JP6377642B2 - ガス注入装置及びその装置を組み込む基板プロセスチャンバ - Google Patents
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Description
側面ポートは、注入口ポート606と排出口ポート608との間に形成され、ガス注入装置から排気口まで流れるガスのガス流の方向に対して、実質的に垂直となるような角度にある処理容積604にガスが流れることができるように構成されている。側面のガスは、処理容積604のエッジ領域近傍で、ガス分布の均一性を改善するのに有用となり得る。
Claims (14)
- ガス注入装置であって、
第1のガス注入口を備える細長い上部プレナム;
前記上部プレナムの下に配置され前記上部プレナムを支持する細長い底部プレナムであって、第2のガス注入口を備える底部プレナム;
前記底部プレナムを通って配置され、前記上部プレナムと流体結合される第1端部及び前記底部プレナムの下に配置される第2端部を有する複数の第1の導管;及び
前記底部プレナムと流体結合される第1端部及び前記底部プレナムの下に配置される第2端部を有する複数の第2の導管;を含み、
前記底部プレナムの下端は、前記複数の第1の導管の前記第2端部及び前記複数の第2の導管の前記第2端部が混合チャンバと流体連通するように、前記ガス注入装置を前記混合チャンバに流体結合するように適合され、
前記上部プレナム又は前記底部プレナムの少なくとも1つは渦ジェネレータを備える、ガス注入装置。 - 前記複数の第1の導管の前記第2端部及び前記複数の第2の導管の前記第2端部は前記底部プレナムの下端の下に配置されている、請求項1に記載のガス注入装置。
- 前記第1の導管及び前記第2の導管は、前記底部プレナムの前記下端で交互パターンで配置される、請求項1に記載のガス注入装置。
- 前記第1の導管又は前記第2の導管の少なくとも1つの前記第2端部はノズルを含む、請求項1に記載のガス注入装置。
- 前記渦ジェネレータは、前記プレナムの内部容積と流体連通している前記プレナム内の狭窄した容積領域、及び前記狭窄した容積領域へのガス注入口を備える、請求項1から4のいずれか一項に記載のガス注入装置。
- 第1のガス源は前記上部プレナムの第1端部及び前記上部プレナムの第2端部に流体結合される;又は
第2のガス源は前記底部プレナムの第1端部及び前記底部プレナムの第2端部に流体結合される
のうちの少なくとも一方である、請求項1から5のいずれか一項に記載のガス注入装置。 - 細長い本体及び前記本体を通って形成されるチャネルを備えるカートリッジを更に備え、前記複数の第1の導管の第2端部及び前記複数の第2の導管の第2端部は前記チャネルと流体連通するように、前記底部プレナムの下端が前記カートリッジに結合される、請求項1から5のいずれか一項に記載のガス注入装置。
- 渦ジェネレータと一対の対向する第1のガス注入口を有する細長い上部プレナムであって、前記渦ジェネレータは、前記上部プレナムの上方部分に狭窄した容積領域を備え、及び前記対向する第1のガス注入口は、前記狭窄した容積領域内で前記上部プレナムの対向する側面の上方部分に配置される、細長い上部プレナム;
前記上部プレナムの下に配置され前記上部プレナムを支持する細長い底部プレナムであって、前記細長い底部プレナムは、渦ジェネレータと一対の対向する第2のガス注入口を有し、前記渦ジェネレータは、前記底部プレナムの上方部分に狭窄した容積領域を備え、及び前記対向する第2のガス注入口は、前記狭窄した容積領域内で前記底部プレナムの対向する側面の上方部分に配置される、細長い底部プレナム;
前記底部プレナムを通って配置され、前記上部プレナムと流体結合される第1端部及び前記底部プレナムの下に配置される第2端部を有する複数の第1の導管;及び
前記底部プレナムに流体結合される第1端部及び前記底部プレナムの下に配置される第2端部を有する複数の第2の導管
を備えるガス注入装置。 - 内部容積及び前記内部容積の内外への基板の移送を容易にする基板トンネルを有するチャンバ本体を備え、請求項1から8のいずれか一項に記載の前記ガス注入装置は、前記ガス注入装置の混合チャンバが前記基板トンネルとなるように、前記基板トンネルに隣接する前記チャンバ本体に結合される、基板処理装置。
- 前記チャンバ本体は前記内部容積内に配置される基板支持体を更に備え、
前記チャンバ本体の前記ガス注入装置及び排気アセンブリは、前記基板支持体の基板支持体表面全体にわたるガスの流れを容易にする;又は
前記ガス注入装置は、前記基板支持体の直径に近い幅を有する、のうちの少なくとも一方である、請求項9に記載の基板処理装置。 - 前記第1の導管及び第2の導管はそれぞれ、第1のガス及び第2のガスを前記内部容積に供給するように構成される、請求項9又は10に記載の基板処理装置。
- 前記チャンバ本体を通って形成される側面ポートに結合される側面注入アセンブリを更に備える、請求項9又は10に記載の基板処理装置。
- 前記第1のガス注入口に結合される第1のガス源;及び
前記第2のガス注入口に結合される第2のガス源
を更に備える、請求項9又は10に記載の基板処理装置。 - 前記基板処理装置は急速熱処理装置で、前記第1のガス源は酸素ガス(O2)又は水素ガス(H2)のうちの一方を供給し、前記第2のガス源は前記酸素ガス(O2)又は前記水素ガス(H2)のうちの他方を供給する、請求項13に記載の基板処理装置。
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