KR101821853B1 - Superimposing apparatus and superimposing method - Google Patents
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Abstract
중첩 장치는, 기판 (42) 에 중첩한 서포트 플레이트 (41) 의 일부의 영역을 기판 (42) 을 향해 가압함과 함께 가열함으로써, 기판 (42) 에 서포트 플레이트 (41) 를 임시 고정시키는 임시 고정부 (24) 를 구비하고 있다.The superposition device is a temporary fixing device for temporarily fixing the support plate 41 to the substrate 42 by pressing and heating a part of the support plate 41 superimposed on the substrate 42 toward the substrate 42 (24).
Description
본 발명은, 기판과 지지체를 중첩하는 중첩 장치 및 중첩 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
휴대 전화, 디지털 AV 기기 및 IC 카드 등의 고기능화에 수반하여, 탑재되는 반도체 실리콘 칩 (이하, 칩) 을 소형화 및 박판화함으로써, 패키지 내에 칩을 고집적화하는 요구가 높아지고 있다. 패키지 내의 칩의 고집적화를 실현하기 위해서는, 칩의 두께를 25 ∼ 150 ㎛ 의 범위로까지 얇게 할 필요가 있다.There has been a growing demand for highly integrated chips in a package by miniaturizing and thinning semiconductor silicon chips (hereinafter, referred to as chips) to be mounted, along with high-performance of mobile phones, digital AV devices and IC cards. In order to realize high integration of the chip in the package, it is necessary to make the thickness of the chip thin within a range of 25 to 150 mu m.
그러나, 칩의 베이스가 되는 반도체 웨이퍼 (이하, 웨이퍼) 는, 연삭함으로써 박화되고 그 강도는 약해져, 웨이퍼에 크랙 또는 휨이 잘 발생하게 된다. 또, 박판화함으로써 강도가 약해진 웨이퍼를 자동 반송하는 것은 곤란하기 때문에, 사람이 직접 반송해야 하여 그 취급이 번잡하였다.However, a semiconductor wafer (hereinafter, referred to as a wafer) serving as a base of a chip is thinned by grinding, its strength is weakened, and the wafer is cracked or warped well. Further, since it is difficult to automatically transport a wafer whose strength is weakened by making it thin, it has been difficult for a person to carry the wafer by hand.
그 때문에, 연삭하는 웨이퍼에 서포트 플레이트로 불리는, 유리 또는 경질 플라스틱 등으로 이루어지는 플레이트를 첩합 (貼合) 함으로써, 웨이퍼의 강도를 유지하여, 크랙의 발생 및 웨이퍼의 휨을 방지하는 웨이퍼 서포트 시스템이 개발되고 있다. 웨이퍼 서포트 시스템에 의해 웨이퍼의 강도를 유지할 수 있기 때문에 박판화한 반도체 웨이퍼의 반송을 자동화할 수 있다.For this reason, a wafer support system has been developed in which the strength of the wafer is maintained to prevent cracks and warpage of the wafer by bonding a plate made of glass or hard plastic, which is called a support plate, to the wafer to be ground have. Since the strength of the wafer can be maintained by the wafer support system, the conveyance of the thinned semiconductor wafer can be automated.
웨이퍼와 서포트 플레이트는, 점착 테이프, 열 가소성 수지를 포함하는 접착제 등을 사용하여 첩합되어 있다. 서포트 플레이트가 첩부된 웨이퍼를 박판화한 후, 웨이퍼를 다이싱하기 전에 서포트 플레이트를 기판으로부터 박리한다.The wafer and the support plate are bonded using an adhesive tape, an adhesive containing a thermoplastic resin, or the like. After thinning the wafer to which the support plate is attached, the support plate is peeled from the substrate before dicing the wafer.
여기서, 웨이퍼에 서포트 플레이트를 첩합할 때, 먼저, 중첩 장치를 사용하여 웨이퍼와 서포트 플레이트를 위치 맞춤을 실시한 상태에서 중첩하고 나서, 중첩한 웨이퍼 및 서포트 플레이트를 첩부 장치에 반송하여 첩합하는 기술이 특허문헌 1, 2 에 기재되어 있다.Here, when the support plate is bonded to the wafer, the technique of superposing the wafer and the support plate in a state of being aligned by using the superimposing device and then carrying the superimposed wafer and the support plate to the bonding device and bonding them is a patent It is described in
그러나, 종래 기술에 있어서, 중첩 장치에 있어서 중첩한 웨이퍼 및 서포트 플레이트를 첩부 장치에 반송할 때에, 웨이퍼와 서포트 플레이트의 상대 위치에 어긋남이 발생할 가능성이 있다. 웨이퍼와 서포트 플레이트의 상대 위치에 어긋남이 발생하면, 그 후의 웨이퍼의 처리에 악영향을 미친다.However, in the prior art, there is a possibility that a relative position between the wafer and the support plate may be displaced when the superposed wafer and the support plate are transferred to the application apparatus in the superposition apparatus. If a deviation occurs in the relative position between the wafer and the support plate, the subsequent treatment of the wafer is adversely affected.
본 발명은, 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 중첩 장치 및 중첩 방법에 있어서 중첩한 웨이퍼 및 서포트 플레이트를 첩부 장치에 반송할 때에, 웨이퍼와 서포트 플레이트의 상대 위치에 어긋남이 발생하는 것을 방지하는 기술을 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a technique for preventing misalignment in the relative position between a wafer and a support plate when the superposed wafer and the support plate are transferred to the application device in the superposition device and the superposition method The main purpose is to provide.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명에 관련된 중첩 장치는, 기판과, 상기 기판을 지지하는 지지체를, 상기 기판 및 상기 지지체의 적어도 어느 것에 적층된 접착층을 개재하여 중첩하는 중첩 장치로서, 상기 기판에 중첩한 상기 지지체의 일부의 영역을 상기 기판을 향해 가압함과 함께 가열함으로써, 상기 기판에 상기 지지체를 임시 고정시키는 임시 고정 수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하고 있다.In order to solve the above problems, a superposition apparatus according to the present invention is a superposition apparatus for superposing a substrate and a support for supporting the substrate via an adhesive layer laminated on at least one of the substrate and the support, And temporarily fixing the support to the substrate by pressing and heating a part of the region of the support which is superposed on the substrate toward the substrate.
본 발명에 관련된 중첩 방법은, 기판과, 상기 기판을 지지하는 지지체를, 상기 기판 및 상기 지지체의 적어도 어느 것에 적층된 접착층을 개재하여 중첩하는 중첩 방법으로서, 상기 기판에 중첩한 상기 지지체의 일부의 영역을 상기 기판을 향해 가압함과 함께 가열함으로써, 상기 기판에 상기 지지체를 임시 고정시키는 임시 고정 공정을 포함하고 있는 것을 특징으로 하고 있다.A superposition method according to the present invention is a superposition method in which a substrate and a support for supporting the substrate are superposed on each other with an adhesive layer laminated on at least any one of the substrate and the support, And temporarily fixing the support to the substrate by pressing the region toward the substrate and heating the substrate.
본 발명에 의하면, 중첩한 웨이퍼 및 서포트 플레이트를 임시 고정시킬 수 있기 때문에, 당해 웨이퍼 및 서포트 플레이트를 첩부 장치에 반송할 때에, 웨이퍼와 서포트 플레이트의 상대 위치에 어긋남이 발생하는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, since the overlapped wafer and the support plate can be temporarily fixed, it is possible to prevent the wafer and the support plate from being displaced relative to each other when the wafer and the support plate are transferred to the attaching apparatus.
도 1 은 일 실시형태에 있어서의 첩합 시스템의 전체의 구성을 모식적으로 나타내는 상면도이다.
도 2 는 일 실시형태에 있어서의 유지부의 구성을 모식적으로 나타내는 상면도이다.
도 3(a) 는, 일 실시형태에 있어서의 중첩부의 구성을 모식적으로 나타내는 정면도이며, 도 3(b) 는 도 3(a) 를 간략화한 도면이다.
도 4 는 일 실시형태에 있어서의 위치 조정 수단의 구성을 모식적으로 나타내는 상면도이다.
도 5 는 일 실시형태에 있어서의 걸기 부재의 구성을 모식적으로 나타내는 상면도이다.
도 6 은 일 실시형태에 있어서의 첩합 유닛의 구성을 나타내는 도면이다.
도 7 은 일 실시형태에 있어서의 중첩 장치의 동작을 설명하는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a top view schematically showing the overall configuration of an integration system in one embodiment. FIG.
Fig. 2 is a top view schematically showing the configuration of the holding portion in one embodiment. Fig.
Fig. 3 (a) is a front view schematically showing a configuration of an overlapping portion in one embodiment, and Fig. 3 (b) is a view simplified from Fig. 3 (a).
Fig. 4 is a top view schematically showing the configuration of the position adjusting means in the embodiment; Fig.
Fig. 5 is a top view schematically showing the structure of a hooking member in one embodiment. Fig.
Fig. 6 is a diagram showing a configuration of a combining unit in one embodiment. Fig.
7 is a view for explaining the operation of the superimposing device in one embodiment.
<중첩 장치><Overlapping device>
본 발명에 관련된 중첩 장치는, 기판과, 상기 기판을 지지하는 서포트 플레이트 (지지체) 를, 상기 기판 및 상기 서포트 플레이트의 적어도 어느 것에 적층된 접착층을 개재하여 중첩하는 중첩 장치로서, 상기 기판에 중첩한 상기 서포트 플레이트의 일부의 영역을 상기 기판을 향해 가압함과 함께 가열함으로써, 상기 기판에 상기 서포트 플레이트를 임시 고정시키는 임시 고정 수단을 구비하고 있는 구성이다.A superposition apparatus according to the present invention is a superposition apparatus for superposing a substrate and a support plate (support member) for supporting the substrate via an adhesive layer laminated on at least any one of the substrate and the support plate, And temporary fixing means for temporarily fixing the support plate to the substrate by pressing and heating a part of the support plate toward the substrate.
[적층체][Laminate]
상기 중첩 장치는, 기판과, 상기 기판을 지지하는 지지체를, 상기 기판 및 상기 지지체의 적어도 어느 것에 적층된 접착층을 개재하여 중첩함으로써 적층체를 형성한다. 즉, 적층체는, 기판과, 예를 들어 열 가소성 수지를 포함하는 접착층과, 상기 기판을 지지하는 서포트 플레이트 (지지체) 가 이 순서로 적층되어 형성되어 있다. 접착층은, 기판 및 서포트 플레이트의 어느 일방에 접착제가 도포됨으로써, 또는 접착제가 도포되어 이루어지는 접착 테이프를 첩착 (貼着) 함으로써 형성될 수 있다. 그리고, 형성한 적층체를, 예를 들어, 로봇 아암 등의 반송 장치에 의해, 첩부 장치의 소정 위치에 재치 (載置) (세트) 하고, 가압력을 가함으로써, 기판과 서포트 플레이트를 첩합할 수 있다.The superimposing apparatus forms a laminate by superimposing a substrate and a support for supporting the substrate via an adhesive layer laminated on at least one of the substrate and the support. That is, the laminate is formed by laminating a substrate, an adhesive layer including, for example, a thermoplastic resin, and a support plate (support) supporting the substrate in this order. The adhesive layer can be formed by applying an adhesive to either one of the substrate and the support plate, or by sticking (sticking) an adhesive tape formed by applying an adhesive. Then, the laminate thus formed is placed (set) on a predetermined position of the attaching device by, for example, a transfer device such as a robot arm, and a pressing force is applied so that the substrate and the support plate can be joined have.
또한, 적층체를 형성하는 형성 방법 및 형성 장치, 요컨대, 접착층의 형성 방법이나 접착층 형성 장치 등은, 특별히 한정되는 것이 아니고, 여러 가지의 방법이나 장치를 채용할 수 있다.The forming method and the forming apparatus for forming the laminate, that is, the method of forming the adhesive layer and the adhesive layer forming apparatus are not particularly limited, and various methods and apparatus can be employed.
또, 상기 기판은, 서포트 플레이트에 지지된 (첩부된) 상태에서, 박화, 반송, 실장 등의 프로세스에 제공된다. 기판은, 웨이퍼 기판에 한정되지 않고, 예를 들어, 서포트 플레이트에 의한 지지가 필요한 세라믹스 기판, 얇은 필름 기판, 플렉시블 기판 등의 임의의 기판이어도 된다.Further, the substrate is provided in processes such as thinning, transportation, mounting, etc., in a state in which the substrate is supported by the support plate (pasted). The substrate is not limited to the wafer substrate, and may be any substrate such as a ceramic substrate, a thin film substrate, or a flexible substrate which needs to be supported by, for example, a support plate.
상기 서포트 플레이트는, 기판을 지지하는 지지체이며, 접착층을 개재하여 기판에 첩부된다. 그 때문에, 서포트 플레이트는, 기판의 박화, 반송, 실장 등의 프로세스시에, 기판의 파손 또는 변형을 방지하기 위해 필요한 강도를 가지고 있으면 되고, 보다 경량인 것이 바람직하다. 이상의 관점에서, 서포트 플레이트는, 유리, 실리콘, 아크릴계 수지, 세라믹 등으로 구성되어 있는 것이 보다 바람직하다.The support plate is a support for supporting the substrate, and is attached to the substrate via an adhesive layer. Therefore, it is preferable that the support plate has a strength required to prevent breakage or deformation of the substrate during the processes such as thinning, transportation and mounting of the substrate, and it is preferable that the support plate is lighter. From the viewpoints described above, it is more preferable that the support plate is made of glass, silicon, acrylic resin, ceramic, or the like.
상기 접착층을 구성하는 접착제는, 예를 들어, 가열함으로써 열 유동성이 향상되는 열 가소성 수지를 접착 재료로서 포함하고 있으면 된다. 열 가소성 수지로는, 예를 들어, 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 말레이미드계 수지, 탄화수소계 수지 등을 들 수 있다.The adhesive constituting the adhesive layer may include, for example, a thermoplastic resin that improves thermal fluidity by heating as an adhesive material. Examples of the thermoplastic resin include an acrylic resin, a styrene resin, a maleimide resin, and a hydrocarbon resin.
접착층의 형성 방법, 즉, 기판 또는 서포트 플레이트에 접착제를 도포하는 도포 방법, 혹은, 기재에 접착제를 도포하여 접착 테이프를 형성하는 형성 방법은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 접착제의 도포 방법으로는, 예를 들어, 스핀 코트법, 딥핑법, 롤러 블레이드법, 스프레이법, 슬릿 노즐법에 의한 도포법 등을 들 수 있다.The method of forming the adhesive layer, that is, the coating method of applying the adhesive to the substrate or the support plate, or the forming method of applying the adhesive to the substrate to form the adhesive tape is not particularly limited, For example, a spin coating method, a dipping method, a roller blade method, a spray method, and a coating method by a slit nozzle method.
접착층의 두께는, 첩부의 대상이 되는 기판 및 서포트 플레이트의 종류, 첩부 후의 기판에 실시되는 처리 등에 따라 적절히 설정하면 되는데, 10 ∼ 150 ㎛ 의 범위 내인 것이 바람직하고, 15 ∼ 100 ㎛ 의 범위 내인 것이 보다 바람직하다.The thickness of the adhesive layer may be suitably set according to the type of the substrate and the support plate to which the adhesive is applied, the treatment to be performed on the substrate after the application, etc. It is preferably within the range of 10 to 150 mu m, More preferable.
또한, 기판으로부터 서포트 플레이트를 박리할 때에는, 접착층에 용제를 공급하여 접착층을 용해시키면 된다. 이로써, 기판과 서포트 플레이트를 분리시킬 수 있다. 이 때, 서포트 플레이트에, 그 두께 방향으로 관통하는 관통공이 형성되어 있으면, 이 관통공을 통하여 접착층에 용제를 용이하게 공급할 수 있으므로, 보다 바람직하다.When the support plate is peeled from the substrate, a solvent may be supplied to the adhesive layer to dissolve the adhesive layer. Thereby, the substrate and the support plate can be separated from each other. In this case, if a through hole is formed in the thickness direction of the support plate, the solvent can be easily supplied to the adhesive layer through the through hole.
또, 기판과 서포트 플레이트 사이에는, 양자의 첩부를 방해하지 않는 한, 접착층 이외의 그 밖의 층이 추가로 형성되어 있어도 된다. 예를 들어, 서포트 플레이트와 접착층 사이에, 광을 조사함으로써 변질되는 분리층이 형성되어 있어도 된다. 분리층이 형성되어 있음으로써, 기판의 박화, 반송, 실장 등의 프로세스 후에 광을 조사함으로써, 기판과 서포트 플레이트를 용이하게 분리시킬 수 있다.Further, other layers other than the adhesive layer may be further formed between the substrate and the support plate so long as they do not interfere with each other. For example, a separation layer may be formed between the support plate and the adhesive layer, which is altered by irradiating light. Since the separation layer is formed, the substrate and the support plate can be easily separated by irradiating light after the processes such as thinning, transportation, and mounting of the substrate.
[첩합 시스템][Integration system]
본 발명에 관련된 중첩 장치는, 일 실시형태에 있어서, 기판 (42) 과 서포트 플레이트 (41) 를 첩합하는 첩합 시스템에 장착할 수 있다.The superimposing apparatus according to the present invention can be mounted on an adhesion system in which the
도 1 은, 본 실시형태에 있어서의 첩합 시스템 (1) 을 나타내는 구성도이고, 첩합 시스템 (1) 을 바로 위에서 본 개략의 구성을 나타내고 있다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 첩합 시스템 (1) 은, 첩합 유닛 (2), 유지부 (3), 제 1 외부 반송 수단 (4) 및 제 1 외부 반송 수단 주행로 (5) 를 구비하고 있는 구성이다. 첩합 유닛 (2) 은, 감압 가능한 중첩부 (6) 및 감압 가능한 첩부부 (7) 를 포함하여 구성되어 있다. 이 중, 유지부 (3) 및 중첩부 (6) 에 의해, 본 실시형태에 관련된 중첩 장치가, 첩부부 (7) 에 의해 본 실시형태에 관련된 첩부 장치가 각각 구성된다.Fig. 1 is a configuration diagram showing the
도 1 에는, 추가로, 첩합 시스템 (1) 이 구비하고 있는 FOUP 오프너 (50), 기판 (42) 에 접착층을 도포하는 스피너 (52), 도포된 접착층을 경화시키는 베이크 플레이트 (51), 제 2 외부 반송 수단 (54), 및 기판 (42) 을 제 1 외부 반송 수단 (4) 에 건네주기 위한 패스 라인 (53) 이 도시되어 있다.1 further shows a
외부 반송 수단 (4) 은, 서포트 플레이트 (41), 기판 (42) 및 적층체 (40) 를 운반할 수 있는 구성을 가지고 있고, 첩합 유닛 (2) 과의 사이에서, 서포트 플레이트 (41), 기판 (42) 및 적층체 (40) 의 주고 받기가 가능한 구성으로 되어 있다. 외부 반송 수단 (4) 은 외부 반송 수단 주행로 (5) 상을 이동한다. 이와 같은 기능을 담당하는 외부 반송 수단 (4) 및 외부 반송 수단 주행로 (5) 는 종래 공지된 기술에 의해 준비할 수 있다.The outer carrying means 4 has a structure capable of transporting the
(유지부)(Holding portion)
도 2 는, 유지부 (3) 의 개략의 구성을 나타내는 도면이다. 도 2 에 나타내는 바와 같이, 유지부 (3) 는, 촬상부 (제 1 촬상 수단, 제 2 촬상 수단) (17a, 17b) 및 중심 위치 검출부 (19) 를 구비하고 있고, 중첩되기 전의 기판 (42) 또는 서포트 플레이트 (41) 를 유지하도록 되어 있다 (또한, 도 2 에서는 서포트 플레이트 (41) 를 유지하고 있는 경우에 대해 나타낸다).Fig. 2 is a view showing a schematic configuration of the holding
촬상부 (17a, 17b) 는, 유지부 (3) 에 유지된 기판 (42) 또는 서포트 플레이트 (41) 의 서로 상이한 단면 (제 1 단면, 제 2 단면) 을 포함하는 영역 (18a, 18b) 을 각각 촬상하게 되어 있다. 영역 (18a, 18b) 은, 예를 들어, 유지부 (3) 에 유지된 기판 (42) 또는 서포트 플레이트 (41) 의 대략 대각선 상에 설정되어 있는 것이 바람직하다. 촬상부 (17a, 17b) 는, 예를 들어, CCD 카메라일 수 있다.The
중심 위치 검출부 (19) 는, 촬상부 (17a, 17b) 가 촬상한 복수의 화상에 기초하여, 유지부 (3) 에 유지된 기판 (42) 또는 서포트 플레이트 (41) 의 중심 위치를 검출한다. 중심 위치 검출부 (19) 는, 원판의 단면의 화상에 기초하여, 가상 원을 산출하고, 중심 위치를 검출하게 되어 있으면 된다. 단면의 화상에 기초하는 중심 위치의 검출 기술은, 공지된 화상 처리를 이용하면 되고, 특별히 한정되지 않는다.The center
(중첩부)(Overlapping portion)
도 3(a) 는, 중첩부 (6) 의 개략의 구성을 나타내는 도면이고, 도 3(b) 는, 도 3(a) 를 간략화한 도면이다. 도 3(a) 에 나타내는 바와 같이, 중첩부 (6) 는, 승강 스테이지 (지지 수단) (21), 위치 조정부 (위치 조정 수단) (22), 걸기 부재 (23), 임시 고정부 (임시 고정 수단) (24), 히터 (25) 및 가압부 (26) 를 구비하고 있다. 도 3(b) 에 나타내는 바와 같이, 위치 조정부 (22) 및 걸기 부재 (23) 는, 수평 방향으로 이동하게 되어 있고, 승강 스테이지 (21) 및 임시 고정부 (24) 는, 연직 방향으로 이동하게 되어 있다. 중첩부 (6) 에는, 서포트 플레이트 (41) 및 기판 (42) 이 개별적으로 반입된다.Fig. 3 (a) is a schematic view of the overlapping
승강 스테이지 (21) 는, 서포트 플레이트 (41) 혹은 기판 (42), 또는 이들을 중첩한 적층체 (40) 를 그 바닥면으로부터 유지하는 부재이고, 예를 들어, 서포트 플레이트 (41) 혹은 기판 (42), 또는 이들을 중첩한 적층체 (40) 를 흡착 유지하는 척일 수 있다. 승강 스테이지 (21) 는, 연직 방향 상하로 이동 가능하고, 이로써, 유지하는 서포트 플레이트 (41), 기판 (42) 및 적층체 (40) 를 연직 방향 상하로 이동시킬 수 있다.The lifting and lowering
승강 스테이지 (21) 에 있어서의 서포트 플레이트 (41) 등의 재치면 (21a) 은, 재치물에 흠집을 내지 않도록, 예를 들어 폴리테트라플루오로에틸렌, PEEK 등의 수지에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 또, 재치면 (21a) 에는 홈을 형성하는 것이 바람직하다. 재치면 (21a) 에 홈을 형성함으로써, 중첩부 (6) 의 내부를 감압할 때에, 서포트 플레이트 (41), 기판 (42) 및 적층체 (40) 와, 재치면 (21a) 사이에 기체가 잔류하는 것을 방지할 수 있다.The
위치 조정부 (22) 는, 위치 맞춤을 위해서, 위치 맞춤의 대상이 되는 서포트 플레이트 (41) 및 기판 (42) 의 수평 방향에 있어서의 위치를 조절하는 부재이다. 위치 조정부 (22) 는, 중심 위치 검출부 (19) 가 검출한 서포트 플레이트 (41) 및 기판 (42) 의 중심 위치에 기초하여, 서포트 플레이트 (41) 및 기판 (42) 의 서로의 중심 위치가 겹치도록, 서포트 플레이트 (41) 및 기판 (42) 의 적어도 일방의 면내 방향의 위치를 조정하게 되어 있다. 예를 들어, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 서포트 플레이트 (41) 및 기판 (42) 의 중심 위치를 미리 정해진 중심축 (O) 에 겹쳐지도록 조정하는 것일 수 있다.The
이와 같이, 위치 조정부 (22) 는, 중심 위치 검출부 (19) 가 검출한 기판 (42) 및 서포트 플레이트 (41) 서로의 중심 위치가 겹치도록, 기판 (42) 및 서포트 플레이트 (41) 의 적어도 일방의 면내 방향의 위치를 조정한다. 이로써, 중첩부 (6) 에 있어서, 중심 위치 검출부 (19) 가 검출한 기판 및 지지체의 중심 위치를 겹치게 할 수 있다.As described above, the
또한, 서포트 플레이트 (41) 및 기판 (42) 의 수평 방향에 있어서의 위치를 적절히 조절할 수 있는 한, 즉, 서포트 플레이트 (41) 및 기판 (42) 을 원하는 수평 위치로 이동시킬 수 있는 한, 위치 조정부 (22) 의 구체적인 기구는 특별히 제한되지 않는다. 본 실시형태에 있어서 위치 조정부 (22) 는, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 가압부 (26a ∼ 26d) 에 의해 가압되어, 서포트 플레이트 (41) 또는 기판 (42) 에 맞닿음으로써, 서포트 플레이트 (41) 및 기판 (42) 의 수평 방향에서의 위치를 조정하게 되어 있다. 가압부 (26a ∼ 26d) 는, 예를 들어, 스텝 모터, 에어 실린더 등에 의해 구성할 수 있다.Insofar as the position of the
또, 도 3(a) 중 A, B 에 나타내는 바와 같이, 위치 조정부 (22) 가 서포트 플레이트 (41) 또는 기판 (42) 에 맞닿는 위치는, 일례에 있어서, 2 단계로 되어 있다. 이로써, 예를 들어, 2 종류의 사이즈를 갖는 기판 (42) 등을 처리할 수 있게 되어 있다.3A and 3B, the position at which the
걸기 부재 (23) 는, 위치 맞춤을 실시한 서포트 플레이트 (41) (기판 (42) 의 위치 맞춤을 먼저 실시하는 경우에는, 기판 (42)) 를, 그 수평 위치를 변화시키지 않고 중첩을 실시할 때까지 유지해 두는 부재이다. 도 5 는, 걸기 부재 (23) 를 상면측에서 본 도면이다. 걸기 부재 (23) 는, 서포트 플레이트 (41) 의 주연부의 일부를 그 하측으로부터 지지함으로써, 서포트 플레이트 (41) 를 안정적으로 유지한다. 걸기 부재 (23) 는, 수평 방향으로 이동 가능하다. 서포트 플레이트 (41) 가 승강 스테이지 (21) 에 탑재되어 걸기 부재 (23) 의 상부까지 옮겨질 때에는, 걸기 부재 (23) 를 서포트 플레이트 (41) 와 일절 겹치지 않는 위치로 이동시켜둔다. 본 명세서에서는, 이 상태일 때, 걸기 부재 (23) 가 「발출 위치」에 있다고 한다. 서포트 플레이트 (41) 가 스페이서 삽입 위치로 옮겨 들어간 후, 걸기 부재 (23) 에 의해 서포트 플레이트 (41) 를 지지할 수 있도록, 걸기 부재 (23) 를 서포트 플레이트 (41) 와 겹치는 위치로 되돌린다. 본 명세서에서는, 이 상태일 때, 걸기 부재 (23) 가 「삽입 위치」에 있다고 한다. 도 5 는, 걸기 부재 (23) 가 「삽입 위치」에 있는 상태를 나타내고 있다. 걸기 부재 (23) 가 삽입 위치에 있을 때의, 걸기 부재 (23) 의 서포트 플레이트 (41) 를 지지하는 각 부재와 서포트 플레이트 (41) 가 겹치는 폭 (d3) 은, 비한정적으로, 서포트 플레이트 (41) 의 둘레 가장자리로부터 내측에 걸쳐 1 ∼ 5 ㎜ 정도일 수 있다. 바람직하게는 5 ㎜ 이다. 또, 걸기 부재 (23) 의 크기는, 예를 들어, 가로 폭 (d4) 이 5 ㎜ 일 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.The hooking
걸기 부재 (23) 의 재질은 특별히 한정되는 것이 아니고, 예를 들어, 스테인리스강 (SUS) 을 모따기하고, 폴리테트라플루오로에틸렌 등으로 수지 코트한 것을 사용할 수 있다.The material of the hooking
서포트 플레이트 (41) 를 유지하는 방법으로는, 걸기 부재 (23) 를 사용한 방법에 한정되지 않는다. 예를 들어, 임시 고정부 (24) 에 정전 흡착 기능을 갖게 하고, 위치 맞춤을 실시한 후의 서포트 플레이트 (41) 를 임시 고정부 (24) 에 흡착시켜, 유지시켜도 된다. 이 때, 서포트 플레이트 (41) 를 탑재한 승강 스테이지 (21) 를 상부로 이동시켜, 임시 고정부 (24) 에 서포트 플레이트 (41) 를 흡착시키면 된다. 이로써, 임시 고정부 (24) 는, 서포트 플레이트 (41) 를, 그 수평 위치를 변화시키지 않고 유지할 수 있다.The method of holding the
임시 고정부 (24) 는, 서포트 플레이트 (41) 와 기판 (42) 을 중첩할 때에, 기판 (42) 에 중첩한 서포트 플레이트 (41) 의 일부의 영역을 기판 (42) 을 향해 가압함과 함께 가열함으로써, 기판 (42) 에 서포트 플레이트 (41) 를 임시 고정시키는 부재이다. 즉, 일부의 영역에 대해 가압 및 가열을 실시함으로써, 서포트 플레이트 (41) 와 기판 (42) 이 사이에 끼우는 접착층의 일부를 연화시킴으로써, 서포트 플레이트 (41) 와 기판 (42) 을 임시 고정시킬 수 있다.The
이와 같이, 본 실시형태에 의하면, 서포트 플레이트 (41) 와 기판 (42) 을 임시 고정시킬 수 있기 때문에, 중첩한 적층체 (40) 를, 첩부부 (7) 에 반송할 때에, 기판 (42) 과 서포트 플레이트 (41) 의 상대 위치에 어긋남이 발생하는 것을 순조롭게 방지할 수 있다.As described above, according to the present embodiment, since the
임시 고정부 (24) 는, 승강 스테이지 (21) 와 쌍을 이루어 서포트 플레이트 (41) 와 기판 (42) 과 사이에 두게 되어 있고, 임시 고정부 (24) 의 서포트 플레이트 (41) 에 대한 접촉면 (24a) 의 면적은, 특별히 한정되지 않고, 서포트 플레이트 (41) 와 기판 (42) 의 임시 고정의 강도나, 서포트 플레이트 (41) 와 기판 (42) 사이에 있어서의 보이드 등의 발생 등을 감안하여 적절히 설정하면 된다.The
또한, 접촉면 (24a) 이 접촉하는 서포트 플레이트 (41) 상의 영역은, 서포트 플레이트 (41) 의 중앙부인 것이 바람직하다. 이로써, 균형있게 서포트 플레이트 (41) 와 기판 (42) 을 임시 고정시킬 수 있다.It is preferable that the area on the
또, 임시 고정부 (24) 는, 접촉면 (24a) 을 가열하기 위한 히터 (가열 수단) (25) 를 구비하고 있다. 임시 고정부 (24) 의 소재는, 특별히 한정되지 않지만, 열 전도성이 양호한 알루미늄 등에 의해 구성할 수 있는데, 이것에 한정되지 않고, 스테인리스 등을 사용해도 된다. 또, 임시 고정부 (24) 는, 예를 들어, 스프링 기구에 의해 꽉 누르는 방법이나, 스텝 모터에 의해 구동시키고, 스텝 모터에 가해지는 토크에 의해 서포트 플레이트 (41) 에 대한 가압력을 제어하는 방법을 취할 수 있다.The
또, 임시 고정부 (24) 는, 걸기 부재 (23) 보다 연직 상방에 형성되어 있고, 상하로의 이동이 가능한 구성으로 되어 있다. 임시 고정부 (24) 가 하방으로 이동하지 않고, 그 때문에 걸기 부재 (23) 에 유지되어 있는 서포트 플레이트 (41) 와는 접촉하지 않는 위치에 있는 것을, 본 명세서에서는, 임시 고정부 (24) 가 「대기 위치」에 있다고 한다. 이에 대해, 임시 고정부 (24) 가 하방으로 이동하고, 그 결과, 걸기 부재 (23) 에 유지되어 있는 서포트 플레이트 (41) 표면을 가압하고 있는 위치에 있는 것을, 본 명세서에서는, 임시 고정부 (24) 가 「접합 위치」에 있다고 한다. 임시 고정부 (24) 는, 임시 고정부 (24) 가 접합 위치에 있을 때 서포트 플레이트 (41) 표면의 중심 부분과 접촉하도록 형성되어 있다.The
(첩부부)(Concubine)
첩부부 (7) 는, 위치 맞춤을 실시하여 중첩된 기판 (42) 과 서포트 플레이트 (41) 를 첩합하는 첩합 수단을 가지고 있다. 첩합 수단으로는, 기판 (42) 과 서포트 플레이트 (41) 를 접착층을 개재하여 열압착에 의해 첩합하는 구성이 가능하다. 예를 들어, 첩부부 (7) 내부의 상하에 프레스 플레이트를 형성하고, 이 상하의 프레스 플레이트 사이에, 접합 전의 적층체 (40) 를 사이에 끼이도록 하는 구성이 가능하다.
(내부 반송 수단)(Inner carrying means)
중첩부 (6) 및 첩부부 (7) 는, 하나의 처리실의 내부를 두 개의 처리실로 나누는 벽을 형성한 구조로 할 수 있다. 이 밖에도 중첩부 (6) 및 첩부부 (7) 는, 중첩부 (6) 와 첩부부 (7) 가 각각의 측면에 있어서 간극없이 서로 접하고 있는 구조여도 된다. 중첩부 (6) 및 첩부부 (7) 의 경계에는, 중첩부 (6) 및 첩부부 (7) 사이에서 적층체 (40) 의 주고 받기를 실시하기 위한 게이트 (8) 가 형성되어 있다. 게이트 (8) 는 셔터에 의해 개폐가 제어되어 있다. 또, 중첩부 (6) 에는, 첩합 유닛 (2) 과 외부 반송 수단 (4) 사이에서 서포트 플레이트 (41), 기판 (42) 및 적층체 (40) 의 주고 받기를 실시하기 위한 개폐 가능한 주고 받기 창 (9) 이 형성되어 있다. 중첩부 (6) 및 첩부부 (7) 에는 각각, 공지된 감압 수단이 형성되어 있고 (도시 생략), 각 실의 내부압 상태를 독립적으로 제어할 수 있다.The overlapping
첩부부 (7) 가 감압 가능한 구성이기 때문에, 감압 분위기 하에서 기판 (42) 과 서포트 플레이트 (41) 를 접착층을 개재하여 첩합할 수 있다. 감압 분위기 하에서 접착층에 기판 (42) 을 압착시킴으로써, 기판 (42) 표면의 요철 패턴의 패임부에 공기가 존재하지 않는 상태에 있어서, 접착층을 당해 패임부에 비집고 들어가게 할 수 있기 때문에, 접착층과 기판 (42) 사이의 기포의 발생을 보다 확실하게 방지하는 것이 가능하다.Since the impregnated
게이트 (8) 는, 셔터가 열린 상태에서, 위치 맞춤이 이루어진 적층체 (40) 를 중첩부 (6) 로부터 첩부부 (7) 로 이동시킬 수 있도록, 또, 접합 후의 적층체 (40) 를 첩부부 (7) 로부터 중첩부 (6) 로 이동시킬 수 있도록 형성되어 있다. 중첩부 (6) 및 첩부부 (7) 의 어느 쪽도 감압시킨 상태에서 셔터를 열으므로써, 접합 전의 적층체 (40) 를 중첩부 (6) 에서 첩부부 (7) 로 감압 하에서 이동시킬 수 있는 구조로 되어 있다.The
첩합 유닛 (2) 에는 추가로 게이트 (8) 를 개재하여 중첩부 (6) 및 첩부부 (7) 사이에서 적층체 (40) 의 주고 받기를 실시하는 내부 반송 수단 (도 6 중의 10) 이 형성되어 있다.The
도 6 은, 내부 반송 수단 (10) 을 포함한 첩합 유닛 (2) 의 내부 구성을 상방에서 본 구성 도면이다. 내부 반송 수단 (10) 은, 적층체 (40) 를 중첩부 (6) 와 첩부부 (7) 사이에서 이동시킬 수 있는 구성인 한, 구체적인 기구에 특별히 제한은 없다. 본 실시형태에서는, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 내부 반송 수단 (10) 은, 내부 반송 아암 (11) 및 아암 선회축 (12) 에 의해 구성되어 있다. 내부 반송 수단 (10) 은, 적층체 (40) 를 그 하면으로부터 지지할 수 있는 내부 반송 아암 (11) 의 아암 선회축 (12) 을 회전 중심으로 한 회동 (回動) 에 의해, 적층체 (40) 를 이동시키는 기구로 되어 있다. 상세하게는 후술하는데, 본 실시형태에서는, 회동의 선회축이 공통되는 2 개의 내부 반송 수단 (10) 이 형성되어 있다. 아암 선회축 (12) 은 중첩부 (6) 측에 형성되어 있는데, 첩부부 (7) 측에 형성된 구성이어도 된다. 중첩부 (6) 와 외부 반송 수단 (4) 사이에서의 주고 받기의 스트로크를 짧게 할 수 있다는 관점에서, 아암 선회축 (12) 은, 주고 받기 창 (9) 이 형성되어 있는 측면에 가까운 측에 형성되어 있는 것이 바람직하다. 도 6 중,「B」로 나타내는 이점쇄선은, 내부 반송 아암 (11) 의 대기 위치를 나타내고 있고,「C」로 나타내는 이점쇄선은, 내부 반송 아암 (11) 의 첩부부 (7) 에서의 위치 (첩부부 주고 받기 위치) 를 나타내고 있다.Fig. 6 is a configuration diagram showing the internal configuration of the
내부 반송 아암 (11) 의 회동 속도는 상황에 따른 속도를 설정할 수 있다. 그 때문에, 내부 반송 아암 (11) 이 적층체 (40) 를 유지하고 있을 때에는, 내부 반송 아암 (11) 을 저속으로 회동시킬 수 있고, 적층체 (40) 를 유지 하고 있지 않을 때에는, 내부 반송 아암 (11) 을 고속으로 회동시킬 수 있다. 또, 내부 반송 아암 (11) 의 회동의 개시와 정지가 순조로워지도록 가감속을 제어할 수 있다.The rotation speed of the
도 6 에 나타내는 바와 같이, 게이트 (8) 는, 셔터가 열린 상태에서, 회동하는 내부 반송 아암 (11) 이 게이트 (8) 를 통과하여 적층체 (40) 를 첩부부 주고 받기 위치 (C) 에까지 옮길 수 있는 것과 같은 폭의 개구로 되어 있다. 게이트 (8) 의 개폐에는 종래 공지된 수단을 사용할 수 있고, 예를 들어 게이트 밸브 구조를 적용할 수 있다.As shown in Fig. 6, in the state that the
[중첩 장치의 동작][Operation of superposition device]
계속해서, 본 실시형태에 관련된 중첩 장치 (유지부 (3) 및 중첩부 (6)) 의 개략 동작에 대해 설명한다.Next, a brief description will be given of the operation of the superimposing apparatus (holding
도 7 은, 본 실시형태에 있어서의 중첩 장치의 동작에 대하여, 중첩부 (6) 의 내부 상태에 의해 설명하는 도면이다. 또한 설명의 편의상, 도 3(b) 와 마찬가지로, 위치 조정부 (22), 걸기 부재 (23) 및 임시 고정부 (24) 를 유지 또는 제어하기 위한 각각의 부재에 대해서는, 그 도시를 생략하고 있다.Fig. 7 is a diagram for explaining the operation of the superimposing device according to the present embodiment in accordance with the internal state of the
(1. 유지부 (3) 에 대한 서포트 플레이트 (41) 의 반입)(1. Transfer of
외부 반송 수단 (4) 을 사용하여, 서포트 플레이트 (41) 를 유지부 (3) 에 반입한다. 그리고, 중심 위치 검출부 (19) 가, 서포트 플레이트 (41) 의 중심 위치를 검출한다.The
(2. 중첩부 (6) 에 대한 서포트 플레이트 (41) 의 반입)(2. Loading of the
외부 반송 수단 (4) 을 사용하여, 서포트 플레이트 (41) 를, 주고 받기 창 (9) 을 통해 중첩부 (6) 내부에 반입하고, 승강 스테이지 (21) 상에 재치한다 (도 7(a) 참조). 또한, 이 시점에 있어서, 걸기 부재 (23) 는 발출 위치로 해 두고, 임시 고정부 (24) 는 대기 위치로 해 두는 것이 바람직하다.The
(3. 서포트 플레이트 (41) 위치 맞춤)(3.
다음으로, 서포트 플레이트 (41) 를 탑재한 승강 스테이지 (21) 를, 위치 조정부 (22) 가 존재하는 위치까지 이동시킨다. 그리고, 위치 조정부 (22) 에 의해, (1) 에서 검출한 서포트 플레이트 (41) 의 중심 위치가, 미리 정해진 중심축에 겹치도록, 서포트 플레이트 (41) 의 수평 방향에 있어서의 위치를 조정한다 (도 7(b) 참조).Next, the
(4. 걸기 부재 (23) 삽입-서포트 플레이트 (41) 주고 받기)(4. insertion of the hooking member (23) - delivery of the support plate (41))
서포트 플레이트 (41) 의 위치 맞춤이 종료된 후, 서포트 플레이트 (41) 를 탑재한 승강 스테이지 (21) 를, 걸기 부재 (23) 를 삽입하는 위치까지 상승시킨다. 그리고, 걸기 부재 (23) 를 삽입 위치로 이동시킨다 (도 7(c) 참조). 이로써, 위치 맞춤을 끝낸 서포트 플레이트 (41) 의 수평 방향의 위치를 바꾸지 않고 걸기 부재 (23) 에 의해 유지시키고, 승강 스테이지 (21) 를 다시 하강시킬 수 있게 된다.After the positioning of the
(5. 유지부 (3) 로의 서포트 플레이트 (41) 의 반입)(5. Loading of the
외부 반송 수단 (4) 을 사용하여, 기판 (42) 을 유지부 (3) 에 반입한다. 그리고, 중심 위치 검출부 (19) 가, 기판 (42) 의 중심 위치를 검출한다.The
(6. 기판 (42) 반입)(6. Carrying substrate 42)
외부 반송 수단 (4) 을 사용하여, 기판 (42) 을, 주고 받기 창 (9) 을 통해 중첩부 (6) 내부에 반입하고, 승강 스테이지 (21) 상에 배치시킨다 (도 7(d) 참조). 기판 (42) 을 중첩부 (6) 내에 반입 완료하고, 주고 받기 창 (9) 을 닫은 후에, 중첩부 (6) 의 감압을 개시한다. 중첩부 (6) 의 감압은, 임시 고정이 종료된 시점에 있어서의 중첩부 (6) 의 감압 상태 및 첩부부 (7) 의 감압 상태가, 서로 거의 동일한 상태가 되도록 실시하면 된다. 바람직하게는, 10 ㎩ 이하이다.The
(7. 기판 (42) 위치 맞춤)(7. Positioning the substrate 42)
다음으로, 기판 (42) 을 탑재한 승강 스테이지 (21) 를, 위치 조정부 (22) 가 존재하는 위치까지 이동시킨다. 그리고, 위치 조정부 (22) 에 의해, (5) 에서 검출한 기판 (42) 의 중심 위치가, 미리 정해진 중심축에 겹치도록, 기판 (42) 의 수평 방향에 있어서의 위치를 조정한다 (도 7(e) 참조).Next, the
(8. 임시 고정 및 걸기 부재 발출)(8. temporary fixing and removal of the hanging member)
위치 맞춤을 끝낸 기판 (42) 을 탑재한 승강 스테이지 (21) 를, 서포트 플레이트 (41) 와 겹치는 위치까지 상승시킨다. 승강 스테이지 (21) 가 당해 위치에 도달한 후, 임시 고정부 (24) 를 서포트 플레이트 (41) 상으로 이동시킨다. 이로써, 임시 고정부 (24) 의 접촉면 (24a) 이 서포트 플레이트 (41) 의 표면에 접하여, 서포트 플레이트 (41) 의 표면을 가압한 상태가 된다 (도 7(f) 참조). 동시에, 히터 (25) 에 의해, 접촉면 (24a) 을 가열해 둔다. 이로써, 기판 (42) 과 서포트 플레이트 (41) 사이의 접착층을 열 유동시켜, 임시 고정시킨다.The
또한, 접촉면 (24a) 의 온도는, 예를 들어, 접착층의 접착 재료인 열 가소성 수지의 저온 점착성 (택성) 에 의해 적어도 실온 이상의 온도가 될 때까지 가열되는 것이 바람직하고, 유리 전이점 (Tg) 이상의 온도가 될 때까지 가열되는 것이 보다 바람직하다. 접착층을 열 가소성 수지의 유리 전이점 이상의 온도까지 가열함으로써, 접착층의 열 유동성이 향상되어, 용이하게 변형되게 된다. 접착층, 즉, 접착 재료인 열 가소성 수지의 재질에 따라 다르기도 하지만, 접촉면 (24a) 의 온도는 23 ∼ 220 ℃ 인 것이 바람직하고, 가열 시간, 요컨대 가압 시간은 3 ∼ 300 초간인 것이 바람직하고, 5 ∼ 180 초간인 것이 보다 바람직하다.The temperature of the
또, 임시 고정부 (24) 에 의해 서포트 플레이트 (41) 가 기판 (42) 에 꽉 눌린 상태가 된 후에, 걸기 부재 (23) 를 발출 위치로 되돌린다. 이로써, 서포트 플레이트 (41) 와 기판 (42) 이 겹치는 부분의 전체에 있어서, 양자가 중첩된 상태가 된다 (도 7(g) 참조).After the
(9. 중첩 종료)(9. End nested)
서포트 플레이트 (41) 를 기판 (42) 과 중첩한 후, 임시 고정부 (24) 를 대기 위치로 되돌린다. 이어서, 서포트 플레이트 (41) 와 기판 (42) 을 중첩한 적층체 (40) 를 탑재한 승강 스테이지 (21) 를 하강시킨다. 이상에 의해, 중첩이 종료된다 (도 7(h) 참조).After the
(10. 적층체 (40) 반송)(10. Returning the laminate 40)
게이트 (8) 의 셔터를 열고, 내부 반송 수단 (10) 을, 중첩부 (6) 로 이동시키고, 적층체 (40) 를 유지시킨다 (도 7(i) 참조). 그리고, 내부 반송 수단 (10) 이, 적층체 (40) 를 첩부부 (7) 에 반송한다 (도 7(j) 참조).The shutter of the
또, 서포트 플레이트 (41) 를 유지하는 방법으로서, 정전 흡착 기능을 갖는 임시 고정부 (24) 를 사용하는 경우에는, 서포트 플레이트 (41) 의 위치 맞춤이 종료된 후, 서포트 플레이트를 탑재한 승강 스테이지 (21) 를, 임시 고정부 (24) 에 흡착시키는 위치까지 상승시키면 된다. 그리고, 임시 고정부 (24) 에 서포트 플레이트 (41) 를 흡착시킴으로써, 위치 맞춤을 끝낸 서포트 플레이트 (41) 의 수평 방향의 위치를 바꾸지 않고 임시 고정부 (24) 에 의해 유지시킬 수 있다. 또한, 서포트 플레이트 (41) 의 정전 흡착은, 기판 (42) 과 서포트 플레이트 (41) 를 임시 고정시킬 때, 혹은, 중첩한 후에 해제하면 된다.When the
이상과 같이, 본 실시형태에 관련된 중첩 장치에서는, 임시 고정부 (24) 가, 기판 (42) 에 중첩한 서포트 플레이트 (41) 의 일부의 영역을 기판 (42) 을 향해 가압함과 함께 가열함으로써, 기판 (42) 에 서포트 플레이트 (41) 를 임시 고정시키도록 되어 있으므로, 중첩한 적층체를 반송할 때에, 기판 (42) 과 서포트 플레이트 (41) 의 상대 위치에 어긋남이 발생하는 것을 방지할 수 있다.As described above, in the superimposing apparatus according to the present embodiment, the
<중첩 방법><Overlapping method>
본 발명에 관련된 중첩 방법은, 기판과, 상기 기판을 지지하는 지지체를, 상기 기판 및 상기 지지체의 적어도 어느 것에 적층된 접착층을 개재하여 중첩하는 중첩 방법으로서, 상기 기판에 중첩한 상기 지지체의 일부의 영역을 기판을 향해 가압함과 함께 가열함으로써, 상기 기판에 상기 지지체를 임시 고정시키는 임시 고정 공정을 포함하고 있는 것을 특징으로 하고 있다. 일 실시형태에 있어서, 중첩 방법의 임시 고정 공정은, 상기 서술한 본 발명에 관련된 중첩 장치의 임시 고정 수단을 사용하여 실시할 수 있다. 또, 본 발명에 관련된 중첩 방법의 일 실시형태는, 상기 서술한 중첩 장치의 설명에 준하는 것이기 때문에, 그 상세한 설명을 생략한다.A superposition method according to the present invention is a superposition method in which a substrate and a support for supporting the substrate are superposed on each other with an adhesive layer laminated on at least any one of the substrate and the support, And temporarily fixing the support to the substrate by pressing and heating the region toward the substrate. In one embodiment, the temporary fixing step of the superposing method can be carried out by using the provisional fixing means of the superimposing apparatus according to the present invention described above. Since the embodiment of the superposing method according to the present invention is based on the description of the superposing apparatus described above, the detailed description thereof will be omitted.
본 발명은 상기 서술한 실시형태에 한정되는 것이 아니고, 청구항에 나타낸 범위에서 여러 가지의 변경이 가능하다. 즉, 청구항에 나타낸 범위에서 적절히 변경한 기술적 수단을 조합하여 얻어지는 실시형태에 대해서도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope of the claims. That is, the technical scope of the present invention also includes embodiments obtained by combining technical means suitably modified in the scope of claims.
산업상 이용가능성Industrial availability
본 발명은, 진공에 있어서의 기판 및 지지판의 첩합의 정밀도를 향상시킬 수 있기 때문에, 공업 제품의 제조 분야에 폭 넓게 이용할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be widely applied to the industrial field of manufacturing products because it can improve the accuracy of the assembly of the substrate and the support plate in vacuum.
1 : 첩합 시스템
2 : 첩합 유닛
3 : 유지부
4 : 외부 반송 수단 (반송 수단)
5 : 외부 반송 수단 주행로
6 : 중첩부 (제 1 처리실)
7 : 첩부부 (제 2 처리실)
8 : 게이트
9 : 주고 받기 창
10 : 내부 반송 수단
11 : 내부 반송 아암
12 : 아암 선회축
17a, 17b : 촬상부 (제 1 촬상 수단, 제 2 촬상 수단)
18a, 18b : 촬상 영역
19 : 중심 위치 검출부
21 : 승강 스테이지 (지지 수단)
22 : 위치 조정부 (위치 조절 수단)
23 : 걸기 부재
24 : 임시 고정부 (임시 고정 수단)
25 : 히터 (가열 수단)
26 : 가압부
40 : 적층체
41 : 서포트 플레이트 (지지체)
42 : 기판
50 : FOUP 오프너
51 : 베이크 플레이트
52 : 스피너
53 : 패스 라인
54 : 제 2 외부 반송 수단1: Integration system
2:
3:
4: External carrying means (carrying means)
5: External carrier Means
6: overlapping portion (first processing chamber)
7: Couple couple (second treatment room)
8: Gate
9: Send and Receive Window
10:
11: inner transfer arm
12: arm pivot shaft
17a, 17b: An image pickup section (first image pickup means, second image pickup means)
18a and 18b:
19:
21: lifting stage (supporting means)
22: position adjusting section (position adjusting means)
23:
24: provisional fixing means (provisional fixing means)
25: heater (heating means)
26:
40:
41: Support plate (support)
42: substrate
50: FOUP opener
51: Bake plate
52: Spinner
53: Pass Line
54: second outer carrying means
Claims (7)
상기 기판에 열 가소성 수지를 포함하는 접착제를 도포하는 스피너와,
상기 지지체를 거는 걸기 부재와,
상기 기판에 중첩한 상기 지지체의 일부의 영역을 상기 기판을 향해 가압함과 함께 가열함으로써, 상기 기판에 상기 지지체를 임시 고정시키는 임시 고정 수단을 구비하고 있고,
상기 임시 고정 수단은, 상기 일부의 영역에 접촉하는 접촉면과, 상기 접촉면을 가열하는 가열 수단을 구비하고 있고,
상기 지지체를 상기 걸기 부재에 의해 건 후에, 상기 기판을 상기 걸기 부재에 걸려 있는 상기 지지체와 중첩하고, 상기 임시 고정 수단이 상기 일부의 영역을 가압함과 함께 가열하고 있을 때에, 상기 걸기 부재에 의한 상기 지지체의 걸기를 해제하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 중첩 장치.A superimposing apparatus for superimposing a substrate and a support for supporting the substrate via an adhesive layer laminated on at least any one of the substrate and the support,
A spinner for applying an adhesive containing a thermoplastic resin to the substrate,
A holding member for holding the support,
And temporary fixing means for temporarily fixing the support to the substrate by pressing and heating a region of a part of the support superimposed on the substrate toward the substrate,
The temporary fixing means includes a contact surface contacting the part of the region and a heating means heating the contact surface,
The substrate is superimposed on the supporting member held on the supporting member after the supporting member is held by the supporting member and the temporary fixing means presses the region of the supporting member while heating the supporting member, Wherein the support is configured to release the engagement of the support.
상기 기판과 상기 지지체의 상대 위치를 조정하는 위치 조정 수단을 구비하고 있고,
상기 위치 조정 수단에 의해 상대 위치가 조정된 상기 기판 및 상기 지지체를 중첩하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 중첩 장치.The method according to claim 1,
And a position adjusting means for adjusting a relative position between the substrate and the support,
Wherein the substrate and the support, whose relative positions are adjusted by the position adjusting means, overlap each other.
상기 기판을 지지하는 지지 수단을 구비하고,
상기 임시 고정 수단은, 상기 지지 수단과 쌍을 이루어 상기 기판 및 상기 지지체를 사이에 끼우는 것을 특징으로 하는 중첩 장치.The method according to claim 1,
And a supporting means for supporting the substrate,
Wherein the temporary fixing means is sandwiched between the substrate and the supporting member in a pair with the supporting means.
상기 일부의 영역은, 상기 지지체의 중앙부인 것을 특징으로 하는 중첩 장치.The method according to claim 1,
And the part of the area is a central portion of the support.
상기 접착층은 열 가소성 수지를 포함하는 접착제로 형성된 층이고,
상기 기판에 중첩한 상기 지지체의 일부의 영역을 상기 기판을 향해 가압함과 함께 가열함으로써, 상기 기판에 상기 지지체를 임시 고정시키는 임시 고정 공정을 포함하고 있고,
상기 임시 고정 공정에서는, 상기 일부의 영역에 접촉하는 접촉면과, 상기 접촉면을 가열하는 가열 수단을 구비하고 있는 임시 고정 수단에 의해 가압 및 가열을 실시하고,
상기 지지체를 걸기 부재에 의해 건 후에, 상기 기판을 상기 걸기 부재에 걸려 있는 상기 지지체와 중첩하고, 상기 임시 고정 수단이 상기 일부의 영역을 가압함과 함께 가열하고 있을 때에, 상기 걸기 부재에 의한 상기 지지체의 걸기를 해제하는 것을 특징으로 하는 중첩 방법.A superposition method for superposing a substrate and a support for supporting the substrate via an adhesive layer laminated on at least one of the substrate and the support,
Wherein the adhesive layer is a layer formed of an adhesive containing a thermoplastic resin,
And temporarily fixing the support to the substrate by pressing and heating a part of the region of the support superimposed on the substrate toward the substrate,
In the provisional fixing step, pressing and heating are performed by provisional fixing means including a contact surface contacting the partial area and a heating means heating the contact surface,
The substrate is superimposed on the supporting member held on the supporting member after the supporting member is held by the supporting member and the temporary fixing means presses the partial region while heating the supporting member, And releasing the engagement of the support body.
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