JP6352014B2 - Thickness measuring instrument - Google Patents

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Description

本発明は、測定対象物の厚さを測定する厚さ測定器および厚さ測定方法に関する。   The present invention relates to a thickness measuring instrument and a thickness measuring method for measuring the thickness of a measurement object.

携帯電話、デジタルAV機器およびICカード等の高機能化に伴い、搭載される半導体シリコンチップ(以下、チップ)を小型化および薄板化することによって、パッケージ内にチップを高集積化する要求が高まっている。パッケージ内のチップの高集積化を実現するためには、チップの厚さを25〜150μmの範囲にまで薄くする必要がある。   As mobile phones, digital AV devices, IC cards, etc. have become more sophisticated, there is an increasing demand for higher integration of chips in packages by reducing the size and thickness of semiconductor silicon chips (hereinafter referred to as chips). ing. In order to achieve high integration of chips in the package, it is necessary to reduce the thickness of the chip to a range of 25 to 150 μm.

従来、チップのベースとなる半導体ウエハ(以下、ウエハ)の厚さや、当該ウエハを含む積層体の厚さは、分光干渉式レーザ変位計で測定されている。具体的には、例えば、測定対象物である積層体の表面(上面)に分光干渉式レーザ変位計からレーザ光を照射し、ウエハ表裏面や積層体の各層で反射した反射光である分光を受光してウエハの厚さや積層体の厚さを測定している。また、特許文献1には、搬送装置によって搬送されている測定対象物の表裏面に光学式変位計から光スポットを当てて当該測定対象物の表裏面の変位を測定し、厚さを算出する厚み計測装置が記載されている。上記厚み計測装置は、光学式変位計から照射される光スポット同士の干渉を避けるために、光を透過する測定対象物の裏面における、表面に当てられた第一の光スポットの位置に対応する位置の近傍の位置に、第二の光スポットをずらして当て、測定のタイミングを測定対象物の搬送速度と同期させて測定している。   Conventionally, the thickness of a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) serving as a chip base and the thickness of a laminated body including the wafer are measured by a spectral interference type laser displacement meter. Specifically, for example, the surface (upper surface) of the laminate that is the object to be measured is irradiated with laser light from a spectral interference type laser displacement meter, and the spectrum that is the reflected light reflected on each surface of the wafer front and back surfaces and the laminate is measured. It receives light and measures the thickness of the wafer and the thickness of the laminate. Further, in Patent Document 1, a light spot is applied from the optical displacement meter to the front and back surfaces of the measurement object being transported by the transport device, the displacement of the front and back surfaces of the measurement object is measured, and the thickness is calculated. A thickness measuring device is described. The thickness measuring device corresponds to the position of the first light spot applied to the front surface on the back surface of the measurement object that transmits light in order to avoid interference between the light spots irradiated from the optical displacement meter. The second light spot is shifted and applied to a position in the vicinity of the position, and the measurement timing is synchronized with the conveyance speed of the measurement object.

特開平9−273912号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-273912

しかしながら、ウエハ表裏面や積層体の各層で反射した反射光である分光を受光してウエハの厚さや積層体の厚さを測定している従来の方法では、例えば回路が形成されているウエハ(デバイスウエハ)の厚さを測定すると、当該回路によってウエハ表面の状態(凹凸)が場所によって異なることにより、またはウエハの材質により、或いは、当該回路に形成されている金属からなるバンプにより、ウエハの厚さや積層体の厚さを正確に測定することができないという問題を有している。さらに、積層体がウエハと支持体であるガラスとを含み、当該ウエハおよびガラスの屈折率が互いに近い場合には、分光が互いに重なりあって厚さを正確に測定することができないという問題も有している。また、特許文献1に記載の厚み計測装置では、装置が微振動したり、測定対象物の搬送速度が微変動したりすると、測定対象物の裏面における、表面に当てられた第一の光スポットの位置に対応する位置に第二の光スポットが当たらなくなり、厚さを正確に測定することができないという問題を有している。   However, in the conventional method of measuring the thickness of the wafer and the thickness of the laminated body by receiving the spectrum which is the reflected light reflected by the front and back surfaces of the wafer and each layer of the laminated body, for example, a wafer (circuit is formed) When the thickness of the device wafer) is measured, the state of the wafer surface (irregularities) varies depending on the circuit depending on the location, the material of the wafer, or the bump made of metal formed in the circuit, There is a problem that the thickness and the thickness of the laminate cannot be measured accurately. Furthermore, when the laminate includes a wafer and a glass as a support, and the refractive index of the wafer and the glass is close to each other, there is a problem in that the spectra overlap each other and the thickness cannot be measured accurately. doing. Moreover, in the thickness measuring apparatus described in Patent Document 1, when the apparatus slightly vibrates or the conveyance speed of the measurement object slightly fluctuates, the first light spot applied to the surface on the back surface of the measurement object Thus, the second light spot does not hit the position corresponding to the position, and the thickness cannot be measured accurately.

本発明は上記問題を考慮して成されたものであり、その主たる目的は、装置の微振動や、測定対象物の表裏面の凹凸の有無等に左右されることなく、当該測定対象物の厚さを正確に測定することができる厚さ測定器および厚さ測定方法を提供することにある。   The present invention has been made in consideration of the above problems, and the main purpose of the present invention is not affected by the minute vibration of the apparatus or the presence or absence of irregularities on the front and back surfaces of the measurement object. An object of the present invention is to provide a thickness measuring instrument and a thickness measuring method capable of accurately measuring the thickness.

上記の課題を解決するために、本発明に係る厚さ測定器は、測定対象物の表面の変位を測定する第一のレーザ変位計および第二のレーザ変位計と、上記レーザ変位計で測定された第一の変位および第二の変位から、演算によって測定対象物の厚さを算出する算出装置とを備え、上記第一のレーザ変位計および第二のレーザ変位計は、測定対象物の表裏面の変位を測定するために一直線上に対向配置されていることを特徴としている。   In order to solve the above-described problems, a thickness measuring instrument according to the present invention includes a first laser displacement meter and a second laser displacement meter that measure the displacement of the surface of an object to be measured, and the laser displacement meter. A calculation device that calculates the thickness of the measurement object from the first displacement and the second displacement that are calculated, and the first laser displacement meter and the second laser displacement meter In order to measure the displacement of the front and back surfaces, they are arranged opposite to each other on a straight line.

上記の課題を解決するために、本発明に係る厚さ測定方法は、一直線上に対向配置された第一のレーザ変位計および第二のレーザ変位計の間に測定対象物を配置し、当該測定対象物の表面の第一の変位および裏面の第二の変位を測定する測定工程と、上記第一の変位および第二の変位から、演算によって測定対象物の厚さを算出する算出工程と、を少なくとも有することを特徴としている。   In order to solve the above-described problem, a thickness measurement method according to the present invention includes a measurement object disposed between a first laser displacement meter and a second laser displacement meter that are opposed to each other on a straight line, and A measurement step of measuring the first displacement of the front surface of the measurement object and the second displacement of the back surface, and a calculation step of calculating the thickness of the measurement object by calculation from the first displacement and the second displacement. , At least.

本発明によれば、装置の微振動や、測定対象物の表裏面の凹凸の有無等に左右されることなく、当該測定対象物の厚さを正確に測定することができる厚さ測定器および厚さ測定方法を提供することができるという効果を奏する。   According to the present invention, a thickness measuring instrument capable of accurately measuring the thickness of the measurement object without being influenced by micro vibrations of the apparatus or the presence or absence of irregularities on the front and back surfaces of the measurement object, There is an effect that a thickness measuring method can be provided.

本発明の一実施形態に係る厚さ測定器の平面図である。It is a top view of the thickness measuring device which concerns on one Embodiment of this invention. 上記厚さ測定器の側面図である。It is a side view of the said thickness measuring device. 上記厚さ測定器が、測定対象物である積層体の厚さを測定している状態を示す概略の断面図である。It is general | schematic sectional drawing which shows the state in which the said thickness measuring device is measuring the thickness of the laminated body which is a measuring object. 上記厚さ測定器を備えた積層体形成システムの全体の構成を示す概略の平面図である。It is a schematic plan view which shows the whole structure of the laminated body formation system provided with the said thickness measuring device. 上記積層体形成システムが行う積層体形成方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the laminated body formation method which the said laminated body formation system performs.

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

〔測定対象物〕
測定対象物は、特に限定されるものではないが平板状であることが望ましく、例えば、チップのベースとなるウエハや、当該ウエハを含む積層体、サポートプレート(支持体)が好適である。上記ウエハの表面上には接着層や分離層等の各種層が形成されていてもよい。また、ウエハは、接着層側の面に、電子回路等の微細構造が形成された基板であってもよい。さらに、接着層を介してガラス、シリコン、アクリル系樹脂、セラミック等で構成されているサポートプレートが貼り付けられた積層体であってもよい。尚、測定対象物としては、積層体や、サポートプレート、ウエハからなる基板に限定されず、薄いフィルム基板、フレキシブル基板等の任意の基板を選択することもできる。
[Measurement object]
The object to be measured is not particularly limited, but is preferably flat. For example, a wafer serving as a base of a chip, a laminate including the wafer, and a support plate (support) are preferable. Various layers such as an adhesive layer and a separation layer may be formed on the surface of the wafer. The wafer may be a substrate in which a fine structure such as an electronic circuit is formed on the surface on the adhesive layer side. Furthermore, it may be a laminate in which a support plate made of glass, silicon, acrylic resin, ceramic, or the like is attached via an adhesive layer. The measurement object is not limited to a laminate, a support plate, or a substrate made of a wafer, and an arbitrary substrate such as a thin film substrate or a flexible substrate can be selected.

以下、測定対象物として、ウエハからなる基板、接着層、およびガラスからなるサポートプレートが積層されてなる積層体を主に例に挙げて説明することとする。   Hereinafter, as a measurement object, a laminated body in which a substrate made of a wafer, an adhesive layer, and a support plate made of glass are laminated will be mainly described as an example.

〔厚さ測定器〕
本発明の一実施形態に係る厚さ測定器について、図1および図2を用いて以下に説明する。図1および図2に示すように、厚さ測定器57は、測定対象物である例えば積層体の厚さを測定するための装置であり、積層体の表裏面の複数個所の厚さを測定して厚み分布を得る場合には厚み分布測定装置とも称される。ここで、測定対象物である積層体の厚み分布とは、積層体の上面(サポートプレートの上面)または下面(基板の下面)における面内分布を示す。厚さ測定器57は、非接触のレーザ変位計を備えているので、積層体の厚み分布を好適に測定することができる。
[Thickness measuring instrument]
A thickness measuring instrument according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. As shown in FIGS. 1 and 2, the thickness measuring device 57 is a device for measuring the thickness of a laminate, for example, a measurement object, and measures thicknesses at a plurality of locations on the front and back surfaces of the laminate. And when obtaining thickness distribution, it is also called a thickness distribution measuring apparatus. Here, the thickness distribution of the laminate as the measurement object indicates an in-plane distribution on the upper surface (upper surface of the support plate) or the lower surface (lower surface of the substrate) of the laminate. Since the thickness measuring instrument 57 includes a non-contact laser displacement meter, the thickness distribution of the laminated body can be suitably measured.

図1および図2に示すように、厚さ測定器57は、測定対象物である例えば積層体の表面の変位(第一の変位)を測定する第一のレーザ変位計26および積層体の裏面の変位(第二の変位)を測定する第二のレーザ変位計27を移動可能に保持する変位計保持部21、並びに、積層体を保持する測定対象物保持部22を主に備えている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the thickness measuring device 57 includes a first laser displacement meter 26 that measures the displacement (first displacement) of the surface of the laminate, for example, a measurement object, and the back surface of the laminate. Are mainly provided with a displacement meter holding unit 21 that movably holds a second laser displacement meter 27 that measures the displacement (second displacement) and a measurement object holding unit 22 that holds the laminate.

変位計保持部21は、第一移動部材23、一対のレール部材24、および第二移動部材25で主に構成されている。また、変位計保持部21は、第一移動部材23および第二移動部材25を駆動する駆動部(図示せず)を備えている。   The displacement meter holding unit 21 is mainly composed of a first moving member 23, a pair of rail members 24, and a second moving member 25. Further, the displacement meter holding unit 21 includes a drive unit (not shown) that drives the first moving member 23 and the second moving member 25.

一対のレール部材24は、測定対象物保持部22を挟んで互いに平行に配置されており、第一移動部材23を移動可能に支持し、測定対象物保持部22に近づく方向、および測定対象物保持部22から遠ざかる方向(図1における矢印方向)に、上記第一移動部材23を移動させるためのガイドとなっている。   The pair of rail members 24 are arranged in parallel with each other with the measurement object holding part 22 interposed therebetween, support the first moving member 23 so as to be movable, approach the measurement object holding part 22, and the measurement object. A guide for moving the first moving member 23 in a direction away from the holding portion 22 (in the direction of the arrow in FIG. 1).

第一移動部材23は、第二移動部材25を移動可能に支持し、第一移動部材23の移動方向と直交する方向(図1,2における矢印方向)に、上記第二移動部材25を移動させるためのガイドとなっている。   The first moving member 23 movably supports the second moving member 25 and moves the second moving member 25 in a direction orthogonal to the moving direction of the first moving member 23 (the arrow direction in FIGS. 1 and 2). It has become a guide to let you.

第二移動部材25は、側面から見た形状が測定対象物保持部22側に向かって開いた「コ」字型となっており、測定対象物保持部22側に向かって上下に突き出た測定治具25a,25bの先端部に第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27を保持している。具体的には、上側に突き出た測定治具25aの先端部に第一のレーザ変位計26が保持されており、下側に突き出た測定治具25bの先端部に第二のレーザ変位計27が保持されている。また、測定治具25aの先端部には、第一のレーザ変位計26の位置合わせを行うための位置調節部材26aが設けられている。   The second moving member 25 has a “U” shape whose shape viewed from the side is open toward the measurement object holding part 22, and protrudes up and down toward the measurement object holding part 22. A first laser displacement meter 26 and a second laser displacement meter 27 are held at the tips of the jigs 25a and 25b. Specifically, the first laser displacement meter 26 is held at the tip of the measuring jig 25a protruding upward, and the second laser displacement meter 27 is attached to the tip of the measuring jig 25b protruding downward. Is held. In addition, a position adjusting member 26 a for aligning the first laser displacement meter 26 is provided at the tip of the measuring jig 25 a.

上記第一のレーザ変位計26は、測定対象物である積層体にレーザ光を照射する照射部と、積層体の表面で反射したレーザ光だけを受光する受光部と、受光したレーザ光を信号に変換して算出装置に送信する送信部(何れも図示せず)とを備えている。同様に、上記第二のレーザ変位計27は、測定対象物である積層体にレーザ光を照射する照射部と、積層体の裏面で反射したレーザ光だけを受光する受光部と、受光したレーザ光を信号に変換して算出装置に送信する送信部(何れも図示せず)とを備えている。尚、上記第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27は、測定対象物である積層体の表面の変位を非接触で測定することができればよく、特に限定されるものではないが、分光干渉式レーザ変位計であることがより好ましい。   The first laser displacement meter 26 includes an irradiation unit that irradiates the laminate, which is a measurement object, with laser light, a light receiving unit that receives only the laser light reflected from the surface of the laminate, and a signal that receives the received laser light. And a transmission unit (none of which is shown) that converts the data into a calculation device. Similarly, the second laser displacement meter 27 includes an irradiation unit that irradiates a laminate as a measurement object with laser light, a light receiving unit that receives only laser light reflected from the back surface of the laminate, and a laser that has received the laser. A transmission unit (none of which is shown) that converts light into a signal and transmits the signal to a calculation device. The first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 are not particularly limited as long as they can measure the displacement of the surface of the laminate as a measurement object in a non-contact manner. More preferably, it is a spectral interference type laser displacement meter.

上記第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27は、測定対象物保持部22上に載置された積層体(図示せず)の表裏面の変位を測定するために、一直線上に対向配置されている。また、上記第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27は、測定対象物保持部22上に載置された積層体の表面または裏面に対して、第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27を結ぶ直線が直交するように、測定治具25a,25bの先端部に取り付けられている。従って、第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27は、変位計保持部21の駆動によって移動しても、或いは、装置が微振動しても、互いの相対的な位置や距離は常に一定である。   The first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 are arranged in a straight line in order to measure the displacement of the front and back surfaces of a laminate (not shown) placed on the measurement object holding unit 22. Are arranged opposite to each other. In addition, the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 are arranged so that the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 are arranged on the front surface or the back surface of the laminate placed on the measurement object holding unit 22. The measuring jigs 25a and 25b are attached to the tip portions of the measuring jigs 25a and 25b so that the straight line connecting the second laser displacement meters 27 is orthogonal. Accordingly, even if the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 are moved by driving the displacement meter holding unit 21 or the device is slightly vibrated, their relative positions and distances to each other. Is always constant.

そして、変位計保持部21は、第一移動部材23および第二移動部材25を移動させることにより、測定治具25a,25bの先端部に保持した第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27を、測定対象物保持部22上に載置された積層体の所望の位置に移動させるようになっている。つまり、変位計保持部21は、測定対象物保持部22に対して、第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27を相対移動させる構成となっている。具体的には、変位計保持部21は、第一のレーザ変位計26を、上記積層体の表面における所望の位置に移動させると共に、第二のレーザ変位計27を、上記積層体の裏面における、上記所望の位置に対応する位置に移動させるようになっている。但し、本発明において上記「所望の位置」とは、保持ステージ31に形成されている、積層体の裏面の一部を露出させることができる複数の孔の位置に対応する位置を指す。   The displacement meter holding unit 21 moves the first moving member 23 and the second moving member 25 to thereby move the first laser displacement meter 26 and the second laser held at the distal ends of the measuring jigs 25a and 25b. The displacement meter 27 is moved to a desired position of the laminated body placed on the measurement object holding unit 22. That is, the displacement meter holding unit 21 is configured to move the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 relative to the measurement object holding unit 22. Specifically, the displacement meter holding unit 21 moves the first laser displacement meter 26 to a desired position on the surface of the laminate, and moves the second laser displacement meter 27 on the back surface of the laminate. The position is moved to a position corresponding to the desired position. However, in the present invention, the “desired position” refers to a position corresponding to the positions of a plurality of holes formed in the holding stage 31 and capable of exposing a part of the back surface of the laminated body.

測定対象物保持部22は、測定対象物である例えば積層体を保持する保持ステージ(載置台)31を備えている。また、上記保持ステージ31は、積層体を保持ステージ31に載置して固定するための吸着機構を備えている。吸着機構を用いて積層体を保持ステージ31に固定することにより、厚さ測定器57は、反っている積層体であっても反りを抑制して当該積層体の厚さを正確に測定することができる。尚、吸着機構の構成は、特に限定されるものではなく、真空ポンプ等を備えた公知の吸着装置を用いればよい。   The measurement object holding unit 22 includes a holding stage (mounting table) 31 that holds, for example, a stacked body that is a measurement object. The holding stage 31 includes a suction mechanism for mounting and fixing the stacked body on the holding stage 31. By fixing the laminated body to the holding stage 31 using the suction mechanism, the thickness measuring device 57 can accurately measure the thickness of the laminated body while suppressing the warp even if the laminated body is warped. Can do. The configuration of the suction mechanism is not particularly limited, and a known suction device equipped with a vacuum pump or the like may be used.

また、保持ステージ31には、例えば10mm間隔の碁盤目状に配置された多数の孔(開口部)(図示せず)が形成されている。これにより、積層体を保持ステージ31に保持した状態において、上記孔を介して、当該積層体の裏面の一部を露出させることができるようになっている。尚、孔同士の間隔は、特に限定されるものではなく、例えば測定対象物の大きさ等に応じて適宜設定すればよい。   Further, the holding stage 31 is formed with a large number of holes (openings) (not shown) arranged in a grid pattern with an interval of 10 mm, for example. Thereby, in the state which hold | maintained the laminated body on the holding stage 31, a part of back surface of the said laminated body can be exposed through the said hole. In addition, the space | interval of holes is not specifically limited, For example, what is necessary is just to set suitably according to the magnitude | size etc. of a measurement object.

さらに、厚さ測定器57は、上記第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27で測定された第一の変位および第二の変位から、演算によって積層体の厚さを算出して例えば外部表示装置に出力する算出装置(図示せず)を備えている。算出装置の構成は、特に限定されるものではなく、公知の演算装置や、厚さを記憶する記憶装置を備えていればよい。   Further, the thickness measuring device 57 calculates the thickness of the laminate by calculation from the first displacement and the second displacement measured by the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27. For example, a calculation device (not shown) for outputting to an external display device is provided. The configuration of the calculation device is not particularly limited, and it is only necessary to include a known arithmetic device or a storage device that stores the thickness.

また、厚さ測定器57は、変位計保持部21および測定対象物保持部22の駆動や、第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27の動作を制御する制御部(図示せず)を備えている。従って、第一移動部材23および第二移動部材25を駆動する駆動部は、上記制御部によって、その動作が制御されている。   Further, the thickness measuring device 57 is a control unit (not shown) for controlling the operation of the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 and the driving of the displacement meter holding unit 21 and the measurement object holding unit 22. )). Therefore, the operation of the drive unit that drives the first moving member 23 and the second moving member 25 is controlled by the control unit.

尚、図1および図2においては、変位計保持部21が、測定対象物保持部22に対して、第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27を相対移動させる構成となっているが、厚さ測定器は当該構成に限定されるものではなく、測定対象物保持部が、変位計保持部に保持されている第一のレーザ変位計および第二のレーザ変位計に対して相対移動する構成となっていてもよく、変位計保持部および測定対象物保持部が互いに相対移動する構成となっていてもよい。また、変位計保持部および測定対象物保持部の相対移動は、直線移動、回転移動等、どのような移動であってもよく、積層体の表裏面の複数個所の厚さを測定することができるようになっていればよい。   In FIGS. 1 and 2, the displacement meter holding unit 21 moves the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 relative to the measurement object holding unit 22. However, the thickness measuring device is not limited to the configuration, and the measurement object holding unit is compared with the first laser displacement meter and the second laser displacement meter held by the displacement meter holding unit. The displacement meter holding unit and the measurement object holding unit may be configured to move relative to each other. Further, the relative movement of the displacement meter holding part and the measurement object holding part may be any movement such as linear movement, rotational movement, etc., and the thickness of a plurality of positions on the front and back surfaces of the laminate can be measured. It only has to be able to do it.

〔厚さ測定方法〕
次に、上記構成の厚さ測定器57を用いて積層体の厚さを測定する方法について、図3を参照しながら、順に説明する。
[Thickness measurement method]
Next, a method for measuring the thickness of the laminate using the thickness measuring instrument 57 having the above-described configuration will be described in order with reference to FIG.

先ず、測定対象物である積層体40を測定対象物保持部22の保持ステージ31に載置し、吸着機構を用いて当該積層体40を保持ステージ31に固定する。このとき、変位計保持部21はホームポジション(初期位置)に位置している。   First, the laminate 40 that is a measurement object is placed on the holding stage 31 of the measurement object holding unit 22, and the laminate 40 is fixed to the holding stage 31 using an adsorption mechanism. At this time, the displacement meter holding unit 21 is located at the home position (initial position).

次に、変位計保持部21を駆動し、第一移動部材23および第二移動部材25を移動させて、第一のレーザ変位計26を、上記積層体40の表面における所望の位置に移動させると共に、第二のレーザ変位計27を、上記積層体40の裏面における、上記所望の位置に対応する位置に移動させる。これにより、一直線上に対向配置された第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27の間に積層体40が配置されることになる。また、積層体40の表面または裏面に対して、上記第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27を結ぶ直線を直交させることになる。   Next, the displacement meter holding part 21 is driven, the first moving member 23 and the second moving member 25 are moved, and the first laser displacement meter 26 is moved to a desired position on the surface of the laminate 40. At the same time, the second laser displacement meter 27 is moved to a position corresponding to the desired position on the back surface of the laminate 40. Thereby, the laminated body 40 is arrange | positioned between the 1st laser displacement meter 26 and the 2nd laser displacement meter 27 which were opposingly arranged on the straight line. In addition, a straight line connecting the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 is orthogonal to the front surface or back surface of the laminate 40.

移動後、第一のレーザ変位計26から、積層体40の上面(サポートプレート43の上面)にレーザ光を照射し、積層体40で反射したレーザ光Aを受光する一方、第二のレーザ変位計27から、保持ステージ31に形成された孔32を通じて、積層体40の下面(基板41の下面)にレーザ光を照射し、積層体40で反射したレーザ光Bを受光する。これにより、積層体40の表面の第一の変位および裏面の第二の変位を測定する(測定工程)。   After the movement, the first laser displacement meter 26 irradiates the upper surface of the laminated body 40 (the upper surface of the support plate 43) with laser light, and receives the laser light A reflected by the laminated body 40, while the second laser displacement. From the total 27, through the hole 32 formed in the holding stage 31, the lower surface of the stacked body 40 (the lower surface of the substrate 41) is irradiated with laser light, and the laser light B reflected by the stacked body 40 is received. Thereby, the 1st displacement of the surface of the laminated body 40 and the 2nd displacement of a back surface are measured (measurement process).

このとき、第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27は、レーザ光を同時に照射して積層体40の表裏面の変位を同時に測定してもよく、レーザ光を別々に照射して積層体40の表裏面の変位を別々に測定してもよい。或る一つの孔32での測定においては、第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27の位置は見かけ上、固定されていることになるので、レーザ光の照射のタイミングは互いに同時であってもよく、互いに異なっていてもよい。但し、同時にレーザ光を照射した方がより正確に厚さを測定することができ、また、測定時間を短縮することができる。   At this time, the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 may simultaneously measure the displacement of the front and back surfaces of the stacked body 40 by irradiating the laser beam, or separately irradiate the laser beam. Thus, the displacement of the front and back surfaces of the laminate 40 may be measured separately. In the measurement with a certain hole 32, the positions of the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 are apparently fixed. It may be simultaneous or different from each other. However, the thickness can be more accurately measured by irradiating the laser beam at the same time, and the measurement time can be shortened.

また、第一のレーザ変位計26の受光部は、積層体40の表面で反射したレーザ光Aだけを受光し、第二のレーザ変位計27の受光部は、積層体40の裏面で反射したレーザ光Bだけを受光する。つまり、第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27は、積層体40の表裏面からの反射光だけを検出し、サポートプレート43や接着層42、基板41を透過若しくはこれら各層で反射したレーザ光を検出しないので、レーザ光A,Bが互いに干渉することはない。   Further, the light receiving part of the first laser displacement meter 26 receives only the laser light A reflected by the surface of the laminate 40, and the light receiving part of the second laser displacement meter 27 is reflected by the back surface of the laminate 40. Only the laser beam B is received. That is, the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 detect only the reflected light from the front and back surfaces of the laminated body 40, and pass through the support plate 43, the adhesive layer 42, and the substrate 41, or in each of these layers. Since the reflected laser beam is not detected, the laser beams A and B do not interfere with each other.

第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27は、受光したレーザ光を信号に変換して算出装置に送信する。算出装置は、上記第一の変位および第二の変位から、演算によって積層体40の厚さを算出し(算出工程)、結果を例えば外部表示装置に出力したり、記憶装置に記憶したりする。   The first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 convert the received laser light into a signal and transmit it to the calculation device. The calculation device calculates the thickness of the stacked body 40 by calculation from the first displacement and the second displacement (calculation step), and outputs the result to, for example, an external display device or stores it in a storage device. .

或る一つの孔32での積層体40の表裏面の変位の測定が終われば、厚さ測定器57は、変位計保持部21を駆動し、第一移動部材23および第二移動部材25を移動させて、第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27を、次に測定する位置、具体的には、次の孔32の位置に対応する位置に相対的に移動させる。これにより、次の孔32の位置での積層体40の表裏面の変位を測定し、積層体40の厚さを算出する。   When the measurement of the displacement of the front and back surfaces of the laminate 40 in a certain hole 32 is finished, the thickness measuring device 57 drives the displacement meter holding unit 21 to move the first moving member 23 and the second moving member 25. The first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 are moved relative to a position to be measured next, specifically, a position corresponding to the position of the next hole 32. Thereby, the displacement of the front and back surfaces of the laminate 40 at the position of the next hole 32 is measured, and the thickness of the laminate 40 is calculated.

その後、上記測定を積層体40の大きさ等に応じて繰り返し、積層体40の表面の変位を複数測定する。厚さ測定器57は、第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27を積層体40に対して相対的に移動させて測定するので、積層体40の表裏面全体にわたって厚さを測定することができる。従って、積層体40の厚み分布を測定することができる。また、第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27は、互いの相対的な位置や距離が常に一定であるので、装置の微振動や、積層体40の表裏面の凹凸の有無等に左右されることなく、当該積層体40の厚さを正確に測定することができる。   Then, the said measurement is repeated according to the magnitude | size etc. of the laminated body 40, and multiple displacements of the surface of the laminated body 40 are measured. The thickness measuring instrument 57 measures the thickness by moving the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 relative to the stacked body 40, so that the thickness is measured over the entire front and back surfaces of the stacked body 40. Can be measured. Therefore, the thickness distribution of the laminate 40 can be measured. Further, since the relative position and distance of the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 are always constant, the presence or absence of irregularities on the front and back surfaces of the laminated body 40 is confirmed. The thickness of the laminate 40 can be accurately measured without being influenced by the above.

尚、上記説明においては、変位計保持部21によって第一のレーザ変位計26および第二のレーザ変位計27を測定対象物保持部22に対して相対移動させる方法となっているが、厚さ測定方法は当該方法に限定されるものではなく、測定対象物保持部を、変位計保持部に保持されている第一のレーザ変位計および第二のレーザ変位計に対して相対移動させる方法であってもよく、変位計保持部および測定対象物保持部が互いに相対移動する方法であってもよい。   In the above description, the displacement meter holding unit 21 moves the first laser displacement meter 26 and the second laser displacement meter 27 relative to the measurement object holding unit 22. The measurement method is not limited to this method, and the measurement object holding unit is moved relative to the first laser displacement meter and the second laser displacement meter held by the displacement meter holding unit. There may be a method in which the displacement meter holding unit and the measurement object holding unit move relative to each other.

〔積層体形成システム〕
上記構成の厚さ測定器57を備えた積層体形成システムについて、図4を用いて以下に説明する。積層体形成システムは、基板と支持体であるサポートプレートとを、接着層を介して貼り合わせて積層体を形成するシステムである。
[Laminated body formation system]
A laminated body forming system including the thickness measuring device 57 having the above-described configuration will be described below with reference to FIG. The laminated body forming system is a system for forming a laminated body by bonding a substrate and a support plate as a support through an adhesive layer.

積層体形成後における基板の薄化、実装等のプロセスを考慮すると、積層体の厚み分布の値は小さいことが好ましく、製品の品質管理のためには、半導体ウエハの製造工程において積層体の厚み分布を測定することが好ましい。本実施形態では、積層体形成システムが厚さ測定器57を備えることにより、積層体形成のプロセス中に積層体の厚み分布を測定することができ、効率的である。また、積層体の厚み分布に関する情報は、例えば、製造される積層体の異常の検出に有用である。   In consideration of processes such as thinning and mounting of the substrate after the formation of the laminate, the thickness distribution value of the laminate is preferably small. For product quality control, the thickness of the laminate in the semiconductor wafer manufacturing process It is preferable to measure the distribution. In the present embodiment, since the laminate forming system includes the thickness measuring device 57, the thickness distribution of the laminate can be measured during the laminate forming process, which is efficient. Moreover, the information regarding the thickness distribution of the laminated body is useful for, for example, detecting an abnormality in the produced laminated body.

また、本実施形態において、厚さ測定器57は、基板との貼り付け前のサポートプレートの厚み分布を測定する。積層体の厚み分布は、サポートプレートの厚み分布によっても左右されるため、サポートプレートの厚み分布を予め測定することにより、製造される積層体の異常が何に起因するのかを知ることができる。また、サポートプレートの厚み分布に関する情報は、例えば、サポートプレートの異常の検出に有用である。   In the present embodiment, the thickness measuring device 57 measures the thickness distribution of the support plate before being attached to the substrate. Since the thickness distribution of the laminated body also depends on the thickness distribution of the support plate, it is possible to know what is caused by the abnormality of the produced laminated body by measuring the thickness distribution of the support plate in advance. Moreover, the information regarding the thickness distribution of the support plate is useful for detecting an abnormality of the support plate, for example.

図4に示すように、積層体形成システム1は、基板上に接着剤を塗布するスピンナー(塗布装置)52と、接着剤が塗布された基板を加熱して当該基板上に接着層を形成するベークプレート(加熱装置)51と、基板とサポートプレートとを、接着層を介して貼り合わせて積層体を形成する重ね合わせ部6および貼付部(貼付装置)7と、積層体の厚み分布を測定する厚さ測定器57とを備えている。そして、積層体形成システム1は、キャリアステーション(格納部)50と、温度調節部56と、第一搬送装置4と、第二搬送装置54と、洗浄装置53とをさらに備えている。積層体形成システム1は、保持部3および重ね合わせ部6を備えていてもよい。尚、積層体形成システム1は、各装置の動作を制御する制御部(図示せず)を備えている。   As shown in FIG. 4, the laminate forming system 1 forms a bonding layer on a spinner (coating apparatus) 52 that applies an adhesive on a substrate and a substrate on which the adhesive is applied. Bake plate (heating device) 51, substrate and support plate are bonded to each other via an adhesive layer to form a laminated body 6 and a pasting part (sticking device) 7, and the thickness distribution of the laminated body is measured. And a thickness measuring device 57 to be provided. And the laminated body formation system 1 is further provided with the carrier station (storage part) 50, the temperature control part 56, the 1st conveying apparatus 4, the 2nd conveying apparatus 54, and the washing | cleaning apparatus 53. FIG. The stacked body forming system 1 may include a holding unit 3 and an overlapping unit 6. In addition, the laminated body formation system 1 is provided with the control part (not shown) which controls operation | movement of each apparatus.

以下、積層体形成システム1の各装置について説明する。   Hereinafter, each apparatus of the laminated body formation system 1 is demonstrated.

(塗布装置)
スピンナー(塗布装置)52は、基板上に接着剤を塗布する装置である。本実施形態においては、第二搬送装置54が基板をスピンナー52に搬入して載置する。スピンナー52は、載置された基板を例えば3000rpmで回転させながら当該基板上に接着剤をスピン塗布する。基板への接着剤の塗布方法は、特に限定されるものではなく、例えば、スピンコート、ディッピング、ローラーブレード、スプレー塗布、スリット塗布等の方法が挙げられる。また、基板の回転速度も特に限定されるものではなく、接着剤の種類、基板の大きさ等に応じて適宜設定すればよい。
(Applicator)
The spinner (coating device) 52 is a device that applies an adhesive onto a substrate. In the present embodiment, the second transport device 54 carries the substrate into the spinner 52 and places it thereon. The spinner 52 spin-coats an adhesive on the substrate while rotating the mounted substrate at, for example, 3000 rpm. The method for applying the adhesive to the substrate is not particularly limited, and examples thereof include spin coating, dipping, roller blades, spray coating, and slit coating. Further, the rotation speed of the substrate is not particularly limited, and may be set as appropriate according to the type of adhesive, the size of the substrate, and the like.

また、スピンナー52は、基板上に接着剤を塗布するときに、基板の端面または裏面に付着した接着剤を洗浄するための洗浄液を基板にさらに塗布する洗浄部を備えていてもよい。これにより、接着剤を洗浄する洗浄装置を別途設けることなく、基板上に接着剤を塗布しながら当該基板の端面または裏面を洗浄することができる。よって、本発明に係る積層体形成システム1においては、省スペース化することができ、また、積層体の形成時間を短縮することができる。   Further, the spinner 52 may include a cleaning unit that further applies a cleaning liquid for cleaning the adhesive attached to the end face or the back surface of the substrate when the adhesive is applied on the substrate. Thereby, the end surface or the back surface of the substrate can be cleaned while applying the adhesive on the substrate without separately providing a cleaning device for cleaning the adhesive. Therefore, in the laminated body formation system 1 which concerns on this invention, space can be saved and the formation time of a laminated body can be shortened.

(加熱装置)
ベークプレート(加熱装置)51は、スピンナー52により接着剤が塗布された基板を加熱して、基板上に接着層を形成する装置である。本実施形態においては、スピンナー52により基板上に接着剤を塗布した後に、当該基板をベークプレート51に載置し、接着剤をベークする。ベークプレート51に熱源を取り付けることにより、または天板に熱源を取り付けることにより、接着剤をベークすることができる。熱源の例としては、例えば、温水ヒータ、温風ヒータ、赤外線ヒータ、電熱ヒータ等が挙げられる。
(Heating device)
The bake plate (heating device) 51 is a device that heats a substrate coated with an adhesive by a spinner 52 and forms an adhesive layer on the substrate. In this embodiment, after applying an adhesive on the substrate by the spinner 52, the substrate is placed on the bake plate 51 and the adhesive is baked. The adhesive can be baked by attaching a heat source to the bake plate 51 or attaching a heat source to the top plate. Examples of the heat source include a hot water heater, a warm air heater, an infrared heater, and an electric heater.

(重ね合わせ部)
重ね合わせ部6は、基板およびサポートプレートを、接着層を介して重ね合わせる装置である。例えば、本実施形態において、重ね合わせ部6は、基板とサポートプレートとの相対位置を、位置調整部(図示せず)を用いて調整した後に、基板とサポートプレートとを重ね合わせるようになっている。
(Overlapping part)
The overlapping portion 6 is a device that overlaps the substrate and the support plate via an adhesive layer. For example, in the present embodiment, the superimposing unit 6 superimposes the substrate and the support plate after adjusting the relative position between the substrate and the support plate using a position adjusting unit (not shown). Yes.

(貼付装置)
貼付部(貼付装置)7は、基板とサポートプレートとを、接着層を介して貼り合わせて積層体を形成する装置である。貼付部7では、重ね合わせ部6にて重ね合わされた基板およびサポートプレートを押圧しながら接着層を加熱する。具体的には、例えば、貼付部7内の上下にプレスプレートを設け、この上下のプレスプレート間に、重ね合わせた基板およびサポートプレートを載置し、押圧すればよい。これにより、積層体を形成することができる。
(Paste device)
The sticking unit (sticking device) 7 is a device that forms a laminated body by sticking a substrate and a support plate through an adhesive layer. In the affixing unit 7, the adhesive layer is heated while pressing the substrate and the support plate superimposed in the overlapping unit 6. Specifically, for example, press plates may be provided on the upper and lower sides of the sticking unit 7, and the superposed substrate and support plate may be placed and pressed between the upper and lower press plates. Thereby, a laminated body can be formed.

(貼り合わせユニット)
本実施形態において、上記重ね合わせ部6および貼付部7は、貼り合わせユニット2を構成している。貼り合わせユニット2は、一つの処理室の内部を二つの処理部屋に仕切る壁を設けた構造とすることができる。或いは、貼り合わせユニット2は、重ね合わせ部6と貼付部7とがそれぞれの側面において隙間無く互いに接している構造とすることもできる。重ね合わせ部6および貼付部7の境界には、重ね合わせ部6で重ね合わせた基板およびサポートプレート、並びに、貼付部7で貼り合わせて形成した積層体の受け渡しを行うためのゲート8が設けられている。ゲート8はシャッターによってその開閉が制御されている。ゲート8の開閉には従来公知の構造を用いることができ、例えばゲートバルブ構造を適用することができる。
(Lamination unit)
In the present embodiment, the overlapping portion 6 and the pasting portion 7 constitute a pasting unit 2. The bonding unit 2 can have a structure in which a wall that partitions the inside of one processing chamber into two processing chambers is provided. Alternatively, the bonding unit 2 may have a structure in which the overlapping portion 6 and the bonding portion 7 are in contact with each other without a gap on each side surface. At the boundary between the overlapping portion 6 and the attaching portion 7, a substrate and a support plate overlapped by the overlapping portion 6, and a gate 8 for delivering the laminate formed by attaching the attaching portion 7 are provided. ing. The opening and closing of the gate 8 is controlled by a shutter. A conventionally known structure can be used to open and close the gate 8, and for example, a gate valve structure can be applied.

また、重ね合わせ部6には、貼り合わせユニット2と第一搬送装置4との間で基板、サポートプレート、および積層体の受け渡しを行うための受け渡し窓9が開閉可能に設けられている。重ね合わせ部6および貼付部7には、公知の減圧装置(図示せず)がそれぞれ設けられており、重ね合わせ部6および貼付部7の内部圧の状態をそれぞれ独立に制御することができる。さらに、貼り合わせユニット2には、ゲート8を介して重ね合わせ部6および貼付部7間で積層体の受け渡しを行う内部搬送装置(図示せず)が設けられている。   In addition, a delivery window 9 for delivering the substrate, the support plate, and the laminated body between the bonding unit 2 and the first transport device 4 is provided in the overlapping portion 6 so as to be openable and closable. The overlapping part 6 and the sticking part 7 are each provided with a known decompression device (not shown), and the state of the internal pressure of the overlapping part 6 and the sticking part 7 can be controlled independently. Further, the laminating unit 2 is provided with an internal transfer device (not shown) for transferring the laminate between the overlapping portion 6 and the affixing portion 7 via the gate 8.

貼付部7は減圧可能な構成であるため、減圧雰囲気下において基板とサポートプレートとを、接着層を介して貼り合わせることができる。減圧雰囲気下において接着層に基板を圧着させることによって、基板表面の凹凸パターンの窪みに空気が存在しない状態で、接着層を当該窪みに入り込ませることができるため、接着層と基板との間での気泡の発生を、より確実に防止することが可能である。   Since the affixing portion 7 has a configuration capable of reducing the pressure, the substrate and the support plate can be bonded to each other through an adhesive layer in a reduced pressure atmosphere. By pressure-bonding the substrate to the adhesive layer in a reduced-pressure atmosphere, the adhesive layer can enter the dent in a state where there is no air in the dent of the uneven pattern on the substrate surface. It is possible to more reliably prevent the generation of bubbles.

ゲート8は、シャッターが開いた状態で、重ね合わせた基板およびサポートプレートを重ね合わせ部6から貼付部7に移動させることができるように、また、積層体を貼付部7から重ね合わせ部6に移動させることができるように形成されている。従って、ゲート8は、重ね合わせ部6および貼付部7の何れも減圧させた状態でシャッターを開けることにより、重ね合わせた基板およびサポートプレートを重ね合わせ部6から貼付部7に、また、積層体を貼付部7から重ね合わせ部6に、減圧下で移動させることができる構造となっている。   The gate 8 is configured so that the superposed substrate and the support plate can be moved from the superimposing unit 6 to the pasting unit 7 with the shutter opened, and the laminated body is moved from the pasting unit 7 to the superposing unit 6. It is formed so that it can be moved. Therefore, the gate 8 opens the shutter in a state where both the overlapping portion 6 and the pasting portion 7 are depressurized, so that the superposed substrate and the support plate are transferred from the superposing portion 6 to the pasting portion 7 and the laminated body. Can be moved from the affixing portion 7 to the overlapping portion 6 under reduced pressure.

(格納部)
キャリアステーション(格納部)50は、基板およびサポートプレートを格納している。また、本実施形態においては、キャリアステーション50を介して、基板およびサポートプレートを積層体形成システム1に投入することができる。また、貼付部7にて形成した積層体を、キャリアステーション50を介して、積層体形成システム1から取り出すことができる。
(Storage part)
The carrier station (storage unit) 50 stores a substrate and a support plate. In the present embodiment, the substrate and the support plate can be put into the stacked body forming system 1 via the carrier station 50. Moreover, the laminated body formed in the sticking part 7 can be taken out from the laminated body forming system 1 via the carrier station 50.

(保持部)
保持部3は基板およびサポートプレートのアライメントをする装置である。保持部3は、撮像部および中心位置検出部(図示せず)を備えており、重ね合わされる前の基板またはサポートプレートを保持するようになっている。
(Holding part)
The holding unit 3 is a device for aligning the substrate and the support plate. The holding unit 3 includes an imaging unit and a center position detection unit (not shown), and holds the substrate or the support plate before being overlaid.

撮像部は、例えばCCDカメラで構成されており、保持された基板またはサポートプレートの互いに異なる端面を含む領域をそれぞれ撮像するようになっている。当該領域は、例えば、保持された基板またはサポートプレートの凡そ対角線上に設定されていることが好ましい。   The imaging unit is composed of, for example, a CCD camera, and images each of regions including different end surfaces of the held substrate or support plate. The region is preferably set, for example, approximately on a diagonal line of the held substrate or support plate.

中心位置検出部は、撮像部が撮像した複数の画像に基づいて、保持された基板またはサポートプレートの中心位置を検出する。中心位置検出部は、円板の端面の画像に基づいて、仮想円を算出し、中心位置を検出するようになっていればよい。端面の画像に基づく中心位置の検出技術は、公知の画像処理を用いればよく、特に限定されない。   The center position detection unit detects the center position of the held substrate or support plate based on a plurality of images captured by the imaging unit. The center position detection unit only needs to calculate a virtual circle based on the image of the end face of the disk and detect the center position. The technique for detecting the center position based on the image of the end face is not particularly limited as long as known image processing is used.

基板またはサポートプレートは、保持部3において中心位置が検出された後、第一搬送装置4により、重ね合わせ部6に搬送される。そして、基板またはサポートプレートは、重ね合わせ部6において、重ね合わせの前に、位置調整部(図示せず)によって、保持部3において検出した互いの中心位置が重なるように位置が調整される。   After the center position is detected by the holding unit 3, the substrate or the support plate is transported to the overlapping unit 6 by the first transport device 4. Then, the position of the substrate or the support plate is adjusted by the position adjusting unit (not shown) in the overlapping unit 6 so that the center positions detected by the holding unit 3 overlap each other before the overlapping.

(温度調節部)
温度調節部56は基板を冷却することにより、基板の温度調節を行う冷却板(図示せず)と、基板の位置を調整する位置調整装置(図示せず)とを備えている。本実施形態においては、温度調節部56を挟んで、第一搬送装置4と第二搬送装置54とが基板の受け渡しを行う。
(Temperature adjuster)
The temperature adjusting unit 56 includes a cooling plate (not shown) that adjusts the temperature of the substrate by cooling the substrate, and a position adjusting device (not shown) that adjusts the position of the substrate. In the present embodiment, the first transfer device 4 and the second transfer device 54 deliver the substrate with the temperature adjustment unit 56 interposed therebetween.

基板または積層体を冷却板に載置することで、これら基板または積層体を冷却することができる。また、冷却時に位置調整装置を用いて、基板のアライメントを行うことができる。よって、積層体形成システム1を省スペース化することができるとともに、積層体の形成時間を短縮することができる。   By placing the substrate or the laminated body on the cooling plate, the substrate or the laminated body can be cooled. Further, the substrate can be aligned using the position adjusting device during cooling. Therefore, the stack forming system 1 can be saved in space, and the stack forming time can be shortened.

さらに、温度調節部56は接着層を形成した後の基板および積層体を自然冷却するための冷却エリアを有している。冷却エリアは、基板および積層体の熱を効率的に逃がすことができる構成であればよい。例えば、冷却エリアには、基板および積層体を支持するための支持点が形成されており、基板および積層体の面の内周部を三点〜十点において支持点に支持させることにより、基板および積層体全体の熱を効率的に逃がすことができる。   Furthermore, the temperature adjusting unit 56 has a cooling area for naturally cooling the substrate and the laminated body after the adhesive layer is formed. The cooling area should just be the structure which can release | release the heat | fever of a board | substrate and a laminated body efficiently. For example, a support point for supporting the substrate and the laminate is formed in the cooling area, and the inner periphery of the surface of the substrate and the laminate is supported by the support point at three to ten points. And the heat of the whole laminated body can be released efficiently.

(第一搬送装置)
第一搬送装置4は、キャリアステーション50、貼り合わせユニット2、温度調節部56および厚さ測定器57の間で基板を搬送する。また、第一搬送装置4は、図4における矢印方向に、第一搬送装置走行路5内を移動する。第一搬送装置4は、必要な処理が終了した後に次の処理を行うために、基板、サポートプレートおよび積層体をそれぞれ所望の位置まで搬送する。
(First transfer device)
The first transport device 4 transports the substrate among the carrier station 50, the bonding unit 2, the temperature adjustment unit 56, and the thickness measuring device 57. Moreover, the 1st conveying apparatus 4 moves the inside of the 1st conveying apparatus driving path 5 in the arrow direction in FIG. The first transport device 4 transports the substrate, the support plate, and the stacked body to desired positions in order to perform the next processing after the necessary processing is completed.

(第二搬送装置)
第二搬送装置54は、温度調節部56、ベークプレート51、スピンナー52、および洗浄装置53の間で基板を搬送する。また、第二搬送装置54は、図4における矢印方向に、つまり、第一搬送装置4の移動方向と直交する方向に、第二搬送装置走行路55内を移動する。第二搬送装置54は、必要な処理が終了した後に次の処理を行うために、基板をそれぞれ所望の位置まで搬送する。
(Second transfer device)
The second transport device 54 transports the substrate among the temperature adjustment unit 56, the bake plate 51, the spinner 52, and the cleaning device 53. Further, the second transport device 54 moves in the second transport device travel path 55 in the direction of the arrow in FIG. 4, that is, in the direction orthogonal to the moving direction of the first transport device 4. The second transport device 54 transports the substrate to a desired position in order to perform the next processing after the necessary processing is completed.

(洗浄装置)
洗浄装置53は、接着剤を塗布した基板を洗浄する装置である。本実施形態において、洗浄装置53は、基板上に接着剤を塗布した後に、基板の端面または裏面に付着した接着剤を洗浄する。洗浄方法としては、例えば、端面または裏面に接着剤が付着した基板を3000rpmで回転させながら、洗浄液を端面または裏面に塗布すればよい。
(Cleaning device)
The cleaning device 53 is a device for cleaning the substrate coated with the adhesive. In this embodiment, the cleaning device 53 cleans the adhesive adhered to the end surface or the back surface of the substrate after applying the adhesive on the substrate. As a cleaning method, for example, the cleaning liquid may be applied to the end surface or the back surface while rotating the substrate having the adhesive attached to the end surface or the back surface at 3000 rpm.

洗浄液は、接着剤を溶解させることができる溶剤を含んでいればよく、特に限定されるものではないが、例えば、直鎖状の炭化水素、炭素数4から15の分岐状の炭化水素、テルペン系溶剤、ラクトン類、ケトン類、多価アルコール類、多価アルコール類の誘導体、環式エーテル類、エステル類、芳香族系有機溶剤等を用いることができる。洗浄液としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)がより好ましい。   The cleaning liquid is not particularly limited as long as it contains a solvent capable of dissolving the adhesive, and examples thereof include linear hydrocarbons, branched hydrocarbons having 4 to 15 carbon atoms, and terpenes. Solvents, lactones, ketones, polyhydric alcohols, derivatives of polyhydric alcohols, cyclic ethers, esters, aromatic organic solvents and the like can be used. As the cleaning liquid, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and propylene glycol monomethyl ether (PGME) are more preferable.

〔積層体形成方法〕
次に、図5に示すフローチャートを参照しながら、積層体形成システム1を用いて積層体を形成する工程について順に説明する。図5に示すステップS1〜S10は、基板に関する処理を表し、ステップS11〜S13は、サポートプレートに関する処理を表し、ステップS14〜S17は、積層体に関する処理を表す。
[Laminate Forming Method]
Next, the process of forming a laminated body using the laminated body formation system 1 is demonstrated in order, referring the flowchart shown in FIG. Steps S1 to S10 shown in FIG. 5 represent processes related to the substrate, steps S11 to S13 represent processes related to the support plate, and steps S14 to S17 represent processes related to the laminated body.

ステップS1において、第一搬送装置4が基板をキャリアステーション50から積層体形成システム1内に投入する。第一搬送装置4は、基板を支持した状態で当該基板を温度調節部56まで搬送する。   In step S <b> 1, the first transport device 4 inputs the substrate from the carrier station 50 into the stacked body forming system 1. The first transport device 4 transports the substrate to the temperature adjustment unit 56 while supporting the substrate.

ステップS2において、第一搬送装置4は基板を温度調節部56の冷却板に載置し、温度調節部56は基板の温度を調節する。そして、温度調節部56の位置調整装置によって、基板のアライメントを冷却板上で行う。アライメント終了後に、第二搬送装置54は、基板を支持した状態で当該基板をスピンナー52に搬入する(第一搬入工程)。   In step S <b> 2, the first transport device 4 places the substrate on the cooling plate of the temperature adjustment unit 56, and the temperature adjustment unit 56 adjusts the temperature of the substrate. Then, the substrate is aligned on the cooling plate by the position adjusting device of the temperature adjusting unit 56. After the alignment, the second transport device 54 carries the substrate into the spinner 52 while supporting the substrate (first loading step).

ステップS3において、第二搬送装置54は基板をスピンナー52に載置し、スピンナー52は基板に接着剤を塗布する(接着剤塗布工程)。ステップS2で基板のアライメントを行っているため、基板の表面に均等に接着剤をスピン塗布することができる。また、ステップS2において基板の温度調節を行っているので、一定の塗布条件で接着剤を塗布することができる。基板に接着剤を塗布した後に、スピンナー52に設けられた洗浄部は、基板の裏面を洗浄(バックリンス)する。また、必要に応じて、洗浄部は、基板の端面を洗浄(エッジバックリンス)してもよい。洗浄終了後に、第二搬送装置54は、基板を支持した状態で当該基板をベークプレート51に搬送する(第二搬入工程)。   In step S3, the second transport device 54 places the substrate on the spinner 52, and the spinner 52 applies an adhesive to the substrate (adhesive application step). Since the substrate is aligned in step S2, the adhesive can be evenly applied to the surface of the substrate by spin coating. Further, since the temperature of the substrate is adjusted in step S2, the adhesive can be applied under certain application conditions. After applying the adhesive to the substrate, the cleaning unit provided in the spinner 52 cleans (back rinses) the back surface of the substrate. Further, the cleaning unit may clean the edge surface of the substrate (edge back rinse) as necessary. After completion of the cleaning, the second transport device 54 transports the substrate to the bake plate 51 while supporting the substrate (second carry-in process).

ステップS4において、第二搬送装置54は基板をベークプレート51に載置し、熱源を用いて基板に塗布された接着剤をベークする。接着剤をベークすることにより、溶剤を適切に揮発させることができる。また、接着剤をベークする温度(t℃)は、接着剤の種類に応じて適宜定めることができる。 In step S4, the second transport device 54 places the substrate on the bake plate 51, and uses the heat source to bake the adhesive applied to the substrate. By baking the adhesive, the solvent can be volatilized appropriately. The temperature for baking the adhesive (t 1 ° C.) can be determined as appropriate depending on the type of adhesive.

ステップS5において、接着剤をさらにベークする。接着剤をさらにベークする温度(t℃)は、接着剤の種類に応じて適宜定めることができる。ベーク終了後に、第二搬送装置54は、基板を支持した状態で当該基板を温度調節部56まで搬送する。 In step S5, the adhesive is further baked. The temperature (t 2 ° C) at which the adhesive is further baked can be appropriately determined according to the type of adhesive. After the completion of baking, the second transport device 54 transports the substrate to the temperature adjustment unit 56 while supporting the substrate.

ステップS6において、第二搬送装置54は基板を冷却板に載置し、温度調節部56は基板を冷却する。そして、位置調整装置により冷却板上で基板のアライメントを行う。アライメント終了後に、第二搬送装置54は、基板を支持した状態で当該基板を洗浄装置53に搬入する。   In step S6, the second transport device 54 places the substrate on the cooling plate, and the temperature adjustment unit 56 cools the substrate. Then, the substrate is aligned on the cooling plate by the position adjusting device. After the alignment, the second transport device 54 carries the substrate into the cleaning device 53 while supporting the substrate.

ステップS7において、第二搬送装置54は基板を洗浄装置53に載置し、洗浄装置53は基板の端面をエッジバックリンスし、基板の裏面をバックリンスする。これにより、スピンナー52にて接着剤を基板にスピン塗布したときに、当該基板の端面および裏面に付着した接着剤を除去することができる。ここで、ステップS6において、基板の位置調整を行っているので、基板の端面(エッジ)を正確に洗浄することができる。基板の洗浄終了後に、第二搬送装置54は、基板を支持した状態で当該基板をベークプレート51まで搬送する。   In step S7, the second transfer device 54 places the substrate on the cleaning device 53, and the cleaning device 53 performs edge back rinsing on the end surface of the substrate and back rinsing on the back surface of the substrate. Thereby, when the adhesive is spin-coated on the substrate by the spinner 52, the adhesive adhered to the end surface and the back surface of the substrate can be removed. Here, since the position of the substrate is adjusted in step S6, the end face (edge) of the substrate can be accurately cleaned. After the cleaning of the substrate, the second transport device 54 transports the substrate to the bake plate 51 while supporting the substrate.

ステップS8において、第二搬送装置54は基板をベークプレート51に載置し、熱源を用いて基板に塗布された接着剤をさらにベークする。接着剤をさらにベークする温度(t℃)は、接着剤の種類に応じて適宜定めることができる。これにより、基板上の接着剤が乾燥し、接着層が形成される(接着層形成工程)。 In step S <b> 8, the second transport device 54 places the substrate on the bake plate 51, and further bakes the adhesive applied to the substrate using a heat source. The temperature (t 3 ° C) at which the adhesive is further baked can be appropriately determined according to the type of adhesive. Thereby, the adhesive on the substrate is dried and an adhesive layer is formed (adhesive layer forming step).

ステップS4、S5およびS8において、接着剤をベークする温度をそれぞれt、t、t(℃)とすると、t<t<t(但し、t≧60(℃)およびt≦250(℃)であることが好ましい)を満たすように、ステップ間で接着剤をベークする温度を段階的に上げることが好ましい。接着剤の塗布が終了した直後に高温でベークすると、接着剤の収縮による基板の反り、接着剤表面のシワ、接着剤の発泡等の不具合が発生し易くなり、均一な接着層を形成することができないおそれがあるが、ベークする温度を段階的に上げることにより均一な接着層を形成することができる。 In steps S4, S5, and S8, assuming that the temperatures at which the adhesive is baked are t 1 , t 2 , and t 3 (° C.), respectively, t 1 <t 2 <t 3 (where t 1 ≧ 60 (° C.) and t 1 3 ≦ 250 (° C.) is preferable, and the temperature at which the adhesive is baked between steps is preferably increased step by step. When baking at high temperature immediately after the application of adhesive is completed, defects such as warpage of the substrate due to shrinkage of the adhesive, wrinkles on the adhesive surface, and foaming of the adhesive are likely to occur, and a uniform adhesive layer should be formed. However, it is possible to form a uniform adhesive layer by raising the baking temperature stepwise.

接着層の形成後に、第二搬送装置54は、基板を支持した状態で当該基板を温度調節部56まで搬送する。   After the formation of the adhesive layer, the second transport device 54 transports the substrate to the temperature adjustment unit 56 while supporting the substrate.

ステップS9において、第二搬送装置54は基板を冷却エリアの支持点に支持させ、温度調節部56は基板を自然冷却する。自然冷却後に、第一搬送装置4は、基板を支持した状態で当該基板を保持部3まで搬入する。   In step S <b> 9, the second transport device 54 supports the substrate on the support point of the cooling area, and the temperature adjustment unit 56 naturally cools the substrate. After natural cooling, the first transport device 4 carries the substrate to the holding unit 3 while supporting the substrate.

ステップS10において、第一搬送装置4は基板を保持部3に搬入し、載置する。保持部3は、基板のアライメントを行う。アライメント後に、第一搬送装置4は、基板を支持した状態で当該基板を重ね合わせ部6に搬入する(第三搬入工程)。   In step S <b> 10, the first transport device 4 carries the substrate into the holding unit 3 and places it thereon. The holding unit 3 performs alignment of the substrate. After the alignment, the first transport device 4 carries the substrate into the overlapping portion 6 while supporting the substrate (third carry-in process).

そして、基板に関する上記ステップS1〜S10の前、終了後、または並行して、サポートプレートに関するステップS11〜S13を行う。先ず、ステップS11において、第一搬送装置4がサポートプレートをキャリアステーション50から積層体形成システム1内に投入する。第一搬送装置4は、サポートプレートを支持した状態で当該サポートプレートを厚さ測定器57に搬入する。   And before step S1-S10 regarding a board | substrate, after completion | finish, or in parallel, step S11-S13 regarding a support plate is performed. First, in step S <b> 11, the first transport device 4 loads the support plate from the carrier station 50 into the stacked body forming system 1. The first transport device 4 carries the support plate into the thickness measuring device 57 while supporting the support plate.

ステップS12において、第一搬送装置4は、サポートプレートを厚さ測定器57に載置し、厚さ測定器57は、サポートプレートの厚み分布を測定する(支持体厚み分布測定工程)。厚み分布を測定した後に、第一搬送装置4はサポートプレートを支持した状態で当該サポートプレートを保持部3まで搬入する。サポートプレートを基板に貼り合わせる前に、サポートプレートの厚み分布の測定を行うことにより、サポートプレートの異常を検出することができる。   In step S12, the first transport device 4 places the support plate on the thickness measuring device 57, and the thickness measuring device 57 measures the thickness distribution of the support plate (support thickness distribution measuring step). After measuring the thickness distribution, the first transport device 4 carries the support plate to the holding unit 3 while supporting the support plate. An abnormality of the support plate can be detected by measuring the thickness distribution of the support plate before the support plate is bonded to the substrate.

ステップS13において、第一搬送装置4は、サポートプレートを保持部3に搬入し、載置する。そして、保持部3はサポートプレートをアライメントする。アライメントした後に、第一搬送装置4は、サポートプレートを支持した状態で当該サポートプレートを重ね合わせ部6に搬入する(第四搬入工程)。   In step S <b> 13, the first transport device 4 carries the support plate into the holding unit 3 and places it. And the holding | maintenance part 3 aligns a support plate. After the alignment, the first transport device 4 loads the support plate into the overlapping portion 6 in a state where the support plate is supported (fourth loading step).

サポートプレートに分離層が形成されている場合には、第一搬送装置4は、分離層がサポートプレートよりも鉛直上方に位置するようにしてサポートプレートを搬送してから、サポートプレートの上下を反転させて、重ね合わせ部6に搬送することが好ましい。重ね合わせ部6に搬入する前まで、分離層が形成されていないサポートプレートの裏面を第一搬送装置4が支持することにより、分離層と第一搬送装置4とが接触する時間を短くして、第一搬送装置4によって分離層が汚染または損傷されることを抑制することができる。   When the separation layer is formed on the support plate, the first transport device 4 transports the support plate so that the separation layer is positioned vertically above the support plate, and then the support plate is turned upside down. Then, it is preferable to convey it to the overlapping portion 6. Until the first conveyance device 4 supports the back surface of the support plate on which the separation layer is not formed before the separation layer 6 is carried in, the time for the separation layer and the first conveyance device 4 to contact is shortened. The separation layer can be prevented from being contaminated or damaged by the first transport device 4.

第一搬送装置4は、サポートプレートが分離層よりも鉛直上方に位置するようにしてサポートプレートを重ね合わせ部6に搬送する。そして、第三搬入工程にて第一搬送装置4が重ね合わせ部6に搬送した基板と上記サポートプレートとを、分離層と接着層とが対面した状態で重ね合わせる。   The first transport device 4 transports the support plate to the overlapping unit 6 so that the support plate is positioned vertically above the separation layer. And the board | substrate and the said support plate which the 1st conveying apparatus 4 conveyed to the superimposition part 6 at the 3rd carrying-in process are piled up in the state which the separation layer and the contact bonding layer faced.

基板およびサポートプレートの重ね合わせは、重ね合わせ部6内の位置調整部(図示せず)を用いて基板とサポートプレートとの相対位置を調整してから行ってもよい。これにより、基板およびサポートプレートの中心位置がずれることなく、これらの中心位置を重ね合わせることができる。   The superposition of the substrate and the support plate may be performed after adjusting the relative position between the substrate and the support plate using a position adjustment unit (not shown) in the superposition unit 6. Thereby, the center positions of the substrate and the support plate can be overlapped without shifting.

内部搬送アーム(図示せず)は、重ね合わせた基板およびサポートプレートを支持した状態で、これら基板およびサポートプレートを貼付部7に搬入する。   An internal transfer arm (not shown) carries the substrate and the support plate into the affixing unit 7 in a state where the overlapped substrate and the support plate are supported.

ステップS14において、貼付部7は、重ね合わせた基板およびサポートプレートを、接着層を介して貼り合わせる(貼付工程)。このとき、プレスプレートで、基板およびサポートプレートを押圧しながら、接着層を形成する熱可塑性材料がガラス転移点以上の温度になるまで加熱する。これにより、接着層の熱流動性が向上し、容易に変形するようになるため、積層体を形成することができる。   In step S14, the sticking unit 7 sticks the superposed substrate and the support plate together through an adhesive layer (sticking step). At this time, while pressing the substrate and the support plate with a press plate, heating is performed until the thermoplastic material forming the adhesive layer reaches a temperature equal to or higher than the glass transition point. Thereby, the heat fluidity of the adhesive layer is improved, and the adhesive layer is easily deformed, so that a laminate can be formed.

積層体の形成後、第一搬送装置4は、積層体を支持した状態で当該積層体を温度調節部56に搬送する。ステップS15において、第一搬送装置4は、積層体を冷却エリアの支持点に支持させ、温度調節部56は積層体を自然冷却する。自然冷却することにより、積層体の反りを低減することができる。また、自然冷却以外に基板内に温度分布が生じないようにゆるやかに強制排気を行うことによって、より短時間で冷却が完了する。冷却が終了した後に、第一搬送装置4は積層体を支持した状態で当該積層体を厚さ測定器57に搬入する(第五搬入工程)。   After forming the stacked body, the first transport device 4 transports the stacked body to the temperature adjusting unit 56 in a state where the stacked body is supported. In step S15, the 1st conveying apparatus 4 makes a laminated body be supported by the support point of a cooling area, and the temperature control part 56 cools a laminated body naturally. By naturally cooling, the warpage of the laminate can be reduced. In addition to natural cooling, cooling is completed in a shorter time by performing forced exhausting gently so as not to cause a temperature distribution in the substrate. After the cooling is completed, the first transport device 4 carries the laminated body into the thickness measuring device 57 while supporting the laminated body (fifth carrying-in process).

ステップS16において、厚さ測定器57に搬入された積層体の厚み分布を測定する(積層体厚み分布測定工程)。ステップS15にて積層体を自然冷却しているため、室温(例えば25℃)における積層体の厚み分布を測定することができる。   In step S16, the thickness distribution of the laminated body carried into the thickness measuring instrument 57 is measured (laminate thickness distribution measuring step). Since the laminated body is naturally cooled in step S15, the thickness distribution of the laminated body at room temperature (for example, 25 ° C.) can be measured.

積層体の厚み分布を測定することによって、積層体の品質を確認することができる。また、ステップS12にて、サポートプレートの厚み分布を測定しているため、サポートプレートの厚み分布と積層体の厚み分布とを比較することにより、積層体における凹凸が、サポートプレートまたは接着層の何れに起因するものであるのかを知ることができる。   By measuring the thickness distribution of the laminate, the quality of the laminate can be confirmed. In addition, since the thickness distribution of the support plate is measured in step S12, the unevenness in the laminated body can be detected by comparing the thickness distribution of the support plate with the thickness distribution of the laminated body. You can know if it is caused by

また、基板またはサポートプレートに品番等を設けることにより、積層体毎の貼付精度を管理することができ、積層体形成処理にフィードバックすることができる。   Further, by providing a product number or the like on the substrate or the support plate, it is possible to manage the pasting accuracy for each laminate, and to feed back to the laminate formation process.

ステップS17において、積層体の厚み分布の測定終了後に、第一搬送装置4は、厚さ測定器57からキャリアステーション50に積層体を搬送する。そして、積層体をキャリアステーション50から取り出す。   In step S <b> 17, after the measurement of the thickness distribution of the stacked body is completed, the first transport device 4 transports the stacked body from the thickness measuring device 57 to the carrier station 50. Then, the laminated body is taken out from the carrier station 50.

よって、ステップS1〜S17のステップにより、基板およびサポートプレートを、接着層を介して貼り合わせた積層体を形成することができる。   Therefore, the laminated body which bonded the board | substrate and the support plate through the contact bonding layer by the step of S1-S17 can be formed.

また、上述した二つの搬送装置(第一搬送装置4、第二搬送装置54)を使い分けて搬送を行うことにより、積層体形成システム1を構成する多数の装置を図4に示すようにコンパクトに配置したとしても、装置間での基板、サポートプレートおよび積層体の受け渡しを効率的に行うことができ、従って積層体を効率的に形成することができる。   Further, by carrying out conveyance using the above-mentioned two conveyance devices (first conveyance device 4 and second conveyance device 54) properly, a large number of devices constituting the laminate forming system 1 can be made compact as shown in FIG. Even if it arrange | positions, the board | substrate, a support plate, and a laminated body can be efficiently delivered between apparatuses, Therefore A laminated body can be formed efficiently.

キャリアステーション50から取り出された基板は、サポートプレートに支持された積層体の状態で、薄化、実装等のプロセスに供される。そして、プロセス終了後に、サポートプレートを介して光を分離層に照射し、分離層を変質させることにより、サポートプレートと基板とを容易に分離することができる。   The substrate taken out from the carrier station 50 is subjected to processes such as thinning and mounting in the state of a laminated body supported by the support plate. And after completion | finish of a process, a support plate and a board | substrate can be easily isolate | separated by irradiating light to a separation layer through a support plate and changing a separation layer.

本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope shown in the claims, and the embodiments can be obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments. Is also included in the technical scope of the present invention.

本発明に係る厚さ測定器および厚さ測定方法は、例えば、半導体ウエハの製造工程において広範に利用することができる。   The thickness measuring device and the thickness measuring method according to the present invention can be widely used, for example, in a semiconductor wafer manufacturing process.

1 積層体形成システム
2 貼り合わせユニット
3 保持部
4 第一搬送手段(搬送装置)
5 第一搬送手段走行路
6 重ね合わせ部(貼付装置)
7 貼付部(貼付装置)
8 ゲート
9 受け渡し窓
21 変位計保持部
22 測定対象物保持部
23 第一移動部材
24 レール部材
25 第二移動部材
26 第一のレーザ変位計
27 第二のレーザ変位計
31 保持ステージ(載置台)
50 キャリアステーション(格納部)
51 ベークプレート(加熱装置)
52 スピンナー(塗布装置)
53 洗浄装置
54 第二搬送手段(搬送装置)
55 第二搬送手段走行路
56 温度調節部
57 厚さ測定器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laminate formation system 2 Bonding unit 3 Holding part 4 1st conveyance means (conveyance apparatus)
5 First transport means travel path 6 Overlap part (sticking device)
7 Affixing part (applying device)
8 Gate 9 Delivery Window 21 Displacement Meter Holding Unit 22 Measurement Object Holding Unit 23 First Moving Member 24 Rail Member 25 Second Moving Member 26 First Laser Displacement Meter 27 Second Laser Displacement Meter 31 Holding Stage (Mounting Stage)
50 Carrier station (storage)
51 Bake plate (heating device)
52 Spinner (coating device)
53 Cleaning device 54 Second conveying means (conveying device)
55 Second transport means travel path 56 Temperature control unit 57 Thickness measuring device

Claims (9)

測定対象物の表面の変位を測定する第一のレーザ変位計および第二のレーザ変位計と、上記第一のレーザ変位計および第二のレーザ変位計を移動可能に保持する変位計保持部と、上記レーザ変位計で測定された第一の変位および第二の変位から、演算によって測定対象物の厚さを算出する算出装置と、測定対象物を移動可能に保持する測定対象物保持部とを備え、
上記第一のレーザ変位計および第二のレーザ変位計は、測定対象物の表裏面の変位を測定するために一直線上に対向配置され
上記測定対象物保持部は測定対象物を載置する載置台を備え、上記載置台は、測定対象物の裏面の一部を露出させる複数の開口部を有することを特徴とする厚さ測定器。
A first laser displacement meter and a second laser displacement meter for measuring the displacement of the surface of the object to be measured; and a displacement meter holding unit for holding the first laser displacement meter and the second laser displacement meter movably A calculation device that calculates the thickness of the measurement object from the first displacement and the second displacement measured by the laser displacement meter, and a measurement object holding unit that holds the measurement object movably With
The first laser displacement meter and the second laser displacement meter are arranged to face each other on a straight line in order to measure the displacement of the front and back surfaces of the measurement object ,
The measuring object holding unit includes a mounting table on which the measuring object is mounted, and the mounting table has a plurality of openings exposing a part of the back surface of the measuring object . .
上記第一のレーザ変位計および第二のレーザ変位計は、測定対象物の表裏面の変位を同時に測定することを特徴とする請求項1に記載の厚さ測定器。   The thickness measuring instrument according to claim 1, wherein the first laser displacement meter and the second laser displacement meter simultaneously measure the displacement of the front and back surfaces of the measurement object. 測定対象物の表面または裏面に対して、上記第一のレーザ変位計および第二のレーザ変位計を結ぶ直線が直交することを特徴とする請求項1または2に記載の厚さ測定器。   The thickness measuring instrument according to claim 1 or 2, wherein a straight line connecting the first laser displacement meter and the second laser displacement meter is orthogonal to the front surface or the back surface of the measurement object. 上記第一のレーザ変位計および第二のレーザ変位計が、分光干渉式レーザ変位計であることを特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の厚さ測定器。   The thickness measuring instrument according to any one of claims 1 to 3, wherein the first laser displacement meter and the second laser displacement meter are spectral interference type laser displacement meters. 上記載置台は、測定対象物を保持するための吸着機構を備えていることを特徴とする請求項1から4の何れか一項に記載の厚さ測定器。 The thickness measuring instrument according to any one of claims 1 to 4, wherein the mounting table includes a suction mechanism for holding a measurement object. 接着層が形成された基板と、支持体とを、上記接着層を介して貼り合わせて積層体を形成する貼付装置と、
測定対象物としての上記積層体の厚さを測定する請求項1からの何れか一項に記載の厚さ測定器と、
を備えていることを特徴とする積層体形成システム。
A pasting device that forms a laminate by laminating the substrate on which the adhesive layer is formed and the support through the adhesive layer;
The thickness measuring instrument according to any one of claims 1 to 5 , which measures the thickness of the laminate as a measurement object;
A laminate forming system comprising:
基板上に接着剤を塗布する塗布装置と、
上記接着剤が塗布された基板を加熱して基板上に接着層を形成する加熱装置と、
をさらに備えていることを特徴とする請求項に記載の積層体形成システム。
An applicator for applying an adhesive on the substrate;
A heating device for heating the substrate coated with the adhesive to form an adhesive layer on the substrate;
The laminate forming system according to claim 6 , further comprising:
基板を格納する格納部と、
基板の温度を調整する温度調節部と、
上記格納部、上記貼付装置、および上記温度調節部の間で基板を搬送する第一搬送装置と、
上記温度調節部、上記塗布装置、および上記加熱装置の間で基板を搬送する第二搬送装置と、
をさらに備えていることを特徴とする請求項に記載の積層体形成システム。
A storage unit for storing the substrate;
A temperature control unit for adjusting the temperature of the substrate;
A first transfer device for transferring a substrate between the storage unit, the sticking device, and the temperature adjustment unit;
A second transport device for transporting the substrate between the temperature control unit, the coating device, and the heating device;
The laminate forming system according to claim 7 , further comprising:
上記温度調節部が、基板の温度を調整する冷却板と、上記冷却板上の基板の位置を調整する位置調整装置と、を備えていることを特徴とする請求項に記載の積層体形成システム。 The laminated body formation according to claim 8 , wherein the temperature adjusting unit includes a cooling plate that adjusts the temperature of the substrate, and a position adjusting device that adjusts the position of the substrate on the cooling plate. system.
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