JP6351719B2 - プロピレンコポリマーから作成した滅菌可能製品 - Google Patents

プロピレンコポリマーから作成した滅菌可能製品 Download PDF

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Description

本発明は、プロピレンコポリマーを含む滅菌可能製品に係る。特に、本発明は、加熱滅菌後にも良好な光学特性を有する成形同時充填での適用例等、ヘルスケア又は医療における適用例で使用される製品に係る。本発明はまた、プロピレンコポリマーの作成プロセスに係る。
プロピレンポリマーは、ヘルスケア及び医療における適用例で使用される製品の製造材料として、益々成功を収めてきている。これらの製品には、オートクレーブによって滅菌可能な、生体液体のボトル、バッグ、又はパウチ等の容器、シリンジ、及びその他の品目が含まれる。このように成功を遂げてきたのは、機械的特性と滅菌処理への耐性のバランスが良好であるためである。この種の適用例に用いられる材料の特性として、滅菌のための加熱処理後に劣化しないことが重要である。特に、医療/ヘルスケアで用いる容器は、その内容物を検査することができるように、滅菌後も可能な限りその透明性を維持する必要がある。
プロピレンポリマーの滅菌耐性を改善するいくつかの試みがなされてきた。通常、改善には基材の複雑化を伴う。
例えば、EP1849826B1号は、異相プロピレンコポリマー及びエチレンホモポリマーを含有するポリオレフィン組成物を含む滅菌用製品について記述している。
またEP2176340B1号は、マトリクス樹脂と、分散相としての弾性樹脂とを含み、マトリクス樹脂はプロピレンホモポリマー及びプロピレンコポリマーを含む滅菌可能なポリプロピレン組成物に係る。
またWO2012/084768号は、点滴ボトルの場合、制作に用いられる、弾性と透明性とのバランスが良好なプロピレンポリマーについて記述している。この組成物は、1.0〜5.0%のエチレン由来単位を含む60〜90%のプロピレン結晶コポリマーと、18〜32%のエチレン由来単位を含む10〜40%のプロピレンコポリマーとを含み、1.0〜2.0g/10分のメルトフローレートを有する。
現在までに、特定のプロピレンランダムコポリマーを用いることにより、加熱滅菌後にも驚くほど良好な光学特性(透明性)を示す製品を製造できることが分かっている。この結果は、コモノマーの量の関数としての、特に加熱滅菌後の透明性が直線状の挙動からずれを示すという予期しなかった発見に基づくものである。
従って、本発明の目的は、4.0〜5.4重量%、好ましくは4.3〜5.3重量%、より好ましくは4.6〜5.2重量%のエチレン単位を含有し、1.0〜3.0g/10分、好ましくは1.5〜2.5g/10分のメルトフローレート「L」の値(230℃、2.16Kg)を有するプロピレン−エチレンコポリマーを含むヘルスケア又は医療用の製品を提供することにある。
本発明は、あらゆる種別のヘルスケア又は医療用の製品に関する。これらの製品の例として、
−ボトル、バイアル、アンプル、ブリスター等の剛性容器、
−バッグ、パウチ、折り畳みボトル、蓋ストック等のフレキシブル容器、
−フィルム等のその他の包装品、
−シリンジ、導管、針ハブ及びプロテクタ、吸入具、フィルタ及びフィルタハウジング、採血システム等のデバイス、
−病院消耗品
が挙げられる。
本発明に係る製品のうち、特に興味を引く製品として、成形同時充填(BFS)技術によって作成される製品がある。この技術は、液体充填容器の無菌製造に用いる製造プロセスをいう。BFSの基本コンセプトは、機械内の無菌包囲領域において連続プロセスで容器の形成、充填、及び封止を行うことである。従ってその技術は、非経口製剤及び点滴、眼科用製品及び吸入製品のバイラル充填を行うための、無菌薬剤液体投与形態の作成に用いることができる。
本発明の製品は、加熱滅菌の前後を問わず、良好な光学特性、特に良好な透明性を示す。
本発明のヘルスケア又は医療用の製品提供に用いられるプロピレン−エチレンコポリマーは、通常、ランダムコポリマーと称されるが、良好な光学特性を有する。これらは通常、何らの清澄剤又は核形成剤をも加えない状態で、1mm試験片で測定したヘイズ値が40%未満、好ましくは35%未満、さらに好ましくは30%未満である。加熱滅菌が施された後には、その光学特性は悪化するものの、1mm試験片で測定したヘイズ値は依然として許容範囲であり、通常45%未満である。
本発明に係る製品において用いられるプロピレン−エチレンコポリマーは、通常、
−135〜140°Cの融点(T)と、
−10.0〜15.0重量%の室温におけるキシレン可溶性画分と、
−加熱滅菌前後を問わず、700MPa未満の曲げ弾性率と、
−4.0超、好ましくは5.0超の分子量分布M/M
を有する。
4.0〜5.4重量%のエチレン単位を含有する本発明の製品に用いられるプロピレン−エチレンコポリマーは、以下の成分を接触させることによって得られる生成物を含む触媒系の存在下で実施される、本発明の他の目的を示すプロセスによって得ることができ、以下の成分とは、
(a)ハロゲン化マグネシウムと、少なくともTi−ハロゲン結合を有し、一方が供与体総量に対して40〜90モル%の分量で存在してスクシネート類より選択され、他方が1,3−ジエーテル類より選択される少なくとも2つの電子供与体化合物を有するチタン化合物とを含む固体触媒成分と、
(b)アルミニウムヒドロカルビル化合物と、
(c)任意で外部電子供与体化合物とである。
スクシネートは、化学式(I)で表されるスクシネート類より選択されることが好ましく、
ラジカルR1及びR2は、互いに等しいか又は異なり、任意でヘテロ原子を含有する、炭素数1〜20の直鎖又は分岐状のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、又はアルキルアリール基であり、ラジカルR3及びR4は、互いに等しいか又は異なり、これらのうちの少なくとも一方が分岐状アルキルであるという条件で、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のアリール基、アリールアルキル基、又はアルキルアリール基であり、化合物は、化学式(I)の構造において特定される2つの非対称炭素原子に対して、タイプ(S,R)又は(R,S)の立体異性体である。R1及びR2は、炭素数1〜8のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アリールアルキル基本、及びアルキルアリール基であることが好ましい。R1及びR2が第1アルキル類、特に分岐状第1アルキル類より選択される化合物であることが特に好ましい。好適なR1基及びR2基の例として、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、イソブチル、ネオペンチル、2−エチルへキシルが挙げられる。エチル、イソブチル、及びネオペンチルが特に好ましい。R3ラジカル及び/又はR4ラジカルがイソプロピル、sec−ブチル、2−ペンチル、3−ペンチル、又はシクロへキシル、シクロペンチル、シクロへキシルメチル等のシクロアルキル類等の第2アルキル類である化合物が特に好ましい。
上述の化合物の例として、ジエチル2,3−ビス(トリメチルシリル)スクシネート、ジエチル2,3−ビス(2−エチルブチル)スクシネート、ジエチル2,3−ジベンジルスクシネート、ジエチル2,3−ジイソプロピルスクシネート、ジイソブチル2,3−ジイソプロピルスクシネート、ジエチル2,3−ビス(シクロへキシルメチル)スクシネート、ジエチル2,3−ジイソブチルスクシネート、ジエチル2,3−ジネオペンチルスクシネート、ジエチル2,3−ジシクロペンチルスクシネート、ジエチル2,3−ジシクロヘキシルスクシネートの純粋な(S、R)(S、R)形態、混合体としての(S、R)(S、R)形態、または任意でラセミ体としての(S、R)(S、R)形態が挙げられる。
上述の1,3−ジエーテル類のうち、化学式(II)の化合物が特に好適であり、
RI及びRIIは、同一か又は異なり、水素若しくは1つ以上の環状構造も形成し得る直鎖又は分岐状の炭素数1〜18の炭化水素基であり、RIII基は、互いに等しいか又は異なり、水素又は炭素数1〜18の炭化水素基であり、RIV基は、互いに等しいか異なり、水素であり得ない場合を除いて、RIIIと同一の意味を有し、RI〜RIV基は各々、ハロゲン、N、O、S、及びSiより選択されたヘテロ原子を含有し得る。RIVは、炭素原子が1〜6のアルキルラジカルであることが好ましく、メチルであることがより好ましく、RIIIラジカルは、水素であることが好ましい。さらに、RIがメチル、エチル、プロピル、又はイソプロピルである場合、RIIは、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル、イソペンチル、2−エチルへキシル、シクロペンチル、シクロへキシル、メチルシクロへキシル、フェニル、又はベンジルとすることができる。またRIが水素である場合、RIIは、エチル、ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、2−エチルへキシル、シクロへキシルエチル、ジフェニルメチル、p−クロロフェニル、1−ナフチル、1−デカヒドロナフチルとすることができる。RI及びRIIは同一とすることもでき、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ネオペンチル、フェニル、ベンジル、シクロへキシル、シクロペンチルとすることができる。
有利に用いることのできる1,3−ジエーテル類の具体例として、2−(2−エチルへキシル)1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2−ブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−sec−ブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−シクロへキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2−フェニル−1,3−ジメトキシプロパン、2−tert−ブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−クミル−1,3−ジメトキシプロパン、2−(2−フェニルエチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−(2−シクロへキシルエチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−(p−クロロフェニル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−(ジフェニルメチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2(1−ナフチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2(p−フルオロフェニル)−1,3−ジメトキシプロパン、2(1−デカヒドロナフチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2(p−tert−ブチルフェニル)−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジシクロヘキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジエチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジプロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジエチル−1,3−ジエトキシプロパン、2,2−ジシクロペンチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジプロピル−1,3−ジエトキシプロパン、2,2−ジブチル−1,3−ジエトキシプロパン、2−メチル−2−エチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−プロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−ベンジル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−フェニル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−シクロへキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−メチルシクロへキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ビス(p−クロロフェニル)−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ビス(2−フェニルエチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ビス(2−シクロへキシルエチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−イソブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−(2−エチルへキシル)−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ビス(2−エチルへキシル)−1,3−ジメトキシプロパン,2,2−ビス(p−メチルフェニル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−イソプロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジイソブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジフェニル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジベンジル−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−2−シクロペンチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ビス(シクロへキシルメチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジイソブチル−1,3−ジエトキシプロパン、2,2−ジイソブチル−1,3−ジブトキシプロパン、2−イソブチル−2−イソプロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジ−sec−ブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジ−tert−ブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジネオペンチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−2−イソペンチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−フェニル−2−ベンジル−1,3−ジメトキシプロパン、2−シクロへキシル−2−シクロへキシルメチル−1,3−ジメトキシプロパンが挙げられる。
さらに、化学式(III)の1,3−ジエーテル類が特に好ましく、
RIVラジカルは、上述の意味と同一であり、RIIIラジカル及びRVラジカルは、互いに等しいか異なり、水素、好ましくはCl及びFであるハロゲン、直鎖又は分岐状の炭素数1〜20のアルキルラジカル、炭素数3〜20のシクロアルキルラジカル、炭素数6〜20のアリールラジカル、炭素数7〜20のアルカリールラジカル、及び炭素数7〜20のアラルキルラジカルより選択され、2つ以上のRVラジカルは、互いに結合して、好ましくはCl及びFであるハロゲン類、直鎖又は分岐状の炭素数1〜20のアルキルラジカル、炭素数3〜20のシクロアルキルラジカル、炭素数6〜20のアリールラジカル、炭素数7〜20のアルカリールラジカル、及び炭素数7〜20アラルキルラジカルからなる群より選択されるRVIラジカルで任意で置換される、飽和又は不飽和の凝縮環状構造を形成することができ、ラジカルRV及びRVIは、任意で炭素原子又は水素原子、若しくはその双方の置換基として1つ以上のヘテロ原子を任意で含有する。
化学式(I)及び(II)の1,3−ジエーテル類において、RIIIラジカルがすべて水素であり、RIVラジカルがすべてメチルであることが好ましい。さらに、化学式(II)の1,3−ジエーテル類において、RVラジカルのうちの2つ以上が互いに結合して、RVIラジカルで任意に置換される1つ以上の凝縮環状構造、好ましくはベンゼニックを形成するものが特に好ましい。化学式(IV)の化合物が特に好ましく、
RVIラジカルは、互いに等しいか異なり、水素、好ましくはCl及びFであるハロゲン類、炭素原子又は水素原子の置換基としてN、O、S、P、Si、並びに特にCl及びFであるハロゲン類からなる群より選択される1つ以上のヘテロ原子を任意で含有する、直鎖又は分岐状の炭素数1〜20のアルキルラジカル、炭素数3〜20のシクロアルキルラジカル、炭素数6〜20のアリールラジカル、炭素数7〜20のアルキルアリールラジカル、及び炭素数7〜20のアラルキルラジカルであり、ラジカルRIII及びRIVは、上述の化学式(II)で定義したものである。
化学式(II)及び(III)を含む化合物の具体例として、
1,1−ビス(メトキシメチル)−シクロペンタジエン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−2,3,4,5−テトラフェニルシクロペンタジエン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−2,3,4,5−テトラフルオロシクロペンタジエン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−3,4−ジシクロペンチルシクロペンタジエン、
1,1−ビス(メトキシメチル)インデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−2,3−ジメチルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−4,5,6,7−テトラヒドロインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−2,3,6,7−テトラフルオロインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−4,7−ジメチルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−3,6−ジメチルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−4−フェニルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−4−フェニル−2−メチルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−4−シクロへキシルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−7−(3,3,3−トリフルオロプロピル)インデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−7−トリメチルシリルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−7−トリフルオロメチルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−4,7−ジメチル4,5,6,7−テトラヒドロインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−7−メチルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−7−シクロペンチルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−7−イソプロピルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−7−シクロへキシルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−7−tert−ブチルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−7−tert−ブチル−2−メチルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−7−フェニルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−2−フェニルインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−1H−ベンズインデン、
1,1−ビス(メトキシメチル)−1H−2−メチルベンズインデン、
9,9−ビス(メトキシメチル)フルオレン、
9,9−ビス(メトキシメチル)−2,3,6,7−テトラメチルフルオレン、
9,9−ビス(メトキシメチル)−2,3,4,5,6,7−ヘキサフルオロフルオレン、
9,9−ビス(メトキシメチル)−2,3−ベンゾフルオレン、
9,9−ビス(メトキシメチル)−2,3,6,7−ジベンゾフルオレン、
9,9−ビス(メトキシメチル)−2,7−ジイソプロピルフルオレン、
9,9−ビス(メトキシメチル)−1,8−ジクロロフルオレン、
9,9−ビス(メトキシメチル)−2,7−ジシクロペンチルフルオレン、
9,9−ビス(メトキシメチル)−1,8−ジフルオロフルオレン、
9,9−ビス(メトキシメチル)−1,2,3,4−テトラヒドロフルオレン、
9,9−ビス(メトキシメチル)−1,2,3,4,5,6,7,8−オクタヒドロフルオレン、
9,9−ビス(メトキシメチル)−4−tert−ブチルフルオレン
が挙げられる。
上述のとおり、触媒成分(a)は、上述の電子供与体に加え、少なくともTi−ハロゲン結合とハロゲン化Mgとを有するチタン化合物を含む。ハロゲン化マグネシウムは、Ziegler−Natta触媒の担体として、特許文献により幅広く知られているアクティブ形態のMgCl2であることが好ましい。特許文献USP4,298,718号及びUSP4,495,338号では、Ziegler−Natta触媒におけるこのような化合物の使用を最初に記している。これらの特許より、オレフィンの重合に用いる触媒の成分において担体又は共担体として用いるアクティブ形態の二ハロゲン化マグネシウムは、非アクティブハロゲン化物のスペクトルに現れる最も強い回折線で強度が低下し、最高強度がより強い線に対して低角度の方に変位するハロで代替される、X線スペクトルによって特徴付けられることが知られている。
本発明の触媒成分において好適に用いられるチタン化合物は、TiCl4及びTiCl3であり、さらに、化学式Ti(OR)n−yXyで表されるTi−ハロアルコラート類を用いることもでき、nはチタンの原子価であり、yは1〜n−1の間の数であり、Xはハロゲンであり、Rは1〜10の炭素原子を有する炭化水素ラジカルである。
触媒成分(a)は、15〜80μm、より好ましくは20〜70μm、さらに好ましくは25〜65μmの範囲の平均粒子径を有する。上述のとおり、スクシネートは、供与体の総量に対して40〜90重量%の範囲の分量で存在する。これは、50〜85重量%の範囲であることが好ましく、65〜80重量%の範囲であることがより好ましい。1,3−ジエーテルが残りの分量を構成することが好ましい。
アルキル−Al化合物(b)は、例えば、トリエチルアルミニウム、トリ−n−へキシルアルミニウム、トリ−n−オクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウムより選択されることが好ましい。トリアルキルアルミニウムと、ハロゲン化アルキルアルミニウム、水素化アルキルアルミニウム、又は、AlEt2Cl及びAl2Et3Cl3等のアルキルアルミニウムセスキクロライドとの混合物を用いることもできる。
好適な外部電子供与体化合物には、シリコン化合物、エーテル類、エチル4−エトキシ安息香酸等のエステル類、アミン類、複素環化合物、特に2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ケトン類、及び1,3−ジエーテル類が含まれる。好適な外部供与体化合物の他のクラスとして、化学式Ra5Rb6Si(OR7)cのシリコン化合物の外部供与体があり、ここでa及びbは0〜2の整数であり、cは1〜3の整数であり、(a+b+c)の合計は4であり、R5、R6、及びR7は、1〜18の炭素原子を含み、任意でヘテロ原子を含有するアルキルラジカル、シクロアルキルラジカル、又はアリールラジカルである。メチルシクロへキシルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチル−t−ブチルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、2−エチルピペリジニル−2−t−ブチルジメトキシシラン、及び1,1,1,トリフルオロプロピル−2−エチルピペリジニル−ジメトキシシラン、及び1,1,1,トリフルオロプロピル−メチル−ジメトキシシランが特に好ましい。外部電子供与体化合物は、オルガノ−アルミニウム化合物と電子供与体化合物との間のモル比が5〜500、好ましくは5〜400、より好ましくは10〜200となる量で用いられる。
触媒形成成分は、例えば、プロパン、n−ヘキサン、又はn−ヘプタン等の液体不活性炭化水素溶媒に、約60°C以下、好ましくは約0〜30°Cで約6秒〜約60分間、接触させることができる。
上述の触媒成分(a)(b)及び任意で(c)は、重量比(b)/(a)が0.1〜10の範囲となるような分量で、また化合物(c)が存在する場合には重量比(b)/(c)が以上に規定のモル比に対応する重量比となるような分量で、予備接触用容器に供給することができる。これらの成分は、10〜20°Cの温度で1〜30分間、予備接触されることが好ましい。予備接触容器は、通常、攪拌タンク反応器である。
予備接触触媒は、その後、予備重合ステップの行われる予備重合反応器へ供給されることが好ましい。この予備重合ステップは、ループ反応器又は連続攪拌タンク反応器より選択された第1反応器内で実施することができ、通常、液相で実施される。液体媒体は、液体α−オレフィンモノマーを含み、任意で不活性炭化水素溶媒を添加する。この炭化水素溶媒は、トルエン等の芳香族、又はプロパン、ヘキサン、ヘプタン、イソブタン、シクロヘキサン、及び2,2,4−トリメチルペンタン等の脂肪族のいずれかとすることができる。炭化水素溶媒を使用する場合、その量は、α−オレフィンの総量に対して40重量%未満、好ましくは20重量%未満である。ステップ(i)aは、不活性炭化水素溶媒を用いずに実施されることが好ましい。
この反応器における平均滞留時間は、通常、2〜40分であり、好ましくは5〜25分である。温度は、10°C〜50°Cの範囲であり、好ましくは15°C〜35°Cの範囲である。これらの条件を適用することにより、固体触媒成分1g当たり60〜800g、好ましくは固体触媒成分1g当たり150〜500gの好適な範囲の予備重合の程度を達成することができる。ステップ(i)aはさらに、スラリー中の固体濃度が低いこと、通常、スラリー1リットル当たり固体が50〜300gの範囲の濃度であることに特徴付けられる。
触媒を好ましくは予備重合形態で含有するスラリーは、本発明のヘルスケア又は医療用製品に用いられるコポリマーが調製される気相又は液相の重合反応器に供給される。気相反応器の場合、それは通常、流動床又は攪拌固定床の反応器からなるか、一方が高速流動化条件下で作用し、他方ではポリマーが重力作用の下で流れる、相互接続された2つの重合ゾーンを備える反応器からなる。液相プロセスは、スラリー、溶液、又はバルク(液体モノマー)中のいずれかで行うことができる。この後者の技術が最も好適であり、連続攪拌タンク反応器、ループ反応器、又は栓流反応器等、種々の反応器内で実施することができる。重合は、通常、20〜120°C、好ましくは40〜85°Cの温度で実施される。重合が気相で実施される場合、動作圧力は、通常、0.5〜10MPa、好ましくは1〜5MPaの範囲である。バルク重合の場合、動作圧力は、通常、1〜6MPa、好ましくは1.5〜4MPaである。本発明に係るヘルスケア又は医療用製品に用いられるコポリマーは、液体モノマー中のエチレンとの混合物中で、より好ましくはループ反応器内で、プロピレンを重合することによって調製される。
分子量レギュレータとして、水素を用いることができる。
従来、オレフィンポリマー中で用いられた、核形成剤、伸長用油、ミネラル充填剤、及びその他の有機顔料及び無機顔料等の添加物、充填剤、及び顔料を添加してもよい。タルク、炭酸カルシウム、及びミネラル充填剤等の無機充填剤の添加は、曲げ弾性率及びHDT等の機械的特性の改善ももたらす。タルクは核形成効果も有する。
以下の実施例は、本発明を例示するために述べるものであり、限定を目的とするものでない。
試験方法
供給ガスのモル比
ガス−クロマトグラフィーによって判定した。
付加物及び触媒の平均粒子径
「マルバーン計器2600」装置による単色レーザー光の光回折の原則に基づいて判定した。平均サイズはP50とした。
コモノマー含有量
エチレンコモノマーの含有量は、フーリエ変換赤外分光計(FTIR)による空気バックグラウンドに対するサンプルのIRスペクトルの収集による赤外分光で判定した。計器データ取得パラメータは、
−パージ時間:最短30秒
−収集時間:最短3分
−アポダイゼーション:ハップ・ゲンゼル
−解像度:2cm−1
サンプルの調製−油圧プレスを用いて、2枚のアルミニウム箔間に約g1のサンプルを押圧することにより、厚いシートを得た。このシートから小さな断片を切断し、フィルムを成形した。フィルムの厚さ範囲として、0.02〜0.05cm(8〜20ミル)を推薦する。押圧温度は180±10°C(356°F)、10kg/cm(142.2PSI)で約1分であった。圧力を解放し、サンプルの押圧を解除して、室温へと冷却した。
押圧したフィルムサンプルのスペクトルを、吸収対波数(cm−1)で記録した。以下の測定を用いてエチレン含有量を算出した。
−膜厚の分光標準化に用いられる4482〜3950cm−1の組み合わせ吸収帯の面積(At)
−800〜690cm−1の範囲におけるアイソタクチック無添加ポリプロピレンスペクトルと、次いでエチレン−プロピレンランダムコポリマーの参照スペクトルとの2つの適正な連続分光減法後の、750〜700cm−1の吸収帯の面積(AC2)
−800〜690cm−1の範囲におけるアイソタクチック無添加ポリプロピレンスペクトルと、次いでエチレン−プロピレンランダムコポリマーの参照スペクトルとの2つの適正な連続分光減法後の、769cm−1(最高値)における吸収帯の高さ(DC4)
エチレン含有量を算出するために、既知量のエチレンのサンプルを用いて得られたエチレンの較正直線が必要であり、これをエチレンモル比(%C2m)に対してAC2/Atをプロットすることによって得た。GC2の傾斜は、直線回帰で算出した。
未知のサンプルのスペクトルを記録し、次いで未知のサンプルの(At)、(AC2)、及び(DC4)を算出した。サンプルのエチレン含有量(%モル分画C2m)から得た重量でのエチレン含有量は、以下のとおり算出した。
メルトフローレート(MFR「L」)
ISO1133(230°C、2.16Kg)に基づいて判定した。
融点(T )及び結晶化温度(T
ともにISO11357/1及び3の方法と同等であるASTM D3417法に準じた示差走査熱量測定(DSC)で判定した。
キシレン可溶性
以下のとおり、判定した。2.5gのポリマー及び250mlのキシレンを冷蔵装置及び磁気攪拌機を備えたガラスフラスコに導入した。30分で温度を溶媒の沸点まで上昇させた。次いでこのようにして得られた透明な溶液を還流下に保持し、さらに30分間攪拌した。その後、閉鎖したフラスコを25°Cの恒温水浴中で30分間、保持した。このようにして形成された固体を高速ろ紙でろ過した。窒素フロー下において加熱プレート上で加熱された、事前に重量測定したアルミニウム容器に100mlのろ液を注ぎ、溶媒を蒸発させて取り除いた。一定の重量が得られるまでこの容器を真空下において80°Cのオーブンで保持した。次いで室温においてキシレンに可溶のポリマーの重量パーセントを算出した。
曲げ弾性率(MEF)
ISO178に基づいて判定した。
アイゾット衝撃強度
ISO180/1Aに基づいて判定した。
延性−脆性遷移温度(DB/TT)
2軸衝撃耐性は、自動演算打撃ハンマーによる衝撃で判定した。円形ハンドパンチ(直径38mm)で切断することにより円形試験試料を得て、以下のとおり、試験片を得た。円形試験試料は、23°Cで少なくとも12時間、50RHの条件下に置いた後、試験温度の恒温浴に1時間置いた。環状サポート上に載置した円形試料に打撃ハンマー(5.3kg、1/2”直径の半球パンチ)によって衝撃を加える間、力−時間曲線を検出した。使用した機械は、CEAST6758/000型モデル番号2であった。DB/TTは、上述の衝撃試験が施された際、サンプルの50%が脆弱破壊する温度である。DB/TT測定に使用した試験片は、127×127×1.5mmの寸法を有し、以下の方法で調製した。射出成形器は、90トンのクランプ力を有するNegri Bossi(登録商標)型(NB90)であった。金型は、矩形試験片(127×127×1.5mm)であった。主要なプロセスパラメータを以下に報告する。
・背圧:20バール
・射出時間:3秒
・最大射出圧力:14MPa
・油圧射出圧力;6〜3MPa
・第1保持油圧:4±2MPa
・第1保持時間:3秒
・第2保持油圧:3±2MPa
・第2保持時間:7秒
・冷却時間:20秒
・成形温度:60°C
・融点:220〜280°C
破壊時の降伏応力及び伸長
ISO527に基づいて判定した。
試験片におけるヘイズ値
50トンのクランプ力を有するbattenfeld(登録商標)型BA500CD射出成形器を用いて試験片を調製した。挿入成形により、2つの試験片(各55×60×1mm)を成形した。試験片は、相対湿度50±5%及び温度23±1°Cで12〜48時間の条件下に置いた。試験に用いた計器は、G.E.1209ランプ及びフィルタCを備えたヘイズ計器UX−10を有するGardner測光器であった。計器較正は、サンプルを用いずに測定を実施し(0%ヘイズ値)、遮断光線により測定を実施する(100%ヘイズ値)ことによって実行した。測定及び演算の原則は、基準ASTM−D1003に準じた。ヘイズ値測定は、5つの試験片に対して実施した。
フィルムにおけるヘイズ値
7m/分のフィルム引出し速度及び210〜250°Cの融点において、単一スクリューCollin押出機(スクリューの長さ/直径の比:30)で各ポリマー組成物を押し出すことによって50μmの厚さを有するキャスト膜を調製した。フィルムにおけるヘイズ値は、上述のとおり調製された50μmの厚さの試験組成物フィルムにおいて判定した。測定は、フィルムの中央部から切断した50×50mmの部分について実施した。試験に用いた計器は、G.E.1209ランプ及びフィルタCを備えたヘイズ計器UX−10を有するGardner測光器であった。計器較正は、サンプルを用いずに測定を実施し(0%ヘイズ値)、遮断光線により測定を実施する(100%ヘイズ値)ことによって実行した。
ボトルにおけるヘイズ値
試験片のヘイズ値測定について説明したのと同一の方法及び計器を用いた。試料ホルダで把持することのできる平坦なサンプルを得るため、ボトルの底部から1.4mmの厚さのサンプルを切断した。
ボトルへの最高荷重
0.2grの精度の平衡と0.01mmの精度のマイクロメータを備えたInstron動力計を用いた。23±1°C及び50%の相対湿度の条件下に少なくとも10時間置いた後、ボトルを動力計の2つのプレート間に設置し、プレートの応力速度を5cm/分として圧縮した。ボトルが潰れた際の応力を記録し、その値をNで報告した。最高荷重値とは、10個のボトルに対して測定を繰り返した結果、得られた平均値である。
滅菌手順
サンプルを、121°Cで窒素内圧が2.1バールに設定したスチーム滅菌オートクレーブSystec DX−65内に載置した。オートクレーブで20分間、処理を施した後、室温に冷却し、試験に先立って48時間、室温の条件下に置いた。
実施例1C(比較例)
固体触媒成分の調製
500mLの4口丸底フラスコを窒素でパージし、ここに250mLのTiClを0°Cで導入した。攪拌中、47μmの平均粒子径を有する10.0gのマイクロ回転楕円体MgCl・2.1COH(EP728769号の実施例1に記述の方法に従って調製)と、Mg/スクシネートのモル比が15となるような分量のジエチル2,3−ジイソプロピルスクシネートとを添加した。温度を100°Cまで上昇させ、この値を60分間保持した。その後、攪拌を停止し、液体を吸い出した。液体を吸い出した後、新たなTiClと、Mg/ジエーテルのモル比が30となるような分量の9,9−ビス(メトキシメチル)フルオレンとを添加した。その後、温度を110°Cに上昇させ、攪拌下で30分間、保持した。85°Cで堆積及び吸い出しを行った後、新たなTiClを添加した。次いで温度を15分間で90°Cに上昇させた。90°Cで堆積及び吸い出しを行った後、固体を60°Cにて無水ヘキサン(3×100ml)で3度洗浄した後、25°Cにて無水ヘキサン(3×100ml)でさらに3度洗浄した。得られた固体触媒成分は、その重量に対して総量12.0重量%の内部電子供与体を有した。
触媒系の調製−予備接触
これを重合反応器に導入するのに先立ち、表1に報告した条件下で、上述の固体触媒成分をアルミニウム−トリエチル(TEAL)及びジシクロペンチルジメトキシシラン(D供与体)に接触させた。
予備重合
次いで触媒系を重合反応器に導入するのに先立ち、9分間の滞留時間、液体プロピレンに懸濁させることにより、20°Cでの予備重合処理を施す。
重合
液相ループ反応器の連続モードで重合を実施した。分子量レギュレータとして水素を用いた。重合ステップで出現したポリマー粒子にスチーム処理を施すことにより、未反応モノマーを除去し、窒素フロー下で乾燥した。
主要な予備接触、予備重合、及び重合の条件と、重合反応器に供給されるモノマー及び水素の分量を表1に報告する。得られたポリマーの特徴データを表2に報告する。
その後、ポリマー粒子を押出機に導入し、1500ppmのIrganox1010、900ppmのIrgafos168、150ppmのDHT−4Aで混合した。前述のIrganox1010とは、ペンタエリトリチルテトラキス3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパノエートであり、Irgafos168はトリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)フォスファイトであり、双方ともチバガイギーより市販されている。ポリマー粒子は、ツインスクリュー押出機により、250rpmの回転速度、及び200〜250°Cの融点にて窒素雰囲気下で押し出される。
ボトル試料の調製
円筒形の1Lボトル(35g)を、例えば、ブロー成形機械AUTOMA SPEED3Mの押出連続傾斜シャトルで組成物から調製した。主要なプロセスパラメータは、以下のとおりである。
・スクリュー直径:70mm
・長さ/直径(L/D)の比:24
・融点:250°C
・成形温度:25°C
ボトルは、ヘイズ値及び最高荷重特性について試験した。特徴結果を表2に報告する。
実施例2及び3C(比較例)
重合の進行は、欧州特許EP782587号に記載のとおり、ライザーとダウンカマーの2つの相互連結重合ゾーンを含む気相重合反応器である反応器において連続モードで実施されたこと、20ppmのLuperox101による造粒ステップが追加されたこと以外、実施例1Cに準じて実施した。
主要な予備接触、予備重合、及び重合の条件と、重合反応器に供給されるモノマー及び水素の分量を表1に報告する。得られたポリマー及びボトルの特徴データを表2に報告する。

Claims (5)

  1. 4.0〜5.4重量%のエチレン単位を含有するプロピレン−エチレンコポリマーの調製プロセスであって、以下の成分を接触させることによって得られた生成物を含む触媒系の存在下において、プロピレン及びエチレンを共重合させるステップを備え、前記以下の成分とは、
    (a)ハロゲン化マグネシウムと、少なくともTi−ハロゲン結合を有し、一方が供与体総量に対して40〜90モル%の分量で存在してスクシネート類より選択され、他方が1,3−ジエーテル類より選択される少なくとも2つの電子供与体化合物を有するチタン化合物とを含む固体触媒成分と、
    (b)アルミニウムヒドロカルビル化合物と、
    (c)任意で外部電子供与体化合物とであるプロセス。
  2. 前記スクシネートは、化学式(I)で表され、
    ラジカルR1及びR2は、互いに等しいか又は異なり、任意でヘテロ原子を含有する、炭素数1〜20の直鎖又は分岐状のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、又はアルキルアリール基であり、ラジカルR3及びR4は、互いに等しいか又は異なり、これらのうちの少なくとも一方が分岐アルキルであるという条件で、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のアリール基、アリールアルキル基、又はアルキルアリール基であり、前記化合物は、化学式(I)の構造において特定される2つの非対称炭素原子に対して、タイプ(S,R)又は(R,S)の立体異性体である請求項に記載のプロセス。
  3. 前記1,3−ジエーテルは、化学式(II)で表され、
    RI及びRIIは、同一か又は異なり、水素若しくは1つ以上の環状構造も形成し得る直鎖又は分岐状の炭素数1〜18の炭化水素基であり、RIII基は、互いに等しいか又は異なり、水素又は炭素数1〜18の炭化水素基であり、RIV基は、互いに等しいか異なり、水素であり得ない場合を除いて、RIIIと同一の意味を有し、RI〜RIV基は各々、ハロゲン、N、O、S、及びSiより選択されたヘテロ原子を含有し得る請求項1又は2に記載のプロセス。
  4. 前記触媒成分(a)は、15〜80μmの範囲の平均粒子径を有する請求項1〜3のいずれか一項に記載のプロセス。
  5. 前記スクシネートは、前記触媒成分(a)中の供与体の総量に対して40〜90モル%の範囲の分量で存在する請求項1〜4のいずれか一項に記載のプロセス。
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