口部ＡＨｂ１を通る中心線ＬＡＸ１と回転ドラムＤＲの中心軸ＡＸとを通る平面でせん断した液体保持部ＬＱＰｂの断面を示している。

開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）は、液体保持部ＬＱＰｂを貫通するように形成されており、円筒面ＣＵ１ｂ側には、開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）の開口を塞ぐための透明材料で形成されたシール板ＧＳ（ＧＳ１〜ＧＳ３）が設けられている。シール板ＧＳ１は、開口部ＡＨｂ１の開口を塞ぎ、同様に、シール板ＧＳ２、ＧＳ３は、開口部ＡＨｂ２、ＡＨｂ３の開口を塞ぐ。図１０に示すように、シール板ＧＳの回転ドラムＤＲと対向する面が、円筒面ＣＵ１ｂと揃った面（フラッシュサーフェス）となるように、シール板ＧＳをその厚さ分だけ円筒面ＣＵ１ｂに埋め込んでもよい。なお、このシール板ＧＳは、全ての開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）の開口を塞ぐ一枚の板であってもよい。

開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）には、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）の先端部分（終端光学素子を含む）Ｕａが右方（＋Ｘ方向）から左方（−Ｘ方向）に向かって挿入されてもよい（図１０参照）。このとき、シール板ＧＳ（ＧＳ１〜ＧＳ３）と接触しないように先端部分Ｕａは開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）に挿入される。また、開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）は、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）が挿入された状態で、終端光学素子の射出面２２が浸されるように第２の液体ＬＱ２を保持してもよい。この場合は、開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）から第２の液体ＬＱ２が漏れないように、図１０に示すように、開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）と描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）の先端部分Ｕａとの間には、可撓性の樹脂等（例えば、ゴム）で形成されたＯリングや磁性流体シール等のシール部ＲＳが設けられている。

液体保持部ＬＱＰｂの上端部（＋Ｚ方向側）には、第１の液体ＬＱ１を所定の流量で供給するポートとしての液体供給部ＳＵＰと、液体供給部ＳＵＰから供給された第１の液体ＬＱ１を基板Ｐの幅方向に一様に拡散して流すための拡散部ＬＱＤとが設けられている。液体保持部ＬＱＰｂの円筒面ＣＵ１ｂの上部には、図９に示すように、この拡散部ＬＱＤに流れた第１の液体ＬＱ１を隙間ＷＳ１ｂに供給するスリット状のノズル（開口）ＬＳＨがＹ方向（中心軸ＡＸの軸方向）に沿って多数設けられている。この複数のノズルＬＳＨからは、一様な流量で第１の液体ＬＱ１が噴出されて隙間ＷＳ１ｂに供給される。なお、このノズルＬＳＨは、開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）よりも上方（＋Ｚ方向）に設けられている。

液体保持部ＬＱＰｂの下端部（−Ｚ方向側）には、保持している第１の液体ＬＱ１を回収する回収スロット部（液体回収部）ＬＱＳが設けられている。この回収スロット部ＬＱＳには、図９に示すように、液体保持部ＬＱＰｂによって保持されている第１の液体ＬＱ１を下方（−Ｚ方向）に排出するスロット部ＳＴがＹ方向（中心軸ＡＸの軸方向）に沿って複数設けられている。また、図９に示すように、回収スロット部ＬＱＳの上方（＋Ｚ方向）であって、液体保持部ＬＱＰｂの円筒面ＣＵ１ｂの下部側（−Ｚ方向側）のＹ方向の両端部側に凹部ＢＰを設けてもよい。この凹部ＢＰは、下方（−Ｚ方向）に向かうにつれて円筒面ＣＵ１ｂのＹ方向の中央に向かうように傾斜したエッジ部ＥＥが形成されるように回転ドラムＤＲの外周面から遠ざかる方向に窪んでいる。この凹部ＢＰにより、回収スロット部ＬＱＳによって回収される第１の液体ＬＱ１を隙間ＷＳ１ｂのＹ方向中央側に集めることができる。これは、液体保持部ＬＱＰｂの円筒面ＣＵ１ｂと基板Ｐとの径方向の隙間ＷＳ１ｂを１ｍｍ程度に狭くした場合に、液体が隙間のより狭い方に寄ろうとする特性を利用したものである。さらにこの場合は、円筒面ＣＵ１ｂおよびシール板ＧＳの回転ドラムＤＲと対向した表面は、第１の液体ＬＱ１に対して親液性が高くなるように表面処理が施され、凹部ＢＰは、第１の液体ＬＱ１に対して撥液性が高い状態となるように、例えば、フッ素系の薄膜でコーティングされてもよい。

なお、図９においては、液体保持部ＬＱＰｂの円筒面ＣＵ１ｂの下部側（−Ｚ方向側）のＹ方向の両端部側に凹部ＢＰを形成することによって、回収スロット部ＬＱＳによって回収される第１の液体ＬＱ１を円筒面ＣＵ１ｂの下部側でＹ方向の中央に集める（寄せる）ようにしたが、円筒面ＣＵ１ｂと基板Ｐとの隙間ＷＳ１ｂの程度に応じて、他の構成によっても同様に第１の液体ＬＱ１を中央に集める（寄せる）ことができる。例えば、重力の影響によって液体が自由に流れる程度の隙間ＷＳ１ｂの寸法（例えば２ｍｍ以上）の場合、図９のような凹部ＢＰでは液体ＬＱ１をＹ方向の中央に集めることは難しい。そこで、そのような場合は、凹部ＢＰの代わりに、円筒面ＣＵ１ｂの下部側（−Ｚ方向側）の表面に、基板Ｐの表面との隙間が１ｍｍ以下となるような上端面を有する細い線状の突起部（リム）を、図９中のエッジ部ＥＥの位置に、円筒面ＣＵ１ｂのＹ方向の端部から中央部に向けて傾斜するように、周方向に複数本並べて形成してもよい。

液体供給部ＳＵＰによって供給された第１の液体ＬＱ１は、拡散部ＬＱＤと円筒面ＣＵ１ｂに設けられた複数のノズルＬＳＨを介して隙間ＷＳ１ｂに供給されて、重力、或いは液体供給部ＳＵＰによる第１の液体ＬＱ１の送出圧によって、回転ドラムＤＲに外周面に沿って−Ｚ方向に流れる。回転ドラムＤＲの外周面に沿って流れた第１の液体ＬＱ１は、シール板ＧＳ１〜ＧＳ３と基板Ｐとの間を通って回収スロット部ＬＱＳに到達する。なお、隙間ＷＳ１ｂに供給された第１の液体ＬＱ１の一部は、両側のフランジ部ＦＲまで達するが、シール部ＳＥＰｂによりシールされているので、両端のフランジ部ＦＲに達した第１の液体ＬＱ１が液体保持部ＬＱＰｂのＹ方向の両端部から漏れることはない。また、重力、或いは液体ＬＱ１の送出圧によって上方から下方に向かって流れ回収スロット部ＬＱＳに到達する第１の液体ＬＱ１は、凹部ＢＰとのエッジ部ＥＥ、または複数の線状の突起部（リム）によって回収スロット部ＬＱＳのＹ方向中央に集められる。そして、回収スロット部ＬＱＳに到達した第１の液体ＬＱ１は、Ｙ方向に沿って複数設けられたスロット部ＳＴに流れ込み、複数のスロット部ＳＴを通って下方に排出される。これにより、回収スロット部ＬＱＳによって液体保持部ＬＱＰｂが保持している第１の液体ＬＱ１が回収される。

なお、回収スロット部ＬＱＳのスロット部ＳＴに、流量を調整する調整可能な弁機構を設け、この弁機構を流れる第１の液体ＬＱ１の流量の制御と、ノズルＬＳＨから供給される第１の液体ＬＱ１の流量の制御とのバランスによって、第１の液体ＬＱ１が隙間ＷＳ１ｂ内を上から下に向かって流れる流速を制御するようにしてもよい。また、隙間ＷＳ１ｂ内の第１の液体ＬＱ１の圧力によって液体保持部ＬＱＰｂには、回転ドラムＤＲ（基板Ｐ）から離間する方向の力も働くため、それと対峙する付勢力を作用させる機構を、液体保持部ＬＱＰｂを支持する前記支持機構に設けてもよい。このことは、上記第１および第２の実施の形態でも同様である。

回収スロット部ＬＱＳの下方（−Ｚ方向）には、回収スロット部ＬＱＳによって回収（排出）された第１の液体ＬＱ１を回収する回収パレット部ＬＱＥが設けられている。回収パレット部ＬＱＥは、回転ドラムＤＲのＹ方向の幅全体をカバーする寸法を有し、回収スロット部ＬＱＳから流れてくる第１の液体ＬＱ１だけでなく、基板Ｐまたは回転ドラムＤＲに残留して付着している第１の液体ＬＱ１の滴等も回収する。

図１１に示すように、回収スロット部ＬＱＳから流れて落ちてくる第１の液体ＬＱ１や基板Ｐに残留して付着した第１の液体ＬＱ１の滴は、塵取り状に構成された回収パレット部ＬＱＥの底部ＬＱＥａ上に溜められ、溜められた第１の液体ＬＱ１は、排出ポートＤＰから排出される。回収パレット部ＬＱＥの−Ｘ方向側の傾斜壁部ＬＱＥｂには、基板Ｐや回転ドラムＤＲに向けて高圧な気体（圧縮気体、エアジェット）を噴出し、基板Ｐや回転ドラムＤＲに残留して付着した第１の液体ＬＱ１の滴を吹き飛ばすノズルＡＮがＹ方向に複数設けられている。これにより、基板Ｐや回転ドラムＤＲに付着した第１の液体ＬＱ１の滴が回収パレット部ＬＱＥによって回収される。このノズルＡＮには、高圧の気体（圧縮気体）を供給する図示しない気体供給装置が接続されている。

上記第１の実施の形態と同様に、感光性の被膜層としてフォトレジストを使用する場合は、隙間ＷＳ１ｂには第１の液体ＬＱ１として純水が保持されるとともに、開口部ＡＨｂ（ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３）によって第２の液体ＬＱ２としての純水が保持され、描画ユニットＵ（Ｕ１〜Ｕ３）の終端光学素子の射出面２２が第２の液体ＬＱ２に浸るようにしてもよい。感光性の被膜層として、高ＮＡで集光した紫外線が照射された部分が除去される被膜層を用いた場合も同様に、液体保持部ＬＱＰｂが純水の第１および第２の液体ＬＱ１、ＬＱ２を保持することで、レーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）が照射された部分を除去することができる。感光性の被膜層としてフォトレジストを使用する場合は、隙間ＷＳ１ｂには第１の液体ＬＱ１として現像液が保持されてもよい。感光性の被膜層をメッキ還元基を有する感光性シランカップリング剤で形成した場合、第１の液体ＬＱ１としてパラジウムイオン（Ｐｄ⁺）等を含むメッキ核析出液（メッキ液）を用いてもよい。液体保持部ＬＱＰｂは、現像液やメッキ液を保持する場合は、第２の液体ＬＱ２を保持しなくてもよい。

このように、第３の実施の形態においては、液体保持部ＬＱＰｂは、回転ドラムＤＲの外周面によって支持された円筒状に湾曲した基板Ｐの表面から径方向に所定の厚み（隙間ＷＳ１ｂ）となるように第１の液体ＬＱ１を保持するので、回転ドラムＤＲの回転方向（基板Ｐの搬送方向）に沿って配置された複数の描画ユニットＵから基板Ｐに射出されるレーザ光ＬＢの距離を等しくすることができ、パターンの描画精度を向上させることができる。その結果、効率よく液中露光を行うことができる。

また、第３の実施の形態においては、液体保持部ＬＱＰｂを回転ドラムＤＲの側方（Ｘ方向）に設け、液体保持部ＬＱＰｂは、第１の液体ＬＱ１がＹ方向の両端部から漏れることを防止するシール部ＳＥＰｂを有するので、回転ドラムＤＲの側方（Ｘ方向）において、第１の液体ＬＱ１を保持することができる。このシール部ＳＥＰｂは、静圧気体層を生成する噴出口ＡＳを有するので、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式によって、第１の液体ＬＱ１がＹ方向の両端部から漏れることを防止することができ、効率的に回転ドラムＤＲの側方で液中露光を行うことができる。

露光装置ＥＸは、液体保持部ＬＱＰｂに第１の液体ＬＱ１を供給する液体供給部ＳＵＰと、液体保持部ＬＱＰｂが保持している第１の液体ＬＱ１を回収する回収スロット部ＬＱＳとを備えるので、液体保持部ＬＱＰｂが保持する第１の液体ＬＱ１を綺麗な状態に保つことができる。液体保持部ＬＱＰｂは、描画ユニットＵの終端光学素子の射出面２２が浸される第２の液体ＬＱ２を保持する場合は、第１の液体ＬＱ１と第２の液体ＬＱ２とはシール板ＧＳによって仕切られている。その結果、第１の液体ＬＱ１および第２の液体ＬＱ２の流動が互いに影響を与えることを防止することができる。また、射出面２２から射出されたレーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）は、空気中を通ることなく基板Ｐに照射されるので、解像度が向上し、焦点深度を拡大することが可能となる。そして、第１の液体ＬＱ１、第２の液体ＬＱ２、および、シール板ＧＳの屈折率を、終端光学素子の屈折率と同一または一定の許容範囲内にすることで、解像度が向上し、焦点深度が拡大する。液体保持部ＬＱＰｂは、第２の液体ＬＱ２を保持しない場合であっても、第１の液体ＬＱ１として現像液またはメッキ液を保持することで、露光と現像またはメッキとを略同時に行うことができる。

以上の第３の実施の形態も、第１の実施の形態または第２の実施の形態と同様に、特に図１０に示すように、基板Ｐの表面に接触する第１の液体ＬＱ１を、液体保持部ＬＱＰｂの内側の円筒面ＣＵ１ｂと基板Ｐの表面（円筒面状）との隙間ＷＳ１ｂの厚みに規定された液体層として安定に保持可能であるとともに、基板Ｐの搬送速度に依存することなく、比較的広い範囲の流速に設定することができる。さらに、第１の液体ＬＱ１を現像液やメッキ液とした場合は、従来のシャワー方式や浴槽（パット）方式の現像処理やメッキ処理に比べて、その使用量を大幅低減することができ、さらに液体の再生処理部と併用することによって、廃液処理の設備を小型化することも可能である。

［変形例］
上記第１〜第３の実施の形態は、以下のように変形してもよい。

上記各実施の形態では、液体保持部ＬＱＰ、ＬＱＰａ、ＬＱＰｂを回転ドラムＤＲの周りに１つ設けた態様で説明したが、回転ドラムＤＲの周りに複数設けてもよい。図１２は、回転ドラムＤＲの周りに、上記第１の実施の形態で説明した液体保持部ＬＱＰを複数設けた場合の一例を示す。回転ドラムＤＲの回転方向に沿って（基板Ｐの搬送方向に沿って）、３つの液体保持部ＬＱＰが設けられており、便宜上、この３つの液体保持部ＬＱＰを、基板Ｐの搬送方向の上流側から順に、ＬＱＰ１、ＬＱＰ２、ＬＱＰ３と呼ぶ。

液体保持部ＬＱＰ１は、例えば、第１の液体ＬＱ１として現像液を保持する。したがって、複数の描画ユニットＵの先端部分Ｕａから射出したレーザ光（スポット光ＳＰ）は、液体保持部ＬＱＰ１が保持している第１の液体ＬＱ１を介して基板Ｐの表面に照射されるので、露光と現像とを略同時に行うことができる。現像液である第１の液体ＬＱ１は、溝部ＤＲＣ２から供給され溝部ＤＲＣ１で回収される。なお、液体保持部ＬＱＰ１は、現像液ではなく、メッキ液を第１の液体ＬＱ１として保持してもよい。これにより、露光とメッキとを略同時に行うことができる。

液体保持部ＬＱＰ２は、例えば、第１の液体ＬＱ１として純水を保持することで、露光・現像が行われた基板Ｐに対して洗浄を行う。つまり、液体保持部ＬＱＰ２は、液中露光ではなく、基板Ｐの洗浄を行うために純水である第１の液体ＬＱ１を保持する。したがって、液体保持部ＬＱＰ２には、描画ユニットＵの先端部分Ｕａからのレーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）が基板Ｐに照射されるように設けられた開口部ＡＨおよびシール板ＧＳを設けなくてもよい。純水である第１の液体ＬＱ１は、溝部ＤＲＣ２から供給され溝部ＤＲＣ１で回収される。

液体保持部ＬＱＰ３は、例えば、液体ＬＱではなく気体を保持することで、洗浄が行われた基板Ｐの表面に付着した液体（液滴、液膜）を除去して乾燥させる。したがって、液体保持部ＬＱＰ３には、描画ユニットＵの先端部分Ｕａからのレーザ光ＬＢ（スポット光ＳＰ）が基板Ｐに照射されるように設けられた開口部ＡＨおよびシール板ＧＳを設けなくてもよい。乾燥エアーである温度調整された気体は、溝部ＤＲＣ２から供給され溝部ＤＲＣ１で回収される。このような構成を有することで、回転ドラムＤＲ上で、露光・現像（または、露光・メッキ）、洗浄、乾燥等の処理を行うことができる。

なお、液体保持部ＬＱＰ１、ＬＱＰ３の代わりに、上記第３の実施の形態で説明した液体保持部ＬＱＰｂを用いてもよい。また、液体保持部ＬＱＰ２の代わりに、上記第２の実施の形態で説明した液体保持部ＬＱＰａを用いてもよい。また、回転ドラムＤＲの周りに３つではなく、２つ、または４つ以上の液体保持部ＬＱＰ、ＬＱＰａ、ＬＱＰｂを設けてもよい。

また、図１２において、例えば、液体保持部ＬＱＰ１は、第１の液体ＬＱ１として超純水を保持して、基板Ｐの表面のメッキ還元基を有する感光性シランカップリング剤による被膜層を液浸露光する露光部、液体保持部ＬＱＰ２は、第２の液体ＬＱ２としてパラジウムイオン（Ｐｄ⁺）等を含むメッキ核析出液（メッキ液）を保持して、露光部で露光された基板Ｐ上の領域（被処理領域）にパターンに応じてパラジウムを析出させるメッキ処理部、そして液体保持部ＬＱＰ３は、第３の液体ＬＱ３として純水（洗浄液）を保持して、メッキ処理によって基板Ｐに付着したメッキ液を除去する洗浄処理部、としてもよい。この図１２のような構成によれば、１つの回転ドラムＤＲの外周面にシート状の基板Ｐを巻き付けた状態で、露光処理、湿式処理（現像、無電解メッキ、洗浄等）を順次行うことができ、一連のプロセス装置ＰＲをコンパクトに集約することが可能である。

また、液体保持部ＬＱＰ１が現像液を保持し、液体保持部ＬＱＰ２が洗浄用の純水を保持し、液体保持部ＬＱＰ３が乾燥用の気体を保持する現像処理の場合、一般的な液体フォトレジストの現像時間（現像液に浸す時間）は、そのフォトレジストの層厚に依存するが、層厚が１〜数μｍの場合で１０秒〜２０秒位である。したがって、基板Ｐの搬送速度が５ｍｍ／秒である場合、液体保持部ＬＱＰ１が現像液を保持する周方向の長さ（周長距離）は、５〜１０ｃｍ程度になる。さらに、液体保持部ＬＱＰ２が洗浄用の純水を保持する周方向の長さ、液体保持部ＬＱＰ３が乾燥用の気体を保持する周方向の長さも１０ｃｍ程度（２０秒）あれば十分である。このことから、液体保持部ＬＱＰ１、液体保持部ＬＱＰ２、液体保持部ＬＱＰ３を図１２のように、回転ドラムＤＲの下側（重力方向側）の略半周分に渡って並べるためには、回転ドラムＤＲの直径を３０ｃｍ程度にすればよく、これは現実的な数値である。

［第４の実施の形態］
図１３は、第４の実施の形態による液体保持部ＬＱＰｃの構成を示す斜視断面図であり、ここでは、図５、図６のように、回転ドラムＤＲの下方（重力の向きと同じ−Ｚ方向）に約半周分に渡って液体保持部ＬＱＰｃが配置される。また、図１３は、液体保持部ＬＱＰｃを回転中心ＡＸが延びるＹ方向の適当な位置でＸＺ面と平行に破断した状態を示す。図５、図６の場合と同様に、液体保持部ＬＱＰｃの内側には、複数の描画ユニットＵの各々の先端部分Ｕａと基板Ｐとの間に配置される透明なシール板ＧＳ１、ＧＳ２、ＧＳ３、・・・が設けられる。先に説明した各実施の形態では、シール板ＧＳ１、ＧＳ２、ＧＳ３、・・・を、湾曲した基板Ｐの表面と平行に倣うように円筒状に湾曲させた薄いガラス板としたが、本実施の形態では、比較的に厚みのある平行平板ガラスとする。

そのため、液体保持部ＬＱＰｃの内側の面（液体ＬＱ１が接する面）で、シール板ＧＳ１、ＧＳ２、ＧＳ３が設けられる領域は、円筒面ではなく、平面ＦＳ１、ＦＳ２とした。すなわち、Ｙ方向に一列に並ぶ奇数番の描画ユニットＵ１、Ｕ３、・・・に対応したシール板ＧＳ１、ＧＳ３、・・・は、図８、図９にて説明した中心線ＬＡＸ１、ＬＡＸ３、・・・の各々と垂直で、且つ、液体保持部ＬＱＰｃの内側の円筒面ＣＵ１ｂの接平面と平行な平面ＦＳ１に、面一となるように固定される。同様に、Ｙ方向に一列に並ぶ偶数番の描画ユニットＵ２、・・・に対応したシール板ＧＳ２、・・・は、図８、図９にて説明した中心線ＬＡＸ２、・・・と垂直で、且つ、液体保持部ＬＱＰｃの内側の円筒面ＣＵ１ｂの接平面と平行な平面ＦＳ２に、面一となるように固定される。但し、平面ＦＳ１、ＦＳ２の径方向の位置は、シール部ＳＥＰｄの円筒状の面（パッド面、パッド部）ＣＵ４ｂの径方向の位置に対して外側となるように設定される。

平面ＦＳ１、ＦＳ２のＹ方向の両端部には、径方向にリム状に突出した円弧状のシール部ＳＥＰｄが形成され、シール部ＳＥＰｄの中心軸ＡＸに向いた円筒面ＣＵ４ｂは、エアベアリング用のパッド面となっている。平面ＦＳ１、ＦＳ２は、シール部ＳＥＰｄの内側側面ＳＳに連接するようにＹ方向に延びており、この内側側面ＳＳにより第１の液体ＬＱ１がシール部ＳＥＰｄを超えて液体保持部ＬＱＰｃの外部に流れ出さないように塞き止められている。円筒面ＣＵ４ｂは、回転ドラムＤＲの外周面に支持される基板ＰのＹ方向（幅方向）の両端部付近の表面と対向するように設定され、円筒面ＣＵ４ｂと基板Ｐの表面との間に数μｍ〜数十μｍ程度の静圧気体層が形成され、シール部ＳＥＰｄを超えた液体ＬＱ１が液体保持部ＬＱＰｃの外部へ遺漏することを防止する。したがって、基板Ｐは、図１３中では、矢印Ｐｉのように−Ｚ方向に搬送されて、シール部ＳＥＰｄの円弧状の円筒面ＣＵ４ｂに沿ってＵ字状に湾曲して進むため、第１の液体ＬＱ１は、円筒面ＣＵ４ｂに沿って湾曲した基板Ｐと、円筒面ＣＵ１ｂと平面ＦＳ１、ＦＳ２とで囲まれる空間（隙間）内に保持（充填）される。

なお、第１の液体ＬＱ１を保持する円筒面ＣＵ１ｂと平面ＦＳ１、ＦＳ２とに対して、シール部ＳＥＰｄの外側に位置するフランジ部ＦＲＧ（中心ＡＸに向けて突出したリム状部分）は、液体ＬＱ１がシール部ＳＥＰｄの面ＣＵ４ｂに形成される静圧気体層を破って外部に遺漏した場合に、その遺漏した液体ＬＱ１を一時的にトラップして液体保持部ＬＱＰｃの外にたれ流さないようにするための土手である。そのため、フランジ部ＦＲＧの−Ｚ方向の底部付近には、遺漏した液体ＬＱ１を回収するための回収ポート（開口）も設けられている。

以上のように、液体保持部ＬＱＰｃの内側の液体ＬＱ１と接する面は、必ずしも、回転ドラムＤＲの外周面に倣って連続した円筒面である必要はなく、周方向に部分的に平面であってもよい。すなわち、本実施の形態における液体保持部ＬＱＰｃでは、回転ドラムＤＲの外周面から径方向に所定の隙間を持って周方向に円筒面状に形成した内面だけでなく、平面状に形成された内面（ＦＳ１、ＦＳ２）を周方向に連続させて多角面状（２つ以上の平面が角度を持ってつながった状態）に湾曲させた内面としてもよい。また、液体保持部ＬＱＰｃの内面（液体ＬＱ１と接する面）の全体のうち、周方向の一定範囲だけ平面とし、他の部分は円筒状の面ＣＵ１ｂにした場合であっても、周方向に曲率半径が異なる面（一方の曲率半径が有限で他方の曲率半径が無限大）がつながることから、多角面状と呼ぶことにする。さらに、液体保持部ＬＱＰｃの内側の面は、有限の曲率半径を持つ円筒面を持たず、全てを周方向に分割された複数の平面でつなげた多面体状としてもよい。

また、図１３の液体保持部ＬＱＰｃでは、シール部ＳＥＰｄの円筒状の面ＣＵ４ｂを、基板ＰのＹ方向の両端部付近の表面に対向するように設置したが、面ＣＵ４ｂを回転ドラムＤＲの外周面（基板Ｐが存在しないＹ方向の端部付近）に対向させ、面ＣＵ４ｂと回転ドラムＤＲの外周面との間に、液体の遺漏防止用の静圧気体層を形成してもよい。さらに、図１３においては、液体保持部ＬＱＰｃの内側の面のうち平面ＦＳ１、ＦＳ２が形成される部分は、平面状のシール板ＧＳ１、ＧＳ２、ＧＳ３、・・・が設けられる部分としたが、必ずしもそのような場合に限られない。例えば、先の図１２に示した液体処理のみを行う液体保持部ＬＱＰ２、または液体保持部ＬＱＰ３においても、その内側の面（液体と接する面）を多角面状或いは多面体状にしてもよい。この場合は、液体処理のみを行うので、液体保持部ＬＱＰｃに開口部ＡＨｂ１、ＡＨＢｂ２、ＡＨｂ３、・・・、シール板ＧＳ１、ＧＳ２、ＧＳ３、・・・を設けなくてもよい。また、上記変形例において、第４の実施の形態で説明した液体保持部ＬＱＰｃを用いてもよい。

１０…デバイス製造システム １２…基板搬送機構
１４…光源装置 １４ａ…光源
１６…光導入光学系 １８…露光ヘッド
２０…制御装置 ２２…射出面
２４…乾燥ユニット
ＡＨ、ＡＨ１〜ＡＨ６、ＡＨｂ、ＡＨｂ１〜ＡＨｂ３…開口部
ＡＮ、ＬＳＨ…ノズル ＡＲＢ…気体供給部
ＡＸ…中心軸
ＣＵ１、ＣＵ１ａ、ＣＵ１ｂ、ＣＵ２、ＣＵ２ｂ、ＣＵ４ｂ…曲面
ＤＲ…回転ドラム ＤＲＣ、ＤＲＣ１、ＤＲＣ２…溝部
ＤＲＰ…液体回収部 ＥＰＣ…エッジポジションコントローラ
ＥＳ１、ＥＳ２…スケール部 ＥＸ…露光装置
ＦＲ、ＦＲＧ…フランジ部 ＦＳ１、ＦＳ２…平面
ＧＳ、ＧＳ１〜ＧＳ６…シール板 Ｌ、Ｌ１〜Ｌ６…走査ライン
ＬＢ…レーザ光 ＬＱ１…第１の液体
ＬＱ２…第２の液体 ＬＱＤ…拡散部
ＬＱＥ…回収パレット部
ＬＱＰ、ＬＱＰａ、ＬＱＰｂ、ＬＱＰｃ、ＬＱＰ１〜３…液体保持部
ＬＱＳ…回収スロット部
Ｐ…基板 ＰＲ１、ＰＲ２…プロセス装置
ＲＳ、ＳＥＰ、ＳＥＰｂ、ＳＥＰｄ…シール部
ＳＰ…スポット光
ＳＴ…スロット部 ＳＵＰ…液体供給部
Ｕ、Ｕ１〜Ｕ６…描画ユニット Ｕａ…先端部分
ＷＳ１、ＷＳ１ａ、ＷＳ１ｂ、ＷＳ２、ＷＳ２ｂ…隙間

Claims (16)

1. 可撓性を有する長尺のシート基板の一部を、回転ドラムの円筒状の外周面に倣って前記長尺の方向に湾曲させて支持しつつ、前記シート基板の表面の被処理領域を液体に浸して処理する湿式処理装置であって、
   前記回転ドラムによって前記シート基板が湾曲して支持される領域に配置されて、前記シート基板上の前記被処理領域を含む特定範囲内で前記シート基板の表面が所定の厚みを保った前記液体に浸されるように、前記回転ドラムの外周面から所定の隙間を持って周方向に円筒面状、多角面状、または多面体状に湾曲した内面を有する液体保持部と、
   前記液体の前記特定範囲外への遺漏を防止するために、前記シート基板の表面または前記回転ドラムの外周面と前記液体保持部との間に設けられるシール部と、
   を備える、湿式処理装置。
2. 請求項１に記載の湿式処理装置であって、
   前記シール部は、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式による気体層を、前記シート基板の表面または前記回転ドラムの外周面と前記液体保持部との間に形成するパッド部を有する、湿式処理装置。
3. 請求項２に記載の湿式処理装置であって、
   前記シール部の前記パッド部は、前記回転ドラムの外周面の周方向に倣うように円筒状に湾曲して設けられる、湿式処理装置。
4. 請求項１または２に記載の湿式処理装置であって、
   前記回転ドラムは、重力が働く方向とは反対側の前記外周面で前記シート基板を支持し、
   前記液体保持部は、前記シール部によって、前記液体を前記回転ドラムの重力が働く方向とは反対側で保持する、湿式処理装置。
5. 請求項１または２に記載の湿式処理装置であって、
   前記シート基板は、前記回転ドラムの前記外周面のうちの重力が働く方向と同じ側の前記外周面に湾曲して支持され、
   前記液体保持部は、前記液体を前記回転ドラムの重力が働く方向と同じ側で保持するように配置される、湿式処理装置。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の湿式処理装置であって、
   前記液体保持部に前記液体を供給する液体供給部と、
   前記液体保持部が保持している前記液体を回収する液体回収部と、
   を備える、湿式処理装置。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の湿式処理装置であって、
   前記液体保持部は、前記液体として現像液、メッキ液、または、洗浄液を保持する、湿式処理装置。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の湿式処理装置であって、
   前記液体保持部の前記所定の隙間が数１０μｍ〜数ｍｍである、湿式処理装置。
9. 可撓性を有する長尺のシート基板の一部を処理液に浸しながら、前記シート基板を長尺の方向に搬送することにより、前記シート基板を連続的に湿式処理する湿式処理装置であって、
   中心軸から第１の半径で円筒面状に湾曲した外周面を有し、該外周面の周方向の一部で前記シート基板の一部を長尺方向に円筒状に湾曲させて支持しつつ、前記中心軸を中心に回転して前記シート基板を長尺の方向に搬送する回転ドラムと、
   前記回転ドラムの外周面で支持される前記シート基板の部分と対向して配置されて、前記中心軸から前記第１の半径よりも大きな第２の半径で円筒面状に湾曲した内側の円筒面と、該内側の円筒面を挟んで前記回転ドラムの外周面の周方向に離れた端部の各々に前記中心軸の方向に延びて配置される第１のシール部と、前記内側の円筒面を挟んで前記中心軸の方向の端部の各々に前記シート基板の曲率又は前記回転ドラムの外周面の曲率とほぼ同じ曲率で周方向に円弧状に湾曲して配置される第２のシール部とを有し、前記第１のシール部と前記第２のシール部によって遺漏を防止した状態で、前記シート基板の表面と前記内側の円筒面との間の隙間に前記処理液を満たす液体保持部と、
   を備えた湿式処理装置。
10. 請求項９に記載の湿式処理装置であって、
    前記第１のシール部と前記第２のシール部の各々は、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式による気体層を、前記シート基板の表面又は前記回転ドラムの外周面と前記液体保持部との間に形成するパッド部を有する、湿式処理装置。
11. 請求項９に記載の湿式処理装置であって、
    前記第１のシール部と前記第２のシール部の各々は、磁性流体シールである、湿式処理装置。
12. 請求項９〜１１のうちのいずれか１項に記載の湿式処理装置であって、
    前記液体保持部は、前記内側の円筒面と前記シート基板の表面との間の隙間に前記処理液を供給する液体供給部と、前記隙間に供給された前記処理液を回収する液体回収部とを有する、湿式処理装置。
13. 請求項１２に記載の湿式処理装置であって、
    前記液体保持部は、前記回転ドラムの外周面の周方向に関して、重力が働く方向と同じ側、重力が働く方向と反対側、及び重力が働く方向と交差した側のうちの少なくとも１ヶ所に配置される、湿式処理装置。
14. 請求項１３に記載の湿式処理装置であって、
    前記液体保持部の前記内側の円筒面と前記シート基板の表面との間の前記隙間の前記半径の方向の間隔を数１０μｍ〜数ｍｍとした、湿式処理装置。
15. 請求項９〜１４のいずれか１項に記載の湿式処理装置であって、
    前記液体保持部は、純水、現像液、メッキ液、洗浄液のいずれか１つを前記処理液として保持する、湿式処理装置。
16. 請求項１５に記載の湿式処理装置であって、
    前記液体保持部の前記内側の円筒面は、前記処理液に対して親液性となるように設定される、湿式処理装置。

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