JP6365393B2 - 希土類磁石の製造方法及び希土類化合物の塗布装置 - Google Patents
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Description
請求項1:
R1−Fe−B系組成(R1はY及びScを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上)からなる四角板状又は四角ブロック状の焼結磁石体に、R2の酸化物、フッ化物、酸フッ化物、水酸化物又は水素化物(R2はY及びScを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上)から選ばれる1種又は2種以上を含有する粉末を溶媒に分散したスラリーを塗布し乾燥させて、上記粉末を上記焼結磁石体表面に塗着させ、これを熱処理して上記R2を焼結磁石体に吸収させ希土類永久磁石を製造するに際し、
複数個の上記焼結磁石体を回転可能な治具に保持し、上記粉末を分散したスラリーに浸漬して該スラリーを各焼結磁石体に塗布し、これをスラリーから引き上げて治具と共に回転させ遠心力により各焼結磁石体表面の余剰のスラリーを除去した後、乾燥することにより、上記粉末を上記焼結磁石体表面に塗着させる希土類磁石の製造方法において、
上記治具の回転軸の周りに上記焼結磁石体を配置すると共に、この焼結磁石体を、厚さ方向を水平にした立位で、かつ長さ方向又は幅方向を遠心力の方向から0°超〜45°未満の角度で傾けた状態で、上記冶具に保持することにより、該焼結磁石体の形状を構成する外面のいずれの部分も上記遠心力の方向と直交しないように傾けた状態に保持して、上記スラリーの塗布を行うことを特徴とする希土類磁石の製造方法。
請求項2:
上記焼結磁石体を上記スラリーに浸漬し、余剰スラリーを除去し、乾燥させる塗布プロセスを複数回繰り返す請求項1記載の希土類磁石の製造方法。
請求項3:
上記焼結磁石体をスラリーに浸漬した状態で治具を5〜20rpmの低速で正逆回転させて該スラリーを焼結磁石体に塗布する請求項1又は2記載の希土類磁石の製造方法。
請求項4:
上記治具をスラリーから引き上げて170〜550rpmの高速で正逆回転させることにより焼結磁石体表面の余剰のスラリーを除去する請求項1〜3のいずれか1項に記載の希土類磁石の製造方法。
請求項5:
上記粉末を塗着させた焼結磁石体に対し、当該焼結磁石体の焼結温度以下の温度で、真空又は不活性ガス中で熱処理を施す請求項1〜4のいずれか1項に記載の希土類磁石の製造方法。
請求項6:
上記熱処理後、更に低温で時効処理を施す請求項1〜5のいずれか1項に記載の希土類磁石の製造方法。
請求項7:
R1−Fe−B系組成(R1はY及びScを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上)からなる四角板状又は四角ブロック状の焼結磁石体に、R2の酸化物、フッ化物、酸フッ化物、水酸化物又は水素化物(R2はY及びScを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上)から選ばれる1種又は2種以上を含有する粉末を溶媒に分散したスラリーを塗布し乾燥させて、上記粉末を上記焼結磁石体表面に塗着させ、これを熱処理して上記R2を焼結磁石体に吸収させ希土類永久磁石を製造するに際し、上記焼結磁石体に上記スラリーを塗布する塗布装置であって、
複数個の上記焼結磁石体を、厚さ方向を水平にした立位で、かつ長さ方向又は幅方向を遠心力の方向から0°超〜45°未満の角度で傾けた状態に保持して、該焼結磁石体の形状を構成する外面のいずれの部分も上記遠心力の方向と直交しないように傾けた状態で回転中心の周りに保持する治具と、
該治具を、上記回転中心を通る回転軸を中心にして回転させる回転手段と、
上記粉末を溶媒に分散したスラリーを収容し、このスラリーに上記焼結磁石体を浸漬してスラリーを塗布するスラリータンクと、
該スラリータンク内のスラリーに上記治具に保持された焼結磁石体を浸漬し、引き上げる昇降手段とを具備してなり、
上記スラリータンクに上記スラリーを収容すると共に、上記治具に上記焼結磁石体を保持させ、上記昇降手段により、該治具に保持された焼結磁石体を上記スラリータンク内のスラリー中に浸漬して該スラリーを上記焼結磁石体表面に塗布し、上記昇降手段により該焼結磁石体をスラリーから引き上げて上記回転手段により回転させることにより、遠心力で該焼結磁石体表面の余剰のスラリーを除去するように構成したことを特徴とする希土類化合物の塗布装置。
請求項8:
上記スラリータンクの中間高さまで上記スラリーを収容し、該スラリーから焼結磁石体を引き上げてスラリータンク内の上部に保持し回転させることにより、該スラリータンク内で余剰のスラリーの除去を行うように構成した請求項7記載の希土類化合物の塗布装置。
請求項9:
上記治具が、上記回転手段に着脱可能な籠体と、該籠体内の底部に配設され、上記焼結磁石体を上記回転中心の周りに配置し保持する処理物保持体とからなる請求項7又は8記載の希土類化合物の塗布装置。
請求項10:
上記処理物保持体が、上記焼結磁石体を保持する保持ポケットが複数形成された円弧状のラックを複数個組み合わせて上記回転中心の周りに円形に配置したものである請求項9記載の希土類化合物の塗布装置。
請求項11:
上記回転手段が、治具を速度調節可能に正逆回転させるものであり、上記焼結磁石体をスラリーに浸漬した状態で治具を5〜20rpmの低速で正逆回転させて該スラリーを焼結磁石体に塗布するように構成された請求項7〜10のいずれか1項に記載の希土類化合物の塗布装置。
請求項12:
上記回転手段が、治具を速度調節可能に正逆回転させるものであり、上記スラリーから引き上げた治具を170〜550rpmの高速で正逆回転させることにより焼結磁石体表面の余剰のスラリーを除去するように構成された請求項7〜11のいずれか1項に記載の希土類化合物の塗布装置。
Ndが14.5原子%、Cuが0.2原子%、Bが6.2原子%、Alが1.0原子%、Siが1.0原子%、Feが残部からなる薄板状の合金を、純度99質量%以上のNd、Al、Fe、Cuメタル、純度99.99質量%のSi、フェロボロンを用いてAr雰囲気中で高周波溶解した後、銅製単ロールに注湯するいわゆるストリップキャスト法により薄板状の合金とした。得られた合金を室温にて0.11MPaの水素化に曝して水素を吸蔵させた後、真空排気を行ないながら500℃まで加熱して部分的に水素を放出させ、冷却してから篩いにかけて、50メッシュ以下の粗粉末とした。
スラリーへの浸漬時間:3秒(回転なし)
余剰スラリー除去時の回転条件:400rpmで正逆10秒ずつ、合計20秒
乾燥:ヘレウス社製のTwin Tube透明石英ガラス製短波長赤外線ヒーターのユニット(ZKB1500/200G 出力1500W、加熱長200mm、冷却ファン付き)を2箇所に各3本ずつ組み込み、回転数10rpmでゆっくりと一方向に回転させた状態で近赤外線加熱を7秒間行った。
実施例1と同様にして、20mm×45mm×5mm(磁気異方性化した方向)のブロック状磁石体を用意した。また、平均粉末粒径0.2μmのフッ化ディスプロシウムを質量分率40%でエタノールと混合し、よく分散させてスラリーを調製し、実施例1と同様にしてフッ化ディスプロシウム粉末の塗膜を形成し同様に塗着量(μg/mm2)を測定した。保磁力増大効果がピークとなる塗着量を1.00とした時の単位面積当たりの比率を表1に示した。
実施例1と同様にして、20mm×45mm×5mm(磁気異方性化した方向)のブロック状磁石を用意した。また、平均粉末粒径0.2μmのフッ化ディスプロシウムを質量分率40%でエタノールと混合し、よく分散させてスラリーを調製し、実施例1と同様の塗布装置を用いてフッ化ディスプロシウムの塗布を行った。このとき、スラリー塗布後に図3に示された余剰スラリーの除去を行わずに直接図4に示された乾燥処理を行ってフッ化ディスプロシウムの塗膜を形成した。その他は実施例1と同様の条件とした。
余剰スラリー除去時の回転条件を、50rpmで正逆10秒ずつ合計20秒としたこと以外は実施例1同様にして焼結磁石体にフッ化ディスプロシウムの塗膜を形成し、同様に塗着量(μg/mm2)を測定した。保磁力増大効果がピークとなる塗着量を1.00とした時の単位面積当たりの比率を表1に示した。また、実施例1と同様に、熱処理して吸収処理を施し、同様に時効処理して急冷することにより希土類磁石を得た。実施例1と同様に磁石体を切り出し、その保磁力を測定して保磁力の増大量を求めた。結果を表2に示す。
図8に示された傾き角度rを下記のとおり変更して、実施例1と同様に、焼結磁石体にフッ化ディスプロシウムの塗膜を形成し、同様に塗着量(μg/mm2)を測定した。保磁力増大効果がピークとなる塗着量を1.00とした時の単位面積当たりの比率を表3に示した。
(傾き角度r)
実施例3:15°
実施例4:30°
比較例2:0°
参考例2:45°
2 治具
21 籠体
22 処理物保持体
221 ラック
222 上段の薄板
223 下段の薄板
225 支柱
226,227 貫通穴
228 保持ポケット
231 回転軸(回転中心)
232 遠心力の方向
233 保持ポケットの形成方向(焼結磁石体の幅方向)
3 回転手段
31 チャック部
4 スラリータンク
41 スラリー
42 昇降機(昇降手段)
5 乾燥手段
51 ヒータ
52 排気フード
r 傾き角度
T 厚さ方向
L 長さ方向
W 幅方向
Claims (12)
- R1−Fe−B系組成(R1はY及びScを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上)からなる四角板状又は四角ブロック状の焼結磁石体に、R2の酸化物、フッ化物、酸フッ化物、水酸化物又は水素化物(R2はY及びScを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上)から選ばれる1種又は2種以上を含有する粉末を溶媒に分散したスラリーを塗布し乾燥させて、上記粉末を上記焼結磁石体表面に塗着させ、これを熱処理して上記R2を焼結磁石体に吸収させ希土類永久磁石を製造するに際し、
複数個の上記焼結磁石体を回転可能な治具に保持し、上記粉末を分散したスラリーに浸漬して該スラリーを各焼結磁石体に塗布し、これをスラリーから引き上げて治具と共に回転させ遠心力により各焼結磁石体表面の余剰のスラリーを除去した後、乾燥することにより、上記粉末を上記焼結磁石体表面に塗着させる希土類磁石の製造方法において、
上記治具の回転軸の周りに上記焼結磁石体を配置すると共に、この焼結磁石体を、厚さ方向を水平にした立位で、かつ長さ方向又は幅方向を遠心力の方向から0°超〜45°未満の角度で傾けた状態で、上記冶具に保持することにより、該焼結磁石体の形状を構成する外面のいずれの部分も上記遠心力の方向と直交しないように傾けた状態に保持して、上記スラリーの塗布を行うことを特徴とする希土類磁石の製造方法。 - 上記焼結磁石体を上記スラリーに浸漬し、余剰スラリーを除去し、乾燥させる塗布プロセスを複数回繰り返す請求項1記載の希土類磁石の製造方法。
- 上記焼結磁石体をスラリーに浸漬した状態で治具を5〜20rpmの低速で正逆回転させて該スラリーを焼結磁石体に塗布する請求項1又は2記載の希土類磁石の製造方法。
- 上記治具をスラリーから引き上げて170〜550rpmの高速で正逆回転させることにより焼結磁石体表面の余剰のスラリーを除去する請求項1〜3のいずれか1項に記載の希土類磁石の製造方法。
- 上記粉末を塗着させた焼結磁石体に対し、当該焼結磁石体の焼結温度以下の温度で、真空又は不活性ガス中で熱処理を施す請求項1〜4のいずれか1項に記載の希土類磁石の製造方法。
- 上記熱処理後、更に低温で時効処理を施す請求項1〜5のいずれか1項に記載の希土類磁石の製造方法。
- R1−Fe−B系組成(R1はY及びScを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上)からなる四角板状又は四角ブロック状の焼結磁石体に、R2の酸化物、フッ化物、酸フッ化物、水酸化物又は水素化物(R2はY及びScを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上)から選ばれる1種又は2種以上を含有する粉末を溶媒に分散したスラリーを塗布し乾燥させて、上記粉末を上記焼結磁石体表面に塗着させ、これを熱処理して上記R2を焼結磁石体に吸収させ希土類永久磁石を製造するに際し、上記焼結磁石体に上記スラリーを塗布する塗布装置であって、
複数個の上記焼結磁石体を、厚さ方向を水平にした立位で、かつ長さ方向又は幅方向を遠心力の方向から0°超〜45°未満の角度で傾けた状態に保持して、該焼結磁石体の形状を構成する外面のいずれの部分も上記遠心力の方向と直交しないように傾けた状態で回転中心の周りに保持する治具と、
該治具を、上記回転中心を通る回転軸を中心にして回転させる回転手段と、
上記粉末を溶媒に分散したスラリーを収容し、このスラリーに上記焼結磁石体を浸漬してスラリーを塗布するスラリータンクと、
該スラリータンク内のスラリーに上記治具に保持された焼結磁石体を浸漬し、引き上げる昇降手段とを具備してなり、
上記スラリータンクに上記スラリーを収容すると共に、上記治具に上記焼結磁石体を保持させ、上記昇降手段により、該治具に保持された焼結磁石体を上記スラリータンク内のスラリー中に浸漬して該スラリーを上記焼結磁石体表面に塗布し、上記昇降手段により該焼結磁石体をスラリーから引き上げて上記回転手段により回転させることにより、遠心力で該焼結磁石体表面の余剰のスラリーを除去するように構成したことを特徴とする希土類化合物の塗布装置。 - 上記スラリータンクの中間高さまで上記スラリーを収容し、該スラリーから焼結磁石体を引き上げてスラリータンク内の上部に保持し回転させることにより、該スラリータンク内で余剰のスラリーの除去を行うように構成した請求項7記載の希土類化合物の塗布装置。
- 上記治具が、上記回転手段に着脱可能な籠体と、該籠体内の底部に配設され、上記焼結磁石体を上記回転中心の周りに配置し保持する処理物保持体とからなる請求項7又は8記載の希土類化合物の塗布装置。
- 上記処理物保持体が、上記焼結磁石体を保持する保持ポケットが複数形成された円弧状のラックを複数個組み合わせて上記回転中心の周りに円形に配置したものである請求項9記載の希土類化合物の塗布装置。
- 上記回転手段が、治具を速度調節可能に正逆回転させるものであり、上記焼結磁石体をスラリーに浸漬した状態で治具を5〜20rpmの低速で正逆回転させて該スラリーを焼結磁石体に塗布するように構成された請求項7〜10のいずれか1項に記載の希土類化合物の塗布装置。
- 上記回転手段が、治具を速度調節可能に正逆回転させるものであり、上記スラリーから引き上げた治具を170〜550rpmの高速で正逆回転させることにより焼結磁石体表面の余剰のスラリーを除去するように構成された請求項7〜11のいずれか1項に記載の希土類化合物の塗布装置。
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