JP5990037B2 - Superposition device and superposition method - Google Patents

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Description

本発明は、基板と支持体とを重ね合わせる重ね合わせ装置および重ね合わせ方法に関するものである。   The present invention relates to a superimposing apparatus and a superimposing method for superimposing a substrate and a support.

携帯電話、デジタルAV機器およびICカード等の高機能化に伴い、搭載される半導体シリコンチップ(以下、チップ)を小型化および薄板化することによって、パッケージ内にチップを高集積化する要求が高まっている。パッケージ内のチップの高集積化を実現するためには、チップの厚さを25〜150μmの範囲にまで薄くする必要がある。   As mobile phones, digital AV devices, IC cards, etc. have become more sophisticated, there is an increasing demand for higher integration of chips in packages by reducing the size and thickness of semiconductor silicon chips (hereinafter referred to as chips). ing. In order to achieve high integration of chips in the package, it is necessary to reduce the thickness of the chip to a range of 25 to 150 μm.

しかしながら、チップのベースとなる半導体ウエハ(以下、ウエハ)は、研削することにより薄化され、その強度は弱くなり、ウエハにクラックまたは反りが生じやすくなる。また、薄板化することによって強度が弱くなったウエハを自動搬送することは困難であるため、人手によって搬送しなければならず、その取り扱いが煩雑であった。   However, a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) serving as a base of a chip is thinned by grinding, its strength is weakened, and the wafer is likely to be cracked or warped. Further, since it is difficult to automatically transport a wafer whose strength has been reduced by making it thin, it has to be transported manually, and the handling thereof is complicated.

そのため、研削するウエハにサポートプレートと呼ばれる、ガラスまたは硬質プラスチック等からなるプレートを貼り合わせることによって、ウエハの強度を保持し、クラックの発生およびウエハの反りを防止するウエハサポートシステムが開発されている。ウエハサポートシステムによりウエハの強度を維持することができるため、薄板化した半導体ウエハの搬送を自動化することができる。   Therefore, a wafer support system has been developed that maintains the strength of the wafer and prevents the occurrence of cracks and warpage of the wafer by bonding a plate made of glass or hard plastic, called a support plate, to the wafer to be ground. . Since the strength of the wafer can be maintained by the wafer support system, the transport of the thinned semiconductor wafer can be automated.

ウエハとサポートプレートとは、粘着テープ、熱可塑性樹脂を含む接着剤等を用いて貼り合わせられている。サポートプレートが貼り付けられたウエハを薄板化した後、ウエハをダイシングする前にサポートプレートを基板から剥離する。   The wafer and the support plate are bonded together using an adhesive tape, an adhesive containing a thermoplastic resin, or the like. After thinning the wafer to which the support plate is attached, the support plate is peeled from the substrate before dicing the wafer.

ここで、ウエハにサポートプレートを貼り合わせるとき、まず、重ね合わせ装置を用いてウエハとサポートプレートとを位置合わせを行った状態で重ね合わせてから、重ね合わせたウエハおよびサポートプレートを貼付装置に搬送して貼り合わせる技術が特許文献1,2に記載されている。   Here, when the support plate is bonded to the wafer, first, the wafer and the support plate are overlapped with each other using the overlapping device, and then the overlapped wafer and the support plate are transferred to the bonding device. Patent Documents 1 and 2 describe a technique for bonding together.

特開2008−182127号公報(2008年8月7日公開)JP 2008-182127 A (released on August 7, 2008) 特開2012−059758号公報(2012年9月17日公開)JP 2012-059758 A (published September 17, 2012)

しかし、従来技術において、重ね合わせ装置において重ね合わせたウエハおよびサポートプレートを貼付装置に搬送する際に、ウエハとサポートプレートとの相対位置にズレが生じる可能性がある。ウエハとサポートプレートとの相対位置にズレが生じると、その後のウエハの処理に悪影響を及ぼす。   However, in the prior art, when the wafer and the support plate that are overlapped by the overlapping device are transported to the attaching device, there is a possibility that the relative position between the wafer and the support plate is displaced. If a deviation occurs in the relative position between the wafer and the support plate, the subsequent processing of the wafer is adversely affected.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、重ね合わせ装置および重ね合わせ方法において重ね合わせたウエハおよびサポートプレートを貼付装置に搬送する際に、ウエハとサポートプレートとの相対位置にズレが生じることを防止する技術を提供することを主たる目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and when transferring the wafer and the support plate superimposed in the overlaying apparatus and the overlaying method to the sticking apparatus, the relative position between the wafer and the support plate is displaced. The main purpose is to provide technology to prevent the occurrence.

上記の課題を解決するために、本発明に係る重ね合わせ装置は、基板と、上記基板を支持する支持体とを、上記基板および上記支持体の少なくとも何れかに積層された接着層を介して重ね合わせる重ね合わせ装置であって、上記基板に重ね合わせた上記支持体の一部の領域を基板に向かって押圧するとともに加熱することによって、上記基板に上記支持体を仮止めする仮止め手段を備えていることを特徴としている。   In order to solve the above-described problems, an overlaying apparatus according to the present invention includes a substrate and a support that supports the substrate via an adhesive layer that is stacked on at least one of the substrate and the support. A superimposing device for superimposing, wherein a temporary fixing means for temporarily fixing the support to the substrate by pressing and heating a partial region of the support superimposed on the substrate toward the substrate. It is characterized by having.

本発明に係る重ね合わせ方法は、基板と、上記基板を支持する支持体とを、上記基板および上記支持体の少なくとも何れかに積層された接着層を介して重ね合わせる重ね合わせ方法であって、上記基板に重ね合わせた上記支持体の一部の領域を基板に向かって押圧するとともに加熱することによって、上記基板に上記支持体を仮止めする仮止め工程を包含していることを特徴としている。   The superposition method according to the present invention is a superposition method of superposing a substrate and a support supporting the substrate via an adhesive layer laminated on at least one of the substrate and the support, The method includes a temporary fixing step of temporarily fixing the support to the substrate by pressing and heating a partial region of the support superimposed on the substrate toward the substrate. .

本発明によれば、重ね合わせたウエハおよびサポートプレートを仮止めすることができるため、当該ウエハおよびサポートプレートを貼付装置に搬送する際に、ウエハとサポートプレートとの相対位置にズレが生じることを防止することができる。   According to the present invention, since the superimposed wafer and support plate can be temporarily fixed, when the wafer and the support plate are transported to the attaching device, the relative position between the wafer and the support plate is shifted. Can be prevented.

一実施形態における貼り合わせシステムの全体の構成を模式的に示す上面図である。It is a top view which shows typically the whole structure of the bonding system in one Embodiment. 一実施形態における保持部の構成を模式的に示す上面図である。It is a top view which shows typically the structure of the holding | maintenance part in one Embodiment. (a)は、一実施形態における重ね合わせ部の構成を模式的に示す正面図であり、(b)は(a)を簡略化した図である。(A) is a front view which shows typically the structure of the overlap part in one Embodiment, (b) is the figure which simplified (a). 一実施形態における位置調整手段の構成を模式的に示す上面図である。It is a top view which shows typically the structure of the position adjustment means in one Embodiment. 一実施形態における掛止部材の構成を模式的に示す上面図である。It is a top view which shows typically the structure of the latching member in one Embodiment. 一実施形態における貼り合わせユニットの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the bonding unit in one Embodiment. 一実施形態における重ね合わせ装置の動作を説明する図である。It is a figure explaining operation | movement of the superimposition apparatus in one Embodiment.

<重ね合わせ装置>
本発明に係る重ね合わせ装置は、基板と、上記基板を支持するサポートプレート(支持体)とを、上記基板および上記サポートプレートの少なくとも何れかに積層された接着層を介して重ね合わせる重ね合わせ装置であって、上記基板に重ね合わせた上記サポートプレートの一部の領域を基板に向かって押圧するとともに加熱することによって、上記基板に上記サポートプレートを仮止めする仮止め手段を備えている構成である。
<Overlay device>
The superposing apparatus according to the present invention superimposes a substrate and a support plate (support) supporting the substrate via an adhesive layer laminated on at least one of the substrate and the support plate. And the structure which is equipped with the temporary fixing means which temporarily fixes the said support plate to the said board | substrate by pressing and heating the one part area | region of the said support plate superimposed on the said board | substrate toward a board | substrate. is there.

〔積層体〕
上記重ね合わせ装置は、基板と、上記基板を支持する支持体とを、上記基板および上記支持体の少なくとも何れかに積層された接着層を介して重ね合わせることによって積層体を形成する。すなわち、積層体は、基板と、例えば熱可塑性樹脂を含む接着層と、上記基板を支持するサポートプレート(支持体)とがこの順に積層されて形成されている。接着層は、基板およびサポートプレートの何れか一方に接着剤が塗布されることによって、または、接着剤が塗布されてなる接着テープを貼着することによって形成され得る。そして、形成した積層体を、例えば、ロボットアーム等の搬送装置によって、貼付装置の所定位置に載置(セット)し、押圧力を掛けることにより、基板とサポートプレートとを貼り合わせることができる。
[Laminate]
The stacking apparatus forms a stacked body by stacking a substrate and a support supporting the substrate via an adhesive layer stacked on at least one of the substrate and the support. That is, the laminate is formed by laminating a substrate, an adhesive layer containing, for example, a thermoplastic resin, and a support plate (support) that supports the substrate in this order. The adhesive layer can be formed by applying an adhesive to any one of the substrate and the support plate, or by attaching an adhesive tape to which the adhesive is applied. And the board | substrate and a support plate can be bonded together by mounting (setting) the formed laminated body in the predetermined position of a sticking apparatus, for example with conveyance apparatuses, such as a robot arm, and applying a pressing force.

なお、積層体を形成する形成方法および形成装置、つまり、接着層の形成方法や接着層形成装置等は、特に限定されるものではなく、種々の方法や装置を採用することができる。   In addition, the formation method and formation apparatus which form a laminated body, ie, the formation method of an adhesive layer, an adhesive layer formation apparatus, etc. are not specifically limited, A various method and apparatus are employable.

また、上記基板は、サポートプレートに支持された(貼り付けられた)状態で、薄化、搬送、実装等のプロセスに供される。基板は、ウエハ基板に限定されず、例えば、サポートプレートによる支持が必要なセラミックス基板、薄いフィルム基板、フレキシブル基板等の任意の基板であってもよい。   Moreover, the said board | substrate is used for processes, such as thinning, conveyance, mounting, in the state supported (attached) by the support plate. The substrate is not limited to a wafer substrate, and may be any substrate such as a ceramic substrate, a thin film substrate, or a flexible substrate that needs to be supported by a support plate.

上記サポートプレートは、基板を支持する支持体であり、接着層を介して基板に貼り付けられる。そのため、サポートプレートは、基板の薄化、搬送、実装等のプロセス時に、基板の破損または変形を防ぐために必要な強度を有していればよく、より軽量であることが望ましい。以上の観点から、サポートプレートは、ガラス、シリコン、アクリル系樹脂、セラミック等で構成されていることがより好ましい。   The support plate is a support that supports the substrate, and is attached to the substrate via an adhesive layer. Therefore, the support plate only needs to have a strength necessary to prevent breakage or deformation of the substrate during a process such as thinning, transporting, and mounting of the substrate, and is desirably lighter. From the above viewpoint, the support plate is more preferably made of glass, silicon, acrylic resin, ceramic, or the like.

上記接着層を構成する接着剤は、例えば、加熱することによって熱流動性が向上する熱可塑性樹脂を接着材料として含んでいればよい。熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、マレイミド系樹脂、炭化水素系樹脂等が挙げられる。   The adhesive which comprises the said contact bonding layer should just contain the thermoplastic resin which heat fluidity improves by heating, for example as an adhesive material. Examples of the thermoplastic resin include acrylic resins, styrene resins, maleimide resins, hydrocarbon resins, and the like.

接着層の形成方法、即ち、基板またはサポートプレートに接着剤を塗布する塗布方法、或いは、基材に接着剤を塗布して接着テープを形成する形成方法は、特に限定されるものではないが、接着剤の塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ディッピング法、ローラーブレード法、スプレー法、スリットノズル法による塗布法等が挙げられる。   The method for forming the adhesive layer, that is, the method for applying the adhesive to the substrate or the support plate, or the method for forming the adhesive tape by applying the adhesive to the substrate is not particularly limited. Examples of the method for applying the adhesive include a spin coating method, a dipping method, a roller blade method, a spray method, and a coating method using a slit nozzle method.

接着層の厚さは、貼り付けの対象となる基板およびサポートプレートの種類、貼り付け後の基板に施される処理等に応じて適宜設定すればよいが、10〜150μmの範囲内であることが好ましく、15〜100μmの範囲内であることがより好ましい。   The thickness of the adhesive layer may be set as appropriate according to the type of substrate to be pasted and the type of support plate, the treatment applied to the substrate after pasting, etc., but within the range of 10 to 150 μm. Is preferable, and it is more preferable that it exists in the range of 15-100 micrometers.

なお、基板からサポートプレートを剥離するときには、接着層に溶剤を供給して接着層を溶解すればよい。これにより、基板とサポートプレートとを分離することができる。このとき、サポートプレートに、その厚さ方向に貫通する貫通孔が形成されていれば、この貫通孔を介して接着層に溶剤を容易に供給することができるので、より好ましい。   Note that when peeling the support plate from the substrate, a solvent may be supplied to the adhesive layer to dissolve the adhesive layer. Thereby, a board | substrate and a support plate can be isolate | separated. At this time, if the support plate has a through-hole penetrating in the thickness direction, it is more preferable because the solvent can be easily supplied to the adhesive layer through the through-hole.

また、基板とサポートプレートとの間には、両者の貼り付けを妨げない限り、接着層以外の他の層がさらに形成されていてもよい。例えば、サポートプレートと接着層との間に、光を照射することによって変質する分離層が形成されていてもよい。分離層が形成されていることにより、基板の薄化、搬送、実装等のプロセス後に光を照射することで、基板とサポートプレートとを容易に分離することができる。   Further, a layer other than the adhesive layer may be further formed between the substrate and the support plate as long as the attachment of the both is not hindered. For example, a separation layer that is altered by irradiation with light may be formed between the support plate and the adhesive layer. Since the separation layer is formed, the substrate and the support plate can be easily separated by irradiating light after processes such as thinning, transporting, and mounting of the substrate.

〔貼り合わせシステム〕
本発明に係る重ね合わせ装置は、一実施形態において、基板42とサポートプレート41とを貼り合わせる貼り合わせシステムに組み込むことができる。
[Lamination system]
In one embodiment, the superimposing apparatus according to the present invention can be incorporated into a bonding system for bonding the substrate 42 and the support plate 41 together.

図1は、本実施の形態における貼り合わせシステム1を示す構成図であり、貼り合わせシステム1を真上から見た概略の構成を示している。図1に示されるように、貼り合わせシステム1は、貼り合わせユニット2、保持部3、第1外部搬送手段4および第1外部搬送手段走行路5を備えている構成である。貼り合わせユニット2は、減圧可能な重ね合わせ部6および減圧可能な貼付部7を含んで構成されている。このうち、保持部3および重ね合わせ部6によって、本実施形態に係る重ね合わせ装置が、貼付部7によって本実施形態に係る貼付装置が夫々構成される。   FIG. 1 is a configuration diagram showing a bonding system 1 in the present embodiment, and shows a schematic configuration when the bonding system 1 is viewed from directly above. As shown in FIG. 1, the bonding system 1 includes a bonding unit 2, a holding unit 3, a first external transport unit 4, and a first external transport unit travel path 5. The laminating unit 2 includes an overlapping portion 6 that can be decompressed and a pasting portion 7 that can be decompressed. Among these, the holding unit 3 and the superimposing unit 6 constitute the superimposing device according to the present embodiment, and the pasting unit 7 constitutes the pasting device according to the present embodiment.

図1には、さらに、貼り合わせシステム1が備えているFOUPオープナー50、基板42に接着層を塗布するスピンナー52、塗布された接着層を硬化させるベークプレート51、第2外部搬送手段54、および、基板42を第1外部搬送手段4に引き渡すためのパスライン53、が図示されている。   1 further includes a FOUP opener 50 provided in the bonding system 1, a spinner 52 that applies an adhesive layer to the substrate 42, a bake plate 51 that cures the applied adhesive layer, a second external transport unit 54, and A pass line 53 for transferring the substrate 42 to the first external transfer means 4 is shown.

外部搬送手段4は、サポートプレート41、基板42および積層体40を持ち運びできる構成を有しており、貼り合わせユニット2との間で、サポートプレート41、基板42および積層体40の受け渡しが可能な構成となっている。外部搬送手段4は外部搬送手段走行路5上を移動する。このような機能を担う外部搬送手段4および外部搬送手段走行路5は従来公知の技術によって準備することができる。   The external transport means 4 has a configuration that can carry the support plate 41, the substrate 42, and the laminated body 40, and can exchange the support plate 41, the substrate 42, and the laminated body 40 with the bonding unit 2. It has a configuration. The external transport unit 4 moves on the external transport unit travel path 5. The external conveying means 4 and the external conveying means traveling path 5 that bear such a function can be prepared by a conventionally known technique.

(保持部)
図2は、保持部3の概略の構成を示す図である。図2に示すように、保持部3は、撮像部(第一の撮像手段、第二の撮像手段)17a、17bおよび中心位置検出部19を備えており、重ね合わされる前の基板42またはサポートプレート41を保持するようになっている(なお、図2ではサポートプレート41を保持している場合について示す。)。
(Holding part)
FIG. 2 is a diagram illustrating a schematic configuration of the holding unit 3. As shown in FIG. 2, the holding unit 3 includes imaging units (first imaging unit and second imaging unit) 17 a and 17 b and a center position detection unit 19, and the substrate 42 or the support before being superimposed. The plate 41 is held (note that FIG. 2 shows the case where the support plate 41 is held).

撮像部17a、17bは、保持部3に保持された基板42またはサポートプレート41の互いに異なる端面(第一の端面、第二の端面)を含む領域18a、18bをそれぞれ撮像するようになっている。領域18a、18bは、例えば、保持部3に保持された基板42またはサポートプレート41の凡そ対角線上に設定されていることが好ましい。撮像部17a、17bは、例えば、CCDカメラであり得る。   The imaging units 17a and 17b respectively capture areas 18a and 18b including different end surfaces (first end surface and second end surface) of the substrate 42 or the support plate 41 held by the holding unit 3. . The regions 18a and 18b are preferably set, for example, approximately on a diagonal line of the substrate 42 or the support plate 41 held by the holding unit 3. The imaging units 17a and 17b can be, for example, CCD cameras.

中心位置検出部19は、撮像部17a、17bが撮像した複数の画像に基づいて、保持部3に保持された基板42またはサポートプレート41の中心位置を検出する。中心位置検出部19は、円板の端面の画像に基づいて、仮想円を算出し、中心位置を検出するようになっていればよい。端面の画像に基づく中心位置の検出技術は、公知の画像処理を用いればよく、特に限定されない。   The center position detection unit 19 detects the center position of the substrate 42 or the support plate 41 held by the holding unit 3 based on a plurality of images taken by the imaging units 17a and 17b. The center position detector 19 only needs to calculate a virtual circle based on the image of the end face of the disk and detect the center position. The technique for detecting the center position based on the image of the end face is not particularly limited as long as known image processing is used.

(重ね合わせ部)
図3(a)は、重ね合わせ部6の概略の構成を示す図であり、図3(b)は、図3(a)を簡略化した図である。図3(a)に示すように、重ね合わせ部6は、昇降ステージ(支持手段)21、位置調整部(位置調整手段)22、掛止部材23、仮止め部(仮止め手段)24、ヒータ25および押圧部26を備えている。図3(b)に示すように、位置調整部22および掛止部材23は、水平方向に移動するようになっており、昇降ステージ21および仮止め部24は、鉛直方向に移動するようになっている。重ね合わせ部6には、サポートプレート41および基板42が別々に搬入される。
(Overlapping part)
FIG. 3A is a diagram showing a schematic configuration of the overlapping portion 6, and FIG. 3B is a simplified diagram of FIG. 3A. As shown in FIG. 3A, the overlapping portion 6 includes an elevating stage (support means) 21, a position adjusting portion (position adjusting means) 22, a latch member 23, a temporary fixing portion (temporary fixing means) 24, a heater. 25 and the pressing part 26 are provided. As shown in FIG. 3B, the position adjusting unit 22 and the latching member 23 are moved in the horizontal direction, and the elevating stage 21 and the temporary fixing unit 24 are moved in the vertical direction. ing. The support plate 41 and the substrate 42 are separately carried into the overlapping portion 6.

昇降ステージ21は、サポートプレート41もしくは基板42、またはこれらを重ね合わせた積層体40をその底面から保持する部材であり、例えば、サポートプレート41もしくは基板42、またはこれらを重ね合わせた積層体40を吸着保持するチャックであり得る。昇降ステージ21は、鉛直方向上下に移動可能であり、これにより、保持するサポートプレート41、基板42および積層体40を鉛直方向上下に移動させることができる。   The elevating stage 21 is a member that holds the support plate 41 or the substrate 42 or the stacked body 40 in which the support plate 41 or the substrate 42 is stacked from the bottom surface. It can be a chuck that holds by suction. The elevating stage 21 can be moved up and down in the vertical direction, whereby the support plate 41, the substrate 42 and the stacked body 40 to be held can be moved up and down in the vertical direction.

昇降ステージ21におけるサポートプレート41等の載置面21aは、載置物に疵を付けないよう、例えばポリテトラフルオロエチレン、PEEK等の樹脂によって形成することが好ましい。また、載置面21aには溝を形成することが好ましい。載置面21aに溝を形成することにより、重ね合わせ部6の内部を減圧するときに、サポートプレート41、基板42および積層体40と、載置面21aとの間に気体が残留することを防止することができる。   The mounting surface 21a such as the support plate 41 in the elevating stage 21 is preferably formed of a resin such as polytetrafluoroethylene or PEEK so as not to wrinkle the mounted object. Moreover, it is preferable to form a groove in the mounting surface 21a. By forming a groove in the mounting surface 21a, when the inside of the overlapping portion 6 is decompressed, gas remains between the support plate 41, the substrate 42, the stacked body 40, and the mounting surface 21a. Can be prevented.

位置調整部22は、位置合わせのために、位置合わせの対象となるサポートプレート41および基板42の水平方向における位置を調節する部材である。位置調整部22は、中心位置検出部19が検出したサポートプレート41および基板42の中心位置に基づき、サポートプレート41および基板42の互いの中心位置が重なるように、サポートプレート41および基板42の少なくとも一方の面内方向の位置を調整するようになっている。例えば、図4に示すように、サポートプレート41および基板42の中心位置を予め定められた中心軸Oに重なるように調整するものであり得る。   The position adjustment unit 22 is a member that adjusts the position in the horizontal direction of the support plate 41 and the substrate 42 to be aligned for alignment. The position adjustment unit 22 is based on the center positions of the support plate 41 and the substrate 42 detected by the center position detection unit 19 so that the center positions of the support plate 41 and the substrate 42 overlap each other. The position in one in-plane direction is adjusted. For example, as shown in FIG. 4, the center positions of the support plate 41 and the substrate 42 may be adjusted so as to overlap a predetermined center axis O.

このように、位置調整部22は、中心位置検出部19が検出した基板42およびサポートプレート41の互いの中心位置が重なるように、基板42およびサポートプレート41の少なくとも一方の面内方向の位置を調整する。これにより、重ね合わせ部6において、中心位置検出部19が検出した基板および支持体の中心位置を重ねることができる。   As described above, the position adjustment unit 22 determines the position of at least one of the substrate 42 and the support plate 41 in the in-plane direction so that the center positions of the substrate 42 and the support plate 41 detected by the center position detection unit 19 overlap each other. adjust. Thereby, in the superposition part 6, the center position of the board | substrate and support body which the center position detection part 19 detected can be piled up.

なお、サポートプレート41および基板42の水平方向における位置を適切に調節できる限り、すなわち、サポートプレート41および基板42を所望の水平位置に移動させることができる限り、位置調整部22の具体的な機構は特に制限されない。本実施の形態において位置調整部22は、図4に示すように、押圧部26a〜26dによって押圧され、サポートプレート41または基板42に当接することによって、サポートプレート41および基板42の水平方向における位置を調整するようになっている。押圧部26a〜26dは、例えば、ステッピングモータ、エアシリンダ等によって構成することができる。   In addition, as long as the position in the horizontal direction of the support plate 41 and the board | substrate 42 can be adjusted appropriately, ie, as long as the support plate 41 and the board | substrate 42 can be moved to a desired horizontal position, the specific mechanism of the position adjustment part 22 is demonstrated. Is not particularly limited. In the present embodiment, as shown in FIG. 4, the position adjusting unit 22 is pressed by the pressing units 26 a to 26 d and abuts against the support plate 41 or the substrate 42, whereby the support plate 41 and the substrate 42 are positioned in the horizontal direction. To be adjusted. The pressing portions 26a to 26d can be configured by, for example, a stepping motor, an air cylinder, or the like.

また、図3(a)中A、Bに示すように、位置調整部22がサポートプレート41または基板42に当接する位置は、一例において、2段階になっている。これによって、例えば、2種類のサイズを有する基板42等を処理することができるようになっている。   In addition, as shown by A and B in FIG. 3A, the position where the position adjusting unit 22 contacts the support plate 41 or the substrate 42 is two steps in one example. Thereby, for example, the substrate 42 having two types of sizes can be processed.

掛止部材23は、位置合わせを行ったサポートプレート41(基板42の位置合わせを先に行う場合には、基板42)を、その水平位置を変化させずに重ね合わせを行うまで保持しておく部材である。図5は、掛止部材23を上面側から見た図である。掛止部材23は、サポートプレート41の周縁部の一部をその下側から支持することによって、サポートプレート41を安定に保持する。掛止部材23は、水平方向に移動可能である。サポートプレート41が昇降ステージ21に載って掛止部材23の上部まで運ばれるときには、掛止部材23をサポートプレート41と一切重ならない位置に移動させておく。本明細書では、この状態のとき、掛止部材23が「抜き位置」にあると呼ぶ。サポートプレート41がスペーサ挿入位置に運び込まれた後、掛止部材23によってサポートプレート41を支持できるように、掛止部材23をサポートプレート41と重なる位置に戻す。本明細書では、この状態のとき、掛止部材23が「挿入位置」にあると呼ぶ。図5は、掛止部材23が「挿入位置」にある状態を示している。掛止部材23が挿入位置にあるときの、掛止部材23のサポートプレート41を支持する各部材とサポートプレート41との重なりの幅dは、非限定的に、サポートプレート41の周縁から内側にかけて1〜5mm程度であり得る。好適には5mmである。また、掛止部材23の大きさは、例えば、横幅dが5mmであり得るが、これに限定されるものではない。 The retaining member 23 holds the aligned support plate 41 (or the substrate 42 when the substrate 42 is first aligned) until it is overlapped without changing its horizontal position. It is a member. FIG. 5 is a view of the latch member 23 as seen from the upper surface side. The latch member 23 supports the support plate 41 stably by supporting a part of the peripheral edge portion of the support plate 41 from below. The latch member 23 is movable in the horizontal direction. When the support plate 41 is placed on the elevating stage 21 and carried to the upper part of the latching member 23, the latching member 23 is moved to a position where it does not overlap the support plate 41 at all. In this specification, in this state, the latch member 23 is referred to as being in the “extraction position”. After the support plate 41 is brought into the spacer insertion position, the latch member 23 is returned to a position overlapping the support plate 41 so that the support plate 41 can be supported by the latch member 23. In this specification, it is said that the latch member 23 is in the “insertion position” in this state. FIG. 5 shows a state in which the latch member 23 is in the “insertion position”. When latch member 23 is in the insertion position, the width D 3 of overlap between the respective members and the support plate 41 for supporting the support plate 41 of the latch member 23 include, but are not limited to, inward from the peripheral edge of the support plate 41 It may be about 1 to 5 mm. It is preferably 5 mm. The size of the hook member 23 is, for example, the width d 4 may be 5 mm, but is not limited thereto.

掛止部材23の材質は特に限定されるものではなく、例えば、ステンレス鋼(SUS)を面取りし、ポリテトラフルオロエチレン等で樹脂コートしたものを使用することができる。   The material of the latch member 23 is not particularly limited. For example, a material obtained by chamfering stainless steel (SUS) and coating it with polytetrafluoroethylene or the like can be used.

サポートプレート41を保持する方法としては、係止部材23を用いた方法に限定されない。例えば、仮止め部24に静電吸着機能を持たせ、位置合わせを行った後のサポートプレート41を仮止め部24に吸着させ、保持させてもよい。このとき、サポートプレート41を載せた昇降ステージ21を上部に移動させ、仮止め部24にサポートプレート41を吸着させればよい。これにより、仮止め部24は、サポートプレート41を、その水平位置を変化させずに保持することができる。   The method for holding the support plate 41 is not limited to the method using the locking member 23. For example, the temporary fixing portion 24 may have an electrostatic adsorption function, and the support plate 41 after the alignment may be adsorbed to the temporary fixing portion 24 and held. At this time, the lifting / lowering stage 21 on which the support plate 41 is placed may be moved upward and the support plate 41 may be attracted to the temporary fixing portion 24. Thereby, the temporary fix | stop part 24 can hold | maintain the support plate 41, without changing the horizontal position.

仮止め部24は、サポートプレート41と基板42とを重ね合わせる際に、基板42に重ね合わせたサポートプレート41の一部の領域を基板42に向かって押圧するとともに加熱することによって、基板42にサポートプレート41を仮止めする部材である。すなわち、一部の領域に対して押圧および加熱を行うことによって、サポートプレート41と基板42とが挟む接着層の一部を軟化させることにより、サポートプレート41と基板42とを仮止めすることができる。   When the support plate 41 and the substrate 42 are overlapped, the temporary fixing portion 24 presses a part of the support plate 41 overlapped with the substrate 42 toward the substrate 42 and heats the substrate 42. This is a member for temporarily fixing the support plate 41. That is, the support plate 41 and the substrate 42 can be temporarily fixed by softening a part of the adhesive layer sandwiched between the support plate 41 and the substrate 42 by pressing and heating the partial region. it can.

このように、本実施形態によれば、サポートプレート41と基板42とを仮止めすることができるため、重ね合わせた積層体40を、貼付部7に搬送する際に、基板42とサポートプレート41との相対位置にズレが生じることを首尾よく防止することができる。   As described above, according to the present embodiment, the support plate 41 and the substrate 42 can be temporarily fixed. Therefore, when the stacked laminate 40 is transported to the attaching unit 7, the substrate 42 and the support plate 41 are used. It is possible to successfully prevent a deviation from occurring in the relative position with respect to.

仮止め部24は、昇降ステージ21と対になってサポートプレート41と基板42と挟むようになっており、仮止め部24のサポートプレート41に対する接触面24aの面積は、特に限定されず、サポートプレート41と基板42との仮止めの強度や、サポートプレート41と基板42との間におけるボイド等の発生等を鑑みて適宜設定すればよい。   The temporary fixing portion 24 is paired with the elevating stage 21 so as to be sandwiched between the support plate 41 and the substrate 42, and the area of the contact surface 24a of the temporary fixing portion 24 with respect to the support plate 41 is not particularly limited. What is necessary is just to set suitably in view of the intensity | strength of the temporary fixing of the plate 41 and the board | substrate 42, generation | occurrence | production of the void etc. between the support plate 41 and the board | substrate 42, etc.

なお、接触面24aが接触するサポートプレート41上の領域は、サポートプレート41の中央部であることが好ましい。これにより、バランスよくサポートプレート41と基板42とを仮止めすることができる。   In addition, it is preferable that the area | region on the support plate 41 which the contact surface 24a contacts is a center part of the support plate 41. FIG. Thereby, the support plate 41 and the board | substrate 42 can be temporarily fixed with sufficient balance.

また、仮止め部24は、接触面24aを加熱するためのヒータ(加熱手段)25を備えている。仮止め部24の素材は、特に限定されないが、熱伝導性のよいアルミニウム等によって構成することができるが、これに限定されず、ステンレス等を用いてもよい。また、仮止め部24は、例えば、バネ機構によって押し当てる方法や、ステッピングモータによって駆動し、ステッピングモータに掛かるトルクによってサポートプレート41への押圧力を制御する方法をとることができる。   Further, the temporary fixing portion 24 includes a heater (heating means) 25 for heating the contact surface 24a. The material of the temporary fixing part 24 is not particularly limited, but can be made of aluminum having good thermal conductivity, but is not limited thereto, and stainless steel or the like may be used. Moreover, the temporary fix | stop part 24 can take the method of pressing with a spring mechanism, and the method of driving with a stepping motor and controlling the pressing force to the support plate 41 with the torque concerning a stepping motor, for example.

また、仮止め部24は、掛止部材23よりも鉛直上方に設けられており、上下への移動が可能な構成となっている。仮止め部24が下方に移動しておらず、そのため掛止部材23に保持されているサポートプレート41とは接触しない位置にあることを、本明細書では、仮止め部24が「待機位置」にあるという。これに対し、仮止め部24が下方に移動し、その結果、掛止部材23に保持されているサポートプレート41表面を押圧している位置にあることを、本明細書では、仮止め部24が「接合位置」にあるという。仮止め部24は、仮止め部24が接合位置にあるときにサポートプレート41表面の中心部分と接触するように設けられている。   The temporary fixing portion 24 is provided vertically above the hooking member 23 and is configured to be movable up and down. In the present specification, the temporary fixing portion 24 is referred to as a “standby position” that the temporary fixing portion 24 is not moved downward and is therefore not in contact with the support plate 41 held by the latching member 23. It is said that. In contrast, in the present specification, the temporary fixing portion 24 indicates that the temporary fixing portion 24 moves downward and, as a result, is in a position where the surface of the support plate 41 held by the hooking member 23 is pressed. Is at the “joining position”. The temporary fixing portion 24 is provided so as to come into contact with the central portion of the surface of the support plate 41 when the temporary fixing portion 24 is in the joining position.

(貼付部)
貼付部7は、位置合わせを行って重ね合わされた基板42とサポートプレート41とを貼り合わせる貼り合わせ手段を有している。貼り合わせ手段としては、基板42とサポートプレート41とを接着剤層を介して熱圧着により貼り合わせる構成が可能である。例えば、貼付部7内部の上下にプレスプレートを設け、この上下のプレスプレート間に、接合前の積層体40を挟み込めるようにする構成が可能である。
(Attached part)
The affixing unit 7 has an affixing unit that affixes the substrate 42 and the support plate 41 that have been aligned and aligned. As the bonding means, a configuration is possible in which the substrate 42 and the support plate 41 are bonded together by thermocompression bonding via an adhesive layer. For example, it is possible to provide a configuration in which press plates are provided above and below the sticking portion 7 and the laminate 40 before joining is sandwiched between the upper and lower press plates.

(内部搬送手段)
重ね合わせ部6および貼付部7は、一つの処理室の内部を二つの処理室に仕切る壁を設けた構造とすることができる。このほかにも重ね合わせ部6および貼付部7は、重ね合わせ部6と貼付部7とがそれぞれの側面において隙間なく互いに接している構造であってもよい。重ね合わせ部6および貼付部7の境界には、重ね合わせ部6および貼付部7間で積層体40の受け渡しを行うためのゲート8が設けられている。ゲート8はシャッターによって開閉が制御されている。また、重ね合わせ部6には、貼り合わせユニット2と外部搬送手段4との間でサポートプレート41、基板42および積層体40の受け渡しを行うための開閉可能な受け渡し窓9が設けられている。重ね合わせ部6および貼付部7にはそれぞれ、公知の減圧手段が設けられており(図示せず)、各室の内部圧の状態を独立に制御することができる。
(Internal transfer means)
The overlapping portion 6 and the pasting portion 7 can have a structure in which a wall that partitions the inside of one processing chamber into two processing chambers is provided. In addition to this, the overlapping portion 6 and the pasting portion 7 may have a structure in which the overlapping portion 6 and the pasting portion 7 are in contact with each other without a gap on each side surface. At the boundary between the overlapping portion 6 and the pasting portion 7, a gate 8 for delivering the laminate 40 between the overlapping portion 6 and the pasting portion 7 is provided. The gate 8 is controlled to be opened and closed by a shutter. The overlapping portion 6 is provided with an openable / closable delivery window 9 for delivering the support plate 41, the substrate 42 and the laminated body 40 between the bonding unit 2 and the external transport means 4. Each of the overlapping portion 6 and the pasting portion 7 is provided with a known pressure reducing means (not shown), and the internal pressure state of each chamber can be controlled independently.

貼付部7が減圧可能な構成であるため、減圧雰囲気下において基板42とサポートプレート41とを接着剤層を介して貼り合わせることができる。減圧雰囲気下において接着剤層に基板42を圧着させることによって、基板42表面の凹凸パターンの窪みに空気が存在しない状態において、接着剤層を当該窪みに入り込ませることができるため、接着剤層と基板42との間の気泡の発生をより確実に防止することが可能である。   Since the affixing portion 7 has a configuration capable of reducing the pressure, the substrate 42 and the support plate 41 can be bonded to each other through the adhesive layer in a reduced pressure atmosphere. By bonding the substrate 42 to the adhesive layer in a reduced-pressure atmosphere, the adhesive layer can enter the recess in a state where no air is present in the recess of the uneven pattern on the surface of the substrate 42. It is possible to prevent the generation of bubbles between the substrate 42 more reliably.

ゲート8は、シャッターが開いた状態で、位置合わせがなされた積層体40を重ね合わせ部6から貼付部7に移動させることができるように、また、接合後の積層体40を貼付部7から重ね合わせ部6に移動させることができるように形成されている。重ね合わせ部6および貼付部7の何れも減圧させた状態でシャッターを開けることにより、接合前の積層体40を重ね合わせ部6から貼付部7に減圧下で移動させることができる構造となっている。   The gate 8 can move the aligned laminated body 40 from the overlapping portion 6 to the attaching portion 7 in a state where the shutter is opened. It is formed so that it can be moved to the overlapping portion 6. By opening the shutter in a state where both the overlapping portion 6 and the pasting portion 7 are decompressed, the laminated body 40 before joining can be moved from the overlapping portion 6 to the pasting portion 7 under reduced pressure. Yes.

貼り合わせユニット2にはさらにゲート8を介して重ね合わせ部6および貼付部7間で積層体40の受け渡しを行う内部搬送手段(図6中の10)が設けられている。   The laminating unit 2 is further provided with an internal conveying means (10 in FIG. 6) for delivering the laminated body 40 between the overlapping portion 6 and the affixing portion 7 via the gate 8.

図6は、内部搬送手段10を含めた貼り合わせユニット2の内部構成を上方から見た構成図である。内部搬送手段10は、積層体40を重ね合わせ部6と貼付部7との間で移動させることができる構成である限り、具体的な機構に特に制限はない。本実施の形態では、図6に示すように、内部搬送手段10は、内部搬送アーム11およびアーム旋回軸12によって構成されている。内部搬送手段10は、積層体40をその下面から支持できる内部搬送アーム11のアーム旋回軸12を回転中心とした回動によって、積層体40を移動させる機構となっている。詳しくは後述するが、本実施の形態では、回動の旋回軸が共通する2つの内部搬送手段10が設けられている。アーム旋回軸12は重ね合わせ部6側に設けられているが、貼付部7側に設けられた構成であってもよい。重ね合わせ部6と外部搬送手段4との間での受け渡しのストロークを短くすることができるという観点から、アーム旋回軸12は、受け渡し窓9が形成されている側面に近い側に形成されていることが好ましい。図6中、「B」で示す二点鎖線は、内部搬送アーム11の待機位置を表しており、「C」で示す二点鎖線は、内部搬送アーム11の貼付部7での位置(貼付部受け渡し位置)を表している。   FIG. 6 is a configuration diagram of the internal configuration of the bonding unit 2 including the internal conveyance means 10 as viewed from above. As long as the internal conveyance means 10 is the structure which can move the laminated body 40 between the superimposition part 6 and the sticking part 7, there is no restriction | limiting in particular in a specific mechanism. In the present embodiment, as shown in FIG. 6, the internal transfer means 10 includes an internal transfer arm 11 and an arm pivot shaft 12. The internal conveyance means 10 is a mechanism for moving the multilayer body 40 by rotation about the arm turning shaft 12 of the internal conveyance arm 11 that can support the multilayer body 40 from the lower surface. As will be described in detail later, in the present embodiment, two internal conveyance means 10 having a common pivot axis for rotation are provided. The arm turning shaft 12 is provided on the overlapping portion 6 side, but may be configured on the sticking portion 7 side. The arm pivot shaft 12 is formed on the side close to the side surface on which the delivery window 9 is formed from the viewpoint that the delivery stroke between the overlapping portion 6 and the external conveying means 4 can be shortened. It is preferable. In FIG. 6, the two-dot chain line indicated by “B” represents the standby position of the internal transfer arm 11, and the two-dot chain line indicated by “C” indicates the position (the sticking part) of the internal transfer arm 11 at the sticking part 7. (Delivery position).

内部搬送アーム11の回動速度は状況に応じた速度を設定することができる。そのため、内部搬送アーム11が積層体40を保持しているときには、内部搬送アーム11を低速で回動させることができ、積層体40を保持していないときには、内部搬送アーム11を高速で回動させることができる。また、内部搬送アーム11の回動の立ち上がりと停止とがスムーズになるように加減速を制御することができる。   The rotation speed of the internal transfer arm 11 can be set according to the situation. Therefore, when the internal transfer arm 11 holds the stacked body 40, the internal transfer arm 11 can be rotated at a low speed, and when the stacked body 40 is not held, the internal transfer arm 11 rotates at a high speed. Can be made. In addition, acceleration / deceleration can be controlled so that the turning up and stopping of the internal transfer arm 11 is smooth.

図6に示すように、ゲート8は、シャッターが開いた状態において、回動する内部搬送アーム11がゲート8を通過して積層体40を貼付部受け渡し位置Cにまで運べるような幅の開口となっている。ゲート8の開閉には従来公知の手段を用いることができ、例えばゲートバルブ構造を適用できる。   As shown in FIG. 6, the gate 8 has an opening with a width that allows the rotating internal transfer arm 11 to pass through the gate 8 and carry the laminated body 40 to the pasting portion delivery position C when the shutter is opened. It has become. Conventionally known means can be used to open and close the gate 8, and for example, a gate valve structure can be applied.

〔重ね合わせ装置の動作〕
続いて、本実施形態に係る重ね合わせ装置(保持部3および重ね合わせ部6)の概略動作について説明する。
[Operation of the overlay device]
Next, a schematic operation of the superposition apparatus (holding unit 3 and superposition unit 6) according to the present embodiment will be described.

図7は、本実施形態における重ね合わせ装置の動作について、重ね合わせ部6の内部の状態により説明する図である。なお説明の便宜上、図3(b)と同様に、位置調整部22、掛止部材23および仮止め部24を保持または制御するためのそれぞれの部材については、その図示を省略している。   FIG. 7 is a diagram for explaining the operation of the superposition apparatus according to the present embodiment, based on the state inside the superposition unit 6. For convenience of explanation, as in FIG. 3B, the members for holding or controlling the position adjusting unit 22, the hooking member 23, and the temporary fixing unit 24 are not shown.

(1.保持部3へのサポートプレート41の搬入)
外部搬送手段4を用いて、サポートプレート41を保持部3に搬入する。そして、中心位置検出部19が、サポートプレート41の中心位置を検出する。
(1. Loading the support plate 41 into the holding unit 3)
The support plate 41 is carried into the holding unit 3 using the external conveyance means 4. Then, the center position detection unit 19 detects the center position of the support plate 41.

(2.重ね合わせ部6へのサポートプレート41の搬入)
外部搬送手段4を用いて、サポートプレート41を、受け渡し窓9を介して重ね合わせ部6内部に搬入し、昇降ステージ21上に載置する(図7(a)参照)。なお、この時点において、掛止部材23は抜き位置にしておき、仮止め部24は待機位置にしておくことが好ましい。
(2. Loading of the support plate 41 into the overlapping portion 6)
The support plate 41 is carried into the overlapping portion 6 through the delivery window 9 using the external transfer means 4 and placed on the lifting stage 21 (see FIG. 7A). At this time, it is preferable that the latching member 23 is in the removal position and the temporary fixing portion 24 is in the standby position.

(3.サポートプレート41位置合わせ)
次に、サポートプレート41を載せた昇降ステージ21を、位置調整部22が存在する位置まで移動させる。そして、位置調整部22によって、(1)において検出したサポートプレート41の中心位置が、予め定められた中心軸に重なるように、サポートプレート41の水平方向における位置を調整する(図7(b)参照)。
(3. Alignment of support plate 41)
Next, the elevating stage 21 on which the support plate 41 is placed is moved to a position where the position adjusting unit 22 exists. Then, the position adjustment unit 22 adjusts the position of the support plate 41 in the horizontal direction so that the center position of the support plate 41 detected in (1) overlaps the predetermined center axis (FIG. 7B). reference).

(4.掛止部材23挿入−サポートプレート41受け渡し)
サポートプレート41の位置合わせが終了した後、サポートプレート41を載せた昇降ステージ21を、掛止部材23を挿入する位置まで上昇させる。そして、掛止部材23を挿入位置に移動させる(図7(c)参照)。これにより、位置合わせを終えたサポートプレート41の水平方向の位置を変えずに掛止部材23によって保持させて、昇降ステージ21を再び下降させることができるようになる。
(4. Insertion of the retaining member 23-delivery of the support plate 41)
After the alignment of the support plate 41 is completed, the elevating stage 21 on which the support plate 41 is placed is raised to a position where the latch member 23 is inserted. And the latching member 23 is moved to an insertion position (refer FIG.7 (c)). As a result, the support plate 41 that has been aligned can be held by the retaining member 23 without changing the horizontal position, and the elevating stage 21 can be lowered again.

(5.保持部3へのサポートプレート41の搬入)
外部搬送手段4を用いて、基板42を保持部3に搬入する。そして、中心位置検出部19が、基板42の中心位置を検出する。
(5. Loading of the support plate 41 into the holding unit 3)
The substrate 42 is carried into the holding unit 3 using the external conveyance means 4. Then, the center position detection unit 19 detects the center position of the substrate 42.

(6.基板42搬入)
外部搬送手段4を用いて、基板42を、受け渡し窓9を介して重ね合わせ部6内部に搬入し、昇降ステージ21上に配置させる(図7(d)参照)。基板42を重ね合わせ部6内に搬入し終えて、受け渡し窓9を閉じた後に、重ね合わせ部6の減圧を開始する。重ね合わせ部6の減圧は、仮止めが終了した時点における重ね合わせ部6の減圧状態および貼付部7の減圧状態が、互いにほぼ同じ状態になるように行えばよい。好適には、10Pa以下である。
(6. Loading the substrate 42)
The board | substrate 42 is carried in into the superimposition part 6 via the delivery window 9, and is arrange | positioned on the raising / lowering stage 21 using the external conveyance means 4 (refer FIG.7 (d)). After loading the substrate 42 into the superposition unit 6 and closing the transfer window 9, decompression of the superposition unit 6 is started. The superposition part 6 may be depressurized so that the depressurization state of the superposition part 6 and the depressurization state of the sticking part 7 at the time when the temporary fixing is finished are substantially the same. Preferably, it is 10 Pa or less.

(7.基板42位置合わせ)
次に、基板42を載せた昇降ステージ21を、位置調整部22が存在する位置まで移動させる。そして、位置調整部22によって、(5)において検出した基板42の中心位置が、予め定められた中心軸に重なるように、基板42の水平方向における位置を調整する(図7(e)参照)。
(7. Substrate 42 alignment)
Next, the elevating stage 21 on which the substrate 42 is placed is moved to a position where the position adjusting unit 22 exists. Then, the position adjustment unit 22 adjusts the position of the substrate 42 in the horizontal direction so that the center position of the substrate 42 detected in (5) overlaps a predetermined center axis (see FIG. 7E). .

(8.仮止めおよび掛止部材抜き)
位置合わせを終えた基板42を載せた昇降ステージ21を、サポートプレート41と重ねる位置まで上昇させる。昇降ステージ21が当該位置に到達した後、仮止め部24をサポートプレート41上に移動させる。これにより、仮止め部24の接触面24aがサポートプレート41の表面に接して、サポートプレート41の表面を押圧した状態になる(図7(f)参照)。同時に、ヒータ25によって、接触面24aを加熱しておく。これによって、基板42とサポートプレート41との間の接着層を熱流動させ、仮止めする。
(8. Temporary fixing and latching member removal)
The elevating stage 21 on which the aligned substrate 42 is placed is raised to a position where it is overlapped with the support plate 41. After the elevating stage 21 reaches the position, the temporary fixing part 24 is moved onto the support plate 41. Thereby, the contact surface 24a of the temporary fix | stop part 24 contact | connects the surface of the support plate 41, and will be in the state which pressed the surface of the support plate 41 (refer FIG.7 (f)). At the same time, the contact surface 24 a is heated by the heater 25. As a result, the adhesive layer between the substrate 42 and the support plate 41 is thermally fluidized and temporarily fixed.

なお、接触面24aの温度は、例えば、接着層の接着材料である熱可塑性樹脂の低温粘着性(タック性)により少なくとも室温以上の温度になるまで加熱されることが好ましく、ガラス転移点(Tg)以上の温度になるまで加熱されることがより好ましい。接着層を熱可塑性樹脂のガラス転移点以上の温度まで加熱することによって、接着層の熱流動性が向上し、容易に変形するようになる。接着層、即ち、接着材料である熱可塑性樹脂の材質にもよるが、接触面24aの温度は23〜220℃であることが好ましく、加熱時間、つまり押圧時間は3〜300秒間であることが好ましく、5〜180秒間であることがより好ましい。   Note that the temperature of the contact surface 24a is preferably heated to a temperature of at least room temperature or higher due to, for example, the low-temperature tackiness (tackiness) of the thermoplastic resin that is the adhesive material of the adhesive layer, and the glass transition point (Tg ) It is more preferable to heat until it becomes the above temperature. By heating the adhesive layer to a temperature equal to or higher than the glass transition point of the thermoplastic resin, the thermal fluidity of the adhesive layer is improved and the adhesive layer is easily deformed. Although it depends on the material of the adhesive layer, that is, the thermoplastic resin as the adhesive material, the temperature of the contact surface 24a is preferably 23 to 220 ° C., and the heating time, that is, the pressing time is 3 to 300 seconds. Preferably, it is 5 to 180 seconds.

また、仮止め部24によってサポートプレート41が基板42に押し当てられた状態となった後に、掛止部材23を抜き位置に戻す。これにより、サポートプレート41と基板42とが重なる部分の全体において、両者が重ね合わされた状態となる(図7(g)参照)。   Further, after the support plate 41 is pressed against the substrate 42 by the temporary fixing portion 24, the hooking member 23 is returned to the extraction position. Thereby, in the whole part where the support plate 41 and the board | substrate 42 overlap, both will be in the state overlaid (refer FIG.7 (g)).

(9.重ね合わせ終了)
サポートプレート41を基板42と重ね合わせた後、仮止め部24を待機位置に戻す。次いで、サポートプレート41と基板42とを重ね合わせた積層体40を載せた昇降ステージ21を下降させる。以上により、重ね合わせが終了する(図7(h)参照)。
(9. End of overlay)
After the support plate 41 is overlapped with the substrate 42, the temporary fixing portion 24 is returned to the standby position. Next, the elevating stage 21 on which the stacked body 40 in which the support plate 41 and the substrate 42 are superimposed is lowered. Thus, the superposition is completed (see FIG. 7 (h)).

(10.積層体40搬送)
ゲート8のシャッターを開いて、内部搬送手段10を、重ね合わせ部6に移動させ、積層体40を保持させる(図8(b)参照)。そして、内部搬送手段10が、積層体40を貼付部7に搬送する(図8(b)参照)。
(10. Laminate 40 conveyance)
The shutter of the gate 8 is opened, and the internal conveyance means 10 is moved to the overlapping portion 6 to hold the stacked body 40 (see FIG. 8B). And the internal conveyance means 10 conveys the laminated body 40 to the sticking part 7 (refer FIG.8 (b)).

また、サポートプレート41を保持する方法として、静電吸着機能を有する仮止め部24を使用する場合には、サポートプレート41の位置あわせが終了した後、サポートプレートを載せた昇降ステージ21を、仮止め部24に吸着させる位置まで上昇させればよい。そして、仮止め部24にサポートプレート41を吸着させることにより、位置合わせを終えたサポートプレート41の水平方向の位置を変えずに仮止め部24によって保持させることができる。なお、サポートプレート41の静電吸着は、基板42とサポートプレート41とを仮止めするとき、あるいは、重ね合わせた後に解除すればよい。   Further, as a method of holding the support plate 41, when using the temporary fixing portion 24 having an electrostatic attraction function, after the positioning of the support plate 41 is finished, the lifting stage 21 on which the support plate is placed is temporarily attached. What is necessary is just to raise to the position made to adsorb | suck to the stop part 24. FIG. Then, by adsorbing the support plate 41 to the temporary fixing portion 24, the support plate 41 that has been aligned can be held by the temporary fixing portion 24 without changing the horizontal position. The electrostatic adsorption of the support plate 41 may be canceled when the substrate 42 and the support plate 41 are temporarily fixed or after being overlapped.

以上のように、本実施形態に係る重ね合わせ装置では、仮止め部24が、基板41に重ね合わせたサポートプレート41の一部の領域を基板42に向かって押圧するとともに加熱することによって、基板41にサポートプレート41を仮止めするようになっているので、重ね合わせた積層体を搬送するときに、基板41とサポートプレート41との相対位置にズレが生じることを防止することができる。   As described above, in the superimposing apparatus according to the present embodiment, the temporary fixing portion 24 presses and heats a part of the support plate 41 superimposed on the substrate 41 toward the substrate 42, thereby Since the support plate 41 is temporarily fixed to 41, it is possible to prevent the relative position between the substrate 41 and the support plate 41 from being shifted when the stacked laminate is transported.

<重ね合わせ方法>
本発明に係る重ね合わせ方法は、基板と、上記基板を支持する支持体とを、上記基板および上記支持体の少なくとも何れかに積層された接着層を介して重ね合わせる重ね合わせ方法であって、上記基板に重ね合わせた上記支持体の一部の領域を基板に向かって押圧するとともに加熱することによって、上記基板に上記支持体を仮止めする仮止め工程を包含していることを特徴としている。一実施形態において、重ね合わせ方法の仮止め工程は、上述した本発明に係る重ね合わせ装置の仮止め手段を用いて実施し得る。また、本発明に係る重ね合わせ方法の一実施形態は、上述した重ね合わせ装置の説明に準じるものであるため、その詳細な説明を省略する。
<Overlay method>
The superposition method according to the present invention is a superposition method of superposing a substrate and a support supporting the substrate via an adhesive layer laminated on at least one of the substrate and the support, The method includes a temporary fixing step of temporarily fixing the support to the substrate by pressing and heating a partial region of the support superimposed on the substrate toward the substrate. . In one embodiment, the temporary fixing step of the overlapping method can be performed using the temporary fixing means of the overlapping device according to the present invention described above. Moreover, since one Embodiment of the superimposition method based on this invention is based on description of the superposition apparatus mentioned above, the detailed description is abbreviate | omitted.

本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope shown in the claims. That is, embodiments obtained by combining technical means appropriately modified within the scope of the claims are also included in the technical scope of the present invention.

本発明は、真空における基板および支持板の貼り合わせの精度を向上させることができるため、工業製品の製造分野に幅広く利用することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can improve the accuracy of bonding a substrate and a support plate in a vacuum, and thus can be widely used in the industrial product manufacturing field.

1 貼り合わせシステム
2 貼り合わせユニット
3 保持部
4 外部搬送手段(搬送手段)
5 外部搬送手段走行路
6 重ね合わせ部(第1の処理室)
7 貼付部(第2の処理室)
8 ゲート
9 受け渡し窓
10 内部搬送手段
11 内部搬送アーム
12 アーム旋回軸
17a、17b 撮像部(第一の撮像手段、第二の撮像手段)
18a、18b 撮像領域
19 中心位置検出部
21 昇降ステージ(支持手段)
22 位置調整部(位置調節手段)
23 掛止部材
24 仮止め部(仮止め手段)
25 ヒータ(加熱手段)
26 押圧部
40 積層体
41 サポートプレート(支持体)
42 基板
50 FOUPオープナー
51 ベークプレート
52 スピンナー
53 パスライン
54 第2外部搬送手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Bonding system 2 Bonding unit 3 Holding part 4 External conveyance means (conveyance means)
5 External transport means travel path 6 Overlapping unit (first processing chamber)
7 Pasting part (second processing room)
8 Gate 9 Delivery window 10 Internal transfer means 11 Internal transfer arm 12 Arm pivot axis 17a, 17b Image pickup unit (first image pickup means, second image pickup means)
18a, 18b Imaging region 19 Center position detector 21 Lifting stage (supporting means)
22 Position adjustment part (position adjustment means)
23 Holding member 24 Temporary fixing part (temporary fixing means)
25 Heater (heating means)
26 Pressing part 40 Laminate 41 Support plate (support)
42 Substrate 50 FOUP Opener 51 Bake Plate 52 Spinner 53 Pass Line 54 Second External Transport Means

Claims (5)

基板と、上記基板を支持する支持体とを、上記基板および上記支持体の少なくとも何れかに積層された接着層を介して重ね合わせる重ね合わせ装置であって、
上記支持体を掛止する掛止部材と、
上記基板に重ね合わせた上記支持体の一部の領域を基板に向かって押圧するとともに加熱することによって、上記基板に上記支持体を仮止めする仮止め手段と、を備えており、
上記仮止め手段は、上記一部の領域に接触する接触面と、上記接触面を加熱する加熱手段とを備えており、
上記支持体を上記掛止部材によって掛止した後に、上記基板を上記掛止部材に掛止されている上記支持体と重ね合わせ、上記仮止め手段が上記一部の領域を押圧するとともに加熱しているときに、上記掛止部材による上記支持体の掛止を解除するようになっていることを特徴とする重ね合わせ装置。
An apparatus for superimposing a substrate and a support supporting the substrate via an adhesive layer stacked on at least one of the substrate and the support,
A latching member for latching the support;
By heating with pressing towards the partial region of the support superimposed on the substrate in a substrate provided with a, a temporary fixing means for temporarily fixing the support member to the substrate,
The temporary fixing means includes a contact surface that contacts the partial area, and a heating means that heats the contact surface,
After the support body is latched by the latch member, the substrate is overlapped with the support body latched by the latch member, and the temporary fastening means presses and heats the partial area. when and, superimposed characterized that you have adapted to release the locking of the support by the latching member device.
上記基板と上記支持体との相対位置を調整する位置調整手段を備えており、
上記位置調整手段によって相対位置が調整された上記基板および上記支持体を重ね合わせるようになっていることを特徴とする請求項1に記載の重ね合わせ装置。
A position adjusting means for adjusting a relative position between the substrate and the support;
2. The superimposing apparatus according to claim 1, wherein the substrate and the support whose relative positions are adjusted by the position adjusting means are superposed.
上記基板を支持する支持手段を備え、
上記仮止め手段は、上記支持手段と対になって上記基板および上記支持体を挟むことを特徴とする請求項1または2に記載の重ね合わせ装置。
Comprising support means for supporting the substrate;
The superimposing apparatus according to claim 1 or 2, wherein the temporary fixing means sandwiches the substrate and the support body in a pair with the support means.
上記一部の領域は、上記支持体の中央部であることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の重ね合わせ装置。   The superimposing apparatus according to claim 1, wherein the partial area is a central portion of the support. 基板と、上記基板を支持する支持体とを、上記基板および上記支持体の少なくとも何れかに積層された接着層を介して重ね合わせる重ね合わせ方法であって、
上記基板に重ね合わせた上記支持体の一部の領域を基板に向かって押圧するとともに加熱することによって、上記基板に上記支持体を仮止めする仮止め工程を包含しており、
当該仮止め工程では、上記一部の領域に接触する接触面と、上記接触面を加熱する加熱手段とを備えている仮止め手段によって押圧および加熱を行い、
上記支持体を掛止部材によって掛止した後に、上記基板を上記掛止部材に掛止されている上記支持体と重ね合わせ、上記仮止め手段が上記一部の領域を押圧するとともに加熱しているときに、上記掛止部材による上記支持体の掛止を解除することを特徴とする重ね合わせ方法。
A method of superimposing a substrate and a support supporting the substrate via an adhesive layer laminated on at least one of the substrate and the support,
Including a temporary fixing step of temporarily fixing the support to the substrate by pressing and heating a partial region of the support superimposed on the substrate toward the substrate ;
In the temporary fixing step, pressing and heating are performed by a temporary fixing means including a contact surface that contacts the partial area and a heating means that heats the contact surface,
After the support body is latched by the latch member, the substrate is overlapped with the support body latched on the latch member, and the temporary fixing means presses and heats the partial area. And a latching method for releasing the latching of the support by the latching member .
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