JP6355137B2 - 信号分析装置、信号分析方法及びコンピュータプログラム - Google Patents

信号分析装置、信号分析方法及びコンピュータプログラム Download PDF

Info

Publication number
JP6355137B2
JP6355137B2 JP2016215730A JP2016215730A JP6355137B2 JP 6355137 B2 JP6355137 B2 JP 6355137B2 JP 2016215730 A JP2016215730 A JP 2016215730A JP 2016215730 A JP2016215730 A JP 2016215730A JP 6355137 B2 JP6355137 B2 JP 6355137B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
distribution
clusters
dimensional coordinate
distance
cluster
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016215730A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017032591A (ja
Inventor
田中 利幸
利幸 田中
潤 大久保
潤 大久保
利和 万木
利和 万木
弘義 澤
弘義 澤
世智 佐藤
世智 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Horiba Ltd
Kyoto University
Original Assignee
Horiba Ltd
Kyoto University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Horiba Ltd, Kyoto University filed Critical Horiba Ltd
Publication of JP2017032591A publication Critical patent/JP2017032591A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6355137B2 publication Critical patent/JP6355137B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/65Raman scattering
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/225Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076X-ray fluorescence
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/40Imaging
    • G01N2223/402Imaging mapping distribution of elements

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Description

本発明は、二次元座標系上の信号分布から、複数の信号の強度の組み合わせが異なる部分の分布を求める信号分析装置、信号分析方法及びコンピュータプログラムに関する。
X線分析は、電子線又はX線等の放射線を試料へ照射し、試料から発生する特性X線のスペクトルから試料に含有される成分を分析する手法である。特に、放射線ビームを走査しながら試料に照射し、試料上の各点からの特性X線を検出し、特性X線のスペクトルを試料上の各点に対応づけたスペクトル分布を作成し、スペクトル分布を用いて試料中の成分を分析することが行われる。試料へ照射する放射線を電子線としたX線分析の一例として、エネルギー分散型X線分析(EDX:Energy Dispersive X-ray Spectroscopy)が知られている。また試料へ照射する放射線をX線としたX線分析の一例として、蛍光X線分析がある。また、X線分析以外の分析手法にも、スペクトル分布を作成できる分析手法がある。例えば、ラマン分光分析では、試料上の各点に対応する画像上の各点についてラマン光のスペクトルが記録されたスペクトル分布を作成することができる。
特定の元素からは特定波長の特性X線が取得できるので、試料上の各点でのスペクトル中の特定波長の信号強度を調べることで、特定の元素の分布を得ることができる。試料には複数の元素が含まれているので、スペクトル分布からは、複数の元素の分布が得られる。通常、試料には複数の成分が含まれており、各成分には複数の元素が含まれている。例えば、試料が岩石である場合は、岩石は複数の鉱物成分で構成され、各鉱物成分は複数の元素を含有する。成分が異なっていても同一の元素が含まれていることがあるので、一般的には試料中の成分の分布と元素の分布とは一致しない。
特許文献1には、スペクトル分布から複数の元素分布を求め、複数の元素分布から試料中の成分の分布を求める方法が記載されている。この方法では、各点について適当な係数を用いて複数の元素分布での値の線形和を二通り計算し、各点での線形和の値を二次元にプロットした散布図を作成し、散布図上でほぼ同じ領域に集まった点を同一成分に含まれる点であると判定する。適当な係数の計算には、主成分分析を用いる。スペクトル分布上の点と、各点が含まれると判定した成分とを対応づけることにより、試料中の成分の分布を知ることができる。この方法は、ラマン分光分析等のX線分析以外の分析手法で得られたスペクトル分布についても適用可能である。
特許第3461208号公報
特許文献1に記載の技術では、主成分分析によって得られた散布図上で複数の点を分類する作業は、使用者が行うので、使用者の主観が分類結果に影響するという問題がある。また、散布図上の距離等に基づいて自動で分類を行う方法も存在するものの、分析の性能を調整することが難しいという問題がある。
本発明は、斯かる事情に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、使用者の主観を排した分析を行うとともに、分析の性能の調整が可能である信号分析装置、信号分析方法及びコンピュータプログラムを提供することにある。
本発明に係る信号分析装置は、一又は複数の信号からなるスペクトルが二次元座標系上の各点について定められたスペクトル分布から、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を求める信号分析装置において、前記スペクトル分布から、複数の特定信号の強度分布を生成する手段と、生成した複数の特定信号の強度分布の内でn個(nは2以上の整数)の特定信号の強度分布を記憶する手段と、前記スペクトル分布に含まれる各点について、n個の特定信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点を生成する手段と、生成した複数のn次元座標点をn次元空間上の位置に応じて分類するための複数のクラスタの数を定める手段と、各クラスタに含まれるn次元座標点の確率分布モデルを生成する手段と、生成した複数のn次元座標点の夫々が各クラスタに含まれる確率を計算する処理を行う確率計算手段と、計算した確率から得られる複数のn次元座標点の分類の尤もらしさがより大きくなるように、各クラスタの確率分布モデルを更新する処理を行うモデル更新手段と、前記確率計算手段及び前記モデル更新手段に処理を繰り返し実行させる繰り返し手段と、n次元空間上でのクラスタ間の距離を判定するための閾値を受け付ける受付手段と、複数のクラスタの中に、n次元空間上での互いの距離が前記閾値に対応する特定の距離以下である複数のクラスタがあるか否かを判定する判定手段と、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタがある場合に、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタを一つのクラスタにまとめる結合手段と、複数のクラスタ別に、各クラスタに含まれるn次元座標点に対応する点の前記スペクトル分布内での分布を特定することにより、n個の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を生成する分布生成手段と、前記受付手段、前記判定手段、前記結合手段及び前記分布生成手段を繰り返し実行させることにより前記閾値を調整する調整手段とを備えることを特徴とする。
本発明に係る信号分析装置は、前記分布生成手段は、複数種類の物質成分の分布に対応する前記複数種類のスペクトルの分布を生成することを特徴とする。
本発明に係る信号分析装置は、同一の測定対象から測定された複数の信号の強度分布から、前記測定対象に含まれる部分の内で測定される前記複数の信号の強度の組み合わせが異なる複数種類の部分の分布を求める信号分析装置において、n個の信号の強度分布を記憶する手段と、前記測定対象中の各点について、n個の信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点を生成する手段と、生成した複数のn次元座標点をn次元空間上の位置に応じて分類するための複数のクラスタの数を定める手段と、各クラスタに含まれるn次元座標点の確率分布モデルを生成する手段と、生成した複数のn次元座標点の夫々が各クラスタに含まれる確率を計算する処理を行う確率計算手段と、計算した確率から得られる複数のn次元座標点の分類の尤もらしさがより大きくなるように、各クラスタの確率分布モデルを更新する処理を行うモデル更新手段と、前記確率計算手段及び前記モデル更新手段に処理を繰り返し実行させる繰り返し手段と、n次元空間上でのクラスタ間の距離を判定するための閾値を受け付ける受付手段と、複数のクラスタの中に、n次元空間上での互いの距離が前記閾値に対応する特定の距離以下である複数のクラスタがあるか否かを判定する判定手段と、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタがある場合に、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタを一つのクラスタにまとめる結合手段と、複数のクラスタ別に、各クラスタに含まれるn次元座標点に対応する点の前記測定対象内での分布を特定することにより、前記複数種類の部分の前記測定対象中での分布を生成する分布生成手段と、前記受付手段、前記判定手段、前記結合手段及び前記分布生成手段を繰り返し実行させることにより前記閾値を調整する調整手段とを備えることを特徴とする。
本発明に係る信号分析装置は、前記分布生成手段は、複数種類の物質成分の分布に対応する、前記複数種類の部分の前記測定対象中での分布を生成することを特徴とする。
本発明に係る信号分析装置は、前記繰り返し手段は、所定の収束条件が満たされるまで前記確率計算手段及び前記モデル更新手段に処理を繰り返し実行させることを特徴とする。
本発明に係る信号分析装置は、前記確率計算手段、前記モデル更新手段及び前記繰り返し手段が、EM(Expectation-maximization)アルゴリズムに従った処理を実行することを特徴とする。
本発明に係る信号分析装置は、クラスタ数の初期値を受け付ける手段を更に備えることを特徴とする。
本発明に係る信号分析方法は、演算部及び記憶部を備えるコンピュータにより、一又は複数の信号からなるスペクトルが二次元座標系上の各点について定められたスペクトル分布から、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を求める信号分析方法において、前記スペクトル分布から、複数の特定信号の強度分布を演算部で生成し、生成した複数の特定信号の強度分布の内でn個の特定信号の強度分布を記憶部で記憶し、前記スペクトル分布に含まれる各点について、n個の特定信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点を演算部で生成し、生成した複数のn次元座標点をn次元空間上の位置に応じて分類するための複数のクラスタの数を定める処理を演算部で実行し、各クラスタに含まれるn次元座標点の確率分布モデルを演算部で生成し、生成した複数のn次元座標点の夫々が各クラスタに含まれる確率を計算する確率計算処理を演算部で実行し、計算した確率から得られる複数のn次元座標点の分類の尤もらしさがより大きくなるように、各クラスタの確率分布モデルを更新するモデル更新処理を演算部で実行し、前記確率計算処理及び前記モデル更新処理を演算部で繰り返し実行し、n次元空間上でのクラスタ間の距離を判定するための閾値を受け付ける受付処理を演算部で実行し、複数のクラスタの中に、n次元空間上での互いの距離が前記閾値に対応する特定の距離以下である複数のクラスタがあるか否かを判定する判定処理を演算部で実行し、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタがある場合に、演算部で、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタを一つのクラスタにまとめる結合処理を演算部で実行し、複数のクラスタ別に、各クラスタに含まれるn次元座標点に対応する点の前記スペクトル分布内での分布を特定することにより、n個の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を生成する分布生成処理を演算部で実行し前記受付処理、前記判定処理、前記結合処理及び前記分布生成処理を演算部で繰り返し実行することにより前記閾値を調整し、生成した前記複数種類のスペクトルの分布を記憶部で記憶することを特徴とする。
本発明に係るコンピュータプログラムは、一又は複数の信号からなるスペクトルが二次元座標系上の各点について定められたスペクトル分布から、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を求める処理をコンピュータに実行させるコンピュータプログラムにおいて、コンピュータに、前記スペクトル分布から、複数の特定信号の強度分布を生成するステップと、前記スペクトル分布に含まれる各点について、強度分布を生成した複数の特定信号の内でn個の特定信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点を生成するステップと、生成した複数のn次元座標点をn次元空間上の位置に応じて分類するための複数のクラスタの数を定めるステップと、各クラスタに含まれるn次元座標点の確率分布モデルを生成するステップと、生成した複数のn次元座標点の夫々が各クラスタに含まれる確率を計算する確率計算処理を行うステップと、計算した確率から得られる複数のn次元座標点の分類の尤もらしさがより大きくなるように、各クラスタの確率分布モデルを更新するモデル更新処理を行うステップと、前記確率計算処理及び前記モデル更新処理を繰り返すステップと、n次元空間上でのクラスタ間の距離を判定するための閾値を受け付ける受付処理を行うステップと、複数のクラスタの中に、n次元空間上での互いの距離が前記閾値に対応する特定の距離以下である複数のクラスタがあるか否かを判定する判定処理を行うステップと、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタがある場合に、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタを一つのクラスタにまとめる結合処理を行うステップと、複数のクラスタ別に、各クラスタに含まれるn次元座標点に対応する点の前記スペクトル分布内での分布を特定することにより、n個の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を生成する分布生成処理を行うステップと、前記受付処理、前記判定処理、前記結合処理及び前記分布生成処理を繰り返すことにより前記閾値を調整するステップとを含む処理を実行させることを特徴とする。
本発明においては、スペクトル分布から複数の特定信号の強度分布を生成し、n個の特定信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点を生成し、n次元座標点を複数のクラスタに分類し、クラスタ別にスペクトルの分布を生成する。複数の元素が含まれる物質成分の分布等に対応する特定の形状のスペクトルの分布が得られる。
本発明においては、同一の測定対象から測定された複数の信号の強度分布から、n個の信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点を生成し、n次元座標点を複数のクラスタに分類し、クラスタ別に測定対象中の部分の分布を生成する。測定対象に関して、含有する物質成分の種類又は電子状態等が互いに異なる測定対象中の複数種類の部分の分布が得られる。
また本発明においては、n次元座標点を複数のクラスタに分類する際に、EMアルゴリズムに従った処理を実行することにより、正確に信号分析を行う。
また本発明においては、n次元空間上で互いに近い複数のクラスタは一つのクラスタにまとめる。このため、適正な数のクラスタが得られる。
また本発明においては、クラスタ数の初期値を任意に指定することが可能である。クラスタ数の指定により、処理の精度及び処理時間等が調整される。
本発明にあっては、使用者の主観を排した信号分布の分析が可能であり、また分析に使用する特定信号の組み合わせにより分析の性能の調整が可能である等、優れた効果を奏する。
本発明の信号分析装置の構成を示すブロック図である。 スペクトルの例を示す模式的特性図である。 実施の形態1に係る信号分析装置が行う処理の手順を示すフローチャートである。 実施の形態1に係る信号分析装置が行う処理の手順を示すフローチャートである。 信号分布画像の例を示す模式図である。 信号分布画像の例を示す模式図である。 信号分布画像の例を示す模式図である。 信号分布画像の例を示す模式図である。 n次元座標点をn次元座標上にプロットした散布図の例を示す。 複数種類のスペクトルの分布を表す画像の例を示す模式図である。 複数種類のスペクトルの分布を表す画像の例を示す模式図である。 複数種類のスペクトルの分布を表す画像の例を示す模式図である。 実施の形態2に係る信号分析装置が行う処理の手順を示すフローチャートである。 実施の形態2に係る信号分析装置が行う処理の手順を示すフローチャートである。
以下本発明をその実施の形態を示す図面に基づき具体的に説明する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の信号分析装置1の構成を示すブロック図である。信号分析装置1は、パーソナルコンピュータ(PC)等の汎用コンピュータを用いて構成されている。信号分析装置1は、演算を行うCPU(演算部)11と、演算に伴って発生する一時的な情報を記憶するRAM12と、光ディスク等の記録媒体2から情報を読み取るCD−ROMドライブ等のドライブ部13と、不揮発性の記憶部14とを備えている。記憶部14は例えばハードディスクである。CPU11は、記録媒体2から本発明のコンピュータプログラム21をドライブ部13に読み取らせ、読み取ったコンピュータプログラム21を記憶部14に記憶させる。CPU11は、必要に応じてコンピュータプログラム21を記憶部14からRAM12へロードし、ロードしたコンピュータプログラム21に従って信号分析装置1に必要な処理を実行する。また、信号分析装置1は、使用者が操作することによる各種の処理指示等の情報が入力されるキーボード又はポインティングデバイス等の入力部16と、各種の情報を表示する液晶ディスプレイ等の表示部17とを備えている。
なお、コンピュータプログラム21は、図示しない通信ネットワークを介して信号分析装置1に接続された図示しない外部のサーバ装置から信号分析装置1へダウンロードされて記憶部14に記憶されてもよい。また信号分析装置1は、外部からコンピュータプログラム21を受け付けるのではなく、コンピュータプログラム21を記録したROM等の記録手段を内部に備えた形態であってもよい。
また信号分析装置1は、二次元のスペクトル分布を測定する測定装置3に接続されたインタフェース部15を備えている。測定装置3は、例えば、EDX装置、蛍光X線測定装置又はラマン分光装置等である。EDX装置は、試料上の各点へ電子線を照射し、試料上の各点から発生する特性X線を検出し、各点から得られた特性X線のスペクトルが二次元座標系上に分布したスペクトル分布を測定する。蛍光X線測定装置は、試料上の各点へX線を照射し、試料上の各点から発生する蛍光X線を検出し、各点から得られた蛍光X線のスペクトルが二次元座標系上に分布したスペクトル分布を測定する。ラマン分光装置は、試料上の各点へ光を照射し、試料上の各点から発生するラマン光を検出し、各点から得られたラマン光のスペクトルが二次元座標系上に分布したスペクトル分布を測定する。測定装置3は、スペクトル分布を測定できる装置であれば、その他の装置であってもよい。
図2は、スペクトルの例を示す模式的特性図である。一般的にスペクトルは複数の信号の組み合わせで構成される。図2中の横軸は波長であり、縦軸は各波長における信号の強度である。図2中には、スペクトルに含まれる一つの信号のピークを矢印で示している。スペクトルに含まれる信号は、波長によって同定される。特性X線のスペクトルの場合は、各信号は試料に含まれる元素に起因している。測定装置3が測定するスペクトル分布は、試料の表面に対応する二次元座標系上の各点について得られたスペクトルで構成される。各スペクトルは、含まれる信号の強度の組みあわせが互いに異なり、スペクトルの形状が互いに異なっている。例えば、スペクトルによっては、単数の信号からなるものもあり、信号強度がゼロのものもあり得る。なお、スペクトルの横軸は波長に限るものではなく、エネルギー又は波数等であってもよい。またスペクトルの横軸は絶対的な値に限るものではなく、特定の波長からの波長のずれ等の相対的な値であってもよい。
次に、信号分析装置1が行う処理を説明する。図3及び図4は、実施の形態1に係る信号分析装置1が行う処理の手順を示すフローチャートである。CPU11は、コンピュータプログラムに従って、以下の処理を実行する。測定装置3からインタフェース部15へスペクトル分布データが入力され、CPU11は、スペクトル分布データを記憶部14に記憶させる(S1)。スペクトル分布データは、試料上の各点の二次元座標と、各点から得られたスペクトルのデータとが関連付けられたデータである。またスペクトルのデータは、波長等と信号強度とが関連付けられたデータである。CPU11は、次に、スペクトル分布データから、複数の特定信号の強度分布を示す信号分布データを生成する(S2)。具体的には、ステップS2では、CPU11は、予め定められている波長で同定される特定信号の信号強度を各点のスペクトルから読み出し、読み出した信号強度を二次元座標系上の各点に対応づけた信号分布データを生成する。即ち、信号分布データは、試料上の各点の二次元座標と、特定の波長での信号強度とが関連付けられたデータである。記憶部14は、特定信号の波長として複数の波長を予め記憶しており、CPU11は、複数の特定信号の夫々について信号分布データを生成する。即ち、ステップS2では、複数の信号分布データが生成される。なお、特定信号の波長はコンピュータプログラム21に含まれていてもよい。また、特定信号はエネルギー又は波数等で同定されてもよい。また、特定信号は、スペクトル中のピークの位置では無く、スペクトル中の信号波形から同定してもよい。また、信号分析装置1は、外部で生成された信号分布データを入力され、ステップS3以降の処理を実行する形態であってもよい。
CPU11は、次に、生成した信号分布データに基づいて、二次元座標系上の特定信号の強度分布を表した信号分布画像を表示部17に表示させる(S3)。図5A、図5B、図5C及び図5Dは、信号分布画像の例を示す模式図である。図5A、図5B、図5C及び図5Dには、一つのスペクトル分布から得られた四つの信号分布画像を示す。図上でハッチングをかけた部分は、特定信号の強度が0より大きい部分を示す。特定信号の強度が0より大きい部分内でも信号強度は各点で異なる。図5A、図5B、図5C及び図5Dに示す四つの信号分布画像は、夫々に異なる信号の強度分布を表す。図5Aに示す強度分布を信号aの強度分布とし、図5Bに示す強度分布を信号bの強度分布とし、図5Cに示す強度分布を信号cの強度分布とし、図5Dに示す強度分布を信号dの強度分布とする。スペクトルが特性X線のスペクトルの場合は、信号分布画像は試料に含まれる特定元素の濃度分布を示している。信号分析装置1は、ステップS4以降で、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を求める処理を行う。複数種類のスペクトルの分布は、複数の特定元素の含有量が互いに異なる複数種類の物質成分の試料中の分布に対応する。
CPU11は、次に、使用者が入力部16を操作することにより、信号分布画像を表示した複数の特定信号の中から、n個の特定信号の選択を受け付ける(S4)。nは2以上の整数であり、CPU11は、ステップS4で二個以上の特定信号の選択を受け付ける。例えば、図5A及び図5Dに信号分布画像を示した信号a及びdが選択されるとする。なお、CPU11は、自動で適当に特定信号を選択してもよい。CPU11は、次に、選択されたn個の信号分布データを記憶部14に記憶させる(S5)。CPU11は、次に、選択されたn個の特定信号の強度の組み合わせでなるn次元データを生成する(S6)。具体的には、CPU11は、二次元座標系上の各点について、選択されたn個の特定信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点を生成し、二次元座標系上の各点の二次元座標とn次元座標とを関連付けたn次元データを生成する。
図6は、n次元座標点をn次元座標上にプロットした散布図の例を示す。図6には、特定信号として信号a及びdを選択したn=2の場合を示している。図6中の横軸は、信号aの強度を示し、縦軸は信号dの強度を示している。試料の表面に対応する二次元座標系上の各点について、n次元空間上にn次元座標点がプロットされる。n次元座標点はn次元空間上で重なることもある。なお、信号分析装置1は、外部で生成されたn次元データを入力され、ステップS7以降の処理を実行する形態であってもよい。信号分析装置1は、ステップS7以降で、EM(Expectation-maximization)アルゴリズムにより複数のn次元座標点を複数のクラスタに分類する処理を行う。
CPU11は、次に、使用者が入力部16を操作することにより、クラスタ数の初期値を受け付ける(S7)。CPU11は、ステップS7で、適当な数値をクラスタ数の初期値として定める処理を行ってもよい。CPU11は、次に、定められた数のクラスタの夫々について、クラスタに含まれるn次元座標点の確率分布モデルの初期設定を行う(S8)。具体的には、CPU11は、n次元空間上の各点が各クラスタに含まれる確率を示す確率分布のパラメータを設定する。確率分布のパラメータには、各クラスタのn次元空間上の中心位置が含まれる。確率分布としては、EMアルゴリズムで利用される混合ガウス分布又は混合ポアソン分布等の確率分布を用いる。
CPU11は、次に、各クラスタの確率分布モデルに基づいて、n次元空間上の各n次元座標点が各クラスタに含まれる確率を計算する(S9)。ステップS9の処理は、EMアルゴリズムにおけるE(Expectation )ステップに対応する。CPU11は、次に、全体の尤度を上昇させるように各クラスタの確率分布モデルのパラメータを更新する処理を行う(S10)。具体的には、各クラスタのn次元空間上の中心位置等の確率分布のパラメータを更新する。ステップS10の処理は、EMアルゴリズムにおけるM(maximization )ステップに対応する。
CPU11は、次に、EMアルゴリズムの収束判定を行う(S11)。収束の指標には、尤度の値、変化量若しくは変化率、又は確率分布モデルのパラメータの値、変化量若しくは変化率等、EMアルゴリズムで一般的に用いられる指標を用いる。例えば、CPU11は、尤度の変化量が所定値以下の場合に、収束したと判定し、尤度の変化量が所定値より大きい場合に、まだ収束していないと判定する。なお、信号分析装置1は、ステップS9、S10及びS11において、EMアルゴリズム以外の最尤法又は最大事後確率推定法のアルゴリズムを用いて処理を実行する形態であってもよい。例えば、信号分析装置1は、soft k-meansクラスタリング又はNewton-Raphson法のアルゴリズムを用いた処理を行ってもよい。
ステップS11でまだ収束していない場合は(S11:NO)、CPU11は、処理をステップS9へ戻す。収束したと判定した場合は(S11:YES)、CPU11は、複数のクラスタの中に、n次元空間上での互いの距離が所定距離以下の近い距離になっている複数のクラスタがあるか否かを判定する(S12)。例えば、ステップS12では、CPU11は、二つのクラスタ間で中心間のマハラノビス距離を計算し、計算したマハラノビス距離が所定値以下であるか否かに基づいて判定する。また例えば、CPU11は、二つのクラスタ間で中心へのベクトルの内積を計算し、計算した内積が所定の閾値より1に近い場合に互いの距離が所定距離以下であると判定する。CPU11は、二つのクラスタ間の距離を判定する処理を、全てのクラスタの組み合わせについて実行する。ステップS12では、CPU11は、その他の方法で判定を行ってもよい。互いに近い複数のクラスタがある場合は(S12:YES)、CPU11は、近い複数のクラスタを結合する(S13)。具体的には、CPU11は、複数のクラスタの範囲を新たな一つのクラスタの範囲であると定める処理を行う。図6には、クラスタの範囲を実線で示している。図6に示した例では、四つのクラスタが得られている。
ステップS13が終了した後、又はステップS12で互いに近いクラスタが無い場合は(S12:NO)、CPU11は、各クラスタに含まれるn次元座標点に対応する二次元座標系上の点を特定することにより、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布データを個別に生成する(S14)。各スペクトルの分布データは、試料上の各点の二次元座標と、各点における特定のスペクトルの有無を示すデータとが関連付けられたデータである。スペクトルの分布データは、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの夫々について生成される。CPU11は、次に、生成した個別のスペクトルの分布データを記憶部14に記憶させ(S15)、処理を終了する。
図7A、図7B及び図7Cは、複数種類のスペクトルの分布を表す画像の例を示す模式図である。図7Aは、信号aを含み信号dを含まないスペクトルの分布を表し、図7Bは、信号aを含まず信号dを含むスペクトルの分布を表す。また図7Cは、信号a及び信号dの両方を含むスペクトルの分布を表す。このように、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの二次元分布が、最初のスペクトル分布データから得られる。スペクトルが特性X線のスペクトルの場合は、複数種類のスペクトルの分布は、複数の元素の含有量が異なる複数の物質成分の試料中の分布に対応する。信号aが元素Aに対応し、信号dが元素Dに対応すると仮定すると、図7Aは、元素Aを含み元素Dを含まない物質成分の分布を表す。また図7Bは、元素Aを含まず元素Dを含む物質成分の分布を表し、図7Cは、元素A及び元素Dの両方を含む物質成分の分布を表す。
なお、ステップS14で得られるスペクトルの分布は、一般的には、複数の信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布であるので、本発明では、図7A、図7B及び図7Cに示した分布以外の分布を得ることも可能である。例えば、信号aの強度が1で信号dの強度が2のスペクトル、又は信号aの強度が2で信号dの強度が1のスペクトル等、複数の信号の強度の組み合わせが図7A、図7B及び図7Cの例とは異なっているスペクトルの分布を得ることもできる。また、n次元座標上でのクラスタにはある程度の広がりがあるので、ステップS14で得られる各スペクトルの分布に含まれる信号の強度の組み合わせにもある程度の幅があってもよい。例えば、信号aの強度が1以上2未満で信号dの強度が1未満のスペクトルの分布と、信号aの強度が1未満で信号dの強度が1以上2未満のスペクトルの分布と、信号a及び信号dの強度が共に2以上のスペクトルの分布とを生成することも可能である。
なお、信号分析装置1が入力された信号分布データを用いてステップS3以降の処理を実行する形態である場合は、CPU11は、ステップS14で、同様にして、複数の信号の強度の組み合わせが異なる複数種類の部分の試料上での分布を示す分布データを生成する。またステップS15では、CPU11は、生成した分布データを記憶部14に記憶させる。この形態においても、図7A、図7B及び図7Cに示した分布と同様の分布を得ることができる。また同様に、信号の強度の組み合わせが図7A、図7B及び図7Cの例とは異なっている試料上での部分の分布を得ることもでき、各分布に含まれる信号の強度の組み合わせにはある程度の幅があってもよい。
なお、信号分析装置1は、ステップS11で、収束判定を行うのではなく、ステップS9及びS10の処理の繰り返し回数を判定する処理を行う形態であってもよい。この形態では、信号分析装置1は、ステップS9及びS10の繰り返しの既定回数を記憶部14に予め記憶している。CPU11は、ステップS11で、処理の繰り返し回数が既定回数に達したか否かを判定し、処理の繰り返し回数がまだ既定回数に達していない場合は処理をステップS9へ戻し、処理の繰り返し回数が既定回数に達した場合は処理をステップS12へ進める。処理の繰り返しの既定回数として、複数のクラスタ全体の尤度が経験上十分な大きさになる回数が定められている。既定回数は、例えば100回である。信号分析装置1は、収束条件が満たされたか否かに関わりなく既定回数で処理の繰り返しを終了させることにより、計算時間を短縮させることができる。また、信号分析装置1は、収束判定と回数判定とを両方行い、処理の繰り返し回数が既定回数に達する前に収束条件が満たされた場合に処理をステップS12へ進める処理を行う形態であってもよい。
以上説明したように、信号分析装置1は、EDX装置等の測定装置3で測定したスペクトル分布から、複数の特定信号の強度分布を生成し、n個の特定信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点をEMアルゴリズムにより複数のクラスタに分類する。同一のクラスタに含まれるn次元座標点に対応するスペクトル分布上の点では、スペクトルに含まれる複数の特定信号の強度の組み合わせがほぼ同じであり、スペクトルの形状がほぼ同等となる。異なるクラスタに含まれるn次元座標点に対応するスペクトル分布上の点では、スペクトルに含まれる複数の特定信号の強度の組み合わせが異なっており、スペクトルの形状は互いに異なる。各クラスタに含まれるn次元座標点に対応する二次元座標系上の点を特定することにより、夫々に形状が異なるスペクトルの分布が個々に生成される。夫々に形状が異なるスペクトルの分布は、夫々の形状のスペクトルを発生させる物質成分の分布を表す。例えば、EDX装置で測定した試料に含まれる互いに組成の異なる複数種類の成分の分布が得られる。より具体的には、EDX装置で測定した試料が岩石である場合、試料に含まれる各種の鉱物成分の分布が得られる。測定装置3がラマン分光装置等のその他の装置である場合でも、同様に、信号分析装置1は、試料に含まれる各種の物質成分の分布を得ることが可能である。
本発明では、EMアルゴリズムにより自動的にクラスタリングが行われる。このため、使用者の主観を排してn次元座標点の分類が行われ、使用者の主観に影響されずに正確な信号分析が可能となる。また本発明では、試料に含まれる物質成分の同定を行うことなく物質成分の分布を求めることができる。また本発明では、分析で利用する複数の特定信号を選択することが可能である。分析対象の信号を限定することにより、調べる必要のない物質成分を分析対象から除外して調べる必要のある物質成分に特化した分布が得られる等、分析の性能を調整することが可能となる。また分析に必要な計算時間の短縮も可能となる。また本発明では、クラスタ数の初期値を指定することが可能である。クラスタ数の初期値を大きくすることにより詳細な分析が可能となり、クラスタ数の初期値を小さくすることにより、分布を得る必要のある物質成分の種類を限定することができる等、クラスタ数の初期値を指定することにより分析の性能を調整することが可能となる。また分析に必要な時間を調整することが可能となる。また本発明では、互いに近い複数のクラスタを一つにまとめることにより、クラスタ数の初期値が多すぎる場合であっても適正な数の物質成分の分布を得ることができる。また、信号分析装置1は、EMアルゴリズムの処理中に、EMアルゴリズムのパラメータを記憶部14に記憶する形態であってもよい。この形態では、信号分析装置1は、同様な試料から得られたスペクトル分布を分析する際には、記憶済のパラメータを利用することにより、処理を短縮できる可能性がある。
(実施の形態2)
実施の形態2に係る信号分析装置1の構成は実施の形態1と同様である。図8及び図9は、実施の形態2に係る信号分析装置1が行う処理の手順を示すフローチャートである。CPU11は、コンピュータプログラムに従って、以下の処理を実行する。CPU11は、実施の形態1と同様のステップS1〜S8の処理を実行する。ステップS8が終了した後、CPU11は、複数のクラスタの確率分布モデルに基づいて、n次元空間上の各n次元座標点が各クラスタに含まれる確率を計算する(S21)。CPU11は、次に、全体の尤度を上昇させるように各クラスタの確率分布モデルのパラメータを更新する処理を行う(S22)。CPU11は、次に、EMアルゴリズムの収束判定を行う(S23)。まだ収束していない場合は(S23:NO)、CPU11は、処理をステップS21へ戻す。収束したと判定した場合は(S23:YES)、CPU11は、各クラスタの確率分布モデルのパラメータを記憶部14に記憶させ(S24)、処理を終了する。以上のように、信号分析装置1は、ステップS1〜S8及びステップS21〜S24の処理で、n次元空間上の複数のクラスタのパラメータを生成する。なお、実施の形態1と同様に、CPU11は、ステップS23で、収束判定を行うのではなく、ステップS21及びS22の処理の繰り返し回数を判定する処理を行う形態であってもよい。
また、信号分析装置1は、生成した複数のクラスタのパラメータに基づいて、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布データを生成する処理を行う。CPU11は、まず、記憶部14に記憶している複数のクラスタの確率分布モデルのパラメータをRAM12へ読み出す(S31)。CPU11は、次に、使用者が入力部16を操作することにより、n次元空間上でのクラスタ間の距離が近い距離になっているか否かを判定するための閾値を受け付ける(S32)。ステップS32では、CPU11は、例えば、クラスタの中心間のマハラノビス距離の閾値、又はクラスタ間での中心へのベクトルの内積の閾値を入力される。CPU11は、次に、受け付けた閾値に基づいて、複数のクラスタの中に、n次元空間上での互いの距離が閾値に応じた距離以下の近い距離になっている複数のクラスタがあるか否かを判定する(S33)。ステップS33では、CPU11は、例えば、クラスタの中心間のマハラノビス距離を計算し、計算したマハラノビス距離が受け付けた閾値以下であるか否かに基づいて判定する。また例えば、CPU11は、二つのクラスタ間で中心へのベクトルの内積を計算し、計算した内積が受け付けた閾値より1に近い場合に互いの距離が近いと判定する。CPU11は、二つのクラスタ間の距離を判定する処理を、全てのクラスタの組み合わせについて実行する。ステップS33では、CPU11は、その他の方法で判定を行ってもよい。
互いに近い複数のクラスタがある場合(S33:YES)、CPU11は、近い複数のクラスタを結合する(S34)。ステップS34が終了した後、又はステップS33で互いに近いクラスタが無い場合は(S33:NO)、CPU11は、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布データを個別に生成し、個別のスペクトルの分布データを記憶部14に記憶させる(S35)。CPU11は、次に、生成した複数種類のスペクトルの分布データに基づいて、複数種類のスペクトルの分布を表示部17に表示させる(S36)。例えば、CPU11は、図7A〜図7Cに示す如き、スペクトルの分布を表す画像を表示する。ステップS36が終了した後は、CPU11は、処理を終了する。信号分析装置1は、使用者の操作によって入力部16に入力される処理指示に応じて、ステップS31〜S36の処理を繰り返す。
以上のように、本実施の形態においては、信号分析装置1は、ステップS1〜S8及びステップS21〜S24の処理で得られたパラメータに基づき、ステップS31〜S36の処理を複数回繰り返すことができる。ステップS31〜S36の処理では、クラスタ間の距離を判定するための閾値に応じて結果が異なる。例えば、閾値に応じた距離が小さい場合は、クラスタの数が多くなり、分布が得られるスペクトルの種類が多くなり、試料中の分布が得られる物質成分の数が多くなる。逆に、閾値に応じた距離が大きい場合は、クラスタの数が少なくなり、分布が得られるスペクトルの種類が少なくなり、試料中の分布が得られる物質成分の数が少なくなる。このため、適度な数の物質成分の分布を得るために、閾値を適度な値に調整したいというニーズが存在する。使用者が入力する閾値を変更しながら信号分析装置1でステップS31〜S36の処理を繰り返すことにより、使用者にとって適切な結果が得られる。ステップS1〜S8及びステップS21〜S24の処理は、ステップS31〜S36の処理とは分離されており、繰り返されることが無いので、負荷の高い処理が回避され、信号分析装置1の処理効率が高くなる。また、使用者は、入力した閾値に応じた処理結果を確認した上で閾値を変更する作業を繰り返すことで、信号分析装置1を利用してリアルタイムでスペクトル分布の信号分析を行うことができる。
なお、実施の形態1及び2においては、信号分析装置1に一つの測定装置3が接続された形態を示したが、本発明の信号分析装置1は、複数の測定装置3が接続可能な形態であってもよい。また信号分析装置1は、同一の試料を測定対象とした複数の測定装置3で測定された信号の強度分布を用いて、同様の信号分析の処理を実行し、試料に含まれる部分の内で複数の測定法で測定される信号の強度の組み合わせが異なる複数種類の部分の分布を求める形態であってもよい。この形態では、信号分析装置1は、単一の測定装置3での測定結果を利用しただけでは行うことができない詳細な分析を行うことができる。例えば、EDX装置及びラマン分光装置の測定結果を用いた分析を行うことにより、特定のX線スペクトルを発生させる物質成分の内で特定のラマン光を発生させる結晶構造を持った部分の分布を求めることができる。
また、信号分析装置1は、接続された測定装置3からデータを受け付ける形態に限るものではなく、接続されていない測定装置で測定された信号の強度分布を入力されて信号分析を行う形態であってもよい。また、信号分析装置1で分析することができる信号の強度分布は、実験室内で測定することができる試料から測定されたものに限るものでは無く、より一般的な測定データであってもよい。例えば、本発明により、可視光及びX線での天体観測結果から、可視光及びX線の両方の発光強度が大きい天体の分布を求めることも可能である。
本発明は、EDX装置等の単一の測定装置又は複数種類の測定装置を用いて測定対象から得られた複数の信号の強度分布から、特定の物質成分の分布等、測定対象における所望の成分の分布を得るために使用される。
1 信号分析装置
11 CPU(演算部)
12 RAM
14 記憶部
2 記録媒体
21 コンピュータプログラム
3 測定装置

Claims (9)

  1. 一又は複数の信号からなるスペクトルが二次元座標系上の各点について定められたスペクトル分布から、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を求める信号分析装置において、
    前記スペクトル分布から、複数の特定信号の強度分布を生成する手段と、
    生成した複数の特定信号の強度分布の内でn個(nは2以上の整数)の特定信号の強度分布を記憶する手段と、
    前記スペクトル分布に含まれる各点について、n個の特定信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点を生成する手段と、
    生成した複数のn次元座標点をn次元空間上の位置に応じて分類するための複数のクラスタの数を定める手段と、
    各クラスタに含まれるn次元座標点の確率分布モデルを生成する手段と、
    生成した複数のn次元座標点の夫々が各クラスタに含まれる確率を計算する処理を行う確率計算手段と、
    計算した確率から得られる複数のn次元座標点の分類の尤もらしさがより大きくなるように、各クラスタの確率分布モデルを更新する処理を行うモデル更新手段と、
    前記確率計算手段及び前記モデル更新手段に処理を繰り返し実行させる繰り返し手段と、
    n次元空間上でのクラスタ間の距離を判定するための閾値を受け付ける受付手段と、
    複数のクラスタの中に、n次元空間上での互いの距離が前記閾値に対応する特定の距離以下である複数のクラスタがあるか否かを判定する判定手段と、
    互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタがある場合に、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタを一つのクラスタにまとめる結合手段と、
    複数のクラスタ別に、各クラスタに含まれるn次元座標点に対応する点の前記スペクトル分布内での分布を特定することにより、n個の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を生成する分布生成手段と
    前記受付手段、前記判定手段、前記結合手段及び前記分布生成手段を繰り返し実行させることにより前記閾値を調整する調整手段と
    を備えることを特徴とする信号分析装置。
  2. 前記分布生成手段は、複数種類の物質成分の分布に対応する前記複数種類のスペクトルの分布を生成すること
    を特徴とする請求項1に記載の信号分析装置。
  3. 同一の測定対象から測定された複数の信号の強度分布から、前記測定対象に含まれる部分の内で測定される前記複数の信号の強度の組み合わせが異なる複数種類の部分の分布を求める信号分析装置において、
    n個の信号の強度分布を記憶する手段と、
    前記測定対象中の各点について、n個の信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点を生成する手段と、
    生成した複数のn次元座標点をn次元空間上の位置に応じて分類するための複数のクラスタの数を定める手段と、
    各クラスタに含まれるn次元座標点の確率分布モデルを生成する手段と、
    生成した複数のn次元座標点の夫々が各クラスタに含まれる確率を計算する処理を行う確率計算手段と、
    計算した確率から得られる複数のn次元座標点の分類の尤もらしさがより大きくなるように、各クラスタの確率分布モデルを更新する処理を行うモデル更新手段と、
    前記確率計算手段及び前記モデル更新手段に処理を繰り返し実行させる繰り返し手段と、
    n次元空間上でのクラスタ間の距離を判定するための閾値を受け付ける受付手段と、
    複数のクラスタの中に、n次元空間上での互いの距離が前記閾値に対応する特定の距離以下である複数のクラスタがあるか否かを判定する判定手段と、
    互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタがある場合に、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタを一つのクラスタにまとめる結合手段と、
    複数のクラスタ別に、各クラスタに含まれるn次元座標点に対応する点の前記測定対象内での分布を特定することにより、前記複数種類の部分の前記測定対象中での分布を生成する分布生成手段と
    前記受付手段、前記判定手段、前記結合手段及び前記分布生成手段を繰り返し実行させることにより前記閾値を調整する調整手段と
    を備えることを特徴とする信号分析装置。
  4. 前記分布生成手段は、複数種類の物質成分の分布に対応する、前記複数種類の部分の前記測定対象中での分布を生成すること
    を特徴とする請求項3に記載の信号分析装置。
  5. 前記繰り返し手段は、所定の収束条件が満たされるまで前記確率計算手段及び前記モデル更新手段に処理を繰り返し実行させる処理を行うことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一つに記載の信号分析装置。
  6. 前記確率計算手段、前記モデル更新手段及び前記繰り返し手段は、EM(Expectation-maximization)アルゴリズムに従った処理を実行することを特徴とする請求項5に記載の信号分析装置。
  7. クラスタ数の初期値を受け付ける手段を更に備えること
    を特徴とする請求項1乃至6の何れか一つに記載の信号分析装置。
  8. 演算部及び記憶部を備えるコンピュータにより、一又は複数の信号からなるスペクトルが二次元座標系上の各点について定められたスペクトル分布から、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を求める信号分析方法において、
    前記スペクトル分布から、複数の特定信号の強度分布を演算部で生成し、
    生成した複数の特定信号の強度分布の内でn個の特定信号の強度分布を記憶部で記憶し、
    前記スペクトル分布に含まれる各点について、n個の特定信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点を演算部で生成し、
    生成した複数のn次元座標点をn次元空間上の位置に応じて分類するための複数のクラスタの数を定める処理を演算部で実行し、
    各クラスタに含まれるn次元座標点の確率分布モデルを演算部で生成し、
    生成した複数のn次元座標点の夫々が各クラスタに含まれる確率を計算する確率計算処理を演算部で実行し、
    計算した確率から得られる複数のn次元座標点の分類の尤もらしさがより大きくなるように、各クラスタの確率分布モデルを更新するモデル更新処理を演算部で実行し、
    前記確率計算処理及び前記モデル更新処理を演算部で繰り返し実行し、
    n次元空間上でのクラスタ間の距離を判定するための閾値を受け付ける受付処理を演算部で実行し、
    複数のクラスタの中に、n次元空間上での互いの距離が前記閾値に対応する特定の距離以下である複数のクラスタがあるか否かを判定する判定処理を演算部で実行し、
    互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタがある場合に、演算部で、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタを一つのクラスタにまとめる結合処理を演算部で実行し
    複数のクラスタ別に、各クラスタに含まれるn次元座標点に対応する点の前記スペクトル分布内での分布を特定することにより、n個の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を生成する分布生成処理を演算部で実行し
    前記受付処理、前記判定処理、前記結合処理及び前記分布生成処理を演算部で繰り返し実行することにより前記閾値を調整し、
    生成した前記複数種類のスペクトルの分布を記憶部で記憶すること
    を特徴とする信号分析方法。
  9. 一又は複数の信号からなるスペクトルが二次元座標系上の各点について定められたスペクトル分布から、複数の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を求める処理をコンピュータに実行させるコンピュータプログラムにおいて、
    コンピュータに、
    前記スペクトル分布から、複数の特定信号の強度分布を生成するステップと、
    前記スペクトル分布に含まれる各点について、強度分布を生成した複数の特定信号の内でn個の特定信号の強度の組み合わせで定義されるn次元空間上のn次元座標点を生成するステップと、
    生成した複数のn次元座標点をn次元空間上の位置に応じて分類するための複数のクラスタの数を定めるステップと、
    各クラスタに含まれるn次元座標点の確率分布モデルを生成するステップと、
    生成した複数のn次元座標点の夫々が各クラスタに含まれる確率を計算する確率計算処理を行うステップと、
    計算した確率から得られる複数のn次元座標点の分類の尤もらしさがより大きくなるように、各クラスタの確率分布モデルを更新するモデル更新処理を行うステップと、
    前記確率計算処理及び前記モデル更新処理を繰り返すステップと、
    n次元空間上でのクラスタ間の距離を判定するための閾値を受け付ける受付処理を行うステップと、
    複数のクラスタの中に、n次元空間上での互いの距離が前記閾値に対応する特定の距離以下である複数のクラスタがあるか否かを判定する判定処理を行うステップと、
    互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタがある場合に、互いの距離が前記特定の距離以下である複数のクラスタを一つのクラスタにまとめる結合処理を行うステップと、
    複数のクラスタ別に、各クラスタに含まれるn次元座標点に対応する点の前記スペクトル分布内での分布を特定することにより、n個の特定信号の強度の組み合わせが異なる複数種類のスペクトルの分布を生成する分布生成処理を行うステップと
    前記受付処理、前記判定処理、前記結合処理及び前記分布生成処理を繰り返すことにより前記閾値を調整するステップと
    を含む処理を実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。
JP2016215730A 2011-08-19 2016-11-03 信号分析装置、信号分析方法及びコンピュータプログラム Active JP6355137B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011179834 2011-08-19
JP2011179834 2011-08-19

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013529947A Division JP6112613B2 (ja) 2011-08-19 2012-08-02 信号分析装置、信号分析方法及びコンピュータプログラム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017032591A JP2017032591A (ja) 2017-02-09
JP6355137B2 true JP6355137B2 (ja) 2018-07-11

Family

ID=47746304

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013529947A Active JP6112613B2 (ja) 2011-08-19 2012-08-02 信号分析装置、信号分析方法及びコンピュータプログラム
JP2016215730A Active JP6355137B2 (ja) 2011-08-19 2016-11-03 信号分析装置、信号分析方法及びコンピュータプログラム

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013529947A Active JP6112613B2 (ja) 2011-08-19 2012-08-02 信号分析装置、信号分析方法及びコンピュータプログラム

Country Status (3)

Country Link
JP (2) JP6112613B2 (ja)
TW (1) TWI595229B (ja)
WO (1) WO2013027553A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3021441B1 (fr) * 2014-05-26 2017-09-29 Snecma Procede et dispositif d'estimation d'un indice de qualite d'une image 3d d'une piece de materiau composite
WO2018042752A1 (ja) * 2016-08-31 2018-03-08 株式会社堀場製作所 信号分析装置、信号分析方法、コンピュータプログラム、測定装置及び測定方法
JP6643970B2 (ja) * 2016-11-07 2020-02-12 株式会社日立製作所 光学装置、光学測定方法
WO2018088277A1 (ja) * 2016-11-14 2018-05-17 日本電気株式会社 予測モデル生成システム、方法およびプログラム
CN110310161A (zh) * 2019-07-09 2019-10-08 西安点告网络科技有限公司 特征聚合的方法及装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3512219B2 (ja) * 1993-11-17 2004-03-29 松下電器産業株式会社 データ処理装置とそれを用いた人数計数装置
JP3143325B2 (ja) * 1994-07-06 2001-03-07 日本電子株式会社 分析位置決定方法
JP3461208B2 (ja) * 1994-09-16 2003-10-27 株式会社堀場製作所 試料に含まれる物質の同定方法および分布測定方法
JP2006119076A (ja) * 2004-10-25 2006-05-11 Jasco Corp マッピングデータ解析装置及び方法
JP5483961B2 (ja) * 2009-09-02 2014-05-07 キヤノン株式会社 画像処理装置、被写体判別方法、プログラム及び記憶媒体
JP5370180B2 (ja) * 2010-01-26 2013-12-18 株式会社島津製作所 X線分析用表示処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP6112613B2 (ja) 2017-04-12
TW201321739A (zh) 2013-06-01
WO2013027553A1 (ja) 2013-02-28
TWI595229B (zh) 2017-08-11
JPWO2013027553A1 (ja) 2015-03-19
JP2017032591A (ja) 2017-02-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6355137B2 (ja) 信号分析装置、信号分析方法及びコンピュータプログラム
Duncan et al. Photometric redshifts for the next generation of deep radio continuum surveys–II. Gaussian processes and hybrid estimates
JP6729455B2 (ja) 分析データ解析装置及び分析データ解析方法
RU2627953C2 (ru) Кластерный анализ неизвестных в множестве данных sem-eds
US8452716B2 (en) Kernel-based method and apparatus for classifying materials or chemicals and for quantifying the properties of materials or chemicals in mixtures using spectroscopic data
EP2710353B1 (en) SPECTROSCOPIC APPARATUS AND METHOD of DETERMINING COMPONENTS PRESENT IN A SAMPLE
JP5565810B2 (ja) 質量分析データ処理方法及び装置
CN110657890B (zh) 对光谱模型的基于交叉验证的校准
Lux et al. flowLearn: fast and precise identification and quality checking of cell populations in flow cytometry
JP6676743B2 (ja) 分光画像データ処理装置および2次元分光装置
JP5459088B2 (ja) スペクトル解析方法及びスペクトル解析装置
JP6949034B2 (ja) 信号分析装置、信号分析方法、コンピュータプログラム、測定装置及び測定方法
Burleigh et al. Artificial intelligence based analysis of nanoindentation load–displacement data using a genetic algorithm
US20230033480A1 (en) Data processing apparatus and inference method
US20220252516A1 (en) Spectroscopic apparatus and methods for determining components present in a sample
US20220317069A1 (en) Method and system for classification of samples
GB2508556A (en) Signal analyzing apparatus, signal analyzing method, and computer program
JP6324201B2 (ja) 分光データ処理装置、及び分光データ処理方法
KR20100111098A (ko) 마이크로어레이의 데이터 스팟의 위치를 검출하는 방법 및 장치
US9478020B2 (en) Method for analysing the effect of a test substance on biological and/or biochemical samples
JP7262345B2 (ja) 物質検査装置、物質検査方法及び物質検査プログラム
KR20230012457A (ko) 플라스마 처리 장치, 데이터 해석 장치 및 반도체 장치 제조 시스템
JP2021197008A (ja) 情報処理装置、学習方法、および学習プログラム
Ihuaenyi et al. Seeking the Most Informative Design of Test Specimens for Learning Constitutive Models
JP2023006003A (ja) 機械学習プログラム、機械学習方法および情報処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161128

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161128

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170130

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20171019

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171031

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180515

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180606

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6355137

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250