JP6344069B2 - Optical reflective film - Google Patents

Optical reflective film Download PDF

Info

Publication number
JP6344069B2
JP6344069B2 JP2014118139A JP2014118139A JP6344069B2 JP 6344069 B2 JP6344069 B2 JP 6344069B2 JP 2014118139 A JP2014118139 A JP 2014118139A JP 2014118139 A JP2014118139 A JP 2014118139A JP 6344069 B2 JP6344069 B2 JP 6344069B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
hard coat
refractive index
coat layer
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2014118139A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015230477A (en
Inventor
翔太 畠沢
翔太 畠沢
聡史 久光
聡史 久光
小沼 太朗
太朗 小沼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2014118139A priority Critical patent/JP6344069B2/en
Publication of JP2015230477A publication Critical patent/JP2015230477A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6344069B2 publication Critical patent/JP6344069B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、光学反射フィルムに関する。   The present invention relates to an optical reflection film.

一般に、高屈折率層と低屈折率層とを、それぞれ光学的膜厚を調整して基材の表面に積層させた誘電体多層膜は、特定の波長の光を選択的に反射することが知られている。このような誘電体多層膜は、例えば、建築物の窓や車両用部材などに設置される光学反射フィルムとして利用されている。このような光学反射フィルムは、可視光線を透過し、近赤外線を選択的に遮蔽するが、各層の膜厚や屈折率を調整するだけで、反射波長をコントロールすることができ、紫外線や可視光を反射することが可能である。   In general, a dielectric multilayer film in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated on the surface of a substrate by adjusting the optical film thickness can selectively reflect light of a specific wavelength. Are known. Such a dielectric multilayer film is used, for example, as an optical reflection film installed on a building window or a vehicle member. Such an optical reflection film transmits visible light and selectively shields near infrared rays, but the reflection wavelength can be controlled only by adjusting the film thickness and refractive index of each layer. Can be reflected.

上述したような光学反射フィルムには、フィルムの耐擦傷性を向上させることなどを目的として、基材の誘電体多層膜が形成された面とは反対側の表面に、ハードコート層が設けられることもある。しかしながら、ハードコート層が基材の一方の表面に設けられた光学フィルムにおいては、ハードコート層の硬化収縮によりカールが発生しやすい。   The optical reflection film as described above is provided with a hard coat layer on the surface opposite to the surface on which the dielectric multilayer film is formed for the purpose of improving the scratch resistance of the film. Sometimes. However, in an optical film in which a hard coat layer is provided on one surface of a substrate, curling is likely to occur due to curing shrinkage of the hard coat layer.

また、ハードコート層と誘電体多層膜とを有する光学反射フィルムを車内や屋内に貼り付けた場合、環境中の温湿度変化によって誘電体多層膜とハードコート層とがそれぞれ寸法変化を生じ、その寸法変化差によってクラックや剥がれが発生する問題がある。またハードコート層に光遮蔽粒子を含有させた場合、ハードコートの脆性が低下しさらにクラックや剥がれの発生が顕著になる。   In addition, when an optical reflective film having a hard coat layer and a dielectric multilayer film is affixed inside a car or indoors, the dielectric multilayer film and the hard coat layer change in dimensions due to changes in temperature and humidity in the environment, respectively. There is a problem that cracks and peeling occur due to dimensional change. In addition, when the light-shielding particles are contained in the hard coat layer, the brittleness of the hard coat is lowered, and the occurrence of cracks and peeling becomes remarkable.

ハードコート層が基材の一方の表面に設けられた光学フィルムにおけるカールの発生を抑制する手段として、例えば、特許文献1には、ハードコート層がフィルム基材の片面に設けられた光学フィルムの製造工程において、ハードコート層の硬化後に、ハードコート層が設けられる面とは反対側の面に水蒸気または溶剤蒸気を当て、搬送張力を制御することでカールを制御する方法が記載されている。また、特許文献2には、樹脂基材上にハードコート層を積層したハードコートフィルムにおいて、ハードコート層の曲げ弾性に関係する弾性率と、ハードコート層の厚みとを制御することで、カールを低減することが記載されている。   As a means for suppressing the occurrence of curling in an optical film in which a hard coat layer is provided on one surface of a substrate, for example, Patent Document 1 discloses an optical film in which a hard coat layer is provided on one side of a film substrate. In the manufacturing process, a method is described in which, after the hard coat layer is cured, the curl is controlled by applying water vapor or solvent vapor to the surface opposite to the surface on which the hard coat layer is provided, and controlling the transport tension. Patent Document 2 discloses a method for curling a hard coat film in which a hard coat layer is laminated on a resin substrate by controlling the elastic modulus related to the flexural elasticity of the hard coat layer and the thickness of the hard coat layer. Is described.

環境中の温湿度変化によるハードコート層の密着性の低下を抑制する手段として、例えば、特許文献3には、赤外線遮断性微粒子を含むハードコート層がプラスチックフィルムの片面に形成されている赤外線遮断フィルムにおいて、プラスチック層とハードコート層との間に特定の樹脂からなる機能性樹脂層を設けることが記載されている。   As a means for suppressing a decrease in adhesion of the hard coat layer due to changes in temperature and humidity in the environment, for example, Patent Document 3 discloses an infrared ray shielding in which a hard coat layer containing infrared ray shielding fine particles is formed on one side of a plastic film. In the film, it is described that a functional resin layer made of a specific resin is provided between a plastic layer and a hard coat layer.

特開2012−14115号公報JP2012-14115A 国際公開第2003/026881号International Publication No. 2003/026881 特開2002−210855号公報JP 2002-210855 A

しかしながら、特許文献1〜3の技術では、光学反射フィルムが長期間湿度変化のある環境にさらされると、ハードコート層にクラックやはがれが生じてしまうことがわかった。特に窓ガラス用フィルムでは、結露などによる湿度変化もあり、合わせて太陽光に長時間曝露されるため、高度な耐候性が必要となる。   However, in the techniques of Patent Documents 1 to 3, it has been found that when the optical reflective film is exposed to an environment with a change in humidity for a long period of time, cracks and peeling occur in the hard coat layer. In particular, a film for window glass also has a humidity change due to condensation and the like, and since it is exposed to sunlight for a long time, high weather resistance is required.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、基材の一方の面に誘電体多層膜が設けられ、他方の面にハードコート層が設けられる構成の光学反射フィルムにおいて、耐候性を向上させ、ハードコート層におけるクラックの発生を抑制しうる手段を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems. In an optical reflective film having a structure in which a dielectric multilayer film is provided on one surface of a substrate and a hard coat layer is provided on the other surface, the weather resistance is improved. An object of the present invention is to provide a means capable of improving and suppressing the occurrence of cracks in a hard coat layer.

本発明者らは、上記課題に鑑み、鋭意検討を進めた。その結果、環境中の湿度の変化による光学反射フィルムのカール値の変動を所定の範囲に制御することで、上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。   In view of the above problems, the present inventors have intensively studied. As a result, the inventors have found that the above problem can be solved by controlling the fluctuation of the curl value of the optical reflecting film due to the change of humidity in the environment within a predetermined range, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の上記課題は、以下の手段により解決される。   That is, the said subject of this invention is solved by the following means.

1.基材と、前記基材の一方の面に配置された、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜と、前記基材の他方の面に配置された、ハードコート層と、を有する光学反射フィルムであって、前記光学反射フィルムを、製造時における幅手方向に50mm、長手方向に3mmの大きさに切り取ったサンプルと、製造時における幅手方向に3mm、長手方向に50mmの大きさに切り取ったサンプルとの双方が、温度23℃、相対湿度50%の環境下に1時間置いて測定したカール値をa(1/m)、温度23℃、相対湿度20%の環境下に1時間置いて測定したカール値をb(1/m)、温度23℃、相対湿度80%の環境下に1時間置いて測定したカール値をc(1/m)としたとき、下記式(1)および(2)を満たす、光学反射フィルム。   1. A base material, a dielectric multilayer film formed by alternately laminating a low refractive index layer and a high refractive index layer, disposed on one surface of the base material, and disposed on the other surface of the base material An optical reflective film having a hard coat layer, wherein the optical reflective film is cut to a size of 50 mm in the width direction at the time of manufacture and 3 mm in the longitudinal direction, and in the width direction at the time of manufacture. Both the sample cut to a size of 3 mm and 50 mm in the longitudinal direction had a curl value measured by placing in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 1 hour, a (1 / m), a temperature of 23 ° C., The curl value measured for 1 hour in an environment with a relative humidity of 20% is b (1 / m), and the curl value measured for 1 hour in an environment with a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 80% is c (1 / m). ), The following formulas (1) and (2) are satisfied. Manabu reflection film.

2.前記光学反射フィルムを、製造時における幅手方向に50mm、長手方向に3mmの大きさに切り取ったサンプルを温度23℃、相対湿度50%の環境下に1時間置いて測定したカール値と、製造時における幅手方向に3mm、長手方向に50mmの大きさに切り取ったサンプルを温度23℃、相対湿度50%の環境下に1時間置いて測定したカール値との正負が逆である、前記1に記載の光学反射フィルム。   2. A curl value obtained by measuring a sample obtained by cutting the optical reflective film into a size of 50 mm in the width direction and 3 mm in the longitudinal direction at the time of production in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and production. Samples cut to a size of 3 mm in the width direction and 50 mm in the longitudinal direction at the time are opposite in polarity to the curl value measured for 1 hour in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%. The optical reflective film as described in 2.

3.前記ハードコート層の膜厚が1〜5μmである、前記1または2に記載の光学反射フィルム。   3. 3. The optical reflection film as described in 1 or 2 above, wherein the hard coat layer has a thickness of 1 to 5 μm.

4.前記誘電体多層膜の膜厚に対する前記ハードコート層の膜厚の比(ハードコート層の膜厚/誘電体多層膜の膜厚)が0.2〜2である、前記1〜3のいずれか1項に記載の光学反射フィルム。   4). Any of the above 1-3, wherein the ratio of the thickness of the hard coat layer to the thickness of the dielectric multilayer film (the thickness of the hard coat layer / the thickness of the dielectric multilayer film) is 0.2-2. The optical reflection film according to item 1.

5.前記ハードコート層が、水酸基含有多官能ウレタンアクリレート、光重合開始剤、および赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子を含む組成物を硬化させてなる、前記1〜4のいずれか1項に記載の光学反射フィルム。   5. The optical according to any one of 1 to 4, wherein the hard coat layer is obtained by curing a composition containing a hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate, a photopolymerization initiator, and infrared absorbing metal oxide nanoparticles. Reflective film.

6.前記ハードコート層における前記赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子の含有量が20〜50質量%である、前記5に記載の光学反射フィルム。   6). 6. The optical reflective film as described in 5 above, wherein the content of the infrared absorbing metal oxide nanoparticles in the hard coat layer is 20 to 50% by mass.

7.前記誘電体多層膜が、水溶性樹脂を含有する、前記1〜6のいずれか1項に記載の光学反射フィルム。   7). The optical reflective film according to any one of 1 to 6, wherein the dielectric multilayer film contains a water-soluble resin.

本発明によれば、基材の一方の面に誘電体多層膜が設けられ、他方の面にハードコート層が設けられる構成の光学反射フィルムにおいて、環境中の湿度の変化による光学反射フィルムのカール値の変動を所定の範囲に制御することで、ハードコート層におけるクラックや剥がれの発生が抑制され、高度な耐候性が得られる。   According to the present invention, in an optical reflective film having a structure in which a dielectric multilayer film is provided on one surface of a substrate and a hard coat layer is provided on the other surface, the curl of the optical reflective film caused by a change in humidity in the environment. By controlling the fluctuation of the value within a predetermined range, occurrence of cracks and peeling in the hard coat layer is suppressed, and high weather resistance is obtained.

本発明の一形態は、基材と、前記基材の一方の面に配置された、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜と、前記基材の他方の面に配置された、ハードコート層と、
を有する光学反射フィルムであって、前記光学反射フィルムを、製造時における幅手方向に50mm、長手方向に3mmの大きさに切り取ったサンプルと、製造時における幅手方向に3mm、長手方向に50mmの大きさに切り取ったサンプルとの双方が、温度23℃、相対湿度50%の環境下に1時間置いて測定したカール値をa(1/m)、温度23℃、相対湿度20%の環境下に1時間置いて測定したカール値をb(1/m)、温度23℃、相対湿度80%の環境下に1時間置いて測定したカール値をc(1/m)としたとき、下記式(1)および(2)を満たす、光学反射フィルムである。
One embodiment of the present invention includes a base material, a dielectric multilayer film in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately stacked, and disposed on one surface of the base material. A hard coat layer disposed on the other surface;
A sample obtained by cutting the optical reflective film into a size of 50 mm in the width direction at the time of manufacture and 3 mm in the length direction, and 3 mm in the width direction at the time of manufacture, and 50 mm in the length direction. The curl value measured for 1 hour in an environment with a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% was a (1 / m), the temperature was 23 ° C., and the relative humidity was 20%. The curl value measured by placing it under 1 hour under the condition b (1 / m), the temperature measured at 23 ° C. and the relative humidity 80% for 1 hour as c (1 / m) It is an optical reflection film satisfying the formulas (1) and (2).

かような構成を有する本発明の一形態に係る光学反射フィルムによれば、ハードコート層におけるクラックの発生を抑制することができ、また、ハードコート層の耐擦傷性を向上させることができる。   According to the optical reflective film according to an embodiment of the present invention having such a configuration, generation of cracks in the hard coat layer can be suppressed, and the scratch resistance of the hard coat layer can be improved.

基材の一方の面に誘電体多層膜が設けられ、他方の面にハードコート層が設けられる構成の光学反射フィルムにおいて、ハードコート層として、例えば活性エネルギー線硬化樹脂のような樹脂を用いた場合、硬化時に体積収縮が起こり、特に膜厚を厚くすると光学反射フィルムのカールが生じやすい。さらに、ハードコート層を構成する樹脂や、誘電体多層膜を構成する樹脂は、吸湿量により体積が膨張、収縮し、ハードコート層、および誘電体多層膜の寸法変化が生じる。特にハードコート層を構成する樹脂は、体積の膨張、収縮が大きく、吸湿量による寸法変化量も大きい。さらに、誘電体多層膜を構成する樹脂に比べて高弾性率であるため、寸法変化に対して応力が大きくなりやすい傾向がある。このように、環境中の湿度変動によってハードコート層や誘電体多層膜の寸法変化が生じたり、応力の変化が生じ、そのサイクルが繰り返されると、応力差が蓄積していき、ハードコート層の密着性が低下し、脆くなって、クラックや剥がれが生じてしまう。   In an optical reflective film having a configuration in which a dielectric multilayer film is provided on one surface of a substrate and a hard coat layer is provided on the other surface, a resin such as an active energy ray curable resin is used as the hard coat layer. In this case, volume shrinkage occurs at the time of curing, and curling of the optical reflective film tends to occur particularly when the film thickness is increased. Further, the resin constituting the hard coat layer and the resin constituting the dielectric multilayer film expand and contract in volume depending on the amount of moisture absorption, resulting in dimensional changes of the hard coat layer and the dielectric multilayer film. In particular, the resin constituting the hard coat layer has a large volume expansion and contraction, and a large amount of dimensional change due to moisture absorption. Furthermore, since the elastic modulus is higher than that of the resin constituting the dielectric multilayer film, the stress tends to increase with respect to the dimensional change. In this way, dimensional changes of the hard coat layer and dielectric multilayer film occur due to humidity fluctuations in the environment, and stress changes occur. When the cycle is repeated, the stress difference accumulates and the hard coat layer accumulates. Adhesion is lowered and becomes brittle, causing cracks and peeling.

そのため、環境中の湿度の変化によるハードコート層や誘電体多層膜の寸法変化が生じたり、応力の変化を、光学反射フィルムのカール値として測定し、その値の二軸方向の湿度変化量を所定の範囲に制御することで、特に、窓ガラス用フィルムなど、結露などによる湿度変化もあり、併せて太陽光に長時間曝露される環境のような、長期間にわたって温度、湿度に変化のある環境にさらされた場合であっても、応力差の蓄積が軽減でき、ハードコート層におけるクラックや剥がれの発生を劇的に抑えることができることが明らかになった。   Therefore, the dimensional change of the hard coat layer or dielectric multilayer film due to the change of humidity in the environment occurs, or the change of stress is measured as the curl value of the optical reflective film, and the amount of change in humidity in the biaxial direction of the value is measured. By controlling to a predetermined range, there is also a change in humidity due to condensation, especially for film for window glass, etc., and there is a change in temperature and humidity over a long period of time, such as an environment exposed to sunlight for a long time. It became clear that even when exposed to the environment, the accumulation of stress differences can be reduced, and the occurrence of cracks and peeling in the hard coat layer can be dramatically suppressed.

環境中の湿度の変化による光学反射フィルムのカール値の変動は、例えば、ハードコート層および誘電体多層膜の厚みや材質を調整することで、ハードコート層と誘電体多層膜にかかる応力のバランスをとることで制御することができる。   The fluctuation of the curl value of the optical reflective film due to changes in the humidity in the environment can be achieved, for example, by adjusting the thickness and material of the hard coat layer and the dielectric multilayer film to balance the stress applied to the hard coat layer and the dielectric multilayer film. It can be controlled by taking

具体的には、ハードコート層の膜厚を厚くすると、ハードコート層側の表面が内巻になるカールが生じる方向の応力が大きくなり、誘電体多層膜の膜厚を厚くすると、誘電体多層膜側の表面が内巻になる方向の応力が大きくなる。また、ハードコート層が赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子を含む場合、この赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子の含有量が多いほどハードコート層側の表面が内巻になるカールが生じやすい。また、赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子には、紫外線吸収能を有しているものもあり、(例えばATO、ITO)これらの粒子を適切な量添加することでさらに耐候性を向上させることができる。そのため、ハードコート層および誘電体多層膜の厚み、樹脂の種類、赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子の含有量を制御して、カールバランスをとることで、湿度によるカール値の変動を抑制することができる。さらに、ハードコート層を構成する樹脂として、湿度変動によって体積変化が比較的大きい樹脂を用いる場合、ハードコート層の膜厚を小さくすることでカールバランスをとり、湿度によるカール値の変動を抑制することができる。   Specifically, when the thickness of the hard coat layer is increased, the stress in the direction of curling that causes the inner surface of the hard coat layer to increase is increased, and when the thickness of the dielectric multilayer film is increased, the dielectric multilayer is increased. The stress in the direction in which the film side surface becomes the inner winding increases. Further, when the hard coat layer includes infrared absorbing metal oxide nanoparticles, the more the content of the infrared absorbing metal oxide nanoparticles, the more likely the curl that the inner surface of the hard coat layer is to be curled. In addition, some infrared absorbing metal oxide nanoparticles have ultraviolet absorbing ability (for example, ATO, ITO), and the weather resistance can be further improved by adding an appropriate amount of these particles. it can. Therefore, by controlling the thickness of the hard coat layer and the dielectric multilayer film, the type of resin, and the content of the infrared-absorbing metal oxide nanoparticles, curling balance can suppress fluctuations in curling value due to humidity. Can do. Furthermore, when using a resin whose volume change is relatively large due to humidity fluctuation as the resin constituting the hard coat layer, curling balance is achieved by reducing the film thickness of the hard coat layer, and fluctuation of the curl value due to humidity is suppressed. be able to.

なお、本明細書中、カール値は、1/R(Rはカールの曲率半径(m))で表される値であり、後述の実施例に記載の方法で測定することができる。本明細書中、カール値は、光学反射フィルムのハードコート層の側の表面が内巻になるカールのカール値を正の値として表し、誘電体多層膜の側の表面が内巻になるカールのカール値を負の値として表す。   In the present specification, the curl value is a value represented by 1 / R (R is the radius of curvature (m) of curl), and can be measured by the method described in the examples described later. In this specification, the curl value represents the curl value of the curl with the inner surface on the hard coat layer side of the optical reflection film as a positive value, and the curl value with the inner surface of the dielectric multilayer film side. The curl value of is represented as a negative value.

また、本発明の光学反射フィルムは、製造時における幅手方向に50mm、長手方向に3mmの大きさに切り取った試料を用いて測定したカール値(幅手方向のカール値)と、製造時における幅手方向に3mm、長手方向に50mmの大きさに切り取った試料を用いて測定したカール値(長手方向のカール値)のいずれもが、上記の式(1)および(2)を満たす。   The optical reflective film of the present invention has a curl value (curl value in the width direction) measured using a sample cut to a size of 50 mm in the width direction at the time of manufacture and 3 mm in the length direction, and a value at the time of manufacture. All of the curl values (curl values in the longitudinal direction) measured using a sample cut to a size of 3 mm in the width direction and 50 mm in the longitudinal direction satisfy the above formulas (1) and (2).

ここで、本発明の光学反射フィルムは、基材の一方の面に誘電体多層膜を形成し、その後、基材の他方の面にハードコート層を形成することで製造されるが、光学反射フィルムを製造する際のフィルムの搬送方向を長手方向、これに直交する方向を幅手方向とする。   Here, the optical reflective film of the present invention is manufactured by forming a dielectric multilayer film on one surface of a substrate, and then forming a hard coat layer on the other surface of the substrate. The film transport direction when producing the film is defined as the longitudinal direction, and the direction perpendicular thereto is defined as the width direction.

好ましくは、本発明の光学反射フィルムは、温度23℃、相対湿度50%の環境下に1時間置いて測定したカール値a(1/m)の絶対値が、幅手方向のカール値、長手方向のカール値のいずれも、20以下であり、より好ましくは10以下であり、さらに好ましくは8以下である。上記範囲とすることで、より耐候性に優れた光学反射フィルムが得られうる。   Preferably, in the optical reflective film of the present invention, the absolute value of the curl value a (1 / m) measured for 1 hour in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% is a curl value in the width direction and a longitudinal direction. Any of the direction curl values is 20 or less, more preferably 10 or less, and still more preferably 8 or less. By setting it as the said range, the optical reflection film excellent in the weather resistance can be obtained.

また、上記の式(1)の左辺の|b(1/m)−a(1/m)|の値(以下、A値ともいう)、および式(2)の左辺の|c(1/m)−a(1/m)|の値(以下、B値ともいう)は、それぞれ、幅手方向および長手方向のいずれもが2(1/m)以下であることがより好ましい。   Also, the value of | b (1 / m) −a (1 / m) | on the left side of the above equation (1) (hereinafter also referred to as A value) and | c (1 / The value of m) −a (1 / m) | (hereinafter also referred to as “B value”) is more preferably 2 (1 / m) or less in both the width direction and the longitudinal direction.

本発明の光学反射フィルムは、前記光学反射フィルムを、製造時における幅手方向に50mm、長手方向に3mmの大きさに切り取ったサンプルを温度23℃、相対湿度50%の環境下に1時間置いて測定したカール値と、製造時における幅手方向に3mm、長手方向に50mmの大きさに切り取ったサンプルを温度23℃、相対湿度50%の環境下に1時間置いて測定したカール値との正負が逆であることが好ましい。製造時におけるフィルムの幅手方向のカールと、長手方向のカールを逆方向に制御することで、各層の応力が緩和され、さらに耐候性が向上する。製造時におけるフィルムの幅手方向のカールと、長手方向のカールとの向きは、ハードコート層および誘電体多層膜の厚み、材質、誘電体多層膜製造時の延伸、引き伸ばしの方向や延伸比などを調節することで制御することができる。例えば、誘電多層膜製造時に引き伸ばす方向において、誘電多層膜の側の表面が内向きになるカールが生じる方向の応力がより発生しやすい。つまり延伸比によってフィルムの長手方向と幅手方向の誘電体多層膜側の表面のカールの強さを調整できる。   In the optical reflective film of the present invention, a sample obtained by cutting the optical reflective film into a size of 50 mm in the width direction and 3 mm in the longitudinal direction at the time of manufacture is placed in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 1 hour. And a curl value measured by placing a sample cut to a size of 3 mm in the width direction and 50 mm in the longitudinal direction at the time of manufacturing in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 1 hour. It is preferable that the sign is reversed. By controlling the curl in the width direction of the film and the curl in the longitudinal direction at the time of production in opposite directions, the stress of each layer is relieved and the weather resistance is further improved. The direction of the curl in the width direction and the curl in the longitudinal direction at the time of manufacture is the thickness and material of the hard coat layer and the dielectric multilayer film, the stretching at the time of manufacturing the dielectric multilayer film, the stretching direction, the stretching ratio, etc. It can be controlled by adjusting. For example, in a direction in which the dielectric multilayer film is stretched, stress in a direction in which a curl in which the surface on the dielectric multilayer film side becomes inward is more likely to occur. That is, the strength of curl on the surface on the dielectric multilayer film side in the longitudinal direction and the width direction of the film can be adjusted by the stretch ratio.

以下、本発明に係る光学反射フィルムの構成要素、および本発明を実施するための形態・態様について、詳細に説明する。   Hereinafter, the components of the optical reflection film according to the present invention, and the forms and modes for carrying out the present invention will be described in detail.

[基材]
基材は、塗布乾燥工程で膜を形成しうる機能を有する。
[Base material]
The substrate has a function capable of forming a film in the coating and drying process.

基材は、透明であることが好ましく、種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、3酢酸セルロース、ポリイミド、ポリブチラールフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、透明なセルロースナノファイバーフィルム等を用いることができる。これらのうち、ポリエステルフィルムを用いることが好ましい。   The substrate is preferably transparent, and various resin films can be used. For example, polyolefin film (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester film (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyvinyl chloride, cellulose triacetate, polyimide, polybutyral film, cycloolefin polymer film, transparent cellulose nanofiber film, etc. Can be used. Among these, it is preferable to use a polyester film.

当該ポリエステルフィルムの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの観点から、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等のジカルボン酸成分と、エチレングリコールや1,4−シクロヘキサンジメタノール等のジオール成分と、を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。なかでも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの2種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。   Among the polyester films, from the viewpoint of transparency, mechanical strength, dimensional stability and the like, dicarboxylic acid components such as terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and diols such as ethylene glycol and 1,4-cyclohexanedimethanol It is preferable that it is polyester which has the film formation property which makes a component a main structural component. Of these, polyesters mainly composed of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, copolymerized polyesters composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and mixtures of two or more of these polyesters are mainly used. Polyester as a constituent component is preferable.

基材の材料および膜厚は、光学反射フィルムの熱収縮率を基材の熱収縮率で除した値が1〜3の範囲内となるように設定されたものであることが好ましい。   The material and film thickness of the substrate are preferably set so that the value obtained by dividing the thermal shrinkage rate of the optical reflective film by the thermal shrinkage rate of the substrate is in the range of 1 to 3.

なかでも基材の膜厚は、30〜200μmであることが好ましく、30〜150μmであることがより好ましく、35〜125μmであることが最も好ましい。基材の膜厚が30μm以上であると、取扱い中のシワが発生しにくくなることから好ましい。一方、基材の膜厚が200μm以下であると、透明基材と貼り合わせる際に、例えば、曲面の透明基材への追従性が良くなり、シワが発生しにくくなることから好ましい。   Especially, it is preferable that the film thickness of a base material is 30-200 micrometers, It is more preferable that it is 30-150 micrometers, It is most preferable that it is 35-125 micrometers. It is preferable that the thickness of the substrate is 30 μm or more because wrinkles during handling are less likely to occur. On the other hand, when the thickness of the substrate is 200 μm or less, for example, when the substrate is bonded to the transparent substrate, the followability to the curved transparent substrate is improved and wrinkles are less likely to occur.

基材は、二軸配向ポリエステルフィルムであることが好ましいが、未延伸または少なくとも一方に延伸されたポリエステルフィルムを用いることもできる。強度向上、熱膨張抑制の観点から延伸フィルムであることが好ましい。特に自動車のフロントガラスの合わせガラスに用いられる際には、延伸フィルムであることがより好ましい。   The substrate is preferably a biaxially oriented polyester film, but an unstretched or at least one stretched polyester film can also be used. A stretched film is preferable from the viewpoint of improving strength and suppressing thermal expansion. In particular, when it is used as a laminated glass for an automobile windshield, a stretched film is more preferable.

(誘電体多層膜)
誘電体多層膜は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる構成を有するものであり、低屈折率層と高屈折率層からなるユニットを少なくとも1つ有する。誘電体多層膜がこのように異なる屈折率を有する屈折率層を含む構成であることにより、所定の波長を有する光(例えば、赤外光)が入射した場合に、少なくともこの光の一部を反射して遮蔽効果(ひいては赤外光の場合には遮熱効果)を発揮することができる。
(Dielectric multilayer film)
The dielectric multilayer film has a configuration in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately stacked, and has at least one unit composed of a low refractive index layer and a high refractive index layer. Since the dielectric multilayer film includes the refractive index layers having different refractive indexes in this way, when light having a predetermined wavelength (for example, infrared light) is incident, at least a part of this light is It can reflect and can exhibit the shielding effect (and heat shielding effect in the case of infrared light).

本形態において、誘電体多層膜を構成する屈折率層が、低屈折率層であるか高屈折率層であるかは、隣接する屈折率層との屈折率の対比によって判断される。具体的には、ある屈折率層を基準層としたとき、当該基準層に隣接する屈折率層が基準層より屈折率が低ければ、基準層は高屈折率層である(隣接層は低屈折率層である)と判断される。一方、基準層より隣接層の屈折率が高ければ、基準層は低屈折率層である(隣接層は高屈折率層である)と判断される。したがって、屈折率層が高屈折率層であるか低屈折率層であるかは、隣接層が有する屈折率との関係で定まる相対的なものであり、ある屈折率層は、隣接層との関係によって高屈折率層にも低屈折率層にもなりうる。   In the present embodiment, whether the refractive index layer constituting the dielectric multilayer film is a low refractive index layer or a high refractive index layer is determined by comparing the refractive index with the adjacent refractive index layer. Specifically, when a refractive index layer is used as a reference layer, if the refractive index layer adjacent to the reference layer has a lower refractive index than the reference layer, the reference layer is a high refractive index layer (the adjacent layer is a low refractive index layer). It is judged to be a rate layer. On the other hand, if the refractive index of the adjacent layer is higher than that of the reference layer, it is determined that the reference layer is a low refractive index layer (the adjacent layer is a high refractive index layer). Therefore, whether the refractive index layer is a high refractive index layer or a low refractive index layer is a relative one determined by the relationship with the refractive index of the adjacent layer. Depending on the relationship, it can be a high refractive index layer or a low refractive index layer.

屈折率層としては、特に制限はないが、好ましくは当該技術分野において用いられる公知の屈折率層を用いることが好ましい。公知の屈折率層としては、例えば、乾式製膜法を用いて形成する屈折率層と、樹脂の押出成形によって形成される屈折率層と、湿式製膜法を用いて形成する屈折率層とが挙げられる。   Although there is no restriction | limiting in particular as a refractive index layer, It is preferable to use the well-known refractive index layer used in the said technical field preferably. As a known refractive index layer, for example, a refractive index layer formed using a dry film forming method, a refractive index layer formed by extrusion molding of a resin, and a refractive index layer formed using a wet film forming method Is mentioned.

さらに、反射特性の観点から、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一方が、金属酸化物粒子を含むことが好ましく、高屈折率層および低屈折率層の両方が金属酸化物粒子を含むことがより好ましい。   Further, from the viewpoint of reflection characteristics, at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer preferably includes metal oxide particles, and both the high refractive index layer and the low refractive index layer include metal oxide particles. It is more preferable.

また、本発明の光学反射フィルムの誘電体多層膜において、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一層に水溶性樹脂を用いることが好ましい。また、湿式製膜法によって形成される光学反射フィルムの屈折率層は、水溶性樹脂を含有する塗布液(通常は水等の水系溶媒を含む)を塗布した塗膜であることが好ましい。水溶性樹脂は、有機溶剤を用いないため、環境負荷が少なく、また、柔軟性が高いため、屈曲時の膜の耐久性が向上するため好ましい。水溶性樹脂は、特に、高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも一層に金属酸化物ナノ粒子を含む場合に好適に使用される。   In the dielectric multilayer film of the optical reflective film of the present invention, it is preferable to use a water-soluble resin for at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer. Moreover, it is preferable that the refractive index layer of the optical reflection film formed by the wet film forming method is a coating film coated with a coating solution containing a water-soluble resin (usually containing an aqueous solvent such as water). The water-soluble resin is preferable because it does not use an organic solvent, has a low environmental load, and has high flexibility, so that the durability of the film during bending is improved. The water-soluble resin is suitably used particularly when metal oxide nanoparticles are included in at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer.

なお、本明細書において「水溶性」とは、物質が最も溶解する温度で、0.5質量%の濃度となるように水に溶解させた際、G2グラスフィルタ(最大細孔40〜50μm)で濾過した場合に、濾別される不溶物の質量が加えた高分子の50質量%以内であることを意味する。   In this specification, “water-soluble” means a G2 glass filter (maximum pores 40 to 50 μm) when dissolved in water at a temperature at which the substance is most dissolved and having a concentration of 0.5% by mass. This means that the mass of insoluble matter to be filtered out is within 50% by mass of the added polymer.

上述のように、低屈折率層であるか高屈折率層であるかは、隣接する屈折率層との関係で定まる相対的なものであり、ある屈折率層は低屈折率層にも高屈折率層にもなりうるが、以下、それぞれの方法で形成されうる屈折率層のうち、代表的な高屈折率層および低屈折率層の構成について説明する。   As described above, whether the layer is a low refractive index layer or a high refractive index layer is a relative one that is determined by the relationship with the adjacent refractive index layer. The structure of a typical high refractive index layer and low refractive index layer among the refractive index layers that can be formed by the respective methods will be described below.

(樹脂の押出成形によって形成される屈折率層)
本発明において、交互する高屈折率層と低屈折率層に使用できる樹脂は、特に限定されないが、少なくとも1層が複屈折性でありかつ配向していることが好ましい。例えば、特表2008−528313号公報に記載されたものや適宜修飾したものが使用できる。
(Refractive index layer formed by resin extrusion)
In the present invention, the resin that can be used in the alternating high refractive index layer and low refractive index layer is not particularly limited, but at least one layer is preferably birefringent and oriented. For example, those described in JP-T-2008-528313 and those appropriately modified can be used.

具体的な例として、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンテレフタレートのコポリマー(coPET)、ポリ(メチルメタクリレート)(PMMA)、ポリ(メチルメタクリレート)のコポリマー(coPMMA)、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体(PETG)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンナフタレートのコポリマー(coPEN)等が挙げられるが、これらに限定されない。各高屈折率層および低屈折率層には、これらの樹脂を1種、または2種以上の組み合わせを用いることができる。また、好適な樹脂の組み合わせの例として、米国特許第6,352,761号明細書に記載のものが挙げられる。上記樹脂を用いて、例えば共押出法により連続フラットフィルム製造ラインにより、誘電体多層膜を形成することができる。   Specific examples include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene terephthalate copolymer (coPET), poly (methyl methacrylate) (PMMA), poly (methyl methacrylate) copolymer (coPMMA), terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer Examples thereof include, but are not limited to, a polymer (PETG), polyethylene naphthalate (PEN), and a copolymer of polyethylene naphthalate (coPEN). For each high refractive index layer and low refractive index layer, one or a combination of two or more of these resins can be used. Examples of suitable resin combinations include those described in US Pat. No. 6,352,761. Using the resin, a dielectric multilayer film can be formed by a continuous flat film production line, for example, by a coextrusion method.

(湿式製膜法を用いて形成される屈折率層)
湿式成膜法では、塗布液を順次塗布・乾燥する方法、塗布液を重層塗布・乾燥する方法等によって屈折率層が形成されうる。本形態に係る光学反射フィルムの屈折率層は、この湿式製膜法によって形成されることが好ましく、塗布液を重層塗布・乾燥する方法によって形成されることがより好ましい。
(Refractive index layer formed by wet film formation method)
In the wet film forming method, the refractive index layer can be formed by a method of sequentially applying and drying the coating solution, a method of applying and drying the coating solution in multiple layers, and the like. The refractive index layer of the optical reflective film according to this embodiment is preferably formed by this wet film-forming method, and more preferably formed by a method of applying and drying a coating solution in multiple layers.

高屈折率層
高屈折率層は、好ましくは水溶性樹脂を含む。その他必要に応じて、金属酸化物粒子、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤を含んでいてもよい。なお、高屈折率層に含まれる水溶性樹脂および金属酸化物粒子を、便宜上、以下では「第1の水溶性樹脂」および「第1の金属酸化物粒子」とそれぞれ称する。
High refractive index layer The high refractive index layer preferably contains a water-soluble resin. In addition, metal oxide particles, a curing agent, a surfactant, and other additives may be included as necessary. The water-soluble resin and metal oxide particles contained in the high refractive index layer are hereinafter referred to as “first water-soluble resin” and “first metal oxide particles” for convenience.

この際、第1の金属酸化物粒子の屈折率は、後述の低屈折率層に含まれる第2の金属酸化物粒子の屈折率より高い方が好ましい。高屈折率層および/または低屈折率層に金属酸化物粒子を含有することにより、各屈折率層間の屈折率差を大きくすることができ、積層数が低減されることでフィルムの透明度を上げることが出来るため好ましい。また、応力緩和が働き、膜物性(屈曲時および高温高湿時の屈曲性)が向上する等の利点がある。金属酸化物粒子は、いずれかの屈折率層に含有させればよいが、好適な形態は、少なくとも高屈折率層が金属酸化物粒子を含み、より好適な形態は高屈折率層および低屈折率層のいずれもが金属酸化物粒子を含む形態である。   At this time, the refractive index of the first metal oxide particles is preferably higher than the refractive index of the second metal oxide particles contained in the low refractive index layer described later. By containing metal oxide particles in the high refractive index layer and / or the low refractive index layer, the difference in refractive index between the refractive index layers can be increased, and the transparency of the film is increased by reducing the number of layers. This is preferable because it can be performed. In addition, there is an advantage that stress relaxation works and film properties (flexibility at the time of bending and high temperature and high humidity) are improved. The metal oxide particles may be contained in any one of the refractive index layers, but a preferable form is that at least the high refractive index layer includes metal oxide particles, and more preferable forms are the high refractive index layer and the low refractive index layer. All of the rate layers are in a form containing metal oxide particles.

(1)第1の水溶性樹脂
第1の水溶性樹脂としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、および反応性官能基を有するポリマーが用いられうる。これらのうち、ポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。
(1) First water-soluble resin The first water-soluble resin is not particularly limited, and polyvinyl alcohol resins, gelatin, celluloses, thickening polysaccharides, and polymers having reactive functional groups can be used. . Of these, it is preferable to use a polyvinyl alcohol-based resin.

ポリビニルアルコール系樹脂
前記ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコール(未変性ポリビニルアルコール)、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマー等の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。なお、変性ポリビニルアルコールにより、膜の密着性、耐水性、柔軟性が改良される場合がある。
Polyvinyl alcohol resin As the polyvinyl alcohol resin, ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate (unmodified polyvinyl alcohol), cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, nonion-modified polyvinyl alcohol, vinyl alcohol Examples thereof include modified polyvinyl alcohol such as a polymer. The modified polyvinyl alcohol may improve the film adhesion, water resistance, and flexibility.

ゼラチン
ゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを適用することができる。例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチン、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチン、分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基を有し、それと反応し得る基を持った試薬で処理し改質したゼラチン誘導体等が挙げられる。
Gelatin As the gelatin, various gelatins that have been widely used in the field of silver halide photographic light-sensitive materials can be applied. For example, acid-treated gelatin, alkali-treated gelatin, enzyme-treated gelatin that undergoes enzyme treatment in the production process of gelatin, a group having an amino group, imino group, hydroxyl group, carboxyl group as a functional group in the molecule, and a group that can react with it And gelatin derivatives modified by treatment with a reagent having

なお、ゼラチンを用いる場合、必要に応じてゼラチンの硬膜剤を添加することもできる。   When gelatin is used, a gelatin hardener can be added as necessary.

セルロース類
セルロース類としては、水溶性のセルロース誘導体を好ましく用いることができる。例えば、カルボキシメチルセルロース(セルロースカルボキシメチルエーテル)、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性セルロース誘導体;カルボキシメチルセルロース(セルロースカルボキシメチルエーテル)、カルボキシエチルセルロース等のカルボン酸基含有セルロース類;ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース、セルロース硫酸エステル等のセルロース誘導体が挙げられる。
Cellulose As the cellulose, a water-soluble cellulose derivative can be preferably used. For example, water-soluble cellulose derivatives such as carboxymethyl cellulose (cellulose carboxymethyl ether), methyl cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, and hydroxypropyl cellulose; carboxylic acid group-containing celluloses such as carboxymethyl cellulose (cellulose carboxymethyl ether) and carboxyethyl cellulose; Examples thereof include cellulose derivatives such as cellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate, and cellulose sulfate.

増粘多糖類
増粘多糖類は、糖類の重合体であり、分子内に水素結合基を多数有するものである。当該増粘多糖類は、温度による分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きいという特性を有する。また、増粘多糖類に金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こす。その粘度上昇幅は、15℃における粘度が、通常、1.0mPa・s以上であり、好ましくは5.0mPa・s以上であり、よりに好ましくは10.0mPa・s以上である。
Thickening polysaccharides Thickening polysaccharides are saccharide polymers that have many hydrogen bonding groups in the molecule. The thickening polysaccharide has a characteristic that the viscosity difference at low temperature and the viscosity at high temperature are large due to the difference in hydrogen bonding force between molecules depending on temperature. Further, when metal oxide fine particles are added to the thickening polysaccharide, the viscosity is increased due to hydrogen bonding with the metal oxide fine particles at a low temperature. As for the viscosity increase range, the viscosity at 15 ° C. is usually 1.0 mPa · s or more, preferably 5.0 mPa · s or more, more preferably 10.0 mPa · s or more.

用いられうる増粘多糖類としては、特に制限はなく、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類、合成複合多糖類が挙げられる。これら多糖類の詳細については、「生化学事典(第2版),東京化学同人出版」、「食品工業」第31巻(1988)21頁等を参照することができる。   The thickening polysaccharide that can be used is not particularly limited and includes generally known natural simple polysaccharides, natural complex polysaccharides, synthetic simple polysaccharides, and synthetic complex polysaccharides. For details of these polysaccharides, reference can be made to “Biochemical Encyclopedia (2nd edition), Tokyo Chemical Doujinshi”, “Food Industry”, Vol. 31 (1988), p.

反応性官能基を有するポリマー
反応性官能基を有するポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリロニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂;スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂;スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体;およびこれらの塩が挙げられる。これらのうち、ポリビニルピロリドン類およびこれを含有する共重合体を用いることが好ましい。
Polymers having reactive functional groups Examples of polymers having reactive functional groups include polyvinylpyrrolidones, polyacrylic acid, acrylic acid-acrylonitrile copolymers, potassium acrylate-acrylonitrile copolymers, vinyl acetate-acrylic esters. Acrylic resins such as copolymers and acrylic acid-acrylic acid ester copolymers; styrene-acrylic acid copolymers, styrene-methacrylic acid copolymers, styrene-methacrylic acid-acrylic acid ester copolymers, styrene-α -Styrene acrylic resin such as methylstyrene-acrylic acid copolymer, styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylic acid ester copolymer; styrene-sodium styrenesulfonate copolymer, styrene-2-hydroxyethyl acrylate Copolymer, styrene 2-hydroxyethyl acrylate-potassium styrene sulfonate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, vinyl naphthalene-acrylic acid copolymer, vinyl naphthalene-maleic acid copolymer, And vinyl acetate-based copolymers such as vinyl acetate-maleic acid ester copolymer, vinyl acetate-crotonic acid copolymer, vinyl acetate-acrylic acid copolymer; and salts thereof. Of these, polyvinylpyrrolidones and copolymers containing the same are preferably used.

上述の水溶性樹脂は、単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。   The water-soluble resins described above may be used alone or in combination of two or more.

第1の水溶性樹脂の重量平均分子量は、1000〜200000であることが好ましく、3000〜40000であることがより好ましい。なお、本明細書において、「重量平均分子量」の値は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によって測定した値を採用するものとする。   The weight average molecular weight of the first water-soluble resin is preferably 1000 to 200000, and more preferably 3000 to 40000. In the present specification, the value measured by gel permeation chromatography (GPC) is adopted as the value of “weight average molecular weight”.

第1の水溶性樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、5〜50質量%であることが好ましく、10〜40質量%であることがより好ましい。   The content of the first water-soluble resin is preferably 5 to 50% by mass and more preferably 10 to 40% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer.

(2)第1の金属酸化物粒子
第1の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、屈折率が2.0〜3.0である金属酸化物粒子であることが好ましい。具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。これらのうち、第1の金属酸化物粒子は、透明で屈折率の高い高屈折率層を形成する観点から酸化チタン、酸化ジルコニウムであることが好ましく、耐候性向上の観点からルチル型(正方晶形)酸化チタンであることがより好ましい。
(2) First metal oxide particles The first metal oxide particles are not particularly limited, but are preferably metal oxide particles having a refractive index of 2.0 to 3.0. Specifically, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, chromium oxide, ferric oxide, iron black, copper oxide, magnesium oxide, water Examples thereof include magnesium oxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon, and tin oxide. Among these, the first metal oxide particles are preferably titanium oxide or zirconium oxide from the viewpoint of forming a transparent and high refractive index layer having a high refractive index. From the viewpoint of improving weather resistance, the first metal oxide particles are preferably a rutile type (tetragonal type). ) Titanium oxide is more preferable.

また、酸化チタンは、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコア・シェル粒子の形態であってもよい。当該コア・シェル粒子は、酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタンに含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造を有する。この際のコアの部分となる酸化チタン粒子の体積平均粒径は、1nm超30nm未満であることが好ましく、4nm以上30nm未満であることがより好ましい。かようなコア・シェル粒子を含有させることで、シェル層の含ケイ素の水和酸化物と水溶性樹脂との相互作用により、高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制されうる。   The titanium oxide may be in the form of core / shell particles coated with a silicon-containing hydrated oxide. The core / shell particles have a structure in which the surface of the titanium oxide particles is coated with a shell made of a silicon-containing hydrated oxide on titanium oxide serving as a core. In this case, the volume average particle size of the titanium oxide particles serving as the core portion is preferably more than 1 nm and less than 30 nm, and more preferably 4 nm or more and less than 30 nm. By including such core / shell particles, the intermixing of the high refractive index layer and the low refractive index layer can be suppressed by the interaction between the silicon-containing hydrated oxide of the shell layer and the water-soluble resin. .

上述の第1の金属酸化物粒子は、単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。   The first metal oxide particles described above may be used alone or in combination of two or more.

第1の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層との屈折率差が大きくなる観点から、高屈折率層の固形分100質量%に対して、15〜80質量%であることが好ましく、20〜77質量%であることがより好ましく、30〜75質量%であることがさらに好ましい。   The content of the first metal oxide particles is 15 to 80% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer from the viewpoint of increasing the refractive index difference from the low refractive index layer. Preferably, it is 20-77 mass%, More preferably, it is 30-75 mass%.

また、第1の金属酸化物粒子は、体積平均粒径が30nm以下であることが好ましく、1〜30nmであることがより好ましく、5〜15nmであることがさらに好ましい。体積平均粒径が30nm以下であると、ヘイズが少なく可視光透過性に優れることから好ましい。なお、本明細書において、「体積平均粒径」の値は、以下の方法によって測定した値を採用するものとする。具体的には、屈折率層の断面や表面に現れた任意の1000個の粒子を電子顕微鏡で観察して粒径を測定し、それぞれd1、d2……di……dkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n2……ni……nk個存在する金属酸化物粒子の集団において、粒子1個当りの体積をviとした場合に、下記式により体積平均粒径(mv)を算出する。   The first metal oxide particles preferably have a volume average particle size of 30 nm or less, more preferably 1 to 30 nm, and even more preferably 5 to 15 nm. A volume average particle size of 30 nm or less is preferable because it has less haze and is excellent in visible light transmittance. In the present specification, the value measured by the following method is adopted as the value of “volume average particle diameter”. Specifically, arbitrary 1000 particles appearing on the cross section or surface of the refractive index layer are observed with an electron microscope to measure the particle size, and particles having particle sizes of d1, d2,. In the group of n1, n2... Ni... Nk metal oxide particles, where the volume per particle is vi, the volume average particle size (mv) is calculated by the following formula.

(3)硬化剤
硬化剤は、高屈折率層に含有される第1の水溶性樹脂(好ましくは、ポリビニルアルコール系樹脂)と反応して、水素結合のネットワークを形成する機能を有する。
(3) Curing Agent The curing agent has a function of reacting with the first water-soluble resin (preferably polyvinyl alcohol resin) contained in the high refractive index layer to form a hydrogen bond network.

硬化剤としては、第1の水溶性樹脂と硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、一般的には、水溶性樹脂と反応しうる基を有する化合物または水溶性樹脂が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物が挙げられる。   The curing agent is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the first water-soluble resin, but in general, a compound having a group capable of reacting with the water-soluble resin or a different group possessed by the water-soluble resin. The compound which accelerates | stimulates mutual reaction is mentioned.

具体例として、第1の水溶性樹脂としてポリビニルアルコールを用いる場合には、硬化剤としてホウ酸およびその塩を用いることが好ましい。また、ホウ酸およびその塩以外の公知の硬化剤を使用してもよい。   As a specific example, when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble resin, it is preferable to use boric acid and its salt as a curing agent. Moreover, you may use well-known hardening | curing agents other than boric acid and its salt.

なお、ホウ酸およびその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことを意味する。具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸、八ホウ酸、およびこれらの塩が挙げられる。   In addition, boric acid and its salt mean the oxygen acid which has a boron atom as a central atom, and its salt. Specific examples include orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid, octaboric acid, and salts thereof.

硬化剤の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、1〜10質量%であることが好ましく、2〜6質量%であることがより好ましい。   The content of the curing agent is preferably 1 to 10% by mass and more preferably 2 to 6% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer.

特に、第1の水溶性樹脂としてポリビニルアルコールを使用する場合の硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール1g当たり1〜600mgであることが好ましく、ポリビニルアルコール1g当たり10〜600mgであることがより好ましい。   In particular, the total amount of the curing agent when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble resin is preferably 1 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol, and more preferably 10 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol. .

界面活性剤
界面活性剤としては、特に制限されないが、両性イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤およびシリコン系界面活性剤が挙げられる。これらのうち、アクリル系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、またはフッ素系界面活性剤が用いられる。界面活性剤としては、長鎖アルキル基を含有する界面活性剤が好ましく、炭素数6〜20のアルキル基を有する界面活性剤がより好ましい。
Surfactant The surfactant is not particularly limited. However, the amphoteric surfactant, the cationic surfactant, the anionic surfactant, the nonionic surfactant, the fluorosurfactant, and the silicon surfactant. Is mentioned. Among these, acrylic surfactants, silicon surfactants, or fluorine surfactants are used. As the surfactant, a surfactant containing a long-chain alkyl group is preferable, and a surfactant having an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms is more preferable.

両性イオン性界面活性剤としては、アルキルベタイン、アルキルアミンオキサイド、コカミドプロピルベタイン、ラウラミドプロピルベタイン、パーム核脂肪酸アミドプロピルベタイン、ココアンホ酢酸N、ラウロアンホ酢酸Na、ラウラミドプロピルヒドロキシスルタイン、ラウラミドプロピルアミンオキシド、ミリスタミドプロピルアミンオキシド、ヒドロキシアルキル(C12−14)ヒドロキシエチルサルコシンが挙げられる。   Zwitterionic surfactants include alkylbetaines, alkylamine oxides, cocamidopropyl betaines, lauramidopropyl betaines, palm kernel fatty acid amidopropyl betaines, cocoamphoacetic acid N, lauroamphoacetic acid Na, lauramidopropyl hydroxysultains, lauramide Examples include propylamine oxide, myristamidopropylamine oxide, and hydroxyalkyl (C12-14) hydroxyethyl sarcosine.

カチオン性界面活性剤としては、アルキルアミン塩、第4級アンモニウム塩が挙げられる。   Examples of the cationic surfactant include alkylamine salts and quaternary ammonium salts.

アニオン性界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、脂肪酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、アルケニルコハク酸ジカリウムが挙げられる。   Examples of the anionic surfactant include alkyl sulfate ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfate ester salts, alkylbenzene sulfonate salts, fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ether phosphate salts, and dipotassium alkenyl succinate.

ノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル(例えば、花王社製エマルゲン)、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル(例えば、花王社製レオドールTWシリーズ)、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミドが挙げられる。   Examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether (for example, Emulgen manufactured by Kao), polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester (for example, Leodol TW series manufactured by Kao), glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, poly Examples thereof include oxyethylene alkylamine and alkyl alkanolamide.

フッ素系界面活性剤としては、サーフロンS−211、S−221、S−231、S−241、S−242、S−243、S−420(AGCセイミケミカル社製)、メガファックF−114、F−410、F−477、F−553(DIC株式会社製)、FC−430、FC−4430、FC−4432(3M社製)が挙げられる。   Fluorosurfactants include Surflon S-211, S-221, S-231, S-241, S-242, S-243, S-420 (manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), Megafac F-114, F-410, F-477, F-553 (made by DIC Corporation), FC-430, FC-4430, FC-4432 (made by 3M company) are mentioned.

シリコン系界面活性剤としては、BYK−345、BYK−347、BYK−348、BYK−349(ビックケミー・ジャパン社製)が挙げられる。   Examples of the silicon surfactant include BYK-345, BYK-347, BYK-348, and BYK-349 (manufactured by BYK Japan).

高屈折率層は、その他の添加剤をも含みうる。その他の添加剤としては、アミノ酸、エマルジョン樹脂、リチウム化合物等が挙げられる。また、特開昭57−74193号公報、特開昭57−87988号公報、特開昭62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤;特開昭57−74192号、特開昭57−87989号公報、特開昭60−72785号公報、特開昭61−146591号公報、特開平1−95091号公報、特開平3−13376号公報等に記載の退色防止剤;特開昭59−42993号公報、特開昭59−52689号公報、特開昭62−280069号公報、特開昭61−242871号公報、特開平4−219266号公報等に記載の蛍光増白剤;硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤;消泡剤;ジエチレングリコール等の潤滑剤;防腐剤;防黴剤;帯電防止剤;マット剤;熱安定剤;酸化防止剤;難燃剤;結晶核剤;無機粒子;有機粒子;減粘剤;滑剤;赤外線吸収剤;色素;顔料等の公知の各種添加剤等がその他の添加剤として使用されてもよい。   The high refractive index layer can also contain other additives. Examples of other additives include amino acids, emulsion resins, lithium compounds, and the like. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, JP-A-62-261476; JP-A-57-74192, JP-A-57-87989 Japanese Patent Laid-Open No. 60-72785, Japanese Patent Laid-Open No. 61-14659, Japanese Patent Laid-Open No. 1-95091, Japanese Patent Laid-Open No. 3-13376, etc .; Japanese Patent Laid-Open No. 59-42993 , Whitening agents described in JP-A-59-52689, JP-A-62-280069, JP-A-61-228771, JP-A-4-219266, etc .; sulfuric acid, phosphoric acid, PH adjusters such as acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate; antifoaming agents; lubricants such as diethylene glycol; antiseptics; antifungal agents; antistatic agents; matting agents; Antioxidant; flame retardants; crystal nucleating agent; inorganic particles; organic particles; viscosity reducers; lubricants; infrared absorber; dyes; known various additives such as a pigment or the like may be used as other additives.

低屈折率層
低屈折率層もまた、好ましくは水溶性樹脂を含む。その他必要に応じて、金属酸化物粒子、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤を含んでいてもよい。なお、低屈折率層に含まれる水溶性樹脂および金属酸化物粒子を、便宜上、以下では「第2の水溶性樹脂」および「第2の金属酸化物粒子」とそれぞれ称する。
Low Refractive Index Layer The low refractive index layer preferably also contains a water soluble resin. In addition, metal oxide particles, a curing agent, a surfactant, and other additives may be included as necessary. The water-soluble resin and metal oxide particles contained in the low refractive index layer are hereinafter referred to as “second water-soluble resin” and “second metal oxide particles” for convenience.

(1)第2の水溶性樹脂
第2の水溶性樹脂としては、第1の水溶性樹脂と同様のものが用いられうる。
(1) Second water-soluble resin As the second water-soluble resin, the same one as the first water-soluble resin can be used.

この際、高屈折率層および低屈折率層が、第1の水溶性樹脂および第2の水溶性樹脂として、ともにポリビニルアルコール系樹脂を使用する場合には、それぞれケン化度の異なるポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。これにより、界面の混合が抑制され、赤外反射率(赤外遮蔽率)がより良好となり、ヘイズが低くなりうる。なお、本明細書において「ケン化度」とは、ポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基(原料の酢酸ビニル由来のもの)とヒドロキシ基との合計数に対するヒドロキシ基の割合を意味する。   At this time, when the high refractive index layer and the low refractive index layer both use a polyvinyl alcohol-based resin as the first water-soluble resin and the second water-soluble resin, the polyvinyl alcohol-based resins having different degrees of saponification are used. It is preferable to use a resin. Thereby, mixing of the interface is suppressed, the infrared reflectance (infrared shielding rate) becomes better, and the haze can be lowered. In the present specification, the “degree of saponification” means the ratio of hydroxy groups to the total number of acetyloxy groups (derived from vinyl acetate as a raw material) and hydroxy groups in polyvinyl alcohol.

(2)第2の金属酸化物粒子
第2の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等のシリカ(二酸化ケイ素)を用いることが好ましく、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましい。また、屈折率をより低減させる観点から、第2の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いることができ、特にシリカ(二酸化ケイ素)の中空微粒子を用いることが好ましい。
(2) Second metal oxide particles The second metal oxide particles are not particularly limited, but it is preferable to use silica (silicon dioxide) such as synthetic amorphous silica or colloidal silica, and acidic colloidal silica sol. It is more preferable to use Further, from the viewpoint of further reducing the refractive index, hollow fine particles having pores inside the particles can be used as the second metal oxide particles, and it is particularly preferable to use hollow fine particles of silica (silicon dioxide). .

コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Al、Ca、MgまたはBa等で処理されたものであってもよい。   The surface of the colloidal silica may be cation-modified, or may be treated with Al, Ca, Mg, Ba or the like.

また、第2の金属酸化物粒子は、表面被覆成分により表面コーティングされていてもよい。   The second metal oxide particles may be surface-coated with a surface coating component.

本発明の低屈折率層に含まれる第2の金属酸化物粒子(好ましくは二酸化ケイ素)は、その平均粒径(個数平均;直径)が3〜100nmであることが好ましく、3〜50nmであることがより好ましい。なお、本明細書中、金属酸化物微粒子の「平均粒径(個数平均;直径)」は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。   The second metal oxide particles (preferably silicon dioxide) contained in the low refractive index layer of the present invention preferably have an average particle size (number average; diameter) of 3 to 100 nm, preferably 3 to 50 nm. It is more preferable. In the present specification, the “average particle diameter (number average; diameter)” of the metal oxide fine particles is 1,000 particles observed by an electron microscope on the particles themselves or on the cross section or surface of the refractive index layer. The particle size of any of the particles is measured and determined as a simple average value (number average). Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

低屈折率層における第2の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層の全固形分100質量%に対して、0.1〜70質量%であることが好ましく、30〜70質量%であることがより好ましく、45〜65質量%であることがさらに好ましい。   The content of the second metal oxide particles in the low refractive index layer is preferably 0.1 to 70% by mass and 30 to 70% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the low refractive index layer. It is more preferable that it is 45-65 mass%.

上述の第2の金属酸化物は、屈折率を調整する等の観点から、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The above-mentioned second metal oxide may be used alone or in combination of two or more from the viewpoint of adjusting the refractive index.

硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤
硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤としては、高屈折率層と同様のものが用いられうることからここでは説明を省略する。
Curing Agent, Surfactant, and Other Additives As the curing agent, surfactant, and other additives, the same materials as those for the high refractive index layer can be used, and the description thereof is omitted here.

以上のような構成を有する高屈折率層および低屈折率層が交互に積層されてなる誘電体多層膜においては、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることが好ましく、高屈折率層および低屈折率層の両方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることがより好ましい。さらに、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一方が、金属酸化物粒子を含むことが好ましく、高屈折率層および低屈折率層の両方が金属酸化物粒子を含むことがより好ましい。   In the dielectric multilayer film in which the high refractive index layer and the low refractive index layer having the above-described configuration are alternately laminated, at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer uses a wet film forming method. The refractive index layer is preferably formed, and both the high refractive index layer and the low refractive index layer are more preferably refractive index layers formed using a wet film forming method. Furthermore, it is preferable that at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer includes metal oxide particles, and it is more preferable that both the high refractive index layer and the low refractive index layer include metal oxide particles.

(誘電体多層膜の製造方法)
本発明における誘電体多層膜は、高屈折率層形成用塗布液および低屈折率層形成用塗布液を塗布、乾燥させることによって形成することができる。なお、所望の誘電体多層膜によって、各高屈折率層形成用塗布液および低屈折率層形成用塗布液の成分を適宜に調整することができる。例えば、金属酸化物粒子を含まない場合のポリマーから高屈折率層および低屈折率層を形成して、誘電体多層膜を形成する工程は、特に制限されず、例えば、特表2008−528313号に記載される方法が同様にして、あるいは適宜修飾して適用できる。
(Manufacturing method of dielectric multilayer film)
The dielectric multilayer film in the present invention can be formed by applying and drying a coating solution for forming a high refractive index layer and a coating solution for forming a low refractive index layer. The components of the high refractive index layer forming coating solution and the low refractive index layer forming coating solution can be appropriately adjusted depending on the desired dielectric multilayer film. For example, the process of forming a dielectric multilayer film by forming a high refractive index layer and a low refractive index layer from a polymer in the case of not containing metal oxide particles is not particularly limited. For example, JP-T-2008-528313 Can be applied in the same manner or with appropriate modification.

以下に、高屈折率層に第1の金属酸化物粒子を含み、低屈折率層に第2の金属酸化物粒子を含む場合の誘電体多層膜の形成工程について、例示的に説明する。なお、それぞれの層には、樹脂も含みうる。   Below, the formation process of the dielectric multilayer when the first metal oxide particles are included in the high refractive index layer and the second metal oxide particles are included in the low refractive index layer will be exemplarily described. Each layer can also contain a resin.

[高屈折率層形成用塗布液]
高屈折率層形成用塗布液は、好ましくは、第1の水溶性樹脂、および第1の金属酸化物粒子を含む。また必要に応じて、硬化剤、界面活性剤、および各種添加剤からなる群より選択される少なくとも1種をさらに含んでもよい。第1の水溶性樹脂、第1の金属酸化物粒子、硬化剤、界面活性剤、および各種添加剤の具体的な形態は上述した通りであるから、ここでは説明を省略する。
[Coating liquid for forming a high refractive index layer]
The coating liquid for forming a high refractive index layer preferably contains a first water-soluble resin and first metal oxide particles. Moreover, you may further contain at least 1 sort (s) selected from the group which consists of a hardening | curing agent, surfactant, and various additives as needed. Since specific forms of the first water-soluble resin, the first metal oxide particles, the curing agent, the surfactant, and the various additives are as described above, description thereof is omitted here.

なお、高屈折率層形成用塗布液中の第1の水溶性樹脂の濃度は、1〜10質量%であることが好ましく、1〜8質量%であることがより好ましい。また、高屈折率層形成用塗布液中の第1の金属酸化物粒子の濃度は、1〜50質量%であることが好ましく、1〜20質量%であることがより好ましい。   In addition, it is preferable that the density | concentration of 1st water-soluble resin in the coating liquid for high refractive index layer formation is 1-10 mass%, and it is more preferable that it is 1-8 mass%. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the 1st metal oxide particle in the coating liquid for high refractive index layer formation is 1-50 mass%, and it is more preferable that it is 1-20 mass%.

高屈折率層形成用塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。また、有機溶媒の飛散による環境面を考慮すると、水、または水と少量の有機溶媒との混合溶媒がより好ましく、水が特に好ましい。前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、特に水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒が好ましく、水がより好ましい。   The solvent for preparing the coating solution for forming a high refractive index layer is not particularly limited, but water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof is preferable. In consideration of environmental aspects due to the scattering of the organic solvent, water or a mixed solvent of water and a small amount of an organic solvent is more preferable, and water is particularly preferable. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol and 1-butanol, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate, diethyl ether, Examples thereof include ethers such as propylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether, amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of environment and simplicity of operation, the solvent of the coating solution is preferably water or a mixed solvent of water and methanol, ethanol, or ethyl acetate, and more preferably water.

水と少量の有機溶媒との混合溶媒を用いる際、当該混合溶媒中の水の含有量は、混合溶媒全体を100質量%として、80〜99.9質量%であることが好ましく、90〜99.5質量%であることがより好ましい。ここで、80質量%以上にすることで、溶媒の揮発による体積変動が低減でき、ハンドリングが向上し、また、99.9質量%以下にすることで、液添加時の均質性が増し、安定した液物性を得ることができるからである。   When using a mixed solvent of water and a small amount of an organic solvent, the content of water in the mixed solvent is preferably 80 to 99.9% by mass, based on 100% by mass of the entire mixed solvent, and 90 to 99%. More preferably, it is 5 mass%. Here, by setting it to 80% by mass or more, volume fluctuation due to solvent volatilization can be reduced, handling is improved, and by setting it to 99.9% by mass or less, homogeneity at the time of liquid addition is increased and stable. This is because the obtained liquid properties can be obtained.

高屈折率層形成用塗布液の調製方法は、特に限定されず、例えば、第1の金属酸化物粒子、第1の水溶性樹脂、および必要に応じて添加される界面活性剤等の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に限定されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加して混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて適当な粘度に調製してもよい。   The method for preparing the coating solution for forming the high refractive index layer is not particularly limited. For example, the first metal oxide particles, the first water-soluble resin, and additives such as a surfactant added as necessary And stirring and mixing. At this time, the order of addition of the respective components is not particularly limited, and the respective components may be sequentially added and mixed while stirring, or may be added and mixed all at once while stirring. If necessary, it may be adjusted to an appropriate viscosity using a solvent.

また、高屈折率層形成用塗布液を調製する際に、適宜に加熱しながら調製してもよい。   Moreover, when preparing the coating liquid for high refractive index layer formation, you may prepare it, heating suitably.

[低屈折率層形成用塗布液]
低屈折率層形成用塗布液は、好ましくは、第2の水溶性樹脂および第2の金属酸化物粒子を含み、また必要に応じて、硬化剤、界面活性剤、および各種添加剤からなる群より選択される少なくとも1種をさらに含有してもよい。
[Coating liquid for forming low refractive index layer]
The coating solution for forming a low refractive index layer preferably contains a second water-soluble resin and second metal oxide particles, and, if necessary, a group consisting of a curing agent, a surfactant, and various additives. You may further contain at least 1 sort selected from more.

第2の水溶性樹脂、第2の金属酸化物粒子、硬化剤、界面活性剤、および各種添加剤の具体的な形態は上述した通りであるから、ここでは説明を省略する。   Since specific forms of the second water-soluble resin, the second metal oxide particles, the curing agent, the surfactant, and the various additives are as described above, description thereof is omitted here.

なお、低屈折率層形成用塗布液中の第2の水溶性樹脂の濃度は、1〜10質量%であることが好ましく、1〜8質量%であることがより好ましい。また、低屈折率層形成用塗布液中に第2の金属酸化物粒子の濃度は、1〜50質量%であることが好ましく、2〜20質量%であることがより好ましい。   In addition, it is preferable that the density | concentration of 2nd water-soluble resin in the coating liquid for low refractive index layer formation is 1-10 mass%, and it is more preferable that it is 1-8 mass%. Moreover, it is preferable that the density | concentration of a 2nd metal oxide particle is 1-50 mass% in a coating liquid for low refractive index layer formation, and it is more preferable that it is 2-20 mass%.

低屈折率層形成用塗布液を調製するための溶媒としては、上述の高屈折率層形成用塗布液を調製するための溶媒と同様のものが用いられうることから、ここでは説明を省略する。   As the solvent for preparing the coating solution for forming the low refractive index layer, the same solvent as the solvent for preparing the coating solution for forming the high refractive index layer described above can be used. .

低屈折率層形成用塗布液の調製方法は、特に限定されず、第2の水溶性樹脂、第2の金属酸化物粒子、および必要に応じて添加される硬化剤や界面活性剤等の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に限定されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加して混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて適当な粘度に調製してもよい。   The method for preparing the coating solution for forming the low refractive index layer is not particularly limited, and the addition of the second water-soluble resin, the second metal oxide particles, and a curing agent or a surfactant added as necessary. The method of adding an agent and stirring and mixing is mentioned. At this time, the order of addition of the respective components is not particularly limited, and the respective components may be sequentially added and mixed while stirring, or may be added and mixed all at once while stirring. If necessary, it may be adjusted to an appropriate viscosity using a solvent.

また、低屈折率層形成用塗布液を調製する際に、適宜に加熱しながら調製してもよい。   Moreover, when preparing the coating liquid for low refractive index layer formation, you may prepare it, heating suitably.

次に、上記で調製した高屈折率層形成用塗布液および低屈折率層形成用塗布液を用いて、基材上に塗布し、乾燥させて、誘電体多層膜を形成する。   Next, using the coating liquid for forming a high refractive index layer and the coating liquid for forming a low refractive index layer prepared as described above, it is applied onto a substrate and dried to form a dielectric multilayer film.

前記塗布方法としては、特に限定されず、逐次塗布法、同時重層塗布のいずれであってもよいが、生産性等の観点から同時重層塗布であることが好ましい。   The coating method is not particularly limited and may be either a sequential coating method or simultaneous multilayer coating, but simultaneous multilayer coating is preferable from the viewpoint of productivity and the like.

塗布方式としては、例えば、カーテン塗布方法、米国特許第2,761,419号、同第2,761,791号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。   As the coating method, for example, a curtain coating method, a slide bead coating method using a hopper described in U.S. Pat. Nos. 2,761,419 and 2,761,791, an extrusion coating method and the like are preferably used. It is done.

同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液の温度は、スライドビード塗布方式を用いる場合は、25〜60℃の温度範囲が好ましく、30〜45℃の温度範囲がより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合は、25〜60℃の温度範囲が好ましく、30〜45℃の温度範囲がより好ましい。   When the slide bead coating method is used, the temperature of the high refractive index layer coating solution and the low refractive index layer coating solution in simultaneous multilayer coating is preferably a temperature range of 25 to 60 ° C, and a temperature range of 30 to 45 ° C. Is more preferable. Moreover, when using a curtain application | coating system, the temperature range of 25-60 degreeC is preferable, and the temperature range of 30-45 degreeC is more preferable.

同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液の粘度は、特に制限されない。しかしながら、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、5〜100mPa・sの範囲であることが好ましく、10〜50mPa・sの範囲であることがより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、5〜1200mPa・sの範囲であることが好ましく、25〜500mPa・sの範囲であることがより好ましい。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。   The viscosity of the high refractive index layer coating solution and the low refractive index layer coating solution when performing simultaneous multilayer coating is not particularly limited. However, when the slide bead coating method is used, it is preferably in the range of 5 to 100 mPa · s and more preferably in the range of 10 to 50 mPa · s in the preferable temperature range of the coating solution. Moreover, when using a curtain application | coating system, it is preferable that it is the range of 5-1200 mPa * s in the range of the preferable temperature of said coating liquid, and it is more preferable that it is the range of 25-500 mPa * s. If it is the range of such a viscosity, simultaneous multilayer coating can be performed efficiently.

また、塗布液の15℃における粘度としては、100mPa・s以上が好ましく、100〜30,000mPa・sがより好ましく、さらに好ましくは3,000〜30,000mPa・sであり、最も好ましいのは10,000〜30,000mPa・sである。   Further, the viscosity at 15 ° C. of the coating solution is preferably 100 mPa · s or more, more preferably 100 to 30,000 mPa · s, further preferably 3,000 to 30,000 mPa · s, and most preferably 10 , 30,000 to 30,000 mPa · s.

具体的な塗布および乾燥方法としては、特に制限されないが、逐次塗布法で反射膜を形成する場合には、30〜60℃に加温した低屈折率層形成用塗布液および高屈折率層形成用塗布液のいずれか一方を基材上に塗布、乾燥して層を形成した後、もう一方の塗布液をこの層上に塗布、乾燥して層を形成する。これを所望の赤外遮蔽性能を発現するために必要な層数となるように逐次塗布を繰り返して、前駆体を得る。乾燥する際は、形成した塗膜を、30℃以上で乾燥することが好ましい。例えば、湿球温度5〜50℃、膜面温度5〜100℃(好ましくは10〜50℃)の範囲で乾燥することが好ましく、例えば、40〜85℃の温風を1〜5秒吹き付けて乾燥する。乾燥方法としては、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられる。また単一プロセスでの乾燥よりも多段プロセスの乾燥をすることが好ましく、恒率乾燥部の温度<減率乾燥部の温度にすることがより好ましい。この場合の恒率乾燥部の温度範囲は30〜60℃、減率乾燥部の温度範囲は50〜100℃にすることが好ましい。   Specific coating and drying methods are not particularly limited, but when a reflective film is formed by a sequential coating method, the coating solution for forming a low refractive index layer and the formation of a high refractive index layer heated to 30 to 60 ° C. One of the coating liquids for coating is applied on a substrate and dried to form a layer, and then the other coating liquid is coated on this layer and dried to form a layer. This is sequentially applied so that the number of layers required to exhibit the desired infrared shielding performance is obtained, thereby obtaining a precursor. When drying, it is preferable to dry the formed coating film at 30 ° C. or higher. For example, the wet bulb temperature is preferably 5 to 50 ° C. and the film surface temperature is preferably 5 to 100 ° C. (preferably 10 to 50 ° C.). For example, hot air of 40 to 85 ° C. is blown for 1 to 5 seconds. dry. As a drying method, warm air drying, infrared drying, and microwave drying are used. In addition, it is preferable to perform a multi-stage process rather than a single process, and it is more preferable that the temperature of the constant rate drying unit is less than the temperature of the rate-decreasing drying unit. In this case, the temperature range of the constant rate drying part is preferably 30 to 60 ° C, and the temperature range of the decreasing rate drying part is preferably 50 to 100 ° C.

また、同時重層塗布で誘電体多層膜を形成する場合には、低屈折率層形成用塗布液および高屈折率層形成用塗布液を30〜60℃に加温して、基材上に低屈折率層形成用塗布液および高屈折率層形成用塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは1〜15℃にいったん冷却し(セット)、その後10℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度5〜50℃、膜面温度10〜50℃の範囲の条件である。例えば、80℃の温風を1〜5秒吹き付けて乾燥する。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。   In addition, when forming a dielectric multilayer film by simultaneous multilayer coating, the coating liquid for forming a low refractive index layer and the coating liquid for forming a high refractive index layer are heated to 30 to 60 ° C. After the simultaneous multilayer coating of the coating solution for forming the refractive index layer and the coating solution for forming the high refractive index layer, the temperature of the formed coating film is preferably cooled (set) to preferably 1 to 15 ° C., and then 10 ° C. or higher. It is preferable to dry with. More preferable drying conditions are a wet bulb temperature of 5 to 50 ° C. and a film surface temperature of 10 to 50 ° C. For example, it is dried by blowing warm air of 80 ° C. for 1 to 5 seconds. Moreover, as a cooling method immediately after application | coating, it is preferable to carry out by a horizontal set system from a viewpoint of the uniformity improvement of the formed coating film.

ここで、前記セットとは、冷風等を塗膜に当てて温度を下げるなどの手段により、塗膜組成物の粘度を高め、各層間および各層内の物質の流動性の低下またはゲル化を行う工程を意味する。冷風を塗布膜に表面から当てて、塗布膜の表面に指を押し付けたときに指に何もつかなくなった状態を、セット完了の状態と定義する。   Here, the set means that the viscosity of the coating composition is increased by means such as lowering the temperature by applying cold air or the like to the coating film, and the fluidity of the substances in each layer or in each layer is reduced or gelled. It means a process. A state in which the cold air is applied to the coating film from the surface and the finger is pressed against the surface of the coating film is defined as a set completion state.

塗布した時点から、冷風を当ててセットが完了するまでの時間(セット時間)は、5分以内であることが好ましく、2分以内であることがより好ましい。また、下限の時間は特に制限されないが、45秒以上の時間をとることが好ましい。セット時間を一定以上とることで、層中の成分が十分に混合しうる。一方、セット時間を短時間とすることにより、金属酸化物粒子の層間拡散を防止し、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を所望のものとすることができる。なお、高屈折率層と低屈折率層との間の境界面において高弾性化が素早く起こる場合には、セット工程を設けなくとも好適な界面を形成することができる。   The time (setting time) from the time of application to the completion of setting by applying cold air is preferably within 5 minutes, and more preferably within 2 minutes. Further, the lower limit time is not particularly limited, but it is preferable to take 45 seconds or more. By setting the set time to a certain value or more, the components in the layer can be sufficiently mixed. On the other hand, by setting the setting time to a short time, it is possible to prevent interlayer diffusion of the metal oxide particles and to make a desired refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer. In the case where high elasticity occurs quickly at the interface between the high refractive index layer and the low refractive index layer, a suitable interface can be formed without providing a setting step.

なお、セット時間は、水溶性樹脂の濃度や金属酸化物粒子の濃度を変更することの他、ゼラチン、ペクチン、寒天、カラギ−ナン、ゲランガム等の各種公知のゲル化剤など他の成分を添加することにより調整することができる。   In addition to changing the concentration of water-soluble resin and the concentration of metal oxide particles, the set time is added with other components such as various known gelling agents such as gelatin, pectin, agar, carrageenan and gellan gum. It can be adjusted by doing.

セット工程において使用される冷風の温度は、0〜25℃であることが好ましく、5〜10℃であることがより好ましい。また、塗膜が冷風に晒される時間は、塗膜の搬送速度にもよるが、好ましくは10〜360秒、より好ましくは10〜300秒、さらに好ましくは10〜120秒である。   The temperature of the cold air used in the setting step is preferably 0 to 25 ° C, and more preferably 5 to 10 ° C. The time for which the coating film is exposed to cold air is preferably 10 to 360 seconds, more preferably 10 to 300 seconds, and still more preferably 10 to 120 seconds, although it depends on the transport speed of the coating film.

高屈折率層形成用塗布液および低屈折率層形成用塗布液の塗布厚は、上記で示したような好ましい乾燥時の厚みとなるように塗布すればよい。   What is necessary is just to apply | coat so that the coating thickness of the coating liquid for high refractive index layer formation and the coating liquid for low refractive index layer formation may become the preferable thickness at the time of drying as shown above.

本発明に係る光学反射フィルムが赤外光を反射する赤外遮蔽フィルムである場合には、低屈折率層と高屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本形態では、低屈折率層および高屈折率層から構成される積層ユニットの少なくとも1つにおいて、隣接する低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が0.1以上であることが好ましく、0.3以上であることがより好ましく、0.35以上であることがさらに好ましく、0.4以上であることが特に好ましい。高屈折率層および低屈折率層の積層体を複数有する場合には、全ての積層体における高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、この場合でも誘電多層膜の最上層や最下層を構成する屈折率層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。   When the optical reflective film according to the present invention is an infrared shielding film that reflects infrared light, it is possible to design a large difference in refractive index between the low refractive index layer and the high refractive index layer with a small number of layers. It is preferable from the viewpoint that the infrared reflectance can be increased. In this embodiment, in at least one of the laminated units composed of the low refractive index layer and the high refractive index layer, the difference in refractive index between the adjacent low refractive index layer and high refractive index layer may be 0.1 or more. Preferably, it is 0.3 or more, more preferably 0.35 or more, and particularly preferably 0.4 or more. In the case of having a plurality of laminated bodies of high refractive index layers and low refractive index layers, it is preferable that the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer in all the laminated bodies is within the above-mentioned preferable range. However, even in this case, the refractive index layers constituting the uppermost layer and the lowermost layer of the dielectric multilayer film may have a configuration outside the above preferred range.

本形態の光学反射フィルムの光学特性として、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率が50%以上であることが好ましく、より好ましくは75%以上であり、さらに好ましくは85%以上である。また、波長900nm〜1400nmの領域に反射率50%を超える領域を有することが好ましい。   As an optical characteristic of the optical reflective film of the present embodiment, the transmittance in the visible light region shown in JIS R3106-1998 is preferably 50% or more, more preferably 75% or more, and further preferably 85% or more. is there. Moreover, it is preferable to have the area | region exceeding a reflectance of 50% in the area | region of wavelength 900nm-1400nm.

誘電体多層膜の屈折率層の層数(高屈折率層および低屈折率層の総層数)としては、上記の観点から、例えば、6〜500層であり、6〜300層であることが好ましい。また、特に湿式製膜法で作製する場合、6〜50層であることが好ましく、8〜40層であることがより好ましく、9〜30層であることがさらに好ましく、11〜31層であることが特に好ましい。誘電体多層膜の屈折率層の層数が上記範囲にあると、優れた遮熱性能および透明性、膜剥がれやひび割れの抑制等が実現されうることから好ましい。なお、誘電体多層膜が、複数の高屈折率層および/または低屈折率層を有する場合には、各高屈折率層お よび/または各低屈折率層はそれぞれ同じものであっても、異なるものであってもよい。   From the above viewpoint, the number of refractive index layers of the dielectric multilayer film (total number of high refractive index layers and low refractive index layers) is, for example, 6 to 500 layers, and 6 to 300 layers. Is preferred. Moreover, when producing especially by a wet film forming method, it is preferable that it is 6-50 layers, It is more preferable that it is 8-40 layers, It is more preferable that it is 9-30 layers, It is 11-31 layers It is particularly preferred. It is preferable that the number of refractive index layers of the dielectric multilayer film is in the above range because excellent heat shielding performance and transparency, suppression of film peeling and cracking, and the like can be realized. In the case where the dielectric multilayer film has a plurality of high refractive index layers and / or low refractive index layers, each high refractive index layer and / or each low refractive index layer may be the same, It may be different.

高屈折率層の1層当たりの厚さは、20〜800nmであることが好ましく、50〜500nmであることがより好ましい。また、低屈折率層の1層当たりの厚さは、20〜800nmであることが好ましく、50〜500nmであることがより好ましい。   The thickness per layer of the high refractive index layer is preferably 20 to 800 nm, and more preferably 50 to 500 nm. Further, the thickness per layer of the low refractive index layer is preferably 20 to 800 nm, and more preferably 50 to 500 nm.

ここで、1層あたりの厚さを測定する場合、高屈折率層および低屈折率層の境界において明確な界面を持たず、連続的に組成が変化する場合がある。このような組成が連続的に変化するような界面領域においては、最大屈折率−最小屈折率=Δnとした場合、2層間の最小屈折率+Δn/2の地点を層界面とみなすものとする。   Here, when measuring the thickness per layer, the composition may change continuously without having a clear interface at the boundary between the high refractive index layer and the low refractive index layer. In such an interface region where the composition changes continuously, when the maximum refractive index−minimum refractive index = Δn, the point where the minimum refractive index between two layers + Δn / 2 is regarded as the layer interface.

なお、高屈折率層および低屈折率層が金属酸化物粒子を含む場合には、当該金属酸化物粒子の濃度プロファイルにより上記組成を観察することができる。当該金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、XPS表面分析装置を用いて、最表面を0nmとして、0.5nm/minの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで見ることができる。また、積層膜を切断して、切断面をXPS表面分析装置で原子組成比を測定することで確認してもよい。   In addition, when the high refractive index layer and the low refractive index layer contain metal oxide particles, the above composition can be observed from the concentration profile of the metal oxide particles. The metal oxide concentration profile is formed by etching from the surface to the depth direction using a sputtering method, and using an XPS surface analyzer, sputtering is performed at a rate of 0.5 nm / min, with the outermost surface being 0 nm. It can be seen by measuring the ratio. Further, the laminated film may be cut and the cut surface may be confirmed by measuring the atomic composition ratio with an XPS surface analyzer.

XPS表面分析装置は、特に制限されず、いかなる機種も使用することができる。当該XPS表面分析装置としては、例えば、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB−200Rを用いることができる。X線アノードにはMgを用い、出力600W(加速電圧15kV、エミッション電流40mA)で測定する。   The XPS surface analyzer is not particularly limited, and any model can be used. As the XPS surface analyzer, for example, ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific, Inc. can be used. Mg is used for the X-ray anode, and measurement is performed at an output of 600 W (acceleration voltage: 15 kV, emission current: 40 mA).

[ハードコート層]
本発明において、「ハードコート層」とは、JIS K 5600−5−4に準じた鉛筆硬度がHB以上の層であり、好ましくはH以上の層であり、より好ましくは2H以上の層である。ハードコート層の硬さは、折り曲げ等の外部応力がかかった際に層の破壊や剥がれなどが発生しない範囲で硬い方が耐傷性の点で好ましい。
[Hard coat layer]
In the present invention, the “hard coat layer” is a layer having a pencil hardness according to JIS K 5600-5-4 of HB or higher, preferably a layer of H or higher, more preferably a layer of 2H or higher. . The hardness of the hard coat layer is preferably in terms of scratch resistance as long as the layer is not damaged or peeled off when an external stress such as bending is applied.

本発明の光学反射フィルムにおいては、ハードコート層の膜厚は、1〜5μmであることが好ましく、1.5〜3μmであることがより好ましい。ハードコート層の膜厚を上記範囲とすることで、誘電体多層膜とのカールバランスをとりやすくなる。また、ハードコート層の膜厚が1μm以上であれば十分な硬度を維持することができ、5μm以下であれば、応力によってハードコート層が割れたり劣化したりすることを防ぐことができる。さらに、ハードコート層の膜厚が5μm以下であれば、より高い可視光透過率が得られうる。ハードコート層が紫外線硬化性樹脂として多官能ウレタンアクリレート、特には水酸基含有多官能ウレタンアクリレートから構成される樹脂を含有する場合、このような多官能ウレタンアクリレートは湿度変化による寸法変化が比較的大きいため、ハードコート層の膜厚を2μm以下にすると、環境中の湿度変化によるカール値の変動を所定の範囲に制御することが容易になるため好ましい。   In the optical reflective film of the present invention, the thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 5 μm, and more preferably 1.5 to 3 μm. By setting the film thickness of the hard coat layer within the above range, it becomes easy to achieve curl balance with the dielectric multilayer film. Moreover, if the film thickness of a hard-coat layer is 1 micrometer or more, sufficient hardness can be maintained, and if it is 5 micrometers or less, it can prevent that a hard-coat layer is cracked or deteriorated by stress. Furthermore, if the film thickness of the hard coat layer is 5 μm or less, higher visible light transmittance can be obtained. When the hard coat layer contains a resin composed of a polyfunctional urethane acrylate, particularly a hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate, as the ultraviolet curable resin, such a polyfunctional urethane acrylate has a relatively large dimensional change due to humidity change. It is preferable to set the film thickness of the hard coat layer to 2 μm or less because it becomes easy to control the fluctuation of the curl value due to the humidity change in the environment within a predetermined range.

また、本発明の光学反射フィルムにおいて、誘電体多層膜の膜厚に対するハードコート層の膜厚の比(ハードコート層の膜厚/誘電体多層膜の膜厚)は、0.2〜2であることが好ましく、0.5〜1.5であることがより好ましい。誘電体多層膜の膜厚に対するハードコート層の膜厚の比を上記範囲とすることで、誘電体多層膜とのカールバランスをとりやすくなる。その結果、より耐候性に優れる光学反射フィルムが得られうる。   In the optical reflection film of the present invention, the ratio of the thickness of the hard coat layer to the thickness of the dielectric multilayer film (thickness of the hard coat layer / thickness of the dielectric multilayer film) is 0.2-2. It is preferable that it is 0.5 to 1.5. By setting the ratio of the thickness of the hard coat layer to the thickness of the dielectric multilayer film within the above range, it becomes easy to achieve curl balance with the dielectric multilayer film. As a result, an optical reflection film having better weather resistance can be obtained.

ハードコート層の構成材料について特に制限はなく、従来公知の知見が参照されうる。ハードコート層は、例えば、ポリシロキサン系ハードコートに代表される無機系材料のほか、活性エネルギー線硬化樹脂等を使用することができる。   There is no restriction | limiting in particular about the constituent material of a hard-coat layer, A conventionally well-known knowledge can be referred. For the hard coat layer, for example, an active energy ray curable resin can be used in addition to an inorganic material typified by a polysiloxane hard coat.

(ポリシロキサン系ハードコート)
ポリシロキサン系ハードコートは、一般式RSi(OR’)で示されるものが出発原料である。RおよびR’は、炭素数1〜10のアルキル基を表し、mおよびnは、m+n=4の関係を満たす整数である。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−ポロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テロラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジ
メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−β−(N−アミノベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライドを用いることもできる。これらのメトキシ基、エトキシ基などの加水分解性基が水酸基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコートと称されている。これを基板上に塗布し、加熱硬化させることで、脱水縮合反応が促進し、硬化・架橋することで、ハードコート層が製膜される。これらのポリオルガノシロキサン系ハードコート中でも、加水分解によって脱離しない有機基がメチル基のものが最も耐候性が高い。また、メチル基であれば、ハードコート層の製膜後の表面にメチル基が均一かつ密に分布するため、転落角も低い。そのため、本用途では、メチルポリシロキサンを用いることが好ましい。
(Polysiloxane hard coat)
As the polysiloxane hard coat, a material represented by the general formula R m Si (OR ′) n is a starting material. R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and m and n are integers satisfying the relationship of m + n = 4. Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-polopoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, terapentaethoxy Silane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxy Silane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, dimethyl Dimethoxysilane, dimethyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like. In addition, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N-β- ( N-aminobenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane / hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloro Propyltrilimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, and octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride can also be used. A state in which a hydrolyzable group such as methoxy group or ethoxy group is substituted with a hydroxyl group is generally called a polyorganosiloxane hard coat. When this is applied on a substrate and cured by heating, the dehydration condensation reaction is promoted, and the hard coat layer is formed by curing and crosslinking. Among these polyorganosiloxane hard coats, those having an organic group that is not eliminated by hydrolysis are methyl groups have the highest weather resistance. Moreover, if it is a methyl group, since the methyl group is uniformly and densely distributed on the surface after the hard coat layer is formed, the falling angle is also low. Therefore, in this application, it is preferable to use methylpolysiloxane.

前記ポリオルガノシロキサン系ハードコートとして具体的には、サーコートシリーズ(動研製)、SR2441(東レ・ダウコーニング社)、Perma‐NewTM 6000(California Hardcoating Company)などを利用することができる。 Specific examples of the polyorganosiloxane hard coat include Surcoat Series (manufactured by Doken), SR2441 (Toray Dow Corning), Perma-New TM 6000 (California Hardcoating Company), and the like.

(活性エネルギー線硬化樹脂)
ハードコート層の形成材料として、活性エネルギー線硬化樹脂のような樹脂成分を使用することも好ましい。活性エネルギー線樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。
(Active energy ray curable resin)
It is also preferable to use a resin component such as an active energy ray curable resin as a material for forming the hard coat layer. The active energy ray resin refers to a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active rays such as ultraviolet rays or electron beams. As the active energy ray curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and the active energy ray curable resin layer is cured by irradiation with an active ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. It is formed. Typical examples of the active energy ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and a resin curable by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも以下に示すようなアクリレート系のものが好ましく、特には紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂が好ましい。なお、これらの樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used. Among them, acrylates as shown below are preferable, and ultraviolet curable urethane acrylate resins are particularly preferable. In addition, these resin may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本明細書に使用される用語「(メタ)アクリレート」とは、アクリレートまたはメタアクリレートを意味する。本発明において、(メタ)アクリレートは、モノマー、オリゴマー、プレポリマーのいずれであってもよく、特に制限されるものではない。(メタ)アクリレートは、単官能(メタ)アクリレートでも2官能以上の多官能(メタ)アクリレートでもよく、極性基を有する分子構造でもよいし低極性分子構造でもよい。本発明においては、2官能以上、特には3官能以上の多官能(メタ)アクリレートを使用することが好ましく、これによってハードコート層の耐摩耗性を向上させることができる。また、多官能(メタ)アクリレートを使用することで、高分子の網目構造をより複雑にすることができ、ハードコート層の硬度および密着性を確保できるものと考えられる。これらの(メタ)アクリレートは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせてもよい。   As used herein, the term “(meth) acrylate” means acrylate or methacrylate. In the present invention, the (meth) acrylate may be any of a monomer, an oligomer, and a prepolymer, and is not particularly limited. The (meth) acrylate may be a monofunctional (meth) acrylate or a bifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate, and may have a molecular structure having a polar group or a low-polar molecular structure. In the present invention, it is preferable to use a polyfunctional (meth) acrylate having 2 or more functional groups, particularly 3 or more functional groups, whereby the wear resistance of the hard coat layer can be improved. In addition, it is considered that the use of polyfunctional (meth) acrylate can make the polymer network structure more complex, and ensure the hardness and adhesion of the hard coat layer. These (meth) acrylates may be used alone or in combination of two or more.

極性基を有する分子構造の(メタ)アクリレートの極性基としては、水酸基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基等を挙げることができる。水酸基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等が挙げられる。カルボキシル基含有(メタ)アクリレートとしては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸などのエチレン性不飽和カルボン酸の他、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等が挙げられる。アミド基含有の(メタ)アクリレートとしては、例えば(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミドなどのアクリルアミド類等が挙げられる。アミノ基含有又はその他の(メタ)アクリレートとしては、例えば(メタ)アクリル酸モノメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸モノエチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸モノメチルアミノプロピル、(メタ)アクリル酸モノエチルアミノプロピルなどの(メタ)アクリル酸モノアルキルアミノエステルの他、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the polar group of the (meth) acrylate having a molecular structure having a polar group include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amide group, and an amino group. Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, Such as 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, glycerol mono (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, etc. Examples include (meth) acrylic acid hydroxyalkyl esters. Examples of the carboxyl group-containing (meth) acrylate include, for example, ethylenically unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, Examples include 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, and the like. Examples of amide group-containing (meth) acrylates include acrylamides such as (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, and N-methylol (meth) acrylamide. Examples of amino group-containing or other (meth) acrylates include, for example, monomethylaminoethyl (meth) acrylate, monoethylaminoethyl (meth) acrylate, monomethylaminopropyl (meth) acrylate, monoethylamino (meth) acrylate In addition to (meth) acrylic acid monoalkylamino esters such as propyl, diethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminomethyl (meth) acrylate and the like can be mentioned.

低極性分子構造の(メタ)アクリレートとしては、脂環式のものと脂環式以外のものを挙げることができる。脂環式(メタ)アクリレートとしては、例えばシクロヘキシルアクリレート、イソボロニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシクロペンタジエニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、ノルボルニルアクリレート等が挙げられる。その他の(メタ)アクリレートとしては、例えばラウリルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、イソデシルアクリレート、ベンジルアクリレート、ステアリルアクリレート、1,6−へキサンジオールアクリレート、ブチルアクリレート、スチレンモノマーが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylate having a low polar molecular structure include alicyclic and non-alicyclic ones. Examples of the alicyclic (meth) acrylate include cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate, dicyclopentadienyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, norbornyl acrylate, and the like. Examples of other (meth) acrylates include lauryl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isodecyl acrylate, benzyl acrylate, stearyl acrylate, 1,6-hexanediol acrylate, butyl acrylate, and styrene monomer.

(メタ)アクリレートを構成する(メタ)アクリレート系モノマーは、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよいが、これらの中で、骨格構造に環状構造を有するものを含有することが好ましい。環状構造は、炭素環式構造でも、複素環式構造でもよく、また、単環式構造でも多環式構造でもよい。   As the (meth) acrylate monomer constituting the (meth) acrylate, only one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. Among these, the skeleton structure has a cyclic structure. It is preferable to contain a thing. The cyclic structure may be a carbocyclic structure or a heterocyclic structure, and may be a monocyclic structure or a polycyclic structure.

多官能(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えばペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールテトラ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレートが好ましく用いられうる。また、例えばジ(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレートなどのイソシアヌレート構造を有するもの、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、エチレンオキサイド変性ヘキサヒドロフタル酸ジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、アダマンタンジアクリレートなどが好適である。   Examples of polyfunctional (meth) acrylate monomers include pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri and tetraacrylate, dipentaerythritol penta and hexaacrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate. Polyfunctional (meth) acrylates such as tetramethyloltetra (meth) acrylate can be preferably used. Further, for example, those having an isocyanurate structure such as di (acryloxyethyl) isocyanurate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, dimethylol dicyclopentane diacrylate, ethylene oxide-modified hexahydrophthalic acid diacrylate, tricyclode Candimethanol acrylate, neopentyl glycol-modified trimethylolpropane diacrylate, adamantane diacrylate, and the like are suitable.

紫外線硬化型樹脂を構成する(メタ)アクリレートモノマーは、(メタ)アクリレート系オリゴマーであってもよい。このような(メタ)アクリレート系オリゴマーの例としては、ポリエステル(メタ)アクリレート系、エポキシ(メタ)アクリレート系、ウレタン(メタ)アクリレート系(「ウレタンアクリレート」とも称する)、ポリエーテル(メタ)アクリレート系、ポリブタジエン(メタ)アクリレート系、シリコーン(メタ)アクリレート系などが挙げられる。   The (meth) acrylate monomer constituting the ultraviolet curable resin may be a (meth) acrylate oligomer. Examples of such (meth) acrylate oligomers include polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (also referred to as “urethane acrylate”), and polyether (meth) acrylate. , Polybutadiene (meth) acrylates, silicone (meth) acrylates, and the like.

本発明においてハードコート層は、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂を含むことが好ましい。紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂を構成するウレタンアクリレートは、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号公報に記載の、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂としては、市販品を用いてもよく、市販品としては、ビームセット(登録商標)575、577(荒川化学工業株式会社製)、紫光(登録商標)UVシリーズなどを挙げることができる。本明細書中、ウレタンアクリレートは、モノマー、オリゴマー、プレポリマーのいずれであってもよく、特に制限されるものではない。   In the present invention, the hard coat layer preferably contains an ultraviolet curable urethane acrylate resin. The urethane acrylate constituting the ultraviolet curable urethane acrylate resin is generally obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer and further adding 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate). Can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part of Coronate L (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) described in JP-A-59-151110 is preferably used. It is done. Commercially available products may be used as the UV curable urethane acrylate resin, and as commercial products, Beamset (registered trademark) 575, 577 (manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.), Shikou (registered trademark) UV series, etc. Can be mentioned. In the present specification, the urethane acrylate may be any of a monomer, an oligomer, and a prepolymer, and is not particularly limited.

ウレタンアクリレートのガラス転移点は40〜100℃であることが好ましく、40〜90℃であることがさらに好ましく、40〜80℃であることが特に好ましい。ウレタンアクリレートのガラス転移点を当該範囲にすることによって、常温における塗膜硬度及び耐摩耗性が向上する。ウレタンアクリレートのガラス転移点が40℃以上であれば、ハードコート層の耐摩耗性及び塗膜硬度が向上しうる。ガラス転移点が100℃以下であれば、塗膜硬度が高くなりすぎて成型時に割れが発生する問題が生じにくい。ここで、ウレタンアクリレートのガラス転移点とは、示差走査熱量測定(DSC)法で測定した値をいう。   The glass transition point of urethane acrylate is preferably 40 to 100 ° C, more preferably 40 to 90 ° C, and particularly preferably 40 to 80 ° C. By setting the glass transition point of urethane acrylate within the above range, the coating film hardness and wear resistance at room temperature are improved. When the glass transition point of urethane acrylate is 40 ° C. or higher, the wear resistance and coating film hardness of the hard coat layer can be improved. If the glass transition point is 100 ° C. or lower, the coating film hardness becomes too high and the problem of cracking during molding hardly occurs. Here, the glass transition point of urethane acrylate refers to a value measured by a differential scanning calorimetry (DSC) method.

紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂の鉛筆硬度は3B以上であることが好ましく、2B以上であることがさらに好ましく、B以上であることが特に好ましい。紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂の鉛筆硬度を当該範囲にすることによって、ハードコート層の硬度が向上し耐摩耗性が向上するメリットがある。   The pencil hardness of the ultraviolet curable urethane acrylate resin is preferably 3B or more, more preferably 2B or more, and particularly preferably B or more. By setting the pencil hardness of the ultraviolet curable urethane acrylate resin within the above range, there is an advantage that the hardness of the hard coat layer is improved and the wear resistance is improved.

紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂の鉛筆硬度は、ウレタンアクリレートと光重合開始剤からなる組成物をガラス基板上に塗布し、組成物側から高圧水銀灯(80mW/cm)で照射距離20cm、積算光量800mJ/cmで紫外線照射する条件で硬化した厚さ10μmのフィルムをJIS K5400(荷重500g)で測定した値をいう。 The pencil hardness of the UV curable urethane acrylate resin is such that a composition comprising urethane acrylate and a photopolymerization initiator is applied on a glass substrate, and the irradiation distance is 20 cm from the composition side with a high-pressure mercury lamp (80 mW / cm 2 ). It refers to the value measured by JIS K5400 (load 500 g) on a 10 μm thick film cured under the condition of irradiating with ultraviolet rays at 800 mJ / cm 2 .

ウレタンアクリレートの官能基は単官能であっても2官能以上の多官能であってもよいが、2〜8官能であることが好ましく、2〜6官能であることがさらに好ましく、2〜3官能であることが特に好ましい。2〜8官能のウレタンアクリレートを使用することによってハードコート層の硬度及び伸び率のバランスが安定するメリットがある。ハードコート層の硬度と伸び率のバランスを取ることによって、ハードコート層の耐摩耗性が向上し、成形時の割れが生じにくい。また、2官能以上の多官能のウレタンアクリレートを使用することで、高分子の網目構造をより複雑にすることができ、ハードコート層の硬度および密着性を確保できるものと考えられる。ウレタンアクリレートは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The functional group of the urethane acrylate may be monofunctional or polyfunctional with 2 or more functions, but is preferably 2 to 8 functions, more preferably 2 to 6 functions, and more preferably 2 to 3 functions. It is particularly preferred that By using 2-8 functional urethane acrylate, there is a merit that the balance of hardness and elongation rate of the hard coat layer is stabilized. By balancing the hardness and elongation rate of the hard coat layer, the wear resistance of the hard coat layer is improved and cracking during molding is less likely to occur. In addition, it is considered that the use of a bifunctional or higher polyfunctional urethane acrylate can make the polymer network structure more complex and ensure the hardness and adhesion of the hard coat layer. Urethane acrylates may be used alone or in combination of two or more.

紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂を構成するウレタンアクリレートは、特には、ジイソシアネートおよび多価アルコールを有するアクリル酸やメタクリル酸から合成されるような水酸基含有多官能ウレタンアクリレートを含有することが好ましい。水酸基含有多官能ウレタンアクリレートを含有する紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂としては、ビームセット(登録商標)575、577(荒川化学工業株式会社製)、EBECRYL 8210(ダイセル・オルネックス株式会社製)などを挙げることができる。水酸基を含有することで、水素結合により基材との密着性が高められるため、温度や湿度の変化する環境下に長期間置かれた場合であってもハードコート性の密着性が維持される効果が向上しうる。   The urethane acrylate constituting the ultraviolet curable urethane acrylate resin particularly preferably contains a hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate synthesized from acrylic acid or methacrylic acid having a diisocyanate and a polyhydric alcohol. Examples of the ultraviolet curable urethane acrylate resin containing a hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate include Beamset (registered trademark) 575 and 577 (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.), EBECRYL 8210 (manufactured by Daicel Ornex Corporation), and the like. be able to. By containing a hydroxyl group, the adhesion to the substrate is enhanced by hydrogen bonding, so that the hard coat adhesion is maintained even when placed in an environment where the temperature and humidity change for a long time. The effect can be improved.

ハードコート層の樹脂成分100質量%に占める水酸基含有多官能ウレタンアクリレートの割合は特に制限されないが、10〜90質量%の範囲内にあることが好ましく、15〜60質量%の範囲内にあることがより好ましい。ハードコート層の樹脂成分中の水酸基含有多官能ウレタンアクリレートの量が10質量%以上であれば、ハードコート層の柔軟性を維持しつつ層の耐摩耗性を向上させることができる。また、ハードコート層に含まれる水酸基含有多官能ウレタンアクリレートの量が90質量%以下であれば、ハードコート層の耐摩耗性および塗膜硬度を維持しつつ、層の柔軟性を向上させることができる。   The ratio of the hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate in 100% by mass of the resin component of the hard coat layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 90% by mass, and in the range of 15 to 60% by mass. Is more preferable. When the amount of the hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate in the resin component of the hard coat layer is 10% by mass or more, the wear resistance of the layer can be improved while maintaining the flexibility of the hard coat layer. Further, if the amount of the hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate contained in the hard coat layer is 90% by mass or less, the flexibility of the layer can be improved while maintaining the wear resistance and the coating film hardness of the hard coat layer. it can.

また、ハードコート層が樹脂成分を含む場合の特に好ましい実施形態として、樹脂成分100質量%に占める水酸基含有多官能ウレタンアクリレートの割合が50質量%以上であるとよい。この割合は、より好ましくは50〜90質量%であり、さらに好ましくは60〜85質量%である。かような構成とすることにより、基材とハードコート層との密着性が向上するという利点が得られる。   Moreover, as a particularly preferable embodiment when the hard coat layer contains a resin component, the ratio of the hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate in 100% by mass of the resin component is preferably 50% by mass or more. This ratio is more preferably 50 to 90% by mass, and further preferably 60 to 85% by mass. By setting it as such a structure, the advantage that the adhesiveness of a base material and a hard-coat layer improves is acquired.

(光重合開始剤)
ハードコート層の形成材料として、活性エネルギー線硬化樹脂のような樹脂成分を使用する場合、ハードコート層には光重合開始剤を含有させることができる。光重合開始剤を含有させることによって、活性エネルギー線(紫外線)照射によるハードコート層の重合硬化反応を短時間に行うことができる。
(Photopolymerization initiator)
When a resin component such as an active energy ray curable resin is used as a material for forming the hard coat layer, the hard coat layer can contain a photopolymerization initiator. By containing a photopolymerization initiator, the polymerization and curing reaction of the hard coat layer by irradiation with active energy rays (ultraviolet rays) can be performed in a short time.

光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンジル、ミヒラーズケトン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパノン−1、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)チタニウム、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1,2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。また、これらの化合物は、各単体で用いてもよく、複数混合して用いてもよい。   Examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, benzyl, Michler's ketone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2,2-diethoxyacetophenone, benzyldimethyl ketal, 2 , 2-Dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- ( Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, bis (cyclopentadienyl) ) -Bis (2,6-difluo) -3- (pyr-1-yl) titanium, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis ( 2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, etc. These compounds may be used alone or in combination.

ハードコート層の固形分中に含有する光重合開始剤は、ハードコート層の全固形分中、0.01〜10質量%であることが好ましく、0.1〜7質量%であることがさらに好ましく、0.1〜5質量%配合されることが特に好ましい。光重合開始剤の含有量が0.01質量%以上であれば、十分な光硬化性が得られうる。また、光重合開始剤の含有量が10質量%以下であれば、ハードコート層の着色の発生が抑制できる。   The photopolymerization initiator contained in the solid content of the hard coat layer is preferably 0.01 to 10% by mass and more preferably 0.1 to 7% by mass in the total solid content of the hard coat layer. It is particularly preferable that 0.1 to 5% by mass is blended. If the content of the photopolymerization initiator is 0.01% by mass or more, sufficient photocurability can be obtained. Moreover, if content of a photoinitiator is 10 mass% or less, generation | occurrence | production of coloring of a hard-coat layer can be suppressed.

また、光重合開始剤を用いる場合、光硬化性を向上させるために公知の各種染料や増感剤を添加することも可能である。さらにハードコート層を加熱により硬化させることのできる熱重合開始剤を光重合開始剤と併用することもできる。この場合、光硬化の後に加熱することによりハードコート層の重合硬化をさらに促進することが期待できる。   Moreover, when using a photoinitiator, in order to improve photocurability, it is also possible to add well-known various dyes and a sensitizer. Further, a thermal polymerization initiator capable of curing the hard coat layer by heating can be used in combination with the photopolymerization initiator. In this case, it can be expected to further accelerate polymerization and curing of the hard coat layer by heating after photocuring.

上記熱重合開始剤としては、特に限定されず、熱により分解し、重合硬化を開始する活性ラジカルを発生するものが挙げられる。例えば、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエール、t−ブチルハイドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメンタンハイドロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド等を使用することができる。また、熱重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、パーブチルD、パーブチルH、パーブチルP、パーメンタH(いずれも日本油脂社製)等が好適に用いられる。これらの熱重合開始剤は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。   The thermal polymerization initiator is not particularly limited, and includes those that decompose by heat and generate active radicals that initiate polymerization and curing. For example, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl peroxybenzoyl, t-butyl hydroperoxide, benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, paramentane hydroperoxide Di-t-butyl peroxide and the like can be used. Moreover, as what is marketed among thermal polymerization initiators, for example, perbutyl D, perbutyl H, perbutyl P, permenta H (all manufactured by NOF Corporation) and the like are preferably used. These thermal polymerization initiators may be used independently and 2 or more types may be used together.

((メタ)アクリル変性シリコーン化合物)
本発明の光学反射フィルムにおいて、ハードコート層は、(メタ)アクリル変性シリコーン化合物を含んでもよい。ここで「(メタ)アクリル変性シリコーン化合物」とは、シリコーン骨格の側鎖や末端などの任意(好ましくは末端(片末端または両末端)、より好ましくは両末端)の位置に(メタ)アクリル基が導入されてなる化合物であり、この化合物自体としては従来公知のものが適宜用いられうる。(メタ)アクリル変性シリコーン化合物の具体例としては、TEGORad2010/Rad2011(EVONIC社製)、SQ100/SQ200(トクシキ社製)、CN990/CN9800(サートマー社製)、EBECRYL350(ダイセル・オルネックス社製)、X−22−2445/X−22−1602(両末端アクリレートシリコン)、X−22−164/X−22−164AS/X−22−164A/X−22−164B/X−22−164C/X−22−164E(両末端メタクリレートシリコン)、X−22−174ASX/X−22−174BX/KF−2012/X−22−2426/X−22−2475(片末端メタクリレートシリコン)(以上、信越化学工業社製)、BYK UV−3500/BYK UV−3570(ビックケミー・ジャパン社製)などが挙げられる。また、(メタ)アクリルオキシプロピル末端ポリジメチルシロキサン、[(メタ)アクリルオキシプロピル]メチルシロキサン、[(メタ)アクリルオキシプロピル]メチルシロキサンとジメチルシロキサンの共重合体等も用いられうる。なお、これらの化合物の(メタ)アクリル基の末端にメチル基が導入されているものも使用できる。1分子中の官能基数は2つ以上が好ましいが官能基数が1つのものでもかまわない。官能基当量は100〜1000が好ましい範囲であり、この範囲であれば、得られたハードコート層のタック性および硬化物の耐熱性が良好になる。
((Meth) acrylic modified silicone compound)
In the optical reflective film of the present invention, the hard coat layer may contain a (meth) acryl-modified silicone compound. Here, the “(meth) acryl-modified silicone compound” means a (meth) acryl group at an arbitrary position (preferably terminal (one terminal or both terminals), more preferably both terminals) such as a side chain or terminal of the silicone skeleton. As a compound itself, a conventionally known compound can be appropriately used. Specific examples of the (meth) acryl-modified silicone compound include TEGORad2010 / Rad2011 (manufactured by EVONIC), SQ100 / SQ200 (manufactured by Tokushiki), CN990 / CN9800 (manufactured by Sartomer), EBECRYL350 (manufactured by Daicel Ornex), X -22-2445 / X-22-1602 (Both-terminal acrylate silicon), X-22-164 / X-22-164AS / X-22-164A / X-22-164B / X-22-164C / X-22 -164E (both ends methacrylate silicon), X-22-174ASX / X-22-174BX / KF-2012 / X-22-2426 / X-22-2475 (single end methacrylate silicon) (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ), BYK UV-3500 / BYK UV 3570 (manufactured by BYK Japan KK), and the like. Further, (meth) acryloxypropyl-terminated polydimethylsiloxane, [(meth) acryloxypropyl] methylsiloxane, a copolymer of [(meth) acryloxypropyl] methylsiloxane and dimethylsiloxane, and the like can also be used. In addition, those in which a methyl group is introduced at the terminal of the (meth) acryl group of these compounds can also be used. The number of functional groups in one molecule is preferably 2 or more, but one having 1 functional group may be used. The functional group equivalent is preferably in the range of 100 to 1000. Within this range, the tackiness of the obtained hard coat layer and the heat resistance of the cured product are improved.

ハードコート層に含まれる(メタ)アクリル変性シリコーン化合物の含有量は、例えば、0.001〜3質量%である。(メタ)アクリル変性シリコーン化合物の含有量が0.001質量%以上であれば、はじき・凹みなどの塗布欠陥に起因するクラックの発生や耐擦傷性の低下を十分に抑制することができる。一方、(メタ)アクリル変性シリコーン化合物の含有量が3質量%以下であれば、やはりハードコート層が割れにくく、クラックが発生しにくい。なお、ハードコート層に含まれる(メタ)アクリル変性シリコーン化合物の含有量は、より好ましくは0.01〜1質量%であり、さらに好ましくは0.03〜0.5質量%である。   The content of the (meth) acryl-modified silicone compound contained in the hard coat layer is, for example, 0.001 to 3% by mass. When the content of the (meth) acryl-modified silicone compound is 0.001% by mass or more, the occurrence of cracks and a decrease in scratch resistance due to coating defects such as repellency and dents can be sufficiently suppressed. On the other hand, if the content of the (meth) acryl-modified silicone compound is 3% by mass or less, the hard coat layer is hardly broken and cracks are hardly generated. The content of the (meth) acryl-modified silicone compound contained in the hard coat layer is more preferably 0.01 to 1% by mass, and still more preferably 0.03 to 0.5% by mass.

(赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子)
ハードコート層は、赤外線を吸収する赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子を含むことが好ましい。このような構成とすることにより、光学反射フィルムの赤外遮蔽効果を向上させることができる。また、ハードコート層が赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子を含むことにより、ハードコート層の基材に対する密着性が向上し、光学反射フィルムの耐擦傷性を向上させることができる。また、紫外線を吸収して熱に変える性質があり、これによりハードコート層の密着性を高め、クラックの発生を抑制する効果を与えるものと考えられる。なお、本発明において「ナノ粒子」とは、平均(一次)粒径が1000nm以下である粒子を指し、平均粒径が1〜500nmの範囲にあるものがより好ましく、1〜100nmの範囲にあるものがさらに好ましい。上記のようなナノ粒子であることで、ハードコート層の可視光線の透過性が確保される。粒径は、透過型電子顕微鏡などの観察手段を用いて観察される粒子(観察面)の輪郭線上の任意の2点間の距離のうち最大の距離を意味する。平均粒径の値としては、透過型電子顕微鏡などの観察手段を用い、数〜数十視野中に観察される粒子の粒径の個数平均値として算出される値を用いる。
(Infrared absorbing metal oxide nanoparticles)
The hard coat layer preferably contains infrared absorbing metal oxide nanoparticles that absorb infrared rays. By setting it as such a structure, the infrared shielding effect of an optical reflection film can be improved. Moreover, when the hard coat layer contains infrared-absorbing metal oxide nanoparticles, the adhesion of the hard coat layer to the substrate can be improved, and the scratch resistance of the optical reflective film can be improved. In addition, it has the property of absorbing ultraviolet rays and converting it into heat, which is considered to increase the adhesion of the hard coat layer and give the effect of suppressing the occurrence of cracks. In the present invention, the “nanoparticle” means a particle having an average (primary) particle size of 1000 nm or less, more preferably having an average particle size in the range of 1 to 500 nm, and in the range of 1 to 100 nm. More preferred. By being a nanoparticle as described above, the visible light transmittance of the hard coat layer is ensured. The particle diameter means the maximum distance among the distances between any two points on the outline of the particle (observation surface) observed using an observation means such as a transmission electron microscope. As the value of the average particle diameter, a value calculated as the number average value of the particle diameters of particles observed in several to several tens of fields using an observation means such as a transmission electron microscope is used.

赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子が、ナノ粒子であることで、ハードコート層の可視光線の透過性が確保される。このような赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子としては、スズ、アンチモン、インジウム、チタン、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、ホウ素、セリウム、タングステン、ニッケル、バナジウム、および亜鉛の、酸化物およびドープト酸化物、ならびにこれらの混合物が挙げられる。より具体的には、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、インジウムドープト酸化スズ(ITO)、アンチモンドープト酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、アンチモンドープト酸化スズ(ATO)、酸化チタン、酸化亜鉛、アンチモンドープト酸化亜鉛(AZO)、インジウムドープト酸化亜鉛(IZO)、ガリウムドープト酸化亜鉛(GZO)、アルミニウムドープト酸化亜鉛、酸化珪素、アルミナ、ジルコニア、ホウ素化ランタン、酸化セリウム、酸化バナジウム、酸化ニッケル、酸化タングステン、セシウムドープト酸化タングステン(CWO)、またはこれらの混合物が挙げられる。他にもCd/Se、GaN、Y、Au、Ag、Cuを含む酸化物ナノ粒子も利用可能である。 Since the infrared-absorbing metal oxide nanoparticles are nanoparticles, the visible light transmittance of the hard coat layer is ensured. Such infrared absorbing metal oxide nanoparticles include tin, antimony, indium, titanium, silicon, aluminum, zirconium, boron, cerium, tungsten, nickel, vanadium, and zinc oxides and doped oxides, and These mixtures are mentioned. More specifically, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, indium doped tin oxide (ITO), antimony doped indium tin oxide, antimony tin oxide, antimony doped tin oxide (ATO), titanium oxide, zinc oxide, Antimony-doped zinc oxide (AZO), indium-doped zinc oxide (IZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), aluminum-doped zinc oxide, silicon oxide, alumina, zirconia, lanthanum boride, cerium oxide, vanadium oxide, Examples include nickel oxide, tungsten oxide, cesium doped tungsten oxide (CWO), or a mixture thereof. In addition, oxide nanoparticles containing Cd / Se, GaN, Y 2 O 3 , Au, Ag, and Cu can also be used.

なお、本明細書にて他の金属でドープされた化合物とは、化合物中に他の金属が混合されている状態、または化合物と他の金属(酸化物)とが結合している状態の双方を指す。   In addition, in this specification, the compound doped with another metal means both a state where another metal is mixed in the compound or a state where the compound and another metal (oxide) are bonded. Point to.

赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子の配合量は、ハードコート層の構成成分の全量(固形分換算)に対して、20〜50質量%であることが好ましく、30〜40質量%であることがより好ましい。赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子の含有量がかような範囲にあることで、ハードコート性と赤外光遮蔽性との両立がしやすくなる。また、赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子の配合量が20質量%以上であれば、ハードコート層の密着性が高められ、クラックの発生を防ぐ効果が高い。一方、赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子の配合量が50質量%以下であれば、ハードコート層の脆性が低下しにくいため、寸法変化によって割れが生じることを抑制できる。また、光学反射フィルムにおいて、より高い可視光透過率が得られうる。   The compounding amount of the infrared absorbing metal oxide nanoparticles is preferably 20 to 50% by mass, and preferably 30 to 40% by mass with respect to the total amount of the constituent components of the hard coat layer (solid content conversion). More preferred. When the content of the infrared-absorbing metal oxide nanoparticles is in such a range, it becomes easy to achieve both hard coat properties and infrared light shielding properties. Moreover, if the compounding quantity of an infrared absorptive metal oxide nanoparticle is 20 mass% or more, the adhesiveness of a hard-coat layer will be improved and the effect which prevents generation | occurrence | production of a crack will be high. On the other hand, if the blending amount of the infrared-absorbing metal oxide nanoparticles is 50% by mass or less, the brittleness of the hard coat layer is difficult to be lowered, so that the occurrence of cracks due to dimensional changes can be suppressed. Moreover, a higher visible light transmittance can be obtained in the optical reflection film.

ハードコート層には、好ましくは上記のような赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子を含むが、本発明の効果を損なわない限り、耐候性や吸収スペクトルの観点から、ナノ粒子以外の他の赤外線吸収剤を混合して使用してもよい。例えば、ホウ素化ランタン、ニッケル錯体系化合物、イモニウム系、フタロシアニン系、アミニウム系化合物を利用することができる。他の赤外線吸収剤のハードコート層中の配合量は、好ましくは5質量%以下であり、より好ましくは3質量%以下であり、最も好ましくは0質量%である。   The hard coat layer preferably contains the infrared-absorbing metal oxide nanoparticles as described above, but from the viewpoint of weather resistance and absorption spectrum, other infrared absorptions other than the nanoparticles unless the effects of the present invention are impaired. You may mix and use an agent. For example, lanthanum boride, nickel complex compounds, imonium compounds, phthalocyanine compounds, and aminium compounds can be used. The blending amount of the other infrared absorber in the hard coat layer is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and most preferably 0% by mass.

前記ハードコート層は、好ましくは、水酸基含有多官能ウレタンアクリレート、光重合開始剤、および赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子を含む組成物を硬化させてなる層である。このようなハードコート層とすることで、耐候性、密着性を高める効果が向上しうる。   The hard coat layer is preferably a layer formed by curing a composition containing a hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate, a photopolymerization initiator, and infrared absorbing metal oxide nanoparticles. By setting it as such a hard-coat layer, the effect which improves a weather resistance and adhesiveness can improve.

ハードコート層の形成方法について特に制限はなく、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングによる塗布などの手法によって形成することができる。また、蒸着などの乾式製膜法でも形成することができる。また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布・製膜することは可能である。なお、ポリシロキサン系ハードコートの場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、該ハードコートの硬化・架橋を促進するため、50℃以上、150℃以下の温度で30分〜数日間の熱処理を必要とする。一方、活性エネルギー線硬化樹脂の場合、活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によってその反応性が変わるため、使用する樹脂によって最適な条件を選択する必要がある。   There is no restriction | limiting in particular about the formation method of a hard-coat layer, It can form by methods, such as coating by a wire bar, spin coating, and application | coating by dip coating. It can also be formed by a dry film forming method such as vapor deposition. Further, it is possible to apply and form a film using a continuous coating apparatus such as a die coater, a gravure coater, or a comma coater. In the case of a polysiloxane hard coat, after coating, the solvent is dried, and then heat treatment is performed at a temperature of 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower for 30 minutes to several days in order to promote curing and crosslinking of the hard coat. I need. On the other hand, in the case of an active energy ray curable resin, the reactivity changes depending on the irradiation wavelength, the illuminance, and the light amount of the active energy ray, so it is necessary to select the optimum conditions depending on the resin to be used.

中でも、ハードコート層は、有機溶剤を含有する塗布液を塗布し、乾燥させることにより形成されることが好ましい。有機溶剤を含有する塗布液を用いることで、基材へ塗布される際のはじき・凹みといった塗布欠陥をよりいっそう低減させることができる。その結果、これらの塗布欠陥に起因する耐擦傷性の低下やクラックの発生を防止することが容易になる。   Especially, it is preferable that a hard-coat layer is formed by apply | coating the coating liquid containing an organic solvent, and making it dry. By using a coating solution containing an organic solvent, it is possible to further reduce coating defects such as repellency and dents when coated on a substrate. As a result, it becomes easy to prevent the deterioration of scratch resistance and the occurrence of cracks due to these coating defects.

[その他の層]
(中間層)
本発明に係る光学反射フィルムは、上述した層以外の層(その他の層)を有していてもよい。例えば、その他の層として、中間層を設けることができる。ここで「中間層」とは、基材と誘電体多層膜との間の層や、基材とハードコート層との間の層を意味する。中間層の構成材料としては、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられ、添加剤の相溶性、Tgが低い物質が好ましいが、それを満たしていればいずれを用いてもよい。中間層のガラス転移温度(Tg)は、30〜120℃であれば、十分な耐候性が得られるため好ましく、より好ましくは、30〜90℃の範囲である。
[Other layers]
(Middle layer)
The optical reflective film according to the present invention may have a layer (other layers) other than the layers described above. For example, an intermediate layer can be provided as the other layer. Here, the “intermediate layer” means a layer between the base material and the dielectric multilayer film, or a layer between the base material and the hard coat layer. Examples of the constituent material of the intermediate layer include polyester resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl acetal resin, acrylic resin, urethane resin, and the like. Any of them may be used as long as they are satisfied. The glass transition temperature (Tg) of the intermediate layer is preferably 30 to 120 ° C because sufficient weather resistance can be obtained, and more preferably in the range of 30 to 90 ° C.

(粘着層)
また、本発明に係る光学反射フィルムは、粘着層を有していてもよい。この粘着層は通常、誘電体多層膜の基材とは反対側の面に設けられ、さらに公知の剥離紙またはセパレータがさらに設けられていてもよい。粘着層の構成としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。
(Adhesive layer)
Moreover, the optical reflection film according to the present invention may have an adhesive layer. This pressure-sensitive adhesive layer is usually provided on the surface of the dielectric multilayer film opposite to the substrate, and a known release paper or separator may be further provided. The configuration of the adhesive layer is not particularly limited, and for example, any of a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat seal agent, a hot melt agent, and the like is used.

粘着剤としては、例えば、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリ酢酸ビニル系粘着剤、アクリル系粘着剤、ニトリルゴム等が用いられる。   Examples of the pressure-sensitive adhesive include polyester-based pressure-sensitive adhesives, urethane-based pressure-sensitive adhesives, polyvinyl acetate-based pressure-sensitive adhesives, acrylic pressure-sensitive adhesives, and nitrile rubber.

本発明の光学反射フィルムは、窓ガラスに貼り合わせる場合、窓に水を吹き付け、濡れた状態のガラス面に光学反射フィルムの粘着層を合わせる貼り方、いわゆる水貼り法が張り直し、位置直し等の観点で好適に用いられる。そのため、水が存在する湿潤下では粘着力が弱い、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。   When the optical reflective film of the present invention is bonded to a window glass, water is sprayed on the window, and a method of applying the adhesive layer of the optical reflective film to the wet glass surface, the so-called water pasting method is repositioned, repositioned, etc. From the viewpoint of, it is preferably used. For this reason, an acrylic pressure-sensitive adhesive that has a weak adhesive force in the presence of water is preferably used.

使用されるアクリル系粘着剤は、溶剤系およびエマルジョン系どちらでもよいが、粘着力等を高め易いことから、溶剤系粘着剤が好ましく、その中でも溶液重合で得られたものが好ましい。このような溶剤系アクリル系粘着剤を溶液重合で製造する場合の原料としては、例えば、骨格となる主モノマーとして、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクリルアクリレート等のアクリル酸エステル、凝集力を向上させるためのコモノマーとして、酢酸ビニル、アクリルニトリル、スチレン、メチルメタクリレート等、さらに架橋を促進し、安定した粘着力を付与させ、また水の存在下でもある程度の粘着力を保持するために官能基含有モノマーとして、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等が挙げられる。粘着層には、主ポリマーとして、特に高タック性を要するため、ブチルアクリレート等のような低いガラス転移温度(Tg)を有するものが特に有用である。   The acrylic pressure-sensitive adhesive used may be either solvent-based or emulsion-based, but is preferably a solvent-based pressure-sensitive adhesive because it is easy to increase the adhesive strength and the like, and among them, those obtained by solution polymerization are preferable. As a raw material when producing such a solvent-based acrylic pressure-sensitive adhesive by solution polymerization, for example, as a main monomer serving as a skeleton, an acrylic ester such as ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, acryl acrylate, As a comonomer to improve cohesive strength, vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, methyl methacrylate, etc., to further promote crosslinking, to give stable adhesive strength, and to maintain a certain level of adhesive strength even in the presence of water Examples of the functional group-containing monomer include methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, hydroxyethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate. Since the adhesive layer requires a particularly high tack property as the main polymer, those having a low glass transition temperature (Tg) such as butyl acrylate are particularly useful.

上記アクリル系粘着剤の市販品としては、たとえば、コーポニールシリーズ(日本合成化学社製)等が挙げられる。   As a commercial item of the said acrylic adhesive, Coponyl series (made by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

この粘着層には、添加剤として、例えば安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を含有させることもできる。特に、窓貼用として使用する場合は、紫外線による光学反射フィルムの劣化を抑制するためにも、紫外線吸収剤の添加は有効である。   This adhesive layer contains additives such as stabilizers, surfactants, UV absorbers, flame retardants, antistatic agents, antioxidants, thermal stabilizers, lubricants, fillers, coloring, adhesion modifiers, etc. It can also be made. In particular, when used for window sticking, the addition of an ultraviolet absorber is effective in order to suppress deterioration of the optical reflection film due to ultraviolet rays.

粘着剤の塗工方法としては、特に制限されず、任意の公知の方法が使用でき、例えば、バーコート法、ダイコーター法、グラビアロールコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター法、エアーナイフコート法、ディップコート法、転写法等が好ましく挙げられ、単独または組合せて用いることができるが、ロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。これらは適宜、粘着剤を溶解できる溶媒にて溶液にする、または分散させた塗布液を用いて塗工することが出来、溶媒としては公知の物を使用することが出来る。   The adhesive coating method is not particularly limited, and any known method can be used. For example, a bar coating method, a die coater method, a gravure roll coater method, a blade coater method, a spray coater method, an air knife coating method. A dip coating method, a transfer method, and the like are preferably mentioned, and they can be used alone or in combination. These can be appropriately formed into a solution in a solvent capable of dissolving the pressure-sensitive adhesive, or can be applied using a dispersed coating solution, and known solvents can be used.

また、粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常1〜100μm程度の範囲であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the thickness of an adhesion layer is the range of about 1-100 micrometers normally from viewpoints, such as an adhesion effect and a drying rate.

粘着力は、JISK6854記載の180°剥離試験にて測定した剥離強度が2〜30N/25mmであることが好ましく、4〜20N/25mmであることがより好ましい。   The adhesive strength is preferably 2 to 30 N / 25 mm, more preferably 4 to 20 N / 25 mm, as measured by a 180 ° peel test described in JIS K6854.

粘着層の形成は、先の塗工方式にて、直接誘電体多層膜に塗工してもよく、また、一度剥離フィルムに塗工して乾燥させた後、誘電体多層膜を貼り合せて粘着剤を転写させてもよい。この時の乾燥温度は、残留溶剤ができるだけ少なくなることが好ましく、そのためには乾燥温度や時間は特定されないが、好ましくは50〜150℃の温度で、10秒〜5分の乾燥時間を設けることがよい。また、粘着剤は流動性があるため、加熱乾燥直後はまだ反応が完結しておらず、その反応を完了させ、安定した粘着力を得るためにも養生が必要である。一般的には、室温で約1週間以上、加熱した場合、例えば50℃位であると3日以上が好ましい。加熱の場合、温度を上げすぎるとプラスチックフィルムの平面性が悪化するおそれがあるため、あまり上げすぎない方がよい。   The adhesive layer may be formed directly on the dielectric multilayer film by the previous coating method. Alternatively, the adhesive layer may be applied to a release film and dried, and then the dielectric multilayer film is bonded. The adhesive may be transferred. The drying temperature at this time is preferably such that the residual solvent is reduced as much as possible. For this purpose, the drying temperature and time are not specified, but preferably a drying time of 10 seconds to 5 minutes is provided at a temperature of 50 to 150 ° C. Is good. In addition, since the adhesive has fluidity, the reaction is not yet completed immediately after drying by heating, and curing is necessary to complete the reaction and obtain a stable adhesive force. In general, when heated at room temperature for about one week or longer, for example, about 50 ° C. is preferably 3 days or longer. In the case of heating, if the temperature is raised too much, the flatness of the plastic film may be deteriorated.

[光学反射フィルムの製造方法]
光学反射フィルムの製造方法について特に制限はなく、従来公知の知見が適宜参照されうる。ここで、誘電体多層膜自体の形成方法や、ハードコート層自体の形成方法についてはすでに上述したため、ここでは詳細な説明を省略する。
[Method for producing optical reflection film]
There is no restriction | limiting in particular about the manufacturing method of an optical reflection film, A conventionally well-known knowledge can be referred suitably. Here, since the formation method of the dielectric multilayer film itself and the formation method of the hard coat layer itself have already been described above, detailed description thereof is omitted here.

本発明に係る光学反射フィルムは、基材の一方の面に誘電体多層膜を形成し、その後、基材の他方の面にハードコート層を形成するものであることが好ましい。   The optical reflective film according to the present invention is preferably one in which a dielectric multilayer film is formed on one surface of a substrate, and then a hard coat layer is formed on the other surface of the substrate.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「%」の表示を用いる場合があるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" may be used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.

≪光学反射フィルムの作製≫
<実施例1>
(誘電体多層膜の作製)
107層を含有する誘電体多層膜を共押出法により連続フラットフィルム製造ラインで作製した。
≪Preparation of optical reflective film≫
<Example 1>
(Preparation of dielectric multilayer film)
A dielectric multilayer film containing 107 layers was produced on a continuous flat film production line by coextrusion.

誘電体多層膜は、75質量%のメタクリル酸メチル(MMA)モノマーと25質量%のアクリル酸エチル(EA)モノマーとから生成されるPMMAのコポリマー(coPMMA)(Ineos Acrylics,Inc.社製Perspex CP63)、およびPMMA(イーストマン・ケミカルズ社製)から作製した。フィードブロック法を使用し、その押出物を通じて層から層へほぼ線形の層厚勾配を有する106層の誘電体多層膜を作製した。PMMAを約20kg/時、coPMMAを約26kg/時の流量で押出機によってフィードブロックに供給した。   The dielectric multilayer film is a PMMA copolymer (coPMMA) (Perspex CP63 manufactured by Ineos Acrylics, Inc.) formed from 75% by mass of methyl methacrylate (MMA) monomer and 25% by mass of ethyl acrylate (EA) monomer. ) And PMMA (manufactured by Eastman Chemicals). Using the feedblock method, a 106-layer dielectric multilayer film having a nearly linear layer thickness gradient from layer to layer was made through the extrudate. PMMA was supplied to the feed block by an extruder at a flow rate of about 20 kg / hour and coPMMA was about 26 kg / hour.

coPMMAの一部は、合計で5kg/時の流量で、押出物の各面の保護境界層として使用した。次にこの材料の流れを、増倍設計比1.25である非対称二倍マルチプライヤーを通過させた。増倍比は、主流路管中で生成される層の平均膜厚を副流路管中の層の平均膜厚で除したものをして定義される。この増倍比は、2組の53層の光学層によって生み出される2つの反射帯域をわずかに重複するように選択した。この53層の光学層の各組はフィードブロックによって生み出されるよく似た層厚プロファイルを有し、その全体的な厚さスケールファクターはそのマルチプライヤーおよびフィルム押出の速度によって決まる。増倍後、基材として第三の押出機から供給されるPET20kg/時をスキン層として加えた。次いで、この材料の流れは、フィルムダイを通って水冷注型ホイールに移送された。   A portion of coPMMA was used as a protective boundary layer on each side of the extrudate at a total flow rate of 5 kg / hour. The material flow was then passed through an asymmetric doubler multiplier with a multiplication design ratio of 1.25. The multiplication ratio is defined by dividing the average film thickness of the layer generated in the main flow pipe by the average film thickness of the layer in the sub flow pipe. This multiplication ratio was chosen to slightly overlap the two reflection bands produced by the two sets of 53 optical layers. Each set of 53 optical layers has a similar layer thickness profile produced by the feedblock, and its overall thickness scale factor depends on its multiplier and film extrusion rate. After multiplication, 20 kg / hour of PET supplied from the third extruder as a base material was added as a skin layer. This stream of material was then transferred through a film die to a water-cooled casting wheel.

このcoPMMA溶融工程の設備を約260℃に保ち、PMMA溶融工程の設備を約274℃に保ち、フィードバック、マルチプライヤー、スキン層メルトストリーム、およびダイを約274℃に保った。このフィルム作製に使用したフィードブロックは、等温条件下で最も厚い層と最も薄い層が1.3:1の比を有する線形層厚分布を有するように設計された。注型ホイールの速度を、最終フィルム厚、したがって最終帯域端位置の正確な制御のために調整した。   The coPMMA melting process equipment was maintained at about 260 ° C., the PMMA melting process equipment was maintained at about 274 ° C., and the feedback, multiplier, skin layer melt stream, and die were maintained at about 274 ° C. The feedblock used for film preparation was designed to have a linear layer thickness distribution with the ratio of 1.3: 1 between the thickest and thinnest layers under isothermal conditions. The speed of the casting wheel was adjusted for precise control of the final film thickness and hence the final band edge position.

注型ホイールの入口の水温は約7℃であった。高電圧ピン止めシステムを用いて押出物を注型ホイールにピン留めした。ピン留めワイヤは直径約0.17mmであり、また電圧約6.5kVが印加された。ピン留めワイヤは、注型されたウェブに滑らかな外観を与えるように注型ホイールとの接触点でウェブから約3〜5mmのところで位置決めされた。この注型されたウェブを、通常の逐次レングスオリエンターおよびテンター設備によって連続的に配向した。ウェブを約132℃で延伸比約3.8まで長手配向した。このフィルムを、テンター内で約15秒間で約124℃まで予熱し、約132℃において延伸比約2.0まで幅手方向に延伸した。このフィルムを、テンター炉内で約238℃の温度において、約30秒間ヒートセットした。   The water temperature at the inlet of the casting wheel was about 7 ° C. The extrudate was pinned to the casting wheel using a high voltage pinning system. The pinned wire had a diameter of about 0.17 mm and a voltage of about 6.5 kV was applied. The pinning wire was positioned about 3-5 mm from the web at the point of contact with the casting wheel to give the cast web a smooth appearance. The cast web was continuously oriented by conventional sequential length orienter and tenter equipment. The web was longitudinally oriented at about 132 ° C. to a stretch ratio of about 3.8. This film was preheated to about 124 ° C. in a tenter for about 15 seconds and stretched in the width direction at about 132 ° C. to a stretch ratio of about 2.0. The film was heat set in a tenter furnace at a temperature of about 238 ° C. for about 30 seconds.

基材としてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを準備し、このPETフィルム上に、後述の粘着層形成用塗布液をダイコーターで塗布し、80℃で乾燥したものを接着層として用いて、前記PETフィルムと、上記で作製した積層体のスキン層であるPETとを接着させた。作製したフィルムは最終厚さ約25μmであり誘電体多層膜の厚さは2.4μmであった。   A polyethylene terephthalate (PET) film is prepared as a base material. A coating solution for forming an adhesive layer, which will be described later, is applied on the PET film with a die coater and dried at 80 ° C. as an adhesive layer. And PET which is the skin layer of the laminate produced above were adhered. The produced film had a final thickness of about 25 μm, and the thickness of the dielectric multilayer film was 2.4 μm.

(ハードコート層形成用塗布液1の調製)
以下の組成を有するハードコート層形成用塗布液1を調製した:
ブレンマーLA(日油株式会社製)1440質量部
ブレンマーCHA(日油株式会社製)1439.1質量部
イルガキュア184(BASFジャパン株式会社製)60質量部
イルガキュア819(BASFジャパン株式会社製)60質量部
メガファックF−552(DIC株式会社製)0.9質量部。
(Preparation of hard coat layer forming coating solution 1)
A coating liquid 1 for forming a hard coat layer having the following composition was prepared:
BLEMMER LA (manufactured by NOF Corporation) 1440 parts by mass BLEMMER CHA (manufactured by NOF Corporation) 1439.1 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass Irgacure 819 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass MegaFuck F-552 (manufactured by DIC Corporation) 0.9 parts by mass.

(粘着層形成用塗布液の調製)
粘着剤であるコーポニールN−6941M(日本合成化学社製)に対して、硬化剤であるコロネートL−55E(日本ポリウレタン工業株式会社製)を3質量%添加し、さらに紫外線吸収剤であるチヌビン477(BASFジャパン株式会社製)を5質量%添加し、溶媒としての酢酸エチルで固形分が10質量%になるように希釈して、粘着層形成用塗布液を調製した。
(Preparation of adhesive layer forming coating solution)
3% by mass of coronate L-55E (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) as a curing agent is added to coponil N-6694M (manufactured by Nippon Gosei Kagaku Co., Ltd.) as an adhesive, and tinuvin as a UV absorber. 5 mass% of 477 (made by BASF Japan Ltd.) was added, it diluted so that solid content might be 10 mass% with the ethyl acetate as a solvent, and the coating liquid for adhesion layer formation was prepared.

(光学反射フィルム1の作製)
上記で作製した誘電体多層膜を積層したPETフィルムの露出面側に、上記で調製したハードコート層形成用塗布液1をグラビアコート法によって塗布して塗膜を形成し、この塗膜に対して出力160W/cmの紫外線ランプで5cmの距離から1秒間紫外線照射して塗膜を硬化させて乾燥膜厚6μmのハードコート層を形成した。
(Preparation of optical reflection film 1)
On the exposed surface side of the PET film laminated with the dielectric multilayer film produced above, the hard coat layer forming coating solution 1 prepared above is applied by a gravure coating method to form a coating film. Then, ultraviolet rays were irradiated for 1 second from a distance of 5 cm with an ultraviolet lamp with an output of 160 W / cm to cure the coating film to form a hard coat layer having a dry film thickness of 6 μm.

さらに、ダイコーターを用い、上記で調製した粘着層形成用塗布液をセパレータ(NS−23MA:中本パックス社製)に塗布し、80℃で乾燥した後に、上記で調製した誘電体多層膜の面と粘着層の面とを貼り合わせ、内貼り構成(すなわち、窓ガラス等の室内側に貼付される構成)の光学反射フィルム1を作製した。当該光学反射フィルム1の粘着層の膜厚は10μmであった。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は600mg/mであった。 Furthermore, using the die coater, the adhesive layer forming coating solution prepared above was applied to a separator (NS-23MA: manufactured by Nakamoto Pax Co., Ltd.), dried at 80 ° C., and then the dielectric multilayer film prepared above was used. The surface and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer were bonded together to produce an optical reflection film 1 having an internal bonding configuration (that is, a configuration bonded to the indoor side of a window glass or the like). The film thickness of the adhesive layer of the optical reflection film 1 was 10 μm. At this time, the amount of tinuvin 477 which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer was 600 mg / m 2 .

<実施例2>
誘電体多層膜の作製において、フィードブロック法で共押出しする層数を149層とすることで、最終の厚さが3.3μmの誘電体多層膜を作製したこと、および、ハードコート層形成用塗布液1の塗布厚さを、ハードコート層の乾燥膜厚が0.5μmとなるように変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして、光学反射フィルム2を作製した。
<Example 2>
In the production of the dielectric multilayer film, the number of layers to be co-extruded by the feed block method was set to 149 layers, so that a dielectric multilayer film having a final thickness of 3.3 μm was produced, and for forming a hard coat layer An optical reflective film 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating thickness of the coating liquid 1 was changed so that the dry thickness of the hard coat layer was 0.5 μm.

<実施例3>
(ハードコート層形成用塗布液2の調製)
以下の組成を有するハードコート層形成用塗布液2を調製した:
ブレンマーLA(日油株式会社製)240質量部
アロニックスM−350(東亞合成株式会社製)1200質量部
アロニックスM−309(東亞合成株式会社製)1439.1質量部
イルガキュア184(BASFジャパン株式会社製)60質量部
イルガキュア819(BASFジャパン株式会社製)60質量部
メガファックF−552(DIC株式会社製)0.9質量部。
<Example 3>
(Preparation of hard coat layer forming coating solution 2)
A coating liquid 2 for forming a hard coat layer having the following composition was prepared:
BLEMMER LA (manufactured by NOF Corporation) 240 parts by mass Aronix M-350 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 1200 parts by mass Aronix M-309 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 1439.1 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) ) 60 parts by mass Irgacure 819 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass Megafac F-552 (manufactured by DIC Corporation) 0.9 parts by mass.

実施例2において、ハードコート層形成用塗布液塗布液1に代えて、上記で作製したハードコート層形成用塗布液塗布液2を用いてハードコート層を形成したことを除いては、上記実施例2と同様の手順で、光学反射フィルム3を作製した。   In Example 2, in place of the hard coat layer forming coating liquid coating liquid 1, the above-described implementation was performed except that the hard coat layer forming coating liquid coating liquid 2 was used to form the hard coat layer. The optical reflection film 3 was produced in the same procedure as in Example 2.

<実施例4>
誘電体多層膜の作製において、フィードブロック法で共押出しする層数を297層とすることで、最終の厚さが6.7μmの誘電体多層膜を作製したこと、および、ハードコート層形成用塗布液1の塗布厚さを、ハードコート層の乾燥膜厚が1μmとなるように変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして、光学反射フィルム4を作製した。
<Example 4>
In the production of the dielectric multilayer film, the number of layers to be co-extruded by the feed block method is 297 layers, so that the dielectric multilayer film having a final thickness of 6.7 μm is produced, and the hard coat layer is formed. An optical reflective film 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating thickness of the coating solution 1 was changed so that the dry thickness of the hard coat layer was 1 μm.

<実施例5>
誘電体多層膜の作製において、延伸比を以下のように変更したことを除いては、実施例4と同様にして、光学反射フィルム5を作製した。
<Example 5>
In the production of the dielectric multilayer film, an optical reflection film 5 was produced in the same manner as in Example 4 except that the stretch ratio was changed as follows.

ウェブを約132℃で延伸比約2.0まで長手配向した。このフィルムを、テンター内で約15秒間で約124℃まで予熱し、約132℃において延伸比約3.8まで幅手方向に延伸した。   The web was longitudinally oriented at about 132 ° C. to a draw ratio of about 2.0. The film was preheated to about 124 ° C. in a tenter for about 15 seconds and stretched in the width direction at about 132 ° C. to a stretch ratio of about 3.8.

<実施例6>
誘電体多層膜の作製において、フィードブロック法で共押出しする層数を89層とすることで、最終の厚さが2.0μmの誘電体多層膜を作製したこと、および、ハードコート層形成用塗布液1の塗布厚さを、ハードコート層の乾燥膜厚が5μmとなるように変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして、光学反射フィルム6を作製した。
<Example 6>
In the production of the dielectric multilayer film, the number of layers to be co-extruded by the feed block method was 89, so that a dielectric multilayer film having a final thickness of 2.0 μm was produced, and for hard coat layer formation An optical reflection film 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating thickness of the coating liquid 1 was changed so that the dry thickness of the hard coat layer was 5 μm.

<実施例7>
誘電体多層膜の作製において、フィードブロック法で共押出しする層数を37層とすることで、最終の厚さが0.8μmの誘電体多層膜を作製したこと、および、ハードコート層形成用塗布液1の塗布厚さを、ハードコート層の乾燥膜厚が2μmとなるように変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして、光学反射フィルム7を作製した。
<Example 7>
In the production of the dielectric multilayer film, the number of layers to be co-extruded by the feed block method was 37, so that a dielectric multilayer film having a final thickness of 0.8 μm was produced, and for forming a hard coat layer An optical reflective film 7 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating thickness of the coating solution 1 was changed so that the dry thickness of the hard coat layer was 2 μm.

<実施例8>
誘電体多層膜の作製において、フィードブロック法で共押出しする層数を45層とすることで、最終の厚さが1.0μmの誘電体多層膜を作製したこと、および、ハードコート層形成用塗布液1の塗布厚さを、ハードコート層の乾燥膜厚が2μmとなるように変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして、光学反射フィルム8を作製した。
<Example 8>
In the production of the dielectric multilayer film, the number of layers to be co-extruded by the feed block method was set to 45, so that a dielectric multilayer film having a final thickness of 1.0 μm was produced, and for hard coat layer formation An optical reflective film 8 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating thickness of the coating liquid 1 was changed so that the dry thickness of the hard coat layer was 2 μm.

<実施例9>
誘電体多層膜の作製において、フィードブロック法で共押出しする層数を89層とすることで、最終の厚さが2.0μmの誘電体多層膜を作製したこと、および、ハードコート層形成用塗布液1の塗布厚さを、ハードコート層の乾燥膜厚が2μmとなるように変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして、光学反射フィルム9を作製した。
<Example 9>
In the production of the dielectric multilayer film, the number of layers to be co-extruded by the feed block method was 89, so that a dielectric multilayer film having a final thickness of 2.0 μm was produced, and for hard coat layer formation An optical reflective film 9 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating thickness of the coating liquid 1 was changed so that the dry thickness of the hard coat layer was 2 μm.

<実施例10>
誘電体多層膜の作製において、フィードブロック法で共押出しする層数を447層とすることで、最終の厚さが10.0μmの誘電体多層膜を作製したこと、および、ハードコート層形成用塗布液1の塗布厚さを、ハードコート層の乾燥膜厚が2μmとなるように変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして、光学反射フィルム10を作製した。
<Example 10>
In the production of the dielectric multilayer film, the number of layers to be co-extruded by the feed block method is 447 layers, so that a dielectric multilayer film having a final thickness of 10.0 μm is produced, and for forming a hard coat layer An optical reflective film 10 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating thickness of the coating solution 1 was changed so that the dry thickness of the hard coat layer was 2 μm.

<実施例11>
(ハードコート層形成用塗布液3の調製)
以下の組成を有するハードコート層形成用塗布液3を調製した:
アロニックスM−305(東亞合成株式会社製)1200質量部
ビームセット577(荒川化学工業株式会社製)1439.1質量部
イルガキュア184(BASFジャパン株式会社製)60質量部
イルガキュア819(BASFジャパン株式会社製)60質量部
メガファックF−552(DIC株式会社製)0.9質量部。
<Example 11>
(Preparation of coating liquid 3 for forming a hard coat layer)
A coating liquid 3 for forming a hard coat layer having the following composition was prepared:
Aronix M-305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 1200 parts by mass Beam set 577 (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 1439.1 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass Irgacure 819 (manufactured by BASF Japan Ltd.) ) 60 parts by mass Megafac F-552 (manufactured by DIC Corporation) 0.9 parts by mass.

実施例6において、ハードコート層形成用塗布液1に代えて、上記で作製したハードコート層形成用塗布液3を用いて、塗布厚さを、ハードコート層の乾燥膜厚が2μmとなるように塗布してハードコート層を作製したことを除いては、上記実施例6と同様の手順で、光学反射フィルム11を作製した。   In Example 6, instead of the hard coat layer forming coating solution 1, the hard coat layer forming coating solution 3 prepared above was used, and the coating thickness was set so that the dry thickness of the hard coat layer was 2 μm. An optical reflective film 11 was produced in the same procedure as in Example 6 except that a hard coat layer was produced by applying to the above.

<実施例12>
(ハードコート層形成用塗布液4の調製)
以下の組成を有するハードコート層形成用塗布液4を調製した:
アロニックスM−305(東亞合成株式会社製)1140質量部
ビームセット577(荒川化学工業株式会社製)1439.1質量部
イルガキュア184(BASFジャパン株式会社製)60質量部
イルガキュア819(BASFジャパン株式会社製)60質量部
メガファックF−552(DIC株式会社製)0.9質量部
ATOのメチルイソブチルケトン(MIBK)分散物(固形分35%;Advanced Nano Products社製)857.14質量部。
<Example 12>
(Preparation of hard coat layer forming coating solution 4)
A coating solution 4 for forming a hard coat layer having the following composition was prepared:
Aronix M-305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 1140 parts by mass Beam set 577 (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 1439.1 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass Irgacure 819 (manufactured by BASF Japan Ltd.) ) 60 parts by mass Megafac F-552 (manufactured by DIC Corporation) 0.9 parts by mass ATO methyl isobutyl ketone (MIBK) dispersion (solid content 35%; manufactured by Advanced Nano Products) 857.14 parts by mass.

実施例11において、ハードコート層形成用塗布液3に代えて、上記で作製したハードコート層形成用塗布液4を用いたことを除いては、上記実施例11と同様の手順で、光学反射フィルム12を作製した。   In Example 11, optical reflection was performed in the same procedure as in Example 11 except that the hard coat layer forming coating solution 4 prepared above was used instead of the hard coat layer forming coating solution 3. Film 12 was produced.

<実施例13>
(ハードコート層形成用塗布液5の調製)
以下の組成を有するハードコート層形成用塗布液5を調製した:
アロニックスM−305(東亞合成株式会社製)543.27質量部
ビームセット577(荒川化学工業株式会社製)685.83質量部
イルガキュア184(BASFジャパン株式会社製)60質量部
イルガキュア819(BASFジャパン株式会社製)60質量部
メガファックF−552(DIC株式会社製)0.9質量部
ATOのMIBK分散物(固形分35%;Advanced Nano Products社製)4714.29質量部。
<Example 13>
(Preparation of hard coat layer forming coating solution 5)
A coating liquid 5 for forming a hard coat layer having the following composition was prepared:
Aronix M-305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 543.27 parts by mass Beam set 577 (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 685.83 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass Irgacure 819 (BASF Japan shares) 60 parts by mass Megafac F-552 (manufactured by DIC Corporation) 0.9 parts by mass MIBK dispersion of ATO (solid content 35%; manufactured by Advanced Nano Products) 4714.29 parts by mass.

実施例11において、ハードコート層形成用塗布液3に代えて、上記で作製したハードコート層形成用塗布液5を用いたことを除いては、上記実施例11と同様の手順で、光学反射フィルム13を作製した。   In Example 11, optical reflection was performed in the same procedure as in Example 11 except that the hard coat layer forming coating solution 5 prepared above was used instead of the hard coat layer forming coating solution 3. Film 13 was produced.

<実施例14>
(ハードコート層形成用塗布液6の調製)
以下の組成を有するハードコート層形成用塗布液6を調製した:
アロニックスM−305(東亞合成株式会社製)1007.37質量部
ビームセット577(荒川化学工業株式会社製)1271.70質量部
イルガキュア184(BASFジャパン株式会社製)60質量部
イルガキュア819(BASFジャパン株式会社製)60質量部
メガファックF−552(DIC株式会社製)0.9質量部
ATOのMIBK分散物(固形分35%;Advanced Nano Products社製)1714.29質量部。
<Example 14>
(Preparation of hard coat layer forming coating solution 6)
A coating liquid 6 for forming a hard coat layer having the following composition was prepared:
Aronix M-305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 100.37 parts by mass Beam set 577 (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 1271.70 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass Irgacure 819 (BASF Japan stock) 60 parts by mass Megafac F-552 (manufactured by DIC Corporation) 0.9 parts by mass 1714.29 parts by mass of ATO MIBK dispersion (solid content 35%; manufactured by Advanced Nano Products).

実施例11において、ハードコート層形成用塗布液3に代えて、上記で作製したハードコート層形成用塗布液6を用いたことを除いては、上記実施例11と同様の手順で、光学反射フィルム14を作製した。   In Example 11, optical reflection was performed in the same procedure as in Example 11 except that the hard coat layer forming coating solution 6 prepared above was used instead of the hard coat layer forming coating solution 3. Film 14 was produced.

<実施例15>
(ハードコート層形成用塗布液7の調製)
以下の組成を有するハードコート層形成用塗布液7を調製した:
アロニックスM−305(東亞合成株式会社製)609.58質量部
ビームセット577(荒川化学工業株式会社製)769.53質量部
イルガキュア184(BASFジャパン株式会社製)60質量部
イルガキュア819(BASFジャパン株式会社製)60質量部
メガファックF−552(DIC株式会社製)0.9質量部
ATOのMIBK分散物(固形分35%;Advanced Nano Products社製)4285.71質量部。
<Example 15>
(Preparation of hard coat layer forming coating solution 7)
A coating liquid 7 for forming a hard coat layer having the following composition was prepared:
Aronix M-305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 609.58 parts by mass Beam set 577 (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 769.53 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass Irgacure 819 (BASF Japan shares) 60 parts by mass Megafac F-552 (manufactured by DIC Corporation) 0.9 parts by mass MIBK dispersion of ATO (solid content 35%; manufactured by Advanced Nano Products) 4285.71 parts by mass.

実施例11において、ハードコート層形成用塗布液3に代えて、上記で作製したハードコート層形成用塗布液7を用いたことを除いては、上記実施例11と同様の手順で、光学反射フィルム15を作製した。   In Example 11, optical reflection was performed in the same procedure as in Example 11 except that the hard coat layer forming coating solution 7 prepared above was used instead of the hard coat layer forming coating solution 3. Film 15 was produced.

<実施例16>
(ハードコート層形成用塗布液8の調製)
以下の組成を有するハードコート層形成用塗布液8を調製した:
アロニックスM−305(東亞合成株式会社製)874.77質量部
ビームセット577(荒川化学工業株式会社製)1104.30質量部
イルガキュア184(BASFジャパン株式会社製)60質量部
イルガキュア819(BASFジャパン株式会社製)60質量部
メガファックF−552(DIC株式会社製)0.9質量部
ATOのMIBK分散物(固形分35%;Advanced Nano Products社製)2571.43質量部。
<Example 16>
(Preparation of hard coat layer forming coating solution 8)
A coating liquid 8 for forming a hard coat layer having the following composition was prepared:
Aronix M-305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 874.77 parts by mass Beam set 577 (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 1104.30 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass Irgacure 819 (BASF Japan shares) 60 parts by mass Megafac F-552 (manufactured by DIC Corporation) 0.9 parts by mass MIBK dispersion of ATO (solid content 35%; manufactured by Advanced Nano Products) 2571.43 parts by mass.

実施例11において、ハードコート層形成用塗布液3に代えて、上記で作製したハードコート層形成用塗布液8を用いたことを除いては、上記実施例11と同様の手順で、光学反射フィルム16を作製した。   In Example 11, optical reflection was performed in the same procedure as in Example 11 except that the hard coat layer forming coating solution 8 prepared above was used instead of the hard coat layer forming coating solution 3. Film 16 was produced.

<実施例17>
(誘電体多層膜の作製)
89層を有する誘電体多層膜を共押出法により連続フラットフィルム製造ラインで作製した。当該誘電体多層膜は、coPENおよびPETG(イーストマン・ケミカルズで購入可能)から作製した。coPENは、90質量%のPENおよび10質量%のPETの開始モノマーを用いて重合したものである。フィードブロック法を使用し、その押出物を通じて層から層へほぼ線形の層厚勾配を有する88層の誘電体多層膜を作製した。
<Example 17>
(Preparation of dielectric multilayer film)
A dielectric multilayer film having 89 layers was produced by a coextrusion method on a continuous flat film production line. The dielectric multilayer film was prepared from coPEN and PETG (available from Eastman Chemicals). The coPEN was polymerized using 90 wt% PEN and 10 wt% PET starting monomer. Using the feedblock method, an 88-layer dielectric multilayer with a nearly linear layer thickness gradient from layer to layer was made through the extrudate.

coPENを約17kg/時、PETGを約22kg/時の流量で押出機によってフィードブロックに供給した。PETGの一部は押出物の各面の保護境界層として使用され、合計で39kg/時の流量であった。次にこの材料の流れを、増倍設計比1.25である非対称二倍マルチプライヤーを通過させた。増倍後、基材としてのスキン層(PET;イーストマンケミカルズ社製)が第三の押出機から供給される約20kg/時を加えた。   CoPEN was supplied to the feed block by an extruder at a flow rate of about 17 kg / hour and PETG at a flow rate of about 22 kg / hour. A portion of PETG was used as a protective boundary layer on each side of the extrudate, for a total flow rate of 39 kg / hour. The material flow was then passed through an asymmetric doubler multiplier with a multiplication design ratio of 1.25. After multiplication, a skin layer (PET; manufactured by Eastman Chemicals) as a substrate was added at about 20 kg / hour supplied from the third extruder.

その他の条件は、実施例16における誘電体多層膜の作製と同様にして行った。作製したフィルムは最終厚さ約25μmであり誘電体多層膜の厚さは2.0μmであった。   The other conditions were the same as in the production of the dielectric multilayer film in Example 16. The produced film had a final thickness of about 25 μm, and the thickness of the dielectric multilayer film was 2.0 μm.

(光学反射フィルム17の作製)
実施例16における誘電体多層膜に代えて、上記で作製した誘電体多層膜を用いたことを除いては、上記実施例16と同様の手順で、光学反射フィルム17を作製した。
(Preparation of optical reflection film 17)
An optical reflective film 17 was produced in the same procedure as in Example 16 except that the dielectric multilayer film prepared above was used instead of the dielectric multilayer film in Example 16.

<実施例18>
(誘電体多層膜の作製)
低屈折率層用塗布液L1の調製
40℃に加熱した10質量%コロイダルシリカ水溶液(スノーテックスOXS、日産化学工業株式会社製)100質量部に、3質量%ホウ酸水溶液30質量部を攪拌しながら添加した。次いで、5質量%ポリビニルアルコール(PVA235、ケン化度:87.0mol%、株式会社クラレ製)水溶液450質量部および純水375質量部を攪拌しながら添加した。その後、界面活性剤5質量%水溶液(ソフタゾリンLSB−R、川研ファインケミカル株式会社製)1質量部を攪拌しながら添加し、低屈折率層用塗布液L1を調製した。
<Example 18>
(Preparation of dielectric multilayer film)
Preparation of coating liquid L1 for low refractive index layer 30 parts by mass of 3% by mass boric acid aqueous solution was stirred into 100 parts by mass of 10% by mass colloidal silica aqueous solution (Snowtex OXS, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) heated to 40 ° C. While adding. Subsequently, 450 mass parts of 5 mass% polyvinyl alcohol (PVA235, saponification degree: 87.0 mol%, Kuraray Co., Ltd.) aqueous solution and 375 mass parts of pure water were added, stirring. Then, 1 mass part of surfactant 5 mass% aqueous solution (Softazolin LSB-R, Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) 1 mass part was added, stirring, and the coating liquid L1 for low refractive index layers was prepared.

高屈折率層用塗布液H1の調製
15.0質量%酸化チタンゾル(SRD−W、体積平均粒径:5nm、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学工業株式会社製)10質量部に純水40質量部を加えた後、90℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液(ケイ酸ソーダ4号(日本化学工業株式会社製)をSiO濃度が4質量%となるように純水で希釈したもの)26質量部を徐々に添加した後、オートクレーブ中に175℃にて18時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が20質量%のSiOを表面に付着させた二酸化チタンゾル(以下では、「シリカ変性酸化チタンゾル」とも称する。)を得た。
Preparation of coating liquid H1 for high refractive index layer 15.0 mass% titanium oxide sol (SRD-W, volume average particle diameter: 5 nm, rutile titanium dioxide particles, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) 10 mass parts pure water 40 mass After adding parts, it was heated to 90 ° C. Subsequently, 26 parts by mass of an aqueous silicic acid solution (sodium silicate 4 (manufactured by Nippon Kagaku Kogyo Co., Ltd.) diluted with pure water so that the SiO 2 concentration becomes 4% by mass) was gradually added, and then in the autoclave. The titanium dioxide sol (hereinafter referred to as “silica”) was subjected to a heat treatment at 175 ° C. for 18 hours, and after cooling, was concentrated with an ultrafiltration membrane to deposit SiO 2 with a solid content concentration of 20% by mass on the surface. Also referred to as “modified titanium oxide sol”.

上記で得られた20質量%シリカ変性酸化チタンゾル分散液50質量部を40℃に加熱し、2質量%クエン酸水溶液10質量部を攪拌しながら添加した。その後、4質量%ポリビニルアルコール(PVA124、ケン化度:98.5mol%、株式会社クラレ製)水溶液90質量部および純水40質量部を攪拌しながら添加した。最後に、5質量%界面活性剤水溶液(ソフタゾリンLSB−R、川研ファインケミカル株式会社製)1質量部を攪拌しながら添加し、高屈折率層用塗布液H1を調製した。   50 parts by mass of the 20% by mass silica-modified titanium oxide sol dispersion obtained above was heated to 40 ° C., and 10 parts by mass of a 2% by mass citric acid aqueous solution was added with stirring. Thereafter, 90 parts by mass of a 4% by mass polyvinyl alcohol (PVA124, degree of saponification: 98.5 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) aqueous solution and 40 parts by mass of pure water were added with stirring. Finally, 1 part by mass of a 5% by mass surfactant aqueous solution (SOFTAZOLINE LSB-R, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) was added with stirring to prepare a coating solution H1 for a high refractive index layer.

(誘電体多層膜の形成方法)
16層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用いて、上記で調製した低屈折率層用塗布液L1および高屈折率層用塗布液H1を40℃に保温しながら、基材である厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(A4300、両面易接着層付、東洋紡績株式会社製)の上に、16層の同時多層塗布を行った。
(Dielectric multilayer film formation method)
Using a slide hopper coating apparatus capable of 16-layer coating, the low-refractive-index layer coating liquid L1 and the high-refractive-index layer coating liquid H1 prepared above are heated to 40 ° C., and the thickness of the substrate is 50 μm. 16 layers of simultaneous multilayer coating was performed on a polyethylene terephthalate film (A4300, with double-sided easy-adhesion layer, manufactured by Toyobo Co., Ltd.).

この際、最下層および最表層は低屈折率層とし、それ以外はそれぞれ交互に積層されるように設定した。また、塗布量については、乾燥時の膜厚が低屈折率層は各層150nm、高屈折率層は各層130nmになるように調節した。なお、層間の混合領域(混合層)の確認および膜厚の測定(確認)は、積層膜(光学反射フィルム試料)を切断して切断面をXPS表面分析装置で高屈折率材料(TiO)と低屈折率材料(SiO)の存在量を測定することで、上記した各層の膜厚が確保されていることが確認できた。 At this time, the lowermost layer and the outermost layer were low refractive index layers, and the others were set to be alternately laminated. The coating amount was adjusted so that the film thickness during drying was 150 nm for each low refractive index layer and 130 nm for each high refractive index layer. In addition, the confirmation of the mixed region between layers (mixed layer) and the measurement (confirmation) of the film thickness were performed by cutting the laminated film (optical reflection film sample) and cutting the cut surface with a high refractive index material (TiO 2 ) using an XPS surface analyzer. It was confirmed that the film thickness of each layer described above was ensured by measuring the abundance of the low refractive index material (SiO 2 ).

塗布直後、5℃の冷風を吹き付けてセットした。セット完了後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、誘電体多層膜を作製した。   Immediately after application, 5 ° C. cold air was blown and set. After completion of the setting, warm air of 80 ° C. was blown and dried to produce a dielectric multilayer film.

(光学反射フィルム18の作製)
実施例16における誘電体多層膜に代えて、上記で作製した誘電体多層膜を用いたことを除いては、上記実施例16と同様の手順で、光学反射フィルム18を作製した。
(Preparation of optical reflection film 18)
An optical reflective film 18 was produced in the same procedure as in Example 16 except that the dielectric multilayer film prepared above was used instead of the dielectric multilayer film in Example 16.

<実施例19>
(ハードコート層形成用塗布液9の調製)
以下の組成を有するハードコート層形成用塗布液9を調製した:
アロニックスM−305(東亞合成株式会社製)874.77質量部
ビームセット577(荒川化学工業株式会社製)1104.30質量部
イルガキュア184(BASFジャパン株式会社製)60質量部
イルガキュア819(BASFジャパン株式会社製)60質量部
メガファックF−552(DIC株式会社製)0.9質量部
ITOのMIBK分散物(固形分25%;Advanced Nano Products社製)3600.00質量部。
<Example 19>
(Preparation of coating liquid 9 for forming a hard coat layer)
A coating liquid 9 for forming a hard coat layer having the following composition was prepared:
Aronix M-305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 874.77 parts by mass Beam set 577 (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 1104.30 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass Irgacure 819 (BASF Japan shares) 60 parts by mass Megafac F-552 (manufactured by DIC Corporation) 0.9 parts by mass ITO MIBK dispersion (solid content 25%; manufactured by Advanced Nano Products) 3600.00 parts by mass.

実施例18において、ハードコート層形成用塗布液8に代えて、上記で作製したハードコート層形成用塗布液9を用いたことを除いては、上記実施例18と同様の手順で、光学反射フィルム19を作製した。   In Example 18, optical reflection was performed in the same procedure as in Example 18 except that the hard coat layer forming coating solution 9 prepared above was used instead of the hard coat layer forming coating solution 8. Film 19 was produced.

<比較例1>
ハードコート層形成用塗布液1の塗布厚さを、ハードコート層の乾燥膜厚が8μmとなるように変更したことを除いては、上記実施例6と同様にして、光学反射フィルム20を作製した。
<Comparative Example 1>
An optical reflective film 20 was produced in the same manner as in Example 6 except that the coating thickness of the hard coat layer forming coating solution 1 was changed so that the dry thickness of the hard coat layer was 8 μm. did.

<比較例2>
ハードコート層形成用塗布液1の塗布厚さを、ハードコート層の乾燥膜厚が0.5μmとなるように変更したことを除いては、上記実施例10と同様にして、光学反射フィルム21を作製した。
<Comparative example 2>
The optical reflective film 21 is the same as Example 10 except that the coating thickness of the hard coat layer forming coating solution 1 is changed so that the dry thickness of the hard coat layer is 0.5 μm. Was made.

<比較例3>
実施例3の誘電体多層膜の作製において、フィードブロック法で共押出しする層数を45層とすることで、最終の厚さが1.0μmの誘電体多層膜を作製したこと、および、ハードコート層形成用塗布液2の塗布厚さを、ハードコート層の乾燥膜厚が4μmとなるように変更したことを除いては、上記実施例3と同様にして、光学反射フィルム22を作製した。
<Comparative Example 3>
In the production of the dielectric multilayer film of Example 3, a dielectric multilayer film having a final thickness of 1.0 μm was produced by setting the number of layers to be coextruded by the feed block method to 45 layers, and hard An optical reflective film 22 was produced in the same manner as in Example 3 except that the coating thickness of the coating layer forming coating solution 2 was changed so that the dry thickness of the hard coat layer was 4 μm. .

<比較例4>
(ハードコート層形成用塗布液10の調製)
以下の組成を有するハードコート層形成用塗布液10を調製した:
アロニックスM−350(東亞合成株式会社製)1200質量部
UA−306T(共栄社化学株式会社) 1439.1質量部
イルガキュア184(BASFジャパン株式会社製)60質量部
イルガキュア819(BASFジャパン株式会社製)60質量部
メガファックF−552(DIC株式会社製)0.9質量部。
<Comparative Example 4>
(Preparation of hard coat layer forming coating solution 10)
A coating liquid 10 for forming a hard coat layer having the following composition was prepared:
Aronix M-350 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 1200 parts by mass UA-306T (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 1439.1 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass Irgacure 819 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 Part by mass Megafac F-552 (manufactured by DIC Corporation) 0.9 part by mass.

比較例3において、ハードコート層形成用塗布液2に代えて、上記で作製したハードコート層形成用塗布液10を用いたことを除いては、上記比較例3と同様の手順で、光学反射フィルム23を作製した。   In Comparative Example 3, optical reflection was performed in the same procedure as Comparative Example 3 except that the hard coat layer forming coating solution 10 prepared above was used instead of the hard coat layer forming coating solution 2. Film 23 was produced.

<比較例5>
(ハードコート層形成用塗布液11の調製)
以下の組成を有するハードコート層形成用塗布液11を調製した:
アロニックスM−350(東亞合成株式会社製)490.23質量部
UA−306T(共栄社化学株式会社)1104.30質量部
イルガキュア184(BASFジャパン株式会社製)60質量部
イルガキュア819(BASFジャパン株式会社製)60質量部
メガファックF−552(DIC株式会社製)0.9質量部
ATOのMIBK分散物(固形分35%;Advanced Nano Products社製)5057.14質量部。
<Comparative Example 5>
(Preparation of hard coat layer forming coating solution 11)
A coating liquid 11 for forming a hard coat layer having the following composition was prepared:
Aronix M-350 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 490.23 parts by mass UA-306T (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 1104.30 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 60 parts by mass Irgacure 819 (manufactured by BASF Japan Ltd.) ) 60 parts by mass Megafac F-552 (manufactured by DIC Corporation) 0.9 parts by mass ATO MIBK dispersion (solid content 35%; manufactured by Advanced Nano Products) 5057.14 parts by mass.

比較例3において、ハードコート層形成用塗布液2に代えて、上記で作製したハードコート層形成用塗布液11を用いたことを除いては、上記比較例3と同様の手順で、光学反射フィルム24を作製した。   In Comparative Example 3, optical reflection was performed in the same procedure as in Comparative Example 3 except that the hard coat layer forming coating solution 11 prepared above was used instead of the hard coat layer forming coating solution 2. Film 24 was produced.

<比較例6>
比較例5の誘電体多層膜の作製において、フィードブロック法で共押出しする層数を59層とすることで、最終の厚さが1.3μmの誘電体多層膜を作製したことを除いては、上記比較例5と同様にして、光学反射フィルム22を作製した。
<Comparative Example 6>
In the production of the dielectric multilayer film of Comparative Example 5, except that the number of layers to be co-extruded by the feed block method was 59 layers, so that the dielectric multilayer film having a final thickness of 1.3 μm was produced. In the same manner as in Comparative Example 5, an optical reflection film 22 was produced.

≪光学反射フィルムの評価≫
上記作製した光学反射フィルムについて、以下の評価を行った。結果を下記の表1〜3に示す。
≪Evaluation of optical reflective film≫
The following evaluation was performed about the produced optical reflection film. The results are shown in Tables 1 to 3 below.

(カールの測定)
製造した際のフィルムの幅手方向に50mm、長手方向に3mmの大きさに切り取ったサンプルと、幅手方向に3mm、長手方向に50mmの大きさに切り取ったサンプルとを準備した。サンプルの接触面をなるべく少なくするように、サンプル中央付近のみを挟める治具に挟んだ。
(Measurement of curl)
A sample cut to a size of 50 mm in the width direction and 3 mm in the longitudinal direction when the film was manufactured and a sample cut to a size of 3 mm in the width direction and 50 mm in the longitudinal direction were prepared. In order to reduce the contact surface of the sample as much as possible, the sample was sandwiched between jigs that can sandwich only the vicinity of the center of the sample.

測定する温湿度環境にサンプルを一時間静置し、カール曲率測定スケールを用いてそのカール曲率を測定した。23℃50%RHで測定したカール値をa(1/m)、23℃20%RHで測定したカール値をb(1/m)、23℃80%RHで測定したカール値をc(1/m)とした。   The sample was allowed to stand for one hour in the temperature and humidity environment to be measured, and the curl curvature was measured using a curl curvature measurement scale. The curl value measured at 23 ° C. and 50% RH is a (1 / m), the curl value measured at 23 ° C. and 20% RH is b (1 / m), and the curl value measured at 23 ° C. and 80% RH is c (1). / M).

各実施例および比較例で作製した光学反射フィルムのカールの測定結果を下記の表2に示す。ここで、フィルムの製造時の幅手方向に50mm、長手方向に3mmの大きさに切り取ったサンプルのカールの測定結果を、幅手方向のカールとして表す。幅手方向に3mm、長手方向に50mmの大きさに切り取ったサンプルのカールの測定結果を、長手方向のカールとして表す。また、表2中、ハードコート層側の表面が内巻になるカールのカール値を正の値、誘電体多層膜側の表面が内巻になるカールのカール値を負の値で表した。   Table 2 below shows the curl measurement results of the optical reflective films prepared in each Example and Comparative Example. Here, the curl measurement result of the sample cut to a size of 50 mm in the width direction and 3 mm in the longitudinal direction at the time of manufacturing the film is expressed as a curl in the width direction. The curl measurement result of the sample cut to a size of 3 mm in the width direction and 50 mm in the longitudinal direction is expressed as a curl in the longitudinal direction. In Table 2, the curl value of the curl with the inner surface on the hard coat layer side is a positive value, and the curl value of the curl with the inner surface on the dielectric multilayer film side is expressed as a negative value.

(耐候性試験)
恒温槽(エスペック株式会社製 PDR−4J)を4槽とキセノンウェザーメーター(スガ試験機社製 キセノンウェザーメーターNX75)を準備し、その間をサンプルを行き来させることでサイクル試験を行った。
(Weather resistance test)
Four tanks and a xenon weather meter (Xenon weather meter NX75 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) were prepared and a cycle test was conducted by moving samples between them.

具体的なサイクル条件は、条件A:温度−10℃/湿度制御なし、条件B:温度50℃/湿度90%RH、条件C:温度23℃/湿度10%RH、条件D:温度23℃/湿度80%RH、条件E:100Wキセノンウェザーメーター試験(50℃50%RHの条件でキセノンウェザーメーターを用いて100W/mの強度のキセノン光に曝露する)の5条件を用意し、(条件A:15分→条件B:15分→条件C:15分→条件D:15分)×10→条件E:11時間→評価:1時間、といったサイクルを回した。 Specific cycle conditions are as follows: Condition A: Temperature −10 ° C./No humidity control, Condition B: Temperature 50 ° C./Humidity 90% RH, Condition C: Temperature 23 ° C./Humidity 10% RH, Condition D: Temperature 23 ° C. / Humidity 80% RH, condition E: 100 W xenon weather meter test (exposure to 100 W / m 2 intensity xenon light using a xenon weather meter at 50 ° C. and 50% RH) A: 15 minutes → Condition B: 15 minutes → Condition C: 15 minutes → Condition D: 15 minutes) × 10 → Condition E: 11 hours → Evaluation: 1 hour.

以上のサイクル試験を行い、以下の方法で、クラックが発生するまでのサイクル回数と密着性が低下するまでのサイクル回数とを測定した。条件A→条件B→条件C→条件Dのサイクル回数を本明細書でのサイクル数とした。   The above cycle test was performed, and the number of cycles until a crack was generated and the number of cycles until the adhesiveness was lowered were measured by the following methods. The number of cycles of condition A → condition B → condition C → condition D was defined as the number of cycles in this specification.

クラック
耐候性試験後にサンプルを目視で観察し、10cm当たりのクラック個数が10個以上になった点をクラック発生サイクル数とした。
Cracks The sample was visually observed after the weather resistance test, and the number of crack generation cycles was defined as the number of cracks per 10 cm 2 was 10 or more.

密着性
JIS−K5600−5−6:1999のクロスカット法に従い、得られた光学反射フィルム試料の外側に配置した面(ハードコート層側)の最表面に片刃のカミソリの刃を面に対して90°の角度で2mm間隔でクロスカットし、10mm角の碁盤目を作製した。日東電工株式会社製のセロハンテープNo.29を貼り付けて、テープをはがし、膜の剥離状態を調べた。
Adhesion According to the cross-cut method of JIS-K5600-5-6: 1999, a single-blade razor blade is placed on the outermost surface (hard coat layer side) of the obtained optical reflective film sample with respect to the surface. Cross cuts were made at intervals of 2 mm at an angle of 90 ° to produce 10 mm square grids. Cellophane tape No. manufactured by Nitto Denko Corporation 29 was affixed, the tape was peeled off, and the peeled state of the film was examined.

クロスカットしたマス目の数をn、テープ剥離後に支持体に膜が残っているマス目の数をn1としたとき、F=n1/n×100(%)を計算し、光学反射フィルム試料10枚の平均値で以下の基準で評価した。   When the number of cross-cut cells is n and the number of cells remaining on the support after peeling the tape is n1, F = n1 / n × 100 (%) is calculated, and the optical reflective film sample 10 The average value of the sheets was evaluated according to the following criteria.

F<70%となった点を密着性低下サイクル数とした。   The point where F <70% was determined as the number of cycles for lowering adhesion.

なお、実使用においてはFが70%以上であれば層間密着性が確保されているといえる。   In actual use, when F is 70% or more, it can be said that interlayer adhesion is secured.

(鉛筆硬度の測定)
鉛筆硬度は、JIS K 5600−5−4:1999の規格に従って測定する。鉛筆を45°の角度にして、500gの荷重をかけて、各サンプルの最表面(ハードコート層側)の引っ掻き試験を行なった。5回のうち4回以上傷の付かなかった鉛筆の硬さ記号で、ランク付けを行なった。測定には、安田精機製作所社製の鉛筆硬度測定計(型番:553−M1)を用いて測定した。
(Measurement of pencil hardness)
The pencil hardness is measured according to the standard of JIS K 5600-5-4: 1999. A scratch test of the outermost surface (hard coat layer side) of each sample was performed with a pencil angle of 45 ° and a load of 500 g. Ranking was performed with the hardness symbol of the pencil that was not damaged more than 4 times out of 5 times. The measurement was made using a pencil hardness meter (model number: 553-M1) manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho.

表3に示す結果から、本発明によれば、基材の一方の面に誘電体多層膜が設けられ、他方の面にハードコート層が設けられる構成の光学反射フィルムにおいて、温度、湿度の変化のある環境にさらされた後でも、クラックが発生しにくく、密着性が維持されることがわかる。   From the results shown in Table 3, according to the present invention, in the optical reflective film having the structure in which the dielectric multilayer film is provided on one surface of the base material and the hard coat layer is provided on the other surface, the temperature and humidity change. It can be seen that even after being exposed to a certain environment, cracks hardly occur and adhesion is maintained.

一方、比較例1〜6のように、湿度変化による光学反射フィルムのカール値の差の絶対値であるA値またはB値が3を超えると、環境中の温度、湿度の変化によってハードコート層のクラックや剥がれが発生してしまうことがわかった。   On the other hand, as in Comparative Examples 1 to 6, when the A value or B value, which is the absolute value of the difference in curl value of the optical reflection film due to humidity change, exceeds 3, the hard coat layer is caused by changes in the temperature and humidity in the environment It has been found that cracks and peeling occur.

また、実施例1、2と、実施例3〜19との比較から、フィルムの幅手方向のカールの向きと、長手方向のカールの向きが、逆の向きである実施例3〜19においては、ハードコート層と誘電体多層膜との応力が緩和され、耐候性、耐クラック性がより向上する。   Further, in comparison with Examples 1 and 2 and Examples 3 to 19, in Examples 3 to 19 where the curl direction in the width direction of the film and the curl direction in the longitudinal direction are opposite directions, The stress between the hard coat layer and the dielectric multilayer film is relieved, and the weather resistance and crack resistance are further improved.

また、ハードコート層の膜厚が1〜5μmであり、特に、ハードコート層/誘電体多層膜の膜厚比が0.2〜2である実施例8〜19の光学反射フィルムでは、さらに耐候性、耐クラック性が向上した。   Further, in the optical reflective films of Examples 8 to 19 in which the film thickness of the hard coat layer is 1 to 5 μm, and in particular, the film thickness ratio of the hard coat layer / dielectric multilayer film is 0.2 to 2, further weather resistance And crack resistance improved.

ハードコート層を構成する樹脂成分に水酸基含有多官能ウレタンアクリレートを用いると、密着性が向上する。特に、実施例12〜19のように、ハードコート層が水酸基含有多官能ウレタンアクリレート、光重合開始剤、および赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子を含む組成物を硬化させて形成される場合、クラック発生サイクル数、密着性低下サイクル数の両方が大きく改善され、耐傷性も向上した。   Adhesion improves when a hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate is used as the resin component constituting the hard coat layer. In particular, as in Examples 12 to 19, when the hard coat layer is formed by curing a composition containing a hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate, a photopolymerization initiator, and infrared absorbing metal oxide nanoparticles, Both the number of generation cycles and the number of adhesion degradation cycles were greatly improved, and scratch resistance was also improved.

さらに、実施例18、19のように誘電体多層膜が水溶性樹脂を含有すると、水系の塗布液を用いた作製が可能であり、しかもはじき・凹みといった塗布欠陥が低減され、耐クラック性の向上に寄与すると考えられる。   Further, when the dielectric multilayer film contains a water-soluble resin as in Examples 18 and 19, it is possible to produce using a water-based coating liquid, and further, coating defects such as repellency and dent are reduced, and crack resistance is improved. It is thought that it contributes to improvement.

Claims (6)

基材と、
前記基材の一方の面に配置された、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜と、
前記基材の他方の面に配置された、ハードコート層と、
を有する光学反射フィルムであって、
前記光学反射フィルムを、製造時における幅手方向に50mm、長手方向に3mmの大きさに切り取ったサンプルと、製造時における幅手方向に3mm、長手方向に50mmの大きさに切り取ったサンプルとの双方が、温度23℃、相対湿度50%の環境下に1時間置いて測定したカール値をa(1/m)、温度23℃、相対湿度20%の環境下に1時間置いて測定したカール値をb(1/m)、温度23℃、相対湿度80%の環境下に1時間置いて測定したカール値をc(1/m)としたとき、下記式(1)および(2)を満たし、
前記光学反射フィルムを、製造時における幅手方向に50mm、長手方向に3mmの大きさに切り取ったサンプルを温度23℃、相対湿度50%の環境下に1時間置いて測定したカール値と、製造時における幅手方向に3mm、長手方向に50mmの大きさに切り取ったサンプルを温度23℃、相対湿度50%の環境下に1時間置いて測定したカール値との正負が逆である、光学反射フィルム。
A substrate;
A dielectric multilayer film in which low-refractive index layers and high-refractive index layers are alternately stacked, disposed on one surface of the substrate;
A hard coat layer disposed on the other surface of the substrate;
An optical reflective film having
A sample obtained by cutting the optical reflecting film into a size of 50 mm in the width direction at the time of manufacture and 3 mm in the length direction, and a sample cut to a size of 3 mm in the width direction at the time of manufacture and 50 mm in the length direction. The curl value measured by placing both in an environment at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 1 hour, and measuring the curl value a (1 / m) in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 20% for 1 hour. When the curl value measured by placing the value in an environment of b (1 / m), temperature 23 ° C. and relative humidity 80% for 1 hour is c (1 / m), the following formulas (1) and (2) It meets,
A curl value obtained by measuring a sample obtained by cutting the optical reflective film into a size of 50 mm in the width direction and 3 mm in the longitudinal direction at the time of production in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and production. Optical reflection in which the positive and negative of the curl value measured by placing a sample cut to 3 mm in the width direction and 50 mm in the longitudinal direction in an environment at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 1 hour is opposite the film.
前記ハードコート層の膜厚が1〜5μmである、請求項1に記載の光学反射フィルム。 The optical reflective film according to claim 1, wherein the hard coat layer has a thickness of 1 to 5 μm. 前記誘電体多層膜の膜厚に対する前記ハードコート層の膜厚(ハードコート層の膜厚/誘電体多層膜の膜厚)の比が0.2〜2である、請求項1または2に記載の光学反射フィルム。 The ratio of the film thickness of the hard coat layer to the film thickness of the dielectric multilayer film (film thickness of the hard coat layer / film thickness of the dielectric multilayer film) is 0.2 to 2. 4 . Optical reflective film. 前記ハードコート層が、水酸基含有多官能ウレタンアクリレート、光重合開始剤、および赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子を含む組成物を硬化させてなる、請求項1〜のいずれか1項に記載の光学反射フィルム。 The hard coat layer, a hydroxyl group-containing polyfunctional urethane acrylate, a photopolymerization initiator, and obtained by curing a composition containing an infrared absorbing metal oxide nanoparticles according to any one of claims 1 to 3 Optical reflective film. 前記ハードコート層における前記赤外線吸収性金属酸化物ナノ粒子の含有量が20〜50質量%である、請求項に記載の光学反射フィルム。 The optical reflective film according to claim 4 , wherein the content of the infrared-absorbing metal oxide nanoparticles in the hard coat layer is 20 to 50% by mass. 前記誘電体多層膜が、水溶性樹脂を含有する、請求項1〜のいずれか1項に記載の光学反射フィルム。
The dielectric multilayer film, a water-soluble resin, an optical reflection film according to any one of claims 1-5.
JP2014118139A 2014-06-06 2014-06-06 Optical reflective film Expired - Fee Related JP6344069B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014118139A JP6344069B2 (en) 2014-06-06 2014-06-06 Optical reflective film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014118139A JP6344069B2 (en) 2014-06-06 2014-06-06 Optical reflective film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015230477A JP2015230477A (en) 2015-12-21
JP6344069B2 true JP6344069B2 (en) 2018-06-20

Family

ID=54887249

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014118139A Expired - Fee Related JP6344069B2 (en) 2014-06-06 2014-06-06 Optical reflective film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6344069B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017219774A (en) * 2016-06-09 2017-12-14 コニカミノルタ株式会社 Optical reflection film
JP6654515B2 (en) * 2016-06-15 2020-02-26 日本化薬株式会社 Infrared shielding sheet, interlayer for infrared shielding laminated glass, infrared shielding laminated glass and method for producing the same
JP6855702B2 (en) * 2016-08-12 2021-04-07 コニカミノルタ株式会社 Light-reflecting film, manufacturing method of light-reflecting film, and backlight unit for liquid crystal display device

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001310423A (en) * 2000-02-23 2001-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd Flaw resistant transparent support and anti-reflection film
JP3967195B2 (en) * 2002-05-28 2007-08-29 富士フイルム株式会社 Method for cutting hard-coated articles
JP2006030944A (en) * 2004-06-18 2006-02-02 Jsr Corp Near infrared ray cut filter
JP2010076423A (en) * 2008-08-29 2010-04-08 Mitsubishi Rayon Co Ltd Resin laminated body and method for manufacturing the same
JP2011020406A (en) * 2009-07-17 2011-02-03 Nof Corp Hard coat film, transparent electrode film, and touch panel
JP5691322B2 (en) * 2010-09-10 2015-04-01 東レ株式会社 Method for producing biaxially oriented polyethylene terephthalate film for hard coat
JP5834530B2 (en) * 2011-06-23 2015-12-24 コニカミノルタ株式会社 Heat ray shielding film, heat ray shielding body using the film, and material for heat ray shielding film
JPWO2013077252A1 (en) * 2011-11-21 2015-04-27 コニカミノルタ株式会社 Infrared shielding film and infrared shielding body
WO2013105374A1 (en) * 2012-01-13 2013-07-18 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Narrow-region bandpass filter
WO2013168714A1 (en) * 2012-05-08 2013-11-14 コニカミノルタ株式会社 Laminated glass

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015230477A (en) 2015-12-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6443440B2 (en) Laminated film and method for producing the same
WO2014010562A1 (en) Infrared-shielding film
JPWO2013111735A1 (en) Optical film
JP2018124300A (en) Infrared shielding body
WO2018207563A1 (en) Light-reflecting film and method for producing light-reflecting film
WO2015198762A1 (en) Optical reflective film, method for producing optical reflective film, and optical reflector using same
JP6344069B2 (en) Optical reflective film
WO2016088852A1 (en) Heat-shielding film, production method therefor, and heat shield using said film
JP6834984B2 (en) Optical reflective film
WO2014188831A1 (en) Ultraviolet shielding film
JP2015011271A (en) Light-reflecting film, and light-reflecting body and light-reflecting device using the same
WO2016010049A1 (en) Laminated film and method for producing same
WO2016133022A1 (en) Heat shielding film
JP2015150851A (en) Method of producing functional film
JP2016155256A (en) Heat shielding film, and method for producing the same
JP6724912B2 (en) Optical reflective film
JP2016109872A (en) Light shield film
JP6759697B2 (en) Roll-shaped optical reflective film
JP2017219694A (en) Optical reflection film, method for producing optical reflection film, and optical reflection body
JP6326780B2 (en) Window pasting film
JP6683249B2 (en) Optical reflective film
JP2015212736A (en) Laminated reflective film, manufacturing method therefor, and optical reflector having the same
JPWO2015037514A1 (en) Method for producing dielectric multilayer film
JP2016090878A (en) Optical reflection film
JP6672984B2 (en) Optical reflection film, method for manufacturing optical reflection film, and optical reflector

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161221

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20171110

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171205

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171226

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180424

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180507

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6344069

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees